JPH0817771A - ブラシ洗浄装置及びワーク洗浄システム - Google Patents
ブラシ洗浄装置及びワーク洗浄システムInfo
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- JPH0817771A JPH0817771A JP6151874A JP15187494A JPH0817771A JP H0817771 A JPH0817771 A JP H0817771A JP 6151874 A JP6151874 A JP 6151874A JP 15187494 A JP15187494 A JP 15187494A JP H0817771 A JPH0817771 A JP H0817771A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
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- B08B1/20—
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays
- B08B3/022—Cleaning travelling work
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 ブラシ洗浄時間を短縮することができ、ワー
ク例えばウェーハの洗浄時間を自在に制御でき、かつ、
ワーク、例えばウェーハの最外周部まで洗浄することが
出来、またこのブラシ洗浄装置をワーク洗浄システムに
組み込むことにより、洗浄効率を向上させる。 【構成】 上下に相対向して設けられた一対の回転ブラ
シ１２ａ，１２ａ′；１２ｂ，１２ｂ′からなるブラシ
洗浄手段１２Ａ，１２Ｂを一個以上有し、該一対の回転
ブラシ間に搬送される円板状のワークＷを洗浄するブラ
シ洗浄装置１０であり、上記ブラシ洗浄手段の回転方向
の先方に上記円板状ワークの停止及び排出を行なうスト
ッパー手段２２を設ける。
ク例えばウェーハの洗浄時間を自在に制御でき、かつ、
ワーク、例えばウェーハの最外周部まで洗浄することが
出来、またこのブラシ洗浄装置をワーク洗浄システムに
組み込むことにより、洗浄効率を向上させる。 【構成】 上下に相対向して設けられた一対の回転ブラ
シ１２ａ，１２ａ′；１２ｂ，１２ｂ′からなるブラシ
洗浄手段１２Ａ，１２Ｂを一個以上有し、該一対の回転
ブラシ間に搬送される円板状のワークＷを洗浄するブラ
シ洗浄装置１０であり、上記ブラシ洗浄手段の回転方向
の先方に上記円板状ワークの停止及び排出を行なうスト
ッパー手段２２を設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、円板状ワーク、例えば
半導体ウェーハ（以下単にウェーハということがある）
を効率的に洗浄することのできるブラシ洗浄装置及びこ
のブラシ洗浄装置を用いたワーク洗浄システムに関す
る。
半導体ウェーハ（以下単にウェーハということがある）
を効率的に洗浄することのできるブラシ洗浄装置及びこ
のブラシ洗浄装置を用いたワーク洗浄システムに関す
る。
【０００２】
【関連技術】半導体素子製造において、半導体ウェーハ
の表面に付着した不純物や異物（例えば研磨加工が終了
したウェーハには化学的不純物やパーティクルが付着し
ている）は半導体素子の性能に悪影響を及ぼす。
の表面に付着した不純物や異物（例えば研磨加工が終了
したウェーハには化学的不純物やパーティクルが付着し
ている）は半導体素子の性能に悪影響を及ぼす。
【０００３】そこで、ウェーハの製造工程の中には、洗
浄工程が含まれており、この洗浄工程ではウェーハが種
々の方法によって洗浄されるが、ウェーハの洗浄方法に
は大別して物理的洗浄方法と化学的洗浄方法とがある。
