JPH0370133A - ワークの自動洗浄装置 - Google Patents

ワークの自動洗浄装置

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JPH0370133A
JPH0370133A JP1204821A JP20482189A JPH0370133A JP H0370133 A JPH0370133 A JP H0370133A JP 1204821 A JP1204821 A JP 1204821A JP 20482189 A JP20482189 A JP 20482189A JP H0370133 A JPH0370133 A JP H0370133A
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container
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    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
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    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67046Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly scrubbing means, e.g. brushes
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体ウェーハ等の薄円板状のワークを自動
的に洗浄する装置に関する。
(従来の技術) 半導体素子製造において、半導体ウェーへの表面に付着
した不純物は半導体素子の性能に悪影響を及ぼす。
そこで、半導体ウェーハの製造工程の中には洗浄工程が
含まれており、この洗浄工程ではウェーハが種々の方法
によって洗浄されるか、ウェーへの洗浄方法には大別し
て物理的洗浄方法と化学的洗浄方法とがある。
上記前者の物理的洗浄方法としては、洗浄ブラシ等を用
いてウェーハ表面に付着した不純物を直接除去する方法
、噴射ノズルから加圧流体をウェーハの一部又は全体に
向けて噴射し、これによって不純物を除去する方法、ウ
ェーハを液中に浸漬してこれに超音波を当てて該ウェー
ハに付着した不純物を除去する方法(超音波洗浄法)等
がある。
又、前記後者の化学的洗浄方法としては、種々の薬剤、
酵素等によってウェーハ表面に付着した不純物を化学的
に分解除去する方法等がある。
尚、物理的洗浄方法と化学的洗浄方法が併用されること
もある。
(発明か解決しようとするa題) 上述の各洗浄方法を用いればウェーハ表面に付着した不
純物は一応除去される訳であるが、これらの方法によっ
て洗rDされたウェーハは洗浄液から一旦取り出されて
次工程へ移されるため、洗浄液から取り出されたウェー
ハの表面か乾燥し、洗浄液中に溶解した不純物が該ウェ
ーハの表面に析出して再付着したり、空気中の不純物が
ウェーハ表面に新たに付着するという問題がある。
又、ウェーハの洗浄方法や装置自体に関する提案は今ま
でに種々なされている(例えば、特公昭52−3485
9号、同60−36099号公報参照)が、ウェーハの
投入から洗浄工程を経てこれの回収に至る一連の作業を
全自動的に行なう装置は未た提案されておらず、これら
一連の作業は人手に頼っているのが実情であり、従って
斯かる一連の作業には多くの時間と労力を要し、作業能
率の向上や省力化か望まれていた。
本発明は上記実情に鑑みてなされたもので、その目的と
する処は、ワークを効果的に洗浄することかてきるとと
もに、ワークの投入から洗浄工程を経てこれの回収に至
る一連の作業を全自動的に行なうことによって作業能率
及び洗浄処理能力の向上及び省力化を図ることかできる
ワークの自動洗浄装置を提供するにある。
(課題を解決するための手段) 上記目的を達成すべく本発明は、洗浄すべきワークを液
中で1枚ずつ供給するワークフィーダー部と、供給され
たワークを液中て回転する一対の回転ブラシnlIに挟
持してこれの両面を同時に洗浄するスクラバー部と、該
スクラバー部にて洗浄されたワークを液中て受け取って
これを回収するワーク受取部と、前記スクラバー部と前
記ワークフィーダー部及び/又は前記ワーク受取部とを
液体によって隔離する隔離セクション部とを含んでワー
クの自動洗浄装置を構成したことをその特徴とする。
(作用) 本発明によれば、ワークの投入から洗浄工程を経てこれ
の回収に至る一連の作業を全自動的に行なうことがてき
、特にスクラバー部では一対の回転ブラシによってワー
クの両面か同時に洗浄されるため、ワークの洗浄か効果
的に、且つ能率良く行なわれ、作業能率及び洗浄処理能
力の向上、省力化が図られる。
又、本発明によれば、ワークの投入から洗浄工程を経て
これの回収に至る一連の作業は、ワークを液中に常時浸
漬させた状態で行なわれるため、該ワークの乾燥が防が
れてこれの汚染や傷の発生が効果的に防止される。
(実施例) 以下に本発明の一実施例を添付図面に基づいて説明する
第1図は本発明に係る自動洗浄装置の平面図、第2図は
同装置の側面図であり、該自動洗浄装置lはウェーハフ
ィーダ一部A、隔離セクション部B、スクライバーes
 c 、隔離セクション部B゛ウェーハ受取部りをこの
順に組み付けて構成され、これらウェーハフィーダ一部
A、隔離セクション部B、B’ 、スクライバ一部C及
びウェーハ受取部りは個々にユニットを構成しており、
これらはそれぞれのフランジ2,3,4,5,6゜3’
 、4’ 、7を締結することによって互いに結合され
て1つの装置を構成している。
ところで、上記ウェーハフィーダ一部Aには隔壁8にて
区画される容器Sl、S2か、隔離セクション部Bには
容器S1か、スクライバ一部Cには容器S4か、隔離セ
クション部Bには容器SI”か、ウェーハ受取部DCは
容器Ssかそれぞれ設けられており、容器SI 、S2
 、S:+ 。
S、’ 、SS内には純水が収容され、容器S4内には
洗浄液が収容されている。そして、これら容器SI 、
