JP2801489B2 - リングフレーム自動洗浄装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明のリングフレーム自動洗浄
装置は、集積回路などの電子回路用チップの製造に当っ
て使用されるリングフレームを再利用するために、リン
グフレームからフィルムを剥離した後に、リングフレー
ムに付着している粘着剤、フィルムの切り屑、指紋など
の汚れを洗浄する装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】集積回路などの電子回路用チップは次の
ような工程を経て製造されている。 ．半導体ウエハーの表面にトランジスタ、ＩＣなどの
回路を構成する工程。 ．図１２（ａ）のように半導体ウエハ−Ａとリングフ
レームＢとを接着層を有するフィルムＣに貼り付ける工
程。 ．フィルムＣに貼り付けた半導体ウエハーＡを同ウエ
ハーＡに形成されているトランジスタ、ＩＣなどの回路
毎に図１２（ａ）のように格子状に切断してチップ化す
る工程。

【０００３】前記のように形成された電子回路用チップ
Ｄは検査されて良品と不良品とに判別され、良品をエア
ピンセットなどでフィルムＣからピックアップして素子
にダイシングされている。

【０００４】そして、図１２（ｂ）の様に残った不良の
電子回路用チップＤはフィルムＣから剥離されて廃棄処
分され、フィルムＣはリングフレームＢから剥離されて
廃棄処分される。残ったリングフレームＢは洗浄してそ
れに付着している粘着剤、フィルムＣの切り屑、シリコ
ン粉等を除去し、指紋、油脂等の汚れ等を洗い落として
繰返し使用（再利用）されている。

【０００５】再利用する場合、リングフレームＢに粘着
剤やフィルムＣの切り屑などが付着しているとその部分
が凸凹し、次にフィルムＣを張る場合にフィルムＣ全体
が均一な張力で水平に張られないとか、フィルムＣに皺
が寄ったりする。このため新たに張ったフィルムＣに半
導体ウエハーＡを貼り付けにくいとか、貼り付けた後に
半導体ウエハーＡを切断してチップ化する場合に切断し
にくいといった問題がある

【０００６】特に、リングフレームＢに粘着剤や水分が
残っていると、それに塵芥が付着して益々フィルムＣを
リングフレームＢに張りにくくなる。また、リングフレ
ームＢに指紋が付着している場合は指紋の油分のためフ
ィルムＣがリングフレームＢに付着しにくいといった問
題もあった。

【０００７】そこで従来はリングフレームＢを洗浄して
再利用できるようにしているが、その洗浄作業は従来は
手作業で行っているため作業能率が悪かった。

【０００８】しかし、その洗浄工程の前後の工程はほぼ
自動化されているのが現状であるため、近年になってダ
イシングの後に自動でリングフレームの汚れを除去する
装置が考え出されている。この種の例として特公平１−
１６０１０、特開平２−１２８４４５号に記載の技術が
ある。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかし、それらはリン
グフレームを水平（横向き）の状態で洗浄する方式であ
るため、洗浄処理したリングフレームに再度粘着テープ
を貼合する時にリングフレームを裏向きに反転させなけ
ればならないという面倒があった。

【００１０】また、フィルムの糊滓はリングフレームの
フィルムが貼られていた面のみを洗浄すれば除去できる
が、シリコン粉や油脂等の汚れはリングフレームの両面
を洗浄しなければならないため、従来はリングフレーム
を横向きにして搬送しながらそれに洗浄液を吹きつけて
洗浄していた。しかし、この洗浄方法ではリングフレー
ムの上下両面を均等に洗浄しにくく、また洗浄液の飛散
対策等が極めて困難であった。更にはリングフレームの
搬送ラインも乾燥工程も含めるとかなり広いスペース
（特に横方向へ）が必要になるという問題もあった。