浄工程が含まれており、この洗浄工程ではウェーハが種
々の方法によって洗浄されるが、ウェーハの洗浄方法に
は大別して物理的洗浄方法と化学的洗浄方法とがある。
【０００４】前者の例としては、例えば、洗浄ブラシ等
を用いて直接汚れを機械的に除去する方法や、加圧流体
を噴出ノズルにより被洗浄体の一部又は全体に向け射出
し、この噴流圧によって汚れを機械的に除去する方法
や、被洗浄体を液体中に埋没させ、液中に設置した振動
子により発生させた超音波エネルギーを利用し、汚れを
機械的に除去する超音波洗浄方法等が挙げられている。
を用いて直接汚れを機械的に除去する方法や、加圧流体
を噴出ノズルにより被洗浄体の一部又は全体に向け射出
し、この噴流圧によって汚れを機械的に除去する方法
や、被洗浄体を液体中に埋没させ、液中に設置した振動
子により発生させた超音波エネルギーを利用し、汚れを
機械的に除去する超音波洗浄方法等が挙げられている。
【０００５】一方、後者の例としては、例えば種々の薬
剤、酵素等により汚れを化学的に分解除去する方法等が
挙げられる。上記物理的洗浄方法と、化学的洗浄方法と
の併用も行なわれている。
剤、酵素等により汚れを化学的に分解除去する方法等が
挙げられる。上記物理的洗浄方法と、化学的洗浄方法と
の併用も行なわれている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記したウェーハ表面
に付着したパーティクル等の不純物の除去にはブラシ洗
浄が効果的であり、ウェーハの洗浄工程においては広く
用いられている。
に付着したパーティクル等の不純物の除去にはブラシ洗
浄が効果的であり、ウェーハの洗浄工程においては広く
用いられている。
【０００７】従来のブラシ洗浄機の型として、ウェーハ
を回転させながら一対のブラシにより、ウェーハの表裏
を同時に洗浄する方式のものがある。しかし、この様な
方式のブラシ洗浄機においては、ウェーハ外周部ほどウ
ェーハとブラシとが接触する時間が短く、外周部を洗浄
するためにブラシ洗浄時間が長くかかっていた。また、
ウェーハの回転中は、ウェーハ外周部を保持する必要が
あるため、ウェーハ外周部のブラシ洗浄が行えなかっ
た。
を回転させながら一対のブラシにより、ウェーハの表裏
を同時に洗浄する方式のものがある。しかし、この様な
方式のブラシ洗浄機においては、ウェーハ外周部ほどウ
ェーハとブラシとが接触する時間が短く、外周部を洗浄
するためにブラシ洗浄時間が長くかかっていた。また、
ウェーハの回転中は、ウェーハ外周部を保持する必要が
あるため、ウェーハ外周部のブラシ洗浄が行えなかっ
た。
【０００８】本発明は、上記した問題点に鑑みてなされ
たもので、ブラシ洗浄時間を短縮することができ、洗浄
装置の簡略化を行なえ、かつブラシ洗浄中に円板状ワー
クを保持する装置が不要となるため、該ワークの最外周
部まで洗浄することができるようにしたブラシ洗浄装置
及びこのブラシ洗浄装置を用いたワーク洗浄システムを
提供することを目的とする。
たもので、ブラシ洗浄時間を短縮することができ、洗浄
装置の簡略化を行なえ、かつブラシ洗浄中に円板状ワー
クを保持する装置が不要となるため、該ワークの最外周
部まで洗浄することができるようにしたブラシ洗浄装置
及びこのブラシ洗浄装置を用いたワーク洗浄システムを
提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明のブラシ洗浄装置においては、上下に相対向
して設けられた一対の回転ブラシからなるブラシ洗浄手
段を一個以上有し、該一対の回転ブラシ間に搬送される
円板状のワークを洗浄するブラシ洗浄装置であり、上記
ブラシ洗浄手段の回転方向の先方に上記円板状ワークの
停止及び排出を行なうストッパー手段を設けるようにし