S2 、S:+ 、34 、S3°、S、は隔壁8.9
,10.10’ 、11.に形成された後述の開口部を
介して相連通せしめられるか、開口部は隔壁8,9,1
0.to’ 、xiの各々に設けられたシャッター装置
12によって開閉される。
又、各容器s、−55の両側には、これらの容器S1〜
S、からオーバーフローした純水又は洗冷液を回収する
ためのタンク13,13.14.14,15,15.1
6,16.15゜15’、17.17か取り付けられて
おり、第2図に示すようにこれら各タンク13〜17か
ら下方へ導出するパイプ18・・・は水平に延設された
パイプ19に連結されている。
ここで、前記ウェーハフィーダ一部Aの構成の詳細を第
3図乃至第10図に基づいて説明する。
尚、第3図はウェーハフィーダ一部Aの上半部の側面図
、第4図は同つェーハフィーダ一部Aの要部の側断面図
、第5図は同平面図、第6図はカセットa置台の駆動機
構を示す破断側面図、第7図は同破断正面図、p!48
図はシャッター装置の破断正面図、第9図は同断面側面
図、第10図は同シャッター装置の作用を示す第9図と
同様の図である。
該ウェーハフィーダ一部Aにおいては、第3図に示すよ
うに前記容器SIの左方に隔壁20にて区画される空間
Sか形成され、この空間S内には第4図に示すプッシャ
ー21か設けられている。
又、隔壁20上にはカセットa置台駆動機構22か固設
されている。尚、第3図中、8は前記隔壁、12.12
は前記シャッター装置、13゜14は前記タンク、Sr
 、S2は前記容器である。
ここて、前記プッシャー21の構成の詳細を第4図及び
第5図に基づいて説明するに1図中、23は公知のロッ
トレスシリンダであって、これはロットガイド24.2
4に沿って移動するスライダ25を有しており、このス
ライダ25にはブツシュロッド26が取り付けられてい
る。このブツシュロッド26は前記隔壁20を貫通して
前記容器S1内に臨んでおり、その先部にはウェーハW
(第5図参照)の外周に当接すべきプッシャー板27か
取り付けられている。
ところで、容器Sl内にはカセットai台28か前記駆
動機構22から垂直下方に延出する上下動自在な左右2
本のロット29 、、29に取り付けられて収納されて
おり、該カセット載置台28上には、多数のウェーハW
・・・を適当な間隔で積層収納して成るカセット30か
afjlされている。
又、容器Slを形成する側壁31.31の各々には、第
4図及び第5図に示すように前記タンク13に開口する
矩形の切欠き31aが形成されており、この切欠き31
aは側壁31の内側に上下動可能に取り付けられた堰板
32にて被われている。即ち、堰板32の両端部には上
下方向に長い長円孔32a、32aか穿設されており、
各長円孔32aにはボルト33が挿通している。
次に、前記カセット載置台駆動機構22の構成の詳細を
第6図及び第7図に基づいて説明する。
図中、34は枠状の基台であって、この基台34の上下
にはベースプレート35.36か取り付けられており、
上方のベースプレート35には駆動モータ37か取り付
けられており、該駆動モータ37から上方へ延出する出
力軸には大径のギヤ38か結着されている。又、上下の
ベースプレート35.36間にはボールネジ軸39か垂
直、且つ回転自在に支承されており、該ボールネジ軸3
9のベースプレート35の上方へ臨む上端部には前記ギ
ヤ38に噛合する小径のギヤ40か結着されている。そ
して、ボールネジ軸39にはスライダ41か螺合、挿通
しており、該スライダ41はボールネジ軸39か回転す
ると1両ベースプレー)−35,36間に垂直に架設さ
れたロットガイド42.42に案内されて上下動する。
尚、このスライダ41に前記ロッド29,29がボルト
43.43にて垂直に取り付けられている。
次に、前記シャッター装W!112の構成の詳細を第8
図乃至第10111に基づいて説明する。
図示のように、前記隔壁8の上端にはベースプレート4
4が取り付けられており、このベースプレート44の中
央と一端部にはエアシリンダ45.46がそれぞれ取り
付けられている。そして、エアシリンダ45から下方へ
延出するロッド45aには幅方向に長いシャッタ一部材
47か取り付けられており、該シャッタ一部材47には
ポリエーテル・エーテル・ケトン(PEEK)材から成
る薄い矩形フィルム状のバルブシート48かビス49・
・・にて取り付けられている。尚、シャ・ンタ一部材4
7の両側にはロッドガイド50.50が立設されており
、これらロッドガイド50゜50はガイドブツシュ51
.51を介してベースプレート44に摺動臼イEに挿通
している。
一方、ベースプレート44の両端部には第8図に示すよ
うに支持プレート52.52がボルト53・・・によっ
て垂直に支持されており、これら支持プレート52.5
2間には軸54が回動自在に支承されて架設されている
。そして、この軸54には押圧部材55か取り付けられ
ており、この押圧部材55は軸54の両端に結着された
本体プレート56.56と、これら本体プレート56゜
56間に取り付けられた押圧片57とて構成されている
。この押圧片57はポリエーテル・エーテル・ケトン(
PEEK)材から成り、その中央部には隔壁8に穿設さ
れた幅広の開口部8aと同様の開口部57aか穿設され
ている。
又、前記軸54の本体プレート56.56の内側にはア
ーム58.59が結着されており、アーム58と前記ベ
ースプレート44との間にはスプリング60か介装され
ている。そして、第8図に示すようにアーム59の上面
には前記エアシリンダ46から下方へ延出するロッド4
6aの下端が当接している。
他方、前記アーム58の上方には、ベースプレート44
に垂直に取り付けられたストッパ61が臨んでいる。尚
、このストッパ61は軸54及びこれに取り付けられた
前記押圧部材55の回動を規制するものである。
次に、前記隔離セクション部Bの構成の詳細を第11図
及び第12図に基づいて説明する。尚、第11図は隔離
セクション部Bの破断乎面図、第12図は同破断側面図
である。
前記隔壁9,10にて区画される前記容器S。
内の底部には、噴流水によってウェーハWを図示矢印方
向へ搬送すべき搬送機4I62と、搬送されたウェーハ