【００１１】本発明の目的は洗浄前に表面が上になるよ
うに横向きで送られてくるリングフレームを、自動的に
縦向きに向きを変えて洗浄でき、洗浄後は裏面が上にな
るように自動的に横向きにして送り出して、洗浄済のリ
ングフレームの裏面にそのまま上からフィルムを貼合で
きるようにすることにある。また、洗浄液の飛散防止と
横方向の設置スペースを短くすることができるリングフ
レーム自動洗浄装置を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明のリングフレーム
自動洗浄装置は図１に示すように、リングフレーム１を
横向きにして供給する供給体２と、供給体２側とその反
対側とに往復回転可能であり且つ供給体２からリングフ
レーム１を引き継とぐと回転してリングフレーム１を縦
向きにし、更に後記する洗浄済みのリングフレーム１を
後記する昇降体４から引き継とぐと供給体２と反対側に
回転してリングフレーム１を表裏面が供給時と逆になる
ように横向きに排出する中継体３と、中継体３で縦向き
にされたリングフレーム１を受け継いで供給体２及び中
継体３よりも下方に設けた洗浄槽５内に引下げ又洗浄済
みのリングフレーム１を洗浄槽５から引上げる昇降体４
と、昇降体４により洗浄槽５内に引き下げられたリング
フレーム１を縦向きのまま受け継ぐ保持体６と、保持体
６で保持したリングフレーム１を回転させる回転機構７
と、回転中のリングフレーム１を洗浄槽５内で洗浄する
洗浄体８と、洗浄終了後に前記昇降体４により引上げら
れて前記中継体３に受け継がれ且つ同中継体３により横
向きに排出された横向きのリングフレーム１を外部に送
り出す送出体９とを備え、前記中継体３は水平状態で未
洗浄のリングフレーム１を受け取り、その後９０度回転
することで当該リングフレーム１を縦向きに直立させる
アーム１２と、垂直状態で洗浄後のリングフレーム１を
受け取り、その後９０度回転することでリングフレーム
１の表裏面が供給時と逆になるように当該リングフレー
ム１を横向きに倒覆させるアーム１３とから構成される
ものである。

【００１３】

【作用】本発明のリングフレーム自動洗浄装置では、図
１に示すように供給体２にリングフレーム１を表面１０
を上にして横向きに乗せると、同リングフレーム１はそ
のまま供給体２により左側に搬送されて所定位置で停止
する。この停止位置で図２に示すようにリングフレーム
１は中継体３に引き継がれ、同中継体３が図２の矢印Ｘ
方向（左側）に９０度回転して起立し、リングフレーム
１が自動的に縦向きになる。このときリングフレーム１
は洗浄槽５の真上に位置する。

【００１４】縦向きになったリングフレーム１は昇降体
４に引き継がれ、同昇降体４が降下することにより洗浄
槽５内に引下げられる。このリングフレーム１は洗浄槽
５内の保持体６に引き継がれて縦向きのまま保持され、
更にその保持状態で回転機構７により回転され、この回
転中に洗浄槽５内の洗浄体８により洗浄される。

【００１５】洗浄済みのリングフレーム１は前記昇降体
４に引き継がれ、同昇降体４が上昇することにより中継
体３の下まで上昇されて中継体３に引き継がれる。そし
て中継体３が図２の矢印Ｙ方向（左側）に９０度回転し
て横倒しになるとリングフレーム１が自動的に横向きに
なり、その表裏面が供給時と逆、即ち裏面１１が上にな
る。そして、このリングフレーム１は送出体９により図
２の矢印Ｚ方向に搬送されて外部に送り出される。

【００１６】

【実施例１】本発明のリングフレーム自動洗浄装置の実
施例を図１〜図８に基づいて詳細に説明する。

【００１７】図１〜図７の１はリングフレームであり、
これは図１２に示す従来からのリングフレームと同じ形
状、構造のものである。

【００１８】図１、図２の２はリングフレーム１を右側
から左側に搬送するための供給体であり、この供給体２
には無端状のベルトが使用され、それが図示されていな
い駆動手段により図１の矢印Ｏ方向に左回転するように
してある。

【００１９】図１、図２の３は供給体２により搬送され
てきたリングフレーム１を縦向きにする中継体である。
この中継体３はＬ字状に連結された二本のアーム１２、
１３の夫々の先端部に、リングフレーム１を吸着可能な
導入側チャック１４、排出側チャック１５が取付けられ
ている。また、この中継体３は図４のロータリーアクチ
ュエータ等の回転駆動体７３により図１、図２の回転軸
１６を中心として図１及び図２の実線位置（右側に倒れ
ている位置）から図２に仮想線で示す位置（左側に倒れ
ている位置）まで回転可能としてある。