た。
に、本発明のブラシ洗浄装置においては、上下に相対向
して設けられた一対の回転ブラシからなるブラシ洗浄手
段を一個以上有し、該一対の回転ブラシ間に搬送される
円板状のワークを洗浄するブラシ洗浄装置であり、上記
ブラシ洗浄手段の回転方向の先方に上記円板状ワークの
停止及び排出を行なうストッパー手段を設けるようにし
た。
【００１０】上記ストッパー手段が、開閉可能な一対の
ストッパーロッドから構成され、該一対のストッパーロ
ッドを閉じた場合又は上記ワークの直径より小さく開い
た場合に該ワークを停止し、徐々に開くことにより該ワ
ークは徐々に前進し、該ワーク直径より大きく開いた場
合には該ワークを排出するように構成されている。
ストッパーロッドから構成され、該一対のストッパーロ
ッドを閉じた場合又は上記ワークの直径より小さく開い
た場合に該ワークを停止し、徐々に開くことにより該ワ
ークは徐々に前進し、該ワーク直径より大きく開いた場
合には該ワークを排出するように構成されている。
【００１１】上記ストッパー手段の近接した先方に上下
に相対向して設けられた一対の補助回転ブラシからなる
補助ブラシ洗浄手段を１個以上設け、上記一対のストッ
パーロッドを上記ワークの直径より小さく開いた時に該
ストッパーロッドの間から先方に突出するワークの先端
部分を該補助ブラシ洗浄手段によって洗浄するように構
成することも可能である。さらに、上記補助洗浄ブラシ
の回転先方に上記ストッパー手段と同様の構成の補助ス
トッパー手段を設けることも可能である。
に相対向して設けられた一対の補助回転ブラシからなる
補助ブラシ洗浄手段を１個以上設け、上記一対のストッ
パーロッドを上記ワークの直径より小さく開いた時に該
ストッパーロッドの間から先方に突出するワークの先端
部分を該補助ブラシ洗浄手段によって洗浄するように構
成することも可能である。さらに、上記補助洗浄ブラシ
の回転先方に上記ストッパー手段と同様の構成の補助ス
トッパー手段を設けることも可能である。
【００１２】上記円板状ワークとしては、半導体ウェー
ハが一般的であるが、円板状のワークであれば本発明の
ブラシ洗浄装置による洗浄が可能であることはいうまで
もない。
ハが一般的であるが、円板状のワークであれば本発明の
ブラシ洗浄装置による洗浄が可能であることはいうまで
もない。
【００１３】上記したブラシ洗浄装置は、キャリアにセ
ットされた円板状ワークの排出搬送を行なうローダー機
構と、該ローダー機構から搬送されたワークを洗浄する
ブラシ洗浄部と、該ブラシ洗浄部で洗浄されたワークを
リンス洗浄するリンス洗浄部と、該リンスされたワーク
を乾燥する乾燥部と、乾燥後のワークをキャリアに収納
するワークアンローダー機構とからなるワーク洗浄シス
テムに適用可能である。
ットされた円板状ワークの排出搬送を行なうローダー機
構と、該ローダー機構から搬送されたワークを洗浄する
ブラシ洗浄部と、該ブラシ洗浄部で洗浄されたワークを
リンス洗浄するリンス洗浄部と、該リンスされたワーク
を乾燥する乾燥部と、乾燥後のワークをキャリアに収納
するワークアンローダー機構とからなるワーク洗浄シス
テムに適用可能である。
【００１４】
【作用】本発明のブラシ洗浄装置においては、ブラシ洗
浄手段とワーク、例えばウェーハとの接触面積が多い
程、洗浄時間は短くなることを考慮し、１個以上複数個
のブラシ洗浄手段を並列に配置することを可能とし、ウ
ェーハとブラシ洗浄手段との接触面積を大きくすること
により、ブラシ洗浄時間の短縮化を実現する。また、回
転ブラシの回転方向の先方に２本のストッパーロッドか
らなるストッパー手段を設け、このストッパー手段を開
くことによりウェーハの搬送が容易に行える構造とする
ことにより、ウェーハ保持機構が不要になり、洗浄装置
が簡素化出来る。更に、本発明のブラシ洗浄装置におい