Wを受け止めてこれをシャッター装置12の動きに連動
して適当なタイミングでシャッター装置12を通過させ
るためのストッパ機構63とか設けられている。
上記搬送機構62は第12図に示すように3枚重ねされ
た矩形のプレート64,65.66を有し、プレート6
4.65間には流路67が、プレート65.66間には
波路68が形成されている。そして、m路68にはフラ
ンジ69が開口しており、この流路68はフランジ69
に接続された不図示のバイブを介して圧力水供給装置(
図示せず)に接続されている。
又、前記プレート65には両流路67.68を相連通せ
しめる多数の円孔70−・・か穿設されており、プレー
ト64には多数の噴出口71−・・かウェーハWの搬送
方向に向かって斜めに穿設されている。そして、プレー
ト64上の両端には、ウェーハWをガイドすべきラビリ
ンス状のガイドプレート72.72がウェーハWの搬送
方向に長く取り付けられている。
而して、該搬送機構62の上方には、これと矩形ボック
ス状の蓋部材73との間にウェーハWが通過すべき流路
74が形成されている。尚、蓋部材73は容器S3の側
壁75.75の上端にボルト76・・・にて取り付けら
れている。
尚、前記ウェーハフィーダ一部Aの容器S、内にも上記
と同様な搬送機構62(第12図参照)か設けられてい
る。
一方、前記ストッパa構63は隔壁lOの上流側に設け
られ、これは容器S3の側壁75.75間に水平に、且
つ回転自在に架設された軸77をイ1し、該軸77の中
央部にはストッパ部材78が結若されている。そして、
第11図に示すように軸77の一端は一方の側壁75を
貫通してこれの外方へ突出しており、その突出端は側壁
75に取り付けられたロータリーアクチュエータ79の
出力軸79aにカップリング80によって連結されてい
る。
尚、各側壁75には前記タンクS3に開口する矩形の切
欠き75aか形成されており、各切欠き75aは各側g
175の内側に上下動可能に取り付けられた堰板81に
て被われている。
ところで、前記隔離セクション部B°の構成は以上説明
した隔離セクション部Bのそれと全く同じであるため、
これについての説明は省略する。
次に、前記スクラバー部Cの構成の詳細を第13[m乃
至第19図に基づいて説明する。尚、第13図はスクラ
バー部Cの破断側面図、第14図は同スクラバー部Cを
第13図の手前側から見た要部の破断側面図、第15図
は同スクラバー部Cの平面図、第16図及び第17図は
同スクラバー部Cの回転ブラシの駆動機構を示す破断平
面図、第18図は第17図a部(軸シール部)の拡大詳
細図、第19図は第18図のX−X線断面図である。
第14図に示すように、前記隔壁10,10゜(第1図
参照)にて区画される前記容器S、内には幅方向(第1
4図の紙面垂直方向)に長い断面梢円状の空間82が形
成されており、この空間82内には幅方向に長い上下2
本の回転ブラシ83.84が回転自在に支持されて収納
されている。尚、これら回転ブラシ83.84の上流及
び下流には、噴流水によってウェーハWを第13図の左
方から右方へ搬送すべき前記と同様の搬送機4fi62
.62か設けられている。
ところで、前記回転ブラシ83.84はその外周面に布
ブラシを接着して構成され、これらは各々独立に反対方
向(第13図の矢印方向)に回転駆動せしめられるが、
下側の回転ブラシ84は容器S4に対してその位置か固
定されており、上側の回転ブラシ83は第14図に示す
回転軸85゜86を中心に揺動可能に支持されている。
即ち、第16図に示すように下側の回転ブラシ84を支
持する回転軸87の両端は容器S4の側壁88.88及
び前記タンクIS、16を貫通してこれらの外部に臨み
、その両端はベアリング89・・・を介して支持ブロッ
ク90.90に回転自在に支承されており、該回転軸8
7の一端にはタイミングプーリ91か結着されている。
又、第16図中、92は駆動モータてあって、該駆動モ
ータ92の出力軸92aには、支持ブロック93.94
にベアリング95.95を介して回転自在に支承された
回転軸96の一端がカップリング97によって連結され
ており、この回転軸96の中間にはタイミンクプーリ9
8か結着され、自由端にはギヤ99か結着されている。
そして、このタイミンクプーリ98と前記タイミングプ
ーリ91との間には無端状のタイミングベルト100か
巻き掛けられている。尚、各側壁88及びタンク16の
回転軸87が貫通する部位は、シールリング101によ
ってシールされている。
一方、第13図及び第17図に示すように回転軸96の
上方には前記回転軸85が回転自在に陀されており、前
記上方の回転ブラシ83は該回転軸85.86にその一
端か枢着された枠状のアーム102の他端に回転自在に
支承されている(第13図及び第17図参照)。
上記回転軸85は第17図に示すようにベアリング10
3,103を介して支持ブロック104.105に回転
自在に支承されており、該回転軸85の中間にはタイミ
ングプーリ106か結着されており、自由端にはギヤ1
07が結着されている。そして、このギヤ107は前記
ギヤ99に噛合している(第13図参照)。
又、第17図に示すように回転ブラシ83を支持する回
転軸108の両端は前記回転輪87と同様に容器S4の
側988.88及びタンク16゜16を貫通してこれら
の外部へ臨み、その両端は前記アーム102の端部に回
転自在に支承されている。そして、この回転@108の
一端にはタイミングプーリ109が結着されており、該
タイミングプーリ109と前記タイミングプーリ106
との間には無端状のタイミングベルト110か巻き掛け
られている。
ここで、容器S4の側壁88.88及びタンク16.1
6の回転軸108か貫通する部位のシールa造を第18
図及び第19図に基づいて説明する。
即ち、容器S4の各側壁88及びタンク16には、回転
軸108(回転ブラシ83〉の揺動を許容する円弧状の
貫通孔88a1円形の貫通孔leaがそれぞれ穿設され
ており、これら貫通孔88a、16aに回転軸108が
貫通している。
そして、各側壁88及びタンク16の回転軸108か貫
通ずる部位は1回転軸108の外周に僅かの隙間を設け
て嵌合するリング状のシールリング111.Illによ