【００２０】図１、図２の４は昇降体であり、これは昇
降アーム２１の上端にリングフレーム１を挟着できる昇
降アームチャック２２が設けられており、同昇降アーム
チャック２２が図１に示すように洗浄槽５内に入ってい
る位置と図２に示すように洗浄槽５の上方で前記中継体
３に吸着されているリングフレーム１を保持できる位置
との間を図１、図２の駆動機構２３により昇降可能とし
てある。この駆動機構２３は図１、図２に示す縦長のガ
イド２３ａに沿って昇降可能としてある。また昇降アー
ムチャック２２は図４に示すように二枚の挟着片２２
ａ、２２ｂが昇降アーム２１の両端のエアシリンダ７４
により開閉され、閉じたときにリングフレーム１を保持
できるようにしてある。なお、昇降体４のリングフレー
ム１を保持するための保持機構は周知の適宜の機構を採
用できる。

【００２１】図１〜図３の５は洗浄槽であり、これは縦
長箱状に形成され、その上部に開口部２５が形成され、
上部の側面に縦細長の出し入れ口２６が形成されて、前
記の昇降体４に吸着されているリングフレーム１がこの
開口部２５、出し入れ口２６から洗浄槽５に出し入れさ
れるようにしてある。

【００２２】図１、図３の６は保持体であり、これはリ
ングフレーム１を縦向きのまま保持するものである。そ
してこの保持体６は図１、図３の回転アクチュエータ３
１、その回転軸３２の先端の駆動ギヤ３３、その駆動ギ
ヤ３３と噛み合っている三つの回転ギヤ３４、同回転ギ
ヤ３４が取付けられている三個の回転体３５、夫々の回
転体３５の偏心位置に取付けられている三個のプーリー
３６とにより三組構成されている。

【００２３】前記の回転アクチュエータ３１は図１、図
３に示す様にベース４６の背面に取付けられた取付け具
５０に取付けられている。この回転アクチュエータ３１
の回転軸３２はベース４６の中心部を貫通してその前面
まで突出し、その先端に駆動ギヤ３３が取付けられ、こ
の駆動ギヤ３３の外周部に図３の様に前記の三個の回転
ギヤ３４を噛み合わせてある。

【００２４】前記の回転体３５は図３に明示するよう
に、前記ベース４６の周方向三箇所に均等間隔で回転可
能に取付けられている。各回転体３５の外周にリング状
の回転ギヤ３４が固定されている。また各回転体３５の
背面には支持具３７が取付けられ、この支持具３７に駆
動モータ３８が取付けられ、同モータ３８の回転軸３９
が回転体３５の外周寄りの偏心位置を貫通して前記回転
ギヤ３４の前面まで突出し、その先端にプーリー３６が
取付けられている。

【００２５】そして、この保持体６は図３の往復移動機
構４０により図１に示す洗浄槽５の外側（左側）に出て
いる位置から、図２に示す洗浄槽５の内側に入る位置ま
で左右に往復移動可能としてある。この往復移動機構４
０は図１、図３に示す支持台４１の上面に取付けられた
ガイドレール４２の上に移動台４３がスライド可能に取
付けられ、その移動台４３の上にエアシリンダ４４が取
付けられ、同エアシリンダ４４のシリンダ４５の先端に
ベース４６が固定されている。そしてエアシリンダ４４
のシリンダ４５が図１の右側に伸びると移動台４３がガ
イドレール４２に沿って同方向に移動して図３の様にベ
ース４６が洗浄槽５内に押込まれ、エアシリンダ４４の
シリンダ４５が前回とは逆に図３の左側に縮むと移動台
４３がガイドレール４２に沿って同方向に移動して図１
の様にベース４６が洗浄槽５の外側に引き戻されるよう
にしてある。

【００２６】また、この保持体６によるリングフレーム
１を保持するための動作は次の様になる。図３（ａ）の
エアシリンダ４４のシリンダ４５を伸ばしてベース４６
を図３（ａ）の位置、即ち、プーリ３６が洗浄槽５のセ
ンターラインに一致する位置まで前進させてから、回転
アクチュエータ３１の回転軸３２を回転させると、同回
転軸３２の先端の駆動ギア３３が図３の矢印Ｎ方向に回
転し、これに伴って駆動ギヤ３３と噛み合っている三つ
の回転ギヤ３４が夫々図３（ｂ）の矢印Ｍ方向に回転
し、夫々の回転ギヤ３４が取付けられている三個の回転
体３５が同方向に回転する。これに伴って回転体３５に
取付けられている駆動モータ３８｛図３（ｂ）｝、その
回転軸３９及びその先端のプーリー３６が同回転体３５
と共に回転し、これにより同回転体３５の外周寄りに偏
心して取付けられている回転軸３９及びプーリー３６が
図３（ｂ）の二点鎖線の位置から外側に移動して、三個
のプーリー３６が図３（ｂ）に実線で示す様にリングフ
レーム１の内周面に三方から圧接してリングフレーム１
を保持するようにしてある。