ては、ウェーハ保持機構が不要なので、ウェーハの最外
周部まで洗浄することが可能となる。
浄手段とワーク、例えばウェーハとの接触面積が多い
程、洗浄時間は短くなることを考慮し、１個以上複数個
のブラシ洗浄手段を並列に配置することを可能とし、ウ
ェーハとブラシ洗浄手段との接触面積を大きくすること
により、ブラシ洗浄時間の短縮化を実現する。また、回
転ブラシの回転方向の先方に２本のストッパーロッドか
らなるストッパー手段を設け、このストッパー手段を開
くことによりウェーハの搬送が容易に行える構造とする
ことにより、ウェーハ保持機構が不要になり、洗浄装置
が簡素化出来る。更に、本発明のブラシ洗浄装置におい
ては、ウェーハ保持機構が不要なので、ウェーハの最外
周部まで洗浄することが可能となる。
【００１５】
【実施例】以下に本発明の一実施例を添付図面中、図１
及び図２に基づいて説明する。なお、以下の実施例にお
いては、洗浄対象となる円板状ワークとしてウェーハを
例として説明する。
及び図２に基づいて説明する。なお、以下の実施例にお
いては、洗浄対象となる円板状ワークとしてウェーハを
例として説明する。
【００１６】図１（ａ）〜（ｄ）は、本発明のブラシ洗
浄装置１０の洗浄動作を上面から見た状態を示す説明図
であり、図２（ａ）〜（ｄ）は図１（ａ）〜（ｄ）の洗
浄動作を側面から見た状態を示す説明図である。本発明
のブラシ洗浄装置１０は、上下に相対向して設けられた
一対の回転ブラシ１２ａ，１２ａ’及び１２ｂ，１２
ｂ’及び補助回転ブラシ１２ｃ，１２ｃ’から構成され
るブラシ洗浄手段１２Ａ，１２Ｂ及び補助ブラシ洗浄手
段１２Ｃを有している。該ブラシ洗浄手段１２Ａ，１２
Ｂ，及び該補助ブラシ洗浄手段１２Ｃはそれぞれ１個以
上を設置すればよいものであるが、図１及び図２に示し
た例ではブラシ洗浄手段として２個、補助ブラシ洗浄手
段として１個を設けた場合を例として示した。
浄装置１０の洗浄動作を上面から見た状態を示す説明図
であり、図２（ａ）〜（ｄ）は図１（ａ）〜（ｄ）の洗
浄動作を側面から見た状態を示す説明図である。本発明
のブラシ洗浄装置１０は、上下に相対向して設けられた
一対の回転ブラシ１２ａ，１２ａ’及び１２ｂ，１２
ｂ’及び補助回転ブラシ１２ｃ，１２ｃ’から構成され
るブラシ洗浄手段１２Ａ，１２Ｂ及び補助ブラシ洗浄手
段１２Ｃを有している。該ブラシ洗浄手段１２Ａ，１２
Ｂ，及び該補助ブラシ洗浄手段１２Ｃはそれぞれ１個以
上を設置すればよいものであるが、図１及び図２に示し
た例ではブラシ洗浄手段として２個、補助ブラシ洗浄手
段として１個を設けた場合を例として示した。
【００１７】符号１８，２０は、該ブラシ洗浄装置１０
の側端縁部に設けられているウェーハガイドである。
の側端縁部に設けられているウェーハガイドである。
【００１８】符号２２はウェーハＷを停止させるストッ
パー手段で、上記ブラシ洗浄手段１２Ｂ及び補助ブラシ
洗浄手段１２Ｃの間に設置されている。該ストッパー手
段２２は一対のストッパーロッド２４，２４から構成さ
れ、該ストッパーロッド２４，２４は、不図示のストッ
パーロッド開閉機構により側方に移動して、開閉自在と
なるように構成されている。
パー手段で、上記ブラシ洗浄手段１２Ｂ及び補助ブラシ
洗浄手段１２Ｃの間に設置されている。該ストッパー手
段２２は一対のストッパーロッド２４，２４から構成さ
れ、該ストッパーロッド２４，２４は、不図示のストッ
パーロッド開閉機構により側方に移動して、開閉自在と
なるように構成されている。
【００１９】該ストッパーロッド２４，２４には、通常
はウェーハＷの直径の０．９５程度の開き位置に臨界ポ
イントを設け、開放の指令がない限りそれ以上の開放が
行なわれないように構成される。
はウェーハＷの直径の０．９５程度の開き位置に臨界ポ