ってシールされるが、これらシールリングIll、11
1は回転軸108(回転ブラシ83〉の揺動に伴ってこ
れと共にCT通孔88a、16aに沿って摺動が可能な
ようにリング押え112.112によって保持されてい
る。
ところで、第16図及び第17図に示すように前記回転
軸86は回転軸85の反対側にこれと同軸に配されてお
り、これはベアリング113゜113を介して支持ブロ
ック114,114に回転自在に支承されている。そし
て、この回転軸86には、第14図に示すように前記ア
ーム102の中間部か結着されており、該アーム102
の回転軸86からの距離が図示の文、。
立2 (文、〉立2〉の位置にはビン115゜116か
突設されており、これらのピン115゜116には複゛
数のリング状ウェイト117・・・118・・・か挿通
されて支持されている。又、同回転@86にはレバー1
19の一端か結着されており、該レバー119の他端近
傍にはストッパシリンダ120か固設されており、該ス
トッパシリンダ120から延出するロット120aの先
部にはレバー119に当接すべきローラ121が軸支さ
れている。尚、レバー119の中間部位置近傍には、第
14図に示すように該レバー119の回動を規制すべき
ストッパボルト122が進退自在に設けられている。
ところで、第13図及び第14図に示すように容器S、
の上部にはウェーハWの回転駆動機構123が設けられ
ている。この回転駆動a構123の詳細は第14図及び
第15図に示されるか、容器S、上に固設されたベース
124上には左右2木のLMガイド125,125がウ
ェーハWの搬送方向(第14図の左右方向)に敷設され
ており、 該LMガイド125,125にはこれに沿っ
て摺動する可動ベース126か設けられている。そして
、この可動べ・−ス126上にはスライド軸127が幅
方向に配されており、該スライド軸127の外周にはこ
れの長さ方向に摺動可能なスライドフッシュ128か嵌
合されている。尚、前記可動ベース126は第15図に
示すようにこれと前記ベース124間に介装された左右
2木のスプリング129,129によって常時一方向(
第15図中、右方)に付勢されており、これの中央に軸
支されたカムフォロア130はこれの右方に設けられた
偏心カム131の外周に当接している。偏心カム131
はベース124上に固設された駆動モータ132によっ
て回転駆動されるが、これは駆動モータ132に直結さ
れたギヤへラド133の出力軸133aの端部に結着さ
れている。
上記スライド軸127の一端とスライドブツシュ128
にはスライドベース134,134か水平面内で傾斜し
て取り付けられており、各スライドベース134にはこ
れに沿って摺動可能な可動ベース135が嵌合保持され
ており、この可動ベース135の先部には上下方向に長
いLMガイド136が設けられている。尚、可動ベース
135にはこれをスライド軸127上にクランプすべき
クランプレバ−137が設けられている。
而して、前記各LMガイド136には可動ベース138
かスライダ139を介して上下動自在にに合しており、
該可動ベース138はこれと前記可動ベース135間に
介装されたスプリング140によって常時下方へ付勢さ
れており、第14図に示すストッパボルト141がLM
ガイド136の上端に当接する位置で静止している。そ
して、この可動ベース138には、連結一体化された駆
動モータ142及びギヤヘッド143と、これらの下方
に設けられる筒状部材144と、後方(i14図中、右
方)に設けられるエアシリンダ145が取り付けられて
いる。
上記ギヤヘッド143から下方へ延出する出力軸143
aと、前記筒状部材144内に挿通して上下のベアリン
ク146,146にて回転自在に支示された回転軸14
7とはカップリング148にて連結されており、回転軸
147の下端にはウェーハ駆動軸149の上端が螺着さ
れており、該ウェーハ駆動軸149の下部外周には、ウ
ェーハWの外周に当接すべきVノツチ状のfM 149
 aか形成されている。
又、i14図に示すように前記エアシリンダ145の下
方からはロッド145aか延出しており、前記可動ベー
ス135にはロット145aが当接すべきストッパプレ
ート150が取り付けられている。
次に、ウェーハ受取部りの4I成の詳細を第20図乃至
第23図に基づいて説明する。尚、第20図はウェーハ
受取部りの平面図、第21図は第20図の矢視Y方向の
図、第22図は第20図の矢視Z方向の図、第23図は
同つェーハ受取部D(バケット部分)の作用説明図であ
る。
前記容器S、内には前記搬送機構62と同様な搬送機構
(図示せず)が設けられ、容器S、の各側壁151には
前記タンク17に開口する切欠き151aか形成されて
おり、この切欠き151aは側壁151の内側に上下動
可能に取り付けられた堰板152によって被われている
ところで、容器SSの外側方には、洗浄か終了したウェ
ーハWを受け取ってこれを回収する回収機構153が設
けられている。この回収機構153は容器S5の側方に
立設された支柱154を有しており、該支柱154には
ロットレスシリンダ155か取り付けられている。この
ロッドレスシリンダ155は上下動するスライダ156
を有しており、このスライダ156には容器SIの幅方
向に延出するアーム157が結着されている。そして、
アーム157の左右にはステイ158.158か水平に
突設されており9これらステ4158,158間には枠
構造を威すバケット159の上端ボス部159aがボル
ト160によって回転自在に枢着されて支持されている
上記バケット159は、帯状のプレートをコの字状に折
曲成形して成る支持部161と該支持部161に回動自
在に枢着された回収部162とでa成され、回収部16
2は針金にて袋状に構成され、第23図に示すようにそ
の上端か開口しており、その下端の両側にはガイドロー
ラ163゜163か軸支されている。
一方、容器S5内の上記バケット159のガイドローラ
163,163の下方には、第23図に示すように左右
2つのカムプレート164゜164か設けられており、
各カムプレート164はバケット159のガイドローラ
163が当接すべきカム而164aを有している。尚、