【００２７】図１、図３の７は保持体６で保持されたリ
ングフレーム１を回転させるための回転機構である。こ
の回転機構７は前記した駆動モータ３８と回転軸３９の
先端に取付けたプーリー３６により構成されている。そ
して、前記したように図３の三組の保持具６によりリン
グフレーム１が保持された状態で、図３（ａ）の駆動モ
ータ３８を回転させると同モータ３８の回転軸３９が回
転し、図３（ｂ）に実線で示すようにリングフレーム１
に圧接している三つのプーリー３６がその位置で回転
し、これによりリングフレーム１がその周方向｛図３
（ｂ）の矢印Ｊ方向｝に回転するようにしてある。

【００２８】図６の８は洗浄体である。これは洗浄ブラ
シ５１、洗浄時にリングフレーム１に温水を吹きかける
温水供給体５２、リングフレーム１に付着している水分
を洗浄槽２から取出す前に払拭する水分払拭具５３から
構成される。

【００２９】洗浄ブラシ５１はプラスチックとか金属等
のロールの外周に刷毛５４が植毛されており、これは図
７に示すようにリングフレーム１をその表裏両面から挟
むようにその両面に１本づつ配置されている。そして図
６のエアシリンダ５５のアーム５６を伸ばして支持体５
７の先端部を上方に回動させると、図６の二点鎖線の位
置から実線の位置まで回動してリングフレーム１の表裏
両面に接触するようにしてある。

【００３０】この接触後に図７のモータ５８を回転させ
て回転軸５９に取付けられているベベルギヤ６０を回転
させると、同ギヤ６０に噛み合っているベベルギヤ６１
が回転し、更に、同ギヤ６１が取付けられている回転軸
６２が回転し、同回転軸６２に取付けられている洗浄ブ
ラシ５１が回転するようにしてある。この場合、洗浄ブ
ラシ５１の回転方向はリングフレーム１の回転方向｛図
３（ｂ）の矢印Ｊ方向｝と逆方向にする。また、同洗浄
ブラシ５１は後記する温水の供給が停止したら回転が停
止し、図７のエアシリンダ５５のロッド５６が後退して
支持体５７の先端部を下方に回動し、洗浄ブラシ５１を
図６の二点鎖線の位置まで引き戻すようにしてある。

【００３１】前記の温水供給体５２は図６、図７に示す
様にリングフレーム１に温水をかけるものであり、これ
はリングフレーム１の表裏両面側に１本づつ配置され、
しかも夫々の温水供給体５２の先端のノズル６５をリン
グフレーム１の表裏面に向けて曲げてある。そして、図
示されていない温水タンクからこの温水供給体５２に温
水が供給されると、温水がノズル６５からリングフレー
ム１に向けて予め決められた時間だけ温水が噴射される
ようにしてある。温水の温度は４０℃以上、好ましくは
７０〜９５℃がよい。

【００３２】前記の水分払拭具５３は水分を払拭するだ
けでなく、洗浄作業の効率を上げるために短時間で水分
除去ができるようにしてある。図６（ａ）では水分払拭
具５３としてワイパーが使用されている。このワイパー
は図８に示す様にリングフレーム１の表裏両面側に１本
づつ配置されている。そして図６（ａ）のＬ字状のワイ
パーアーム６６の先端部にゴム板６６ａが取付けられ、
ワイパーアーム６６の根元側がワイパー支持体６７に支
持され、ワイパー支持体６７が洗浄槽２の下部に取付け
られたエアシリンダ６８のロッド６９に連結されてい
る。そして、水分払拭具５３は図８に示す実線の位置か
ら仮想線の位置まで横方向に往復移動可能としてあり、
実線の位置でゴム板６６ａがリングフレーム１の表裏両
面に接触するようにしてある。

【００３３】図６（ｂ）では水分払拭具５３のＬ字状の
ワイパーアーム６６の先端部に吸水性の良いスポンジロ
ーラ７０を取付けてある。この水分払拭具５３の構造及
び駆動機構などは図６（ａ）の水分払拭具５３と同じに
してある。

【００３４】図１の９は送出体であり、この送出体９に
は無端状の搬送ベルトが使用され、それを図示されてい
ない駆動手段により図１の矢印Ｚ方向（左側）に回転可
能としてある。