イントを設け、開放の指令がない限りそれ以上の開放が
行なわれないように構成される。
【００２０】このストッパーロッド２４，２４は、次工
程に設けられたセンサーＳにより、次工程にウェーハＷ
の無いことが確認された場合のみ、ストッパー制御手段
Ｃからの指令により不図示のストッパーロッド開閉機構
が作動して臨界ポイント以上に開放し、ウェーハＷの停
止を解除するように動作する。これによって、ウェーハ
Ｗ同士の接触破壊が防止される。
程に設けられたセンサーＳにより、次工程にウェーハＷ
の無いことが確認された場合のみ、ストッパー制御手段
Ｃからの指令により不図示のストッパーロッド開閉機構
が作動して臨界ポイント以上に開放し、ウェーハＷの停
止を解除するように動作する。これによって、ウェーハ
Ｗ同士の接触破壊が防止される。
【００２１】符号２６，２８は、該ブラシ洗浄手段１２
Ａ，１２Ｂ及び補助ブラシ洗浄手段１２Ｃの上方及び下
方に設置された洗浄液供給用シャワーである。
Ａ，１２Ｂ及び補助ブラシ洗浄手段１２Ｃの上方及び下
方に設置された洗浄液供給用シャワーである。
【００２２】上記の構成により、ウェーハＷは、ウェー
ハガイド１８，２０によりガイドされ、該回転ブラシ１
２ａ，１２ａ’，１２ｂ，１２ｂ’の回転により、その
回転方向（図示の例では、右方向）へ搬送される。この
搬送されたウェーハＷは、閉じた状態のストッパーロッ
ド２４，２４によって停止せしめられる。
ハガイド１８，２０によりガイドされ、該回転ブラシ１
２ａ，１２ａ’，１２ｂ，１２ｂ’の回転により、その
回転方向（図示の例では、右方向）へ搬送される。この
搬送されたウェーハＷは、閉じた状態のストッパーロッ
ド２４，２４によって停止せしめられる。
【００２３】ついで、このストッパーロッド２４，２４
を徐々に開くことにより、該ウェーハＷは回転方向（図
示の例では右方向）へ徐々に送られる。ウェーハＷの洗
浄が充分行なわれかつ次工程にウェーハＷが無いことが
センサーＳにより確認されると、該ウェーハストッパー
２４，２４は、該ストッパー制御手段Ｃからの指令によ
り不図示のストッパーロッド開閉機構が作動して臨界ポ
イント以上に開放し、ウェーハＷの停止は解除され、次
工程に搬出される。
を徐々に開くことにより、該ウェーハＷは回転方向（図
示の例では右方向）へ徐々に送られる。ウェーハＷの洗
浄が充分行なわれかつ次工程にウェーハＷが無いことが
センサーＳにより確認されると、該ウェーハストッパー
２４，２４は、該ストッパー制御手段Ｃからの指令によ
り不図示のストッパーロッド開閉機構が作動して臨界ポ
イント以上に開放し、ウェーハＷの停止は解除され、次
工程に搬出される。
【００２４】このウェーハＷが停止状態又は徐々に先方
に搬送される状態で、洗浄液供給ノズル２６，２８から
供給される洗浄液を用いてブラシ洗浄手段１２Ａ，１２
Ｂ及び補助ブラシ洗浄手段１２ＣによりウェーハＷの表
裏はブラシ洗浄される。該ストッパーロッド２４，２４
が徐々に開いてウェーハＷの先端部が該ストッパーロッ
ド２４，２４の先端から突出した場合に、補助ブラシ洗
浄手段１２Ｃは、そのウェーハの先端部の洗浄量が低下
しないようにそのウェーハＷの先端部の洗浄を行なう作
用を果す。
に搬送される状態で、洗浄液供給ノズル２６，２８から
供給される洗浄液を用いてブラシ洗浄手段１２Ａ，１２
Ｂ及び補助ブラシ洗浄手段１２ＣによりウェーハＷの表
裏はブラシ洗浄される。該ストッパーロッド２４，２４
が徐々に開いてウェーハＷの先端部が該ストッパーロッ
ド２４，２４の先端から突出した場合に、補助ブラシ洗
浄手段１２Ｃは、そのウェーハの先端部の洗浄量が低下
しないようにそのウェーハＷの先端部の洗浄を行なう作
用を果す。
【００２５】不図示のストッパーロッド開閉機構による
ストッパーロッド２４，２４の開閉をストッパー制御手