カム而164aはウェーハWの搬送方向に向かって(第
23図の左方から右方に向かって)その高さか低くなる
ような曲面形状を有している。
次に1本自動洗浄装221の作用を説明する。
先ず、ウェーハフィーダ一部Aにおいて、容器SI内の
カセットa、V台28にセットされたカセット30内に
は前述のように多数のウェーハW・・・かyit収容さ
れており、カセット30全体は容器S1内に収容された
純水の中に浸漬されている。
而して、カセット30内のウェーハW・・・はプッシャ
ー21によって上方から順次1枚ずつカセット30から
押し出される。即ち、プッシャー21のロッドレスシリ
ンダ23か駆動されてスライダ25かロッドガイド24
.24に沿って第4図及び第5図の矢印方向に移動する
と、これに取り付けられたブツシュロッド26及びプッ
シャー板27も同方向へ移動し、プッシャー板27はカ
セット30内の最上段に位置するウェーハWの外周に当
接してこれをカセット30から押し出す、このとき、こ
の動作に連動して隔壁8上に設置されたシャッター装置
12が駆動されてこれか開状態となる。このときのシャ
ッター装2112の作用を第8図乃至第10図に基づい
て説明する。
即ち、第8図及び第9図はシャッター装置12の閉状述
を示し、このとき8壁8に形成された開口部8aはバル
ブシート48によって閉しられており、エアシリンダ4
6のロッド46aはアーム59に当接して該アーム59
、fm54及び押圧部材55をスプリング60の弾発力
に抗して第9図の矢印方向に回動せしめるため、押圧部
材55の押圧片57は図示のようにバルブシート48を
隔!8fllに所定の力で押圧している。
而して、前記プッシャー21が駆動されると、先ず、エ
アシリンダ46か駆動されてそのロッド46aか上動す
る。すると、アーム59、軸54及び押圧部材55かス
プリング60の弾発力を受けて第10図の矢印方向に回
動せしめられ、これによって押圧片57によるバルブシ
ート48の隔壁8への押圧が解除される。
次に、他方のエアシリンダ45かNA動されてそのロッ
ト45aが上動せしめられると、これに取り付けられた
シャッタ一部材47及びバルブシート48が第10図に
示すように上動し、この結果、隔壁8に形成された開口
部8aが開けられ、内容器SI、S2はこの開口部8a
を介して相連通せしめられる。従って、プッシャー21
によって1枚ずつ供給されるウェーハWは第10図に示
すように連通状態にある両l1lJ1日部57a、8a
を通過して容器S2内に搬入せしめられる。尚。
シャッター装置12が開状態にあって、両容器S、、S
、が連通状態にあるときに容器SI。
S2の!川で純水の流れが生じることは好ましくないが
1本実施例では例えば容器SIについて言えば、第4図
及び第5図に示すボルト33・・・を緩めて堰板32を
上下動させれば、容器S、内の純水の液位を調整するこ
とかできるため、開口部8aに作用する静圧を略等しく
保つことができ、これによって開口部8aを通過する純
水の流れを抑えることかできる。又、開口部8aの近傍
で純水に乱れか生ずることもウェーハWの品質を高く保
つ上から好ましくないが、本実施例ではバルブシート4
8をフィルム状としてその厚さを極力薄くしたため、こ
れか純水内で上下動しても純水に乱れか生ずることがな
い。
斯くて、ウェーハWが容器S2内に搬入されると、エア
シリンダ45か再び駆動されてそのロッド45aか下か
り、バルブシート48も開口部8aを被う位置に下がる
。そして、次にエアシリンダ46が駆動されてそのロッ
ド46aがアーム59に当接し、該アーム59、軸54
及び押圧部材55が第9図の矢印方向に回転せしめられ
ると、同図に示すように押圧部材55の押圧片57によ
ってバルブシート48がw11agIIに押圧され、開
0部8aかバルブシート48によって確更に閉じられて
両容器S、、S2の連通が遮断される。
以上のようにしてカセット3o内の最上段のウェーハW
がプッシャー21によって送り出されると、第6図に示
すカセット依置台駆動機構22の駆動モータ37か駆動
され、これの回転はギヤ38.40を経てボールネジ軸
39に伝達され。
該ボールネジ軸39が回転駆動される。このボールネジ
軸39が回転すると、これに螺合するスライダ41かロ
ットガイド42.42に案内されて所定量だけ上動せし
められ、このスライダ41に取り付けられたロッド29
,29.これらロッド29.29に支持されたカセット
載置台28及び該カセットa置台28上にセットされた
カセット30か同量だけ上動せしめられ、カセット30
内の次の段のウェーハWかプッシャー21のプッシャー
板27が当接する位置で次の供給のために待機する。
而して、容器S2内に搬入されたウェーハWは該容器S
2内に設置された搬送機構62によって搬送され、該ウ
ェーハWか容器S2内の所定位置を通過したことが不図
示のセンサによって検知されると、前記隔壁9上に設置
されたシャッター装置12か開き、ウェーハWは隔壁9
の開口部(図示せず)を通過して隔離セクション部Bの
容器S3内に搬入せしめられる。
隔離セクション部Bにおいて、容器S3内に搬入された
前記ウェーハWは該容器S、内に設置された搬送機41
i62によって第11図及び第12図の矢印方向へガイ
ドプレート72.72に沿って搬送される。即ち、搬送
機構62において、圧力水か流路68に供給されると、
この圧力水は円孔70・・・及び流路67を経て噴出口
71・・・から容器S3内に斜めに噴出される。すると
、ウェーハWは噴出口71・・・から噴出される噴流に
よって第11図及び第12図の矢印方向へ搬送される。
そして、ウェーハWが蓋部材73に設けられた光電スイ
ッチ等のセンサを通過したことを該センサが検知すると
、ロータリーアクチュエータ79が駆動されて軸77が
第12図の矢印方向に回転せしめられ、同図中、鎖線に
て示す水平状態にあったストッパ部材78が実線にて示
す垂itL状態となり、容器S3内の純水中を搬送され
るウェーハWはこのストッパ部材78に当接してここて
−は停止せしめられる。
その後、ロータリーアクチュエータ79か再び駆動され
て軸77か逆転せしめられると、ストッパ部材78か第
12図の破線矢印方向に回転して水平状態に復帰し、ウ