【００３５】

【使用例】次に、本発明のリングフレーム自動洗浄装置
の使用例を示す。図１の供給体２で搬送されてくるリン
グフレーム１は図１、２のストッパ７１に突当たると停
止する。停止したリングフレーム１は水平状体にある中
継体３のアーム１２の先端に設けられたエアシリンダ７
２（図１）で駆動される導入側チャック１４によりリン
グフレーム１の両端が挟まれてチャックされる。

【００３６】リングフレーム１をチャックした中継体３
のアーム１２は図４の回転駆動体７３により図２に仮想
線で示すように左側に９０度回転させられる。これによ
りリングフレーム１が直立する（縦向きになる）。リン
グフレーム１が縦向きになると図１のように下方で待機
していた昇降体４が駆動手段２３により上昇し、昇降ア
ーム２１の両端のエアシリンダ７４（図５）により駆動
される昇降アームチャック２２でリングフレーム１の両
端を挟み保持する。その後に中継体３の導入側チャック
１４による保持が解放され、リングフレーム１は昇降ア
ームチャック２２に保持されて引下げられ、直立状態の
まま搬送ライン（供給体２、中継体３、送出体９の横方
向の配列ライン）より下方に設置されている洗浄槽５内
へ収容される。

【００３７】次に、図１、図３（ａ）のエアシリング４
４のシリンダ４５が右側に伸びて移動台４３がガイドレ
ール４２に沿って同方向に移動し、図３（ａ）の様にベ
ース４６が洗浄槽５内に押込まれ、洗浄槽５内のリング
フレーム１の内側をくぐって、プーリー３６のＶ溝が洗
浄槽５のセンターの位置に来るまで前進する。

【００３８】その後、図１、図３（ｂ）の三組の保持具
６を洗浄槽５内のリングフレーム１を保持する。具体的
には図３（ｂ）の回転アクチュエータ３１の回転軸３２
を回転させてその先端の駆動ギア３３を図３（ｂ）の矢
印Ｎ方向に回転させ、この駆動ギヤ３３と噛み合ってい
る三つの回転ギヤ３４が夫々図３（ｂ）の矢印Ｍ方向に
回転し、回転軸３９及びプーリー３６が図３の二点鎖線
の位置から外側に移動し、プーリー３６がリングフレー
ム１の内輪に圧接して、リングフレーム１が三組の保持
具６により保持される。この圧接状態で回転アクチュエ
ータ３１の回転を止める。また、昇降体４の昇降アーム
チャック２２による保持を解放する。

【００３９】そして中継体３が初期の位置まで戻り、昇
降体４が上限まで上昇した後、図１、図２のシャッター
８０がエアシリンダ８１により駆動されて洗浄槽５の上
部の開口部２５を閉じる。

【００４０】次に、図３（ａ）に示す回転機構７により
リングフレーム１を回転させる。具体的には三組の保持
具６によりリングフレーム１を保持した状態で、図１、
図３（ａ）のモータ３８を回転させてその回転軸３９を
回転させ、図３（ｂ）のようにリングフレーム１に圧接
している三つのプーリー３６をその実線の位置で回転さ
せてリングフレーム１をその周方向に回転させる。

【００４１】次に、リングフレーム１の表裏両面に図
６、図７のように洗浄ブラシ５１を接触させる。具体的
には図６のエアシリンダ５５のアーム５６を伸ばして支
持体５７の先端部を上方に押して、洗浄ブラシ５１を図
６の二点鎖線の位置から実線の位置まで回動させてリン
グフレーム１に接触させる。

【００４２】そして図７の左右−対の洗浄ブラシ５１を
回転させる。具体的には図７の駆動モータ５８を回転さ
せて回転軸５９に取付けられているベベルギヤ６０−同
ギヤ６０に噛み合っているベベルギヤ６１−同ギヤ６１
が取付けられている回転軸６２を回転させて洗浄ブラシ
５１を回転させる。そして、回転中のリングフレーム１
の表裏両面に洗浄槽５内のノズル６５より水圧により吹
き出される洗浄液をかけてリングフレーム１の表裏両面
を洗浄する。この場合、リングフレーム１と洗浄ブラシ
５１との相対回転速度を早めて洗浄力を増すため洗浄ブ
ラシ５１の回転方向をリングフレーム１の回転方向と逆
方向にする。ちなみにリングフレーム１の回転数を１８
ｒｐｍ、洗浄ブラシ５１の回転数を１５０ｒｐｍとした
とき、約１０秒でリングフレーム１の表裏両面を十分に
洗浄することができた。