段Ｃからの指令により加減すればウェーハＷの洗浄時間
は自在に設定することができる。該ストッパーロッド２
４，２４は次工程にウェーハが排出されたことを確認し
た後閉じられ、次のウェーハＷが搬送されるまで待機す
る。
ストッパーロッド２４，２４の開閉をストッパー制御手
段Ｃからの指令により加減すればウェーハＷの洗浄時間
は自在に設定することができる。該ストッパーロッド２
４，２４は次工程にウェーハが排出されたことを確認し
た後閉じられ、次のウェーハＷが搬送されるまで待機す
る。
【００２６】上記実施例では、ブラシ洗浄装置１０は、
ブラシ洗浄手段１２Ａ，１２Ｂ及び補助ブラシ洗浄手段
１２Ｃを有する例を示したが、ブラシ洗浄装置１０とし
ては、ブラシ洗浄手段１２Ａ，１２Ｂを有し、補助ブラ
シ洗浄手段１２Ｃを別に設置することも可能である。
ブラシ洗浄手段１２Ａ，１２Ｂ及び補助ブラシ洗浄手段
１２Ｃを有する例を示したが、ブラシ洗浄装置１０とし
ては、ブラシ洗浄手段１２Ａ，１２Ｂを有し、補助ブラ
シ洗浄手段１２Ｃを別に設置することも可能である。
【００２７】上記したブラシ洗浄装置１０は、ウェーハ
等のワークの洗浄システムに組み込まれて通常使用され
る。以下に、このブラシ洗浄装置をワーク洗浄システム
に組み込んだ場合の一例を図３〜図６に基づいて説明す
る。
等のワークの洗浄システムに組み込まれて通常使用され
る。以下に、このブラシ洗浄装置をワーク洗浄システム
に組み込んだ場合の一例を図３〜図６に基づいて説明す
る。
【００２８】図３は、本発明のブラシ洗浄装置１０を用
いて構成されたワーク（図示の例では、ウェーハ）洗浄
システム３０を示す上面説明図である。
いて構成されたワーク（図示の例では、ウェーハ）洗浄
システム３０を示す上面説明図である。
【００２９】図４は図３の側面説明図である。図５は図
３のＶ−Ｖ線断面図である。図６はＶＩ−ＶＩ線断面図
である。
３のＶ−Ｖ線断面図である。図６はＶＩ−ＶＩ線断面図
である。
【００３０】図３、図４において、符号３２は、ウェー
ハローダー機構で、ウェーハＷを収納した供給キャリア
３４から遮蔽板３５の供給口３５ａを介してウェーハＷ
を１枚ずつ取り出しブラシ洗浄部３６に供給する作用を
行なう。ブラシ洗浄部３６には、上述したブラシ洗浄装
置１０が複数個設置されている。
ハローダー機構で、ウェーハＷを収納した供給キャリア
３４から遮蔽板３５の供給口３５ａを介してウェーハＷ
を１枚ずつ取り出しブラシ洗浄部３６に供給する作用を
行なう。ブラシ洗浄部３６には、上述したブラシ洗浄装
置１０が複数個設置されている。
【００３１】図３及び図４の例では、該ブラシ洗浄部３
６は、一対の回転ブラシ１１ａ，１１ａ’，１１ｂ，１
１ｂ’，１１ｃ，１１ｃ’及び１１ｄ，１１ｄ’からな
る４個のブラシ洗浄手段１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃ及び１
１Ｄを有する第１のブラシ洗浄装置１０Ａと、同様に一
対の回転ブラシ１３ａ，１３ａ’，１３ｂ，１３ｂ’、
１３ｃ，１３ｃ’及び１３ｄ，１３ｄ’からなる４個の
ブラシ洗浄手段１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ及び１３Ｄを有
する第２のブラシ洗浄装置１０Ｂと、一対の補助回転ブ
ラシ１５ａ，１５ａ’からなる一個の補助ブラシ洗浄手
段１５Ａとを具備している。
６は、一対の回転ブラシ１１ａ，１１ａ’，１１ｂ，１
１ｂ’，１１ｃ，１１ｃ’及び１１ｄ，１１ｄ’からな
る４個のブラシ洗浄手段１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃ及び１
１Ｄを有する第１のブラシ洗浄装置１０Ａと、同様に一
対の回転ブラシ１３ａ，１３ａ’，１３ｂ，１３ｂ’、