ェーハWの通過を許容する。これと同時に、隔壁lO上
に設けられたシャッター装置12か開き、ウェーハWは
隔壁10に形成された開口部10a(第14図参照)を
通過してスクラバー部Cの容器S4内の洗詐液中に搬送
される。そして、このウェーハWか容器S4内に完全に
搬送されると、シャッター装置12によって開口部10
aが再び閉じられ、両容器Sコ。
S4の連通が遮断される。尚、前記と同様に開口部10
aを介して純水又は洗浄液が流動することは好ましくな
いため、開口部10aに作用する静圧か略等しく保たれ
ねばならないか、この静圧の調整は、例えば堰板81の
高さを調整して容器S:l内の純水の液位を変えること
によってなされる。
スクラバー部Cの容器S4内に搬入された前記ウェーハ
Wは容器S4内に設けられた搬送機構62によって洗f
i+液中を回転ブラシ83.84方向へ搬送される。こ
のとき、上方の回転ブラシ83は上方へ持ち上げられて
これと下方の回転ブラシ84間には所定の隙間が形成さ
れている。即ち、第14図に示すストッパシリンダ12
0か駆動されてこれのロッド120aの先部に軸支され
たローラ121かレバー119に当接すると、該レバー
119は第15図中、時計方向へ回動せしめられ、アー
ム102に軸支された上方の回転ブラシ83が回転軸8
5.86を中心に上方へ揺動してこれと下方の回転ブラ
シ84との間に所定の隙間か形成される。
又、このとき、ウェーハ駆動軸149,149は第14
図に示すように下降してその下限位置に待機している。
即ち、第14図に示すようにエアシリンダ145のロッ
ト145aか上動して該ロット145aかストッパプレ
ーt−1soから離れると、各可動ベース138はウェ
ーハ駆動軸149’pと共にLMガイド136に沿って
自重で下降し、これに取り付けたストッパボルト141
がLMガイド136の上端に当接する位置で静止する。
この結果、各ウェーハ駆動軸149は上述のようにその
下限位置で待機することとなるが。
ストッパボルト141を回してこれの突出長さを変える
ことによって各ウェーハ駆動軸149の高さ位置を微調
整することがてきる。
而して、容器S4内のウェーハWは上下の回転ブラシ8
3.84間の隙間を通って搬送せしめられ、その外周か
ウェーハ駆動@149,149の溝149a、149a
に当接した時点て作出する。すると、第14図に示すス
トッパシリンダ120が再び駆動されてそのロッド12
0aか退くと、これの先部に軸支されたローラ121か
レバー119から離れる。然るに、前述のようにアーム
102にc’:L回転軸85.saか6&l![i+ 
文、(文、>i2)の位置にウェイト117・・・11
8・・・かそれぞれ設けられているため、ウェイト11
7・・・によってアーム102を第14図中、反昨計方
向に回そうとするモーメントの方か大きく、アーム10
2は回転軸85.86を中心に反蒔計方向に揺動する。
従って、ウェーハWは上下の回転ブラシ83.84間に
所定圧て挟持されることとなる。尚、ウェイト117・
・・、118・・・の数を変えてアーム102に作用す
る互いに逆方向のモーメントのバランスを変えれば、ウ
ェーハWか両回転ブラシ83.84から受ける押圧力を
任意に調整することかできる。
ところで、上述のように上方の回転ブラシ83か回転軸
85.86を中心に揺動する場合、これを支持する回転
軸108は第18図及び第19図に示す容器S4の各側
壁88及びタンク16に穿設された貫通孔88a、16
aに沿って移動するか、各側壁88及びタンク16の該
回転軸108か貫通する部位は貫通孔88a、16aに
沿って摺動するシールリング111.Illによってシ
ールされているため、これらの部位からの洗浄液の漏出
が防がれる。尚、側を88の貫通孔88a部分から洗炸
液か万一漏出しても、漏出した洗浄液はタンク16内に
流れて該タンク16の貫通孔16a部分には達しないた
め、タンク16から洗浄液か外部に漏出することはあり
得ない。
斯くて、ウェーハWか上下の回転ブラシ83゜84間に
挟持されると、両回転ブラシ83.84か第13図の矢
印方向に回転駆動される。即ち、駆動モータ92か駆動
されると、この回転は第16図に示すカップリング97
を経て回転軸96に伝達され、この回転軸96の回転は
更にタイ文ングプーリ98、タイミングベルト100及
びタイミングプーリ91を経て回転軸87に伝達され、
該回転軸87及びこれに支持された下方の回転ブラシ8
4か第13図の矢印方向に回転駆動せしめられる。又、
これと同特に、前記回転軸96の回転はギヤ99,10
7を介して第17図に示す回転軸8Sに伝達され、この
回転軸85の回転はタイミングプーリ106、タイミン
グベルト110及びタイミンクプーリ109を経て回転
軸108に伝達され、該回転軸108及びこれに支持さ
れた上方の回転ブラシ83か第13図の矢印方向に回転
駆動せしめられる。
上記と同時に両ウェーハ駆動軸149,149は第25
図の矢印方向に回転駆動される。即ち。
第14図に示す各駆動モータ142が駆動されると、こ
の回転はギヤヘッド143の出力軸143a、カップリ
ング148及び回転軸147を経てウェーハ駆動軸14
9に伝達され、該ウェーハ駆動軸149が回転駆動せし
められる。
ところで、回転中の両回転ブラシ83.84間に挟持さ
れたウェーハWはこれらの回転ブラシ83.84から第
24図の矢印す方向の推力を受け、その外周かウェーハ
駆動軸149,149の溝149a、149aに押圧さ
れるため、前述のようにウェーハ駆動軸149,149
が回転駆動されると、これにその外周が当接するウェー
ハWは第25図の矢印C方向に水平回転せしめられる。
又1本実施例では、同時に駆動モータ132も駆動され
、これの回転はギヤへラド133の出力軸133aを経
て偏心カム131に伝達され。
該偏心カム131か回転駆動される。この偏心カム13
1が回転すると、これに当接するカンフォロアl 30
 ?備える可動ベース126がLMガイド125,12
5に沿って第14図中、左右に往復動する。この結果、
該可動ベース126に支持されたウェーハ駆動軸149
,149も同様に往復動し、第24図及び第25図に示
すようにこれに当接するウェーハWを回転ブラシ83.