【００４３】洗浄液としては例えば超純水、温純水を使
用する。他にも界面活性剤、洗剤などを混合した水など
が使用でき、その場合は洗浄液による洗浄後に、切り替
え弁によりノズル６２から洗浄液の代わりに清水、純水
を流しリングフレーム１をリンスする。

【００４４】洗浄が済んだら洗浄ブラシ５１をリングフ
レーム１から離す。具体的には図６のエアシリンダ５５
のアーム５６を縮めて支持体５７の先端部を引き下げ、
洗浄ブラシ５１を図６の実線の位置から二点鎖線の位置
まで回動させて引き戻す。

【００４５】次に、水分払拭具５３を図４〜図６のよう
に回転しているリングフレーム１の表裏両面に接触させ
て表裏両面の水分を払拭する。具体的には図６のエアシ
リンダ６８のロッド６９を伸ばしてワイパーアーム６６
を内側に押して図８に実線で示すようにゴム板６６ａ或
は図６（ｂ）のスポンジロール７０を回転中のリングフ
レーム１の表裏両面に接触させて水分を払拭する。この
とき、リングフレーム１は温水の温度によっても加熱さ
れるので、その加熱によってもリングフレーム１の水分
が蒸発し乾燥する。ちなみに、この払拭と乾燥との併用
により約１５秒で完全にリングフレーム１の乾燥を行な
うことができた。また、洗浄後の乾燥能力を増すため
に、圧縮空気や窒素のような不活性ガスをリングフレー
ム１に吹きつけるようにしてもよい。

【００４６】水分の払拭が終了したら図６、図８の水分
払拭具５３をリングフレーム１から離す。具体的には図
６のエアシリンダ６８のロッド６９を縮めてワイパーア
ーム６６を外側に移動させ、ゴム板６６ａ或はスポンジ
ロール７０を図８に仮想線で示す様にリングフレーム１
の表裏両面から離す。

【００４７】次に、図３（ａ）に示す洗浄槽５内の位置
決め用光電センサー８５によりリングフレーム１の位置
決めを行った後、図１、２の洗浄槽５の上部のシャッタ
ー８０を開き、昇降体４を下限まで下降させてから同昇
降体４の昇降アームチャック２２を閉じてリングフレー
ム１を保持する。

【００４８】次に、プーリ３６が閉じて保持具６による
リングフレーム１の保持を解除し、保持具６が洗浄槽５
の左側に後退して洗浄槽５の外に出たら、昇降体４がリ
ングフレーム１を保持したまま洗浄槽５の上方まで上昇
する。

【００４９】洗浄槽５より引上げられたリングフレーム
１は中継体３のアーム１３の先端に設けられたエアシリ
ンダ８６（図１）で駆動される排出側チャック１５によ
って直立状態のまま保持される。その後、昇降アームチ
ャック２２がリングフレーム１の保持を解除し、昇降体
４は洗浄槽５内まで降下する。

【００５０】その後、中継体３のアーム１３が図２に仮
想線で示す様に左側に９０度回転して倒れて、保持して
いる洗浄後のリングフレーム１を倒覆させる。この状態
で排出側チャック１５がリングフレーム１の保持を解除
し、送出体９の上に裏面１１を上にして横向きに置く。
これにより当該リングフレーム１の表裏面が供給時と逆
になる。その後、中継体３は図２の右側に９０度回転し
て実線で示す位置に戻る。

【００５１】送出体９にのせられたリングフアレーム１
は送出体９により外部（図１、図２の左側に）に排出さ
れる。

【００５２】

【実施例２】実施例１はリングフレームを搬送する供給
体２、送出体９として無端ベルトを用いてあるが、本発
明ではそれ以外のものを用いてもよい。実施例２は供給
体２、送出体９をバキューム方式にしたものである。こ
の実施例２を図９（平面図）に基づいて詳細に説明す
る。図９に示すものは供給体２であるが、この構造は送
出体９の場合も同じである。

【００５３】図９に示す供給体２は図示されていないエ
アシリンダなどの駆動手段により、平行な２本のガイド
９０に沿って往復移動可能で且つ上下（図面の表裏面
側）に昇降可能としたバキュームチャックアーム９１の
先端に、リングフレーム１を真空吸着可能な真空吸着パ
ッド９２を４個取付てなる。