１３ｃ，１３ｃ’及び１３ｄ，１３ｄ’からなる４個の
ブラシ洗浄手段１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ及び１３Ｄを有
する第２のブラシ洗浄装置１０Ｂと、一対の補助回転ブ
ラシ１５ａ，１５ａ’からなる一個の補助ブラシ洗浄手
段１５Ａとを具備している。
【００３２】図３及び図４の例では、ウェーハのストッ
パー手段としては、第１ブラシ洗浄装置１０Ａの後に設
置された第１ストッパー手段２２ａと、第２ブラシ洗浄
装置１０Ｂの後に設置された第２ストッパー手段２２ｂ
と、補助ブラシ洗浄手段１５Ａの後に設置された補助ス
トッパー手段２２ｃが設けられている。
パー手段としては、第１ブラシ洗浄装置１０Ａの後に設
置された第１ストッパー手段２２ａと、第２ブラシ洗浄
装置１０Ｂの後に設置された第２ストッパー手段２２ｂ
と、補助ブラシ洗浄手段１５Ａの後に設置された補助ス
トッパー手段２２ｃが設けられている。
【００３３】第１、第２及び補助のストッパー手段２２
ａ，２２ｂ及び２２ｃは、それぞれ一対の第１ストッパ
ーロッド２４ａ，２４ａ、一対の第２ストッパーロッド
２４ｂ，２４ｂ及び一対の補助ストッパーロッド２４
ｃ，２４ｃから構成されている。これらのストッパーロ
ッド２４ａ，２４ａ、２４ｂ，２４ｂ及び２４ｃ，２４
ｃは、ストッパーロッド開閉機構Ｔの作動により開閉せ
しめられる。
ａ，２２ｂ及び２２ｃは、それぞれ一対の第１ストッパ
ーロッド２４ａ，２４ａ、一対の第２ストッパーロッド
２４ｂ，２４ｂ及び一対の補助ストッパーロッド２４
ｃ，２４ｃから構成されている。これらのストッパーロ
ッド２４ａ，２４ａ、２４ｂ，２４ｂ及び２４ｃ，２４
ｃは、ストッパーロッド開閉機構Ｔの作動により開閉せ
しめられる。
【００３４】なお、図１及び図２に示したセンサーＳ及
びストッパー制御手段Ｃは図３及び図４の例の場合にも
設置されるが、図示は省略した。該ストッパーロッド開
閉機構Ｔは該ストッパー制御手段Ｃと電気的に接続さ
れ、該ストッパー制御手段Ｃからの指令により、図１及
び図２の場合と同様に開閉作動する。
びストッパー制御手段Ｃは図３及び図４の例の場合にも
設置されるが、図示は省略した。該ストッパーロッド開
閉機構Ｔは該ストッパー制御手段Ｃと電気的に接続さ
れ、該ストッパー制御手段Ｃからの指令により、図１及
び図２の場合と同様に開閉作動する。
【００３５】各ストッパー手段２２ａ，２２ｂ，２２ｃ
の次工程には、不図示のセンサーが設置され、該センサ
ーと該ストッパー制御手段Ｃとを電気的に接続し、次工
程にウェーハが存在する時には、該ストッパーロッド２
４ａ，２４ａ、２４ｂ，２４ｂ及び２４ｃ，２４ｃは完
全開放せず、ウェーハを排出しないように構成されてい
る。
の次工程には、不図示のセンサーが設置され、該センサ
ーと該ストッパー制御手段Ｃとを電気的に接続し、次工
程にウェーハが存在する時には、該ストッパーロッド２
４ａ，２４ａ、２４ｂ，２４ｂ及び２４ｃ，２４ｃは完
全開放せず、ウェーハを排出しないように構成されてい
る。
【００３６】符号３８はウェーハ搬送ベルト機構で、ウ
ェーハ保持治具３９が取りつけられている。該ウェーハ
搬送ベルト機構３８は、該ブラシ洗浄部３６で洗浄され
たウェーハＷを、リンス液供給ノズル４７，４８を具備
したリンス洗浄工程４０に搬送し、さらにこのリンス洗
浄されたウェーハＷを、ＩＲランプ５０を備えた乾燥部
４２に搬送する役目を果たす。該乾燥されたウェーハＷ
はウェーハアンローダー機構４４により収納キャリア４
６内に収納される。
ェーハ保持治具３９が取りつけられている。該ウェーハ
搬送ベルト機構３８は、該ブラシ洗浄部３６で洗浄され
たウェーハＷを、リンス液供給ノズル４７，４８を具備
したリンス洗浄工程４０に搬送し、さらにこのリンス洗