84間で所定量だけ前後に往復動せしめる。
以上のように、ウェーハWは水平面内て回転し、且つ前
後方向に往復動しながら回転ブラシ83.84によって
洗浄されるため、これの上下両面に付着した不純物等が
同時に、且つムラなく確実に除去される。
斯くて、ウェーハWの上下両面の洗浄が終了すると、駆
動モータ142,132が停止されてウェーハ駆動軸1
49,149の回転及び往復動か停止される。
又、両回転ブラシ83.84は一端約30″の角度だけ
逆転して停止する。すると、これら両回転ブラシ83.
84間に挟持されたウェーハWか回転フラジ83,84
から逆方向の推力を受けて上流側へ僅かに移動し、その
外周のウェーハ駆動軸149,149の溝149a、1
49aとの係合か解除される。すると、第14図に示す
エアシリンダ145が駆動されてそのロット145aか
下方へ延出し、ロッド145aの下端かスト、ソバプレ
ート150に当接すると、可動ベース13Bが反力を受
けて上動し、これに取り付けられた駆動モータ142、
ギヤヘット143、回転軸147、ウェーハ駆動軸14
9等も上動し、ウェーハWか各ウェーハ駆動軸149を
通過することが可能となる。
その後1両回転ブラシ83.84が正転せしめられると
、これらの間に挟持されたウェーハWか送り出され、該
ウェーハWは容器S4内に設置された搬送機構62によ
ってシャッター装置12側へ搬送される。
シャッター装2212は適当なタイミングで開いてウェ
ーハWを容器S4から隔離セクション部B゛の容器S3
°へと通過せしめ、ウェーハWの通過か終了すると、再
び閉して容器S4と容器53°との連通を遮断する。隔
離セクション部B°の容器33°内に搬入されたウェー
ハWはここに設けられた搬送機構によって純水中を搬送
され、これに付着した洗す液が除去される。
上記ウェーハWか容器S:I”内の所定位辺を通過した
ことが不図示のセンサによって検知されると、隔壁11
上に設置されたシャッター装置12が開き、ウェーハW
は隔壁11の開口部〈図示せず〉を通過してウェーハ受
取部りの容器S5内に搬入せしめられる。すると、シャ
ッター装置12は再び閉じて容器Ss’と容器S、との
連通を遮断する。尚、このときも容器S3°内の純水と
容器Ss内の純水に流れが生ずることは好ましくないが
、例えば、第20図に示す堰板152の高さを調整して
容器Ss内の純水の液位を変えることによって隔壁11
に形成された開口部(図示せず)における静圧を略等し
く保てば、該開口部を介しての純水の流動が起こらない
尚、洗浄すべきウェーハWのサイズが変わった場合には
、例えば第14図及び第15図に示すクランプレバ−1
37を緩めて可動ベース135をスライドベース134
に沿って摺動せしめ、該可動ベース135に支持された
ウェーハ駆動軸149の位置を変えれば、ウェーハWの
サイズの変化に容易に対処することがてきる。
ウェーハ受取部りの容器Ss内に搬入された前記ウェー
ハWは該容器Ss内に設置された搬送機JIlj82に
おける噴流によって第23図の矢印d方向へ搬送される
か、このときバケット159はその下限に位置しており
、その回収部162は第23図に実線にて示すように水
平状態に保たれていてその左端が開口している。この状
態でウェーハWか純水中を第23図の矢印d方向に搬送
されると、該ウェーハWは水平状態にある回収部162
の左端開口部から該回収部162内に搬入される。この
ウェーハWの回収部162への搬入か検知されると、ロ
ットレスシリンダ155か駆動されてアーム157かバ
ケット15つと共に上動する。バケット159か上動す
ると、これの回収部162の下端に軸支されたガイドロ
ーラ163.163はカムプレート164,164のカ
ム面164a、164aに沿って転動しながら移動する
ため、回収部162は第23図に鎖線にて示すような軌
跡を描いて持ち上げられ、該回収部162内に回収され
たウェーハWは回収部162によってすくい上げられる
ようにして容器S5内の純水から引き上げられ、第21
図に示すように回収部162に取り付けられた複数のV
字状のウェーハ受け部材162a・・・(第23図参照
)によって保持される。
以上がウェーハWに対する洗浄作業の一連の工程である
が、本発明装置1によれば、ウェーハWの当該自動洗浄
装置lへの投入から洗浄工程を経て回収に至る一連の作
業を全自動的に行なうことができ、特にスクラバー部C
では上下一対の回転ブラシ83.84によってウェーハ
Wの上下両面か同時に洗浄されるため、ウェーハWの洗
浄か効果的に能率良く行なわれ1作業能率及び洗浄処理
能力の向上、省力化等が図られる。
又1本発明装置11によれば、ウェーハWの投入から洗
浄工程を経てこれの回収に至る一連の作業は、ウェーハ
Wを液中に常時浸漬させた状態で行なわれるため、該ウ
ェーハWの乾燥か防がれてこれの汚染や傷の発生か効果
的に防がれる。
尚、以上の実施例では、各単一のユニットを構成するウ
ェーハフィーダ一部A、隔離セクション部B、スクラバ
ー部C及びウェーハ受取部りを組み合わせて自動洗浄装
置lを構成したが、必要に応じてこれらのユニットを複
数任意に組み合わせて装置を構成しても良いことは勿論
である。
(発明の効果) 以上の説明で明らかな如く、本発明によれば。
ウェーハの当該自動洗浄装置への投入から洗浄工程を経
て回収に至る一連の作業を全自動的に行なうことかでき
るため、ウェーハの洗浄が効果的に能率良く行なわれ、
作業能率及び洗浄処理能力の向」二、省力化等を図るこ
とができるという効果が得られる。
又、本発明によれば、ウェーハの投入から洗浄工程を経
てこれの回収に至る一連の作業は、ウェーハを液中に常
時浸漬させた状態で行なわれるため、該ウェーハの乾燥
が防がれてこれの汚染や傷の発生か確実に防止されると
いう効果も得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る自動洗浄装置の平面図、第2図は
同装置の側面図、第3図はウェーハフィダ一部の上半部
の側面図、第4図は同ウェーハフィーダ一部の要部の側
断面図、第5図は同平面図、第6図はカセットa置台の