【００５４】そして、この真空吸着パッド９２によりリ
ングフレーム１を吸着するとバキュームチャックアーム
９１が上昇してリングフレーム１を持ち上げ、所定の高
さでガイド９０に沿って図９の左側に移動してリングフ
レーム１をテーブル９３の上まで搬送する。その位置で
バキュームチャックアーム９１が降下してリングフレー
ム１をテーブル９３の上に置き、その後に真空吸着パッ
ド９２による吸着を開放してリングフレーム１を離す。
次にバキュームチャックアーム９１は再び上昇して右方
向に戻り、テーブル９３から離れるようにしてある。

【００５５】図９の３は中継体であり、これは図１の中
継体３と同様に左右に９０度回転可能としてある。そし
てこの中継体３は前記のバキュームアーム９１がテーブ
ル９３から離れた後に、実施例１と同様にアーム１２が
右側に９０度回転して水平状態となり、導入側チャック
１４でリングフレーム１を保持する。この導入側チャッ
ク１４は図９のエアシリンダ９４によりリンク機構９５
を駆動すると、可動チャック９６が図９に示す様に閉じ
て固定チャック９７との間にリングフレーム１の両端部
を抱きかかえて保持できるようにしてある。

【００５６】その後、実施例１の場合と同様にリングフ
レーム１を保持した中継体３が左側に９０度回転して同
リングフレーム１を縦向きに直立させると、同リングフ
レーム１は実施例１と同様に昇降体４で引き継がれて洗
浄層５内に引き下げられ、そこで洗浄した後、水分を払
拭してから昇降体４で洗浄層５の上まで引き上げるよう
にしてある。

【００５７】そして、図９の実施例では上昇したリング
フレーム１を垂直状態の中継体３の排出側チャック１５
（導入側チャック１４と同じ構造のもの）で吸着保持
し、その後、昇降体４が降下してから中継体３が左側に
９０度回動して、洗浄後のリングフレームを横倒しにし
てから吸着を解除してリングフレーム１をテーブル９８
の上に置く。このときリングフレーム１は裏面が上にな
り、表裏面が供給時と逆になる。このリングフレーム１
は送出体９により次工程に搬送される。

【００５８】ここでテーブル９８の側面に三組のレーザ
ーセンサ投光器９９、受光器１００を対向して設置すれ
ば、送出体９による排出前にリングフレーム１の厚さ方
向の歪みを非接触で測定できるので、リングフレーム１
の良否を判別することができる。

【００５９】本発明における中継体３は図１０（ａ）〜
（ｈ）及び図１１の（ａ）（ｂ）の順に回動させれば、
リングフレーム１の供給体２から中継体３への受け渡
し、中継体３から昇降体４への受け渡し、昇降体４から
中継体３への受け渡しが効率良く行われる。図１０
（ａ）〜（ｈ）及び図１１の（ａ）（ｂ）の動作を次に
説明する。

【００６０】 １．図１０（ａ）のように中継体３のアーム１２を右に
倒して導入側チャック１４によりリングフレーム１を受
け取る。 ２．図１０（ｂ）のように中継体３のアーム１２を左に
倒してリングフレーム１を縦向きにする。 ３．図１０（ｃ）のようにリングフレーム１を昇降体４
の昇降体用チャック２２により保持して引下げる。 ４．図１０（ｄ）のように空になった中継体３のアーム
１２を、図１０（ｅ）のように右に倒して次のリングフ
レーム１を導入側チャック１４により保持する。 ５．図１０（ｆ）のように昇降体用チャック２２で保持
されている洗浄済のリングフレーム１を上昇させる。 ６．図１０（ｇ）のように洗浄済のリングフレーム１を
直立状態にある中継体３のアーム１３の排出側チャック
１５で保持する。 ７．図１０（ｈ）のように中継体３のアーム１３を左に
倒して、洗浄済のリングフレーム１の保持を解除する。
このとき昇降体用チャック２２が上昇して導入側チャッ
ク１４に保持されているリングフレーム１を保持する。 ８．図１１（ａ）のように昇降体４が降下して昇降体用
チャック２２により保持しているリングフレーム１を引
下げる。 ９．図１１（ｂ）｛図１０（ａ）と同じ状態｝のように
空になった中継体３のアーム１２を右に倒して、供給体
２により次に送られてきているリングフレーム１を導入
側チャック１４により保持する。 １０．以下、図１０（ｂ）〜図１１（ｂ）の動作を繰り
返す。

【００６１】

【発明の効果】本発明のリングフレーム洗浄装置は次の
ような効果がある。 ．横向きで送られてくるリングフレーム１を自動的に
縦向きに向きを変えて洗浄することができるため、洗浄
槽５を前後或は左右に広くする必要がなく、縦の細長に
することができ、ンパクト化でき、設置に場所をとらな
い。 ．表面１０を上にして送られてくるリングフレーム１
を、洗浄後は自動的に裏面１１を上にすることができる
ので、一々リングフレーム１の表裏面を変えることな
く、そのままフィルムを張ることができる。 ．洗浄槽５が供給体２、中継体３、送出体９の配列ラ
インよりも下方に設けたので、帆走中のリングフレーム
１への洗浄液の飛散を防止できる。 ．リングフレーム１の洗浄から温水の払拭、乾燥まで
を全自動で行なうことができるので作業能率が向上す
る。 ．リングフレーム１の汚れがきれいに落ちるので、そ
のリングフレーム１に新たにフィルムを張り易く、フィ
ルムに皺が寄ったりすることもなく、全体に均一な張り
を持たせて水平に、しかも、しっかりと張ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のリングフレーム自動洗浄装置の一部を
縦断した側面説明図。

【図２】本発明のリングフレーム自動洗浄装置における
供給体と中継体間、中継体と昇降体間、昇降体と中継体
間のリングフレーム受渡し状態の側面説明図。

【図３】（ａ）本発明のリングフレーム自動洗浄装置に
リングフレームをセットした状態の側面図、（ｂ）同状
態の正面図。

【図４】本発明のリングフレーム自動洗浄装置における
洗浄扱槽から中継体にリングフレームを受け渡す状態の
平面図。

【図５】図４と同じ状態の正面図。

【図６】（ａ）（ｂ）は本発明のリングフレーム自動洗
浄装置におけるワイパー部分の異なる例の正面説明図。

【図７】本発明のリングフレーム自動洗浄装置における
洗浄ブラシ部分の平面説明図。

【図８】本発明のリングフレーム自動洗浄装置における
ワイパーの開閉説明図。

【図９】本発明のリングフレーム自動洗浄装置の実施例
２の搬送体及び中継体部分の平面説明図。

【図１０】（ａ）〜（ｈ）は本発明における中継体の動
作説明図。

【図１１】（ａ）、（ｂ）は図１０の（ｈ）の後の中継
体の動作説明図。

【図１２】（ａ）はリングフレームに張られているフィ
ルムに半導体チップを付着させた状態の斜視図、（ｂ）
は半導体チップの一部を剥離した状態の斜視図である。

【符号の説明】

１ リングフレーム ２ 供給体 ３ 中継体 ４ 昇降体 ５ 洗浄槽 ６ 保持体 ７ 回転機構 ８ 洗浄機構 ９ 送出体

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−42142（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−128445（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−65142（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭63−61140（ＪＰ，Ｕ)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 リングフレーム１を横向きにして供給す
   る供給体２と、供給体２側とその反対側とに往復回転可
   能であり且つ供給体２からリングフレーム１を引き継ぐ
   と回転してリングフレーム１を縦向きにし、更に後記す
   る洗浄済みのリングフレーム１を後記する昇降体４から
   引き継ぐと供給体２と反対側に回転してリングフレーム
   １を表裏面が供給時と逆になるように横向きにして排出
   する中継体３と、中継体３で縦向きにされたリングフレ
   ーム１を受け継いで供給体２及び中継体３よりも下方に
   設けた洗浄槽５内に引下げ又洗浄済みのリングフレーム
   １を洗浄槽５から引上げる昇降体４と、昇降体４により
   洗浄槽５内に引き下げられたリングフレーム１を縦向き
   のまま受け継ぐ保持体６と、保持体６で保持したリング
   フレーム１を回転させる回転機構７と、回転中のリング
   フレーム１を洗浄槽５内で洗浄する洗浄体８と、洗浄終
   了後に前記昇降体４により引上げられて前記中継体３に
   受け継がれ且つ同中継体３により横向きにされたリング
   フレーム１を外部に送り出す送出体９とを備え、前記中
   継体３は水平状態で未洗浄のリングフレーム１を受け取
   り、その後９０度回転することで当該リングフレーム１
   を縦向きに直立させるアーム１２と、垂直状態で洗浄後
   のリングフレーム１を受け取り、その後９０度回転する
   ことでリングフレーム１の表裏面が供給時と逆になるよ
   うに当該リングフレーム１を横向ぎに倒覆させるアーム
   １３とから構成されることを特徴とするリングフレーム
   自動洗浄装置。