駆動機構を示す破断側面図、第7図は同破断正面図、第
8図はシャッター装置の破断正面図、第9図は同断面側
面図、第10図は同シャッター装置の作用を示す第9図
と同様の図、第11図は隔離セクション部の破断平面図
、第12図は同破断側面図、第13図はスクラバー部の
破断側面図、第14図は同スクラバー部を第13図の手
前側から見た要部の破断側面図、第15図は同スクラバ
ー部の平面図、第16図及び第17図は同スクラバー部
の回転ブラシの駆動機構を示す破断平面図、第18図は
第17図a部(軸シール部)の拡大詳細図、第19図は
第18図のX−X線断面図、第20図はウェーハ受取部
の平面図、第21図は第20図の矢視Y方向の図、第2
2図は第20図の矢視Z方向の図、第23図は同ウェー
ハ受取部(バケット部)の作用説明図、第24図はウェ
ーハの洗浄状追を示す側面図、第25図は同平面図であ
る。 l・・・自動洗浄装置、8〜11・・・隔壁、12・・
・シャッター装置、13〜17・・・タンク、21・・
・プッシャー122・・・カセット載置台駆動機構、3
0・・・カセット、32,81,152・・・堰板、4
5゜46・・・エアシリンダ(アクチュエータ)148
・・・バルブシート、55・・・押圧部材、62・・・
搬送機構、71・・・流体噴出口、83.84・・・回
転ブラシ、102・・・アーム、111・・・シールリ
ング、117.118・・・ウェイト、149・・・ウ
ェーハ駆動軸、159・・・バケット、161・・・支
持部、162・・・凹収部、163・・・ガイドローラ
、164・・・カムプレート、A・・・ウェーハフィダ
一部(ワークフィーダー部)、B、B’・・・隔離セク
ション部、C・・・スクラバー部、D・・・ウェーハ受
取部(ワーク受取部)、W・・・ウェーハ(ワーク)。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)洗浄すべきワークを液中で1枚ずつ供給するワー
    クフィーダー部と、供給されたワークを液中で回転する
    一対の回転ブラシ間に挟持してこれの両面を同時に洗浄
    するスクラバー部と、該スクラバー部にて洗浄されたワ
    ークを液中で受け取ってこれを回収するワーク受取部と
    、前記スクラバー部と前記ワークフィーダー部及び/又
    は前記ワーク受取部とを液体によって隔離する隔離セク
    ション部と含んで構成されることを特徴とするワークの
    自動洗浄装置。
  2. (2)前記ワークフィーダー部、スクラバー部、隔離セ
    クション部及びワーク受取部は各々ユニットを構成し、
    これらユニットを連結するとともに、各ユニット間にこ
    れらを連通、遮断するシャッター装置を介設して構成さ
    れることを特徴とする請求項1記載のワークの自動洗浄
    装置。
  3. (3)前記シャッター装置は、前記各ユニットの隔壁に
    形成された開口部の開口方向に対して直角方向に移動し
    て該開口部を開閉するフィルム状のバルブシートと、該
    バルブシートの閉時にこれを前記隔壁側に押圧すべき押
    圧部材と、該押圧部材及び前記バルブシートを駆動すべ
    きアクチュエータを含んで構成されることを特徴とする
    請求項2記載のワークの自動洗浄装置。
  4. (4)前記ワークは液中を搬送機構によって搬送され、
    該搬送機構は液中にワークの搬送方向に向かって斜めに
    開口する複数の液体噴出口を設けて構成されることを特
    徴とする請求項1記載のワークの自動洗浄装置。
  5. (5)前記ワークフィーダー部、スクラバー部、隔離セ
    クション部及びワーク受取部の容器の側方には各容器内
    からオーバーフローした液体を回収するタンクを有し、
    各容器の側壁には液体のオーバーフロー量を調整すべく
    その高さ位置が調整可能な堰板が設けられていることを
    特徴とする請求項1記載のワークの自動洗浄装置。
  6. (6)前記ワークフィーダー部は、複数のワークを層状
    に積載収容して成るカセットを液中で所定量だけ上動又
    は下動せしめる駆動機構と、前記カセット内に収容され
    たワークを1枚ずつ押し出すプッシャーを含んで構成さ
    れることを特徴とする請求項1記載のワークの自動洗浄
    装置。
  7. (7)前記スクラバー部は、液中で互いに逆方向に回転
    駆動される一対の回転ブラシと、該回転ブラシの近傍に
    上下動自在に設けられ、ワークの外周に当接して該ワー
    クを水平面内で回転駆動するワーク駆動軸と、該ワーク
    駆動軸をワークの搬送方向に所定量だけ往復動せしめる
    機構を含んで構成されることを特徴とする請求項1記載
    のワークの自動洗浄装置。
  8. (8)前記一対の回転ブラシの少なくとも一方は、他方
    の回転ブラシに対して揺動可能に支持され、該回転ブラ
    シの他方の回転ブラシへの押圧力はこれを支持するアー
    ムの両端部に載せられるウェイトによって調整されるこ
    とを特徴とする請求項7記載のワークの自動洗浄装置。
  9. (9)前記揺動可能に支持される回転ブラシの回転軸が
    貫通する部位は、該回転軸の外周に嵌合され、これと共
    に摺動可能なシールリングによってシールされることを
    特徴とする請求項8記載のワークの自動洗浄装置。
  10. (10)前記ワーク受取部は、洗浄されたワークを液中
    で回収するバケットを有し、該バケットは、上下動せし
    められる支持部と、該支持部に回動自在に枢着され、そ
    の下部にガイドローラを軸支して成る袋状の回収部とで
    構成され、該回収部に軸支された前記ガイドローラがカ
    ムプレートに沿って転動することによって当該回収部は
    水平状態から垂直状態にその姿勢を変えることを特徴と
    する請求項1記載のワークの自動洗浄装置。
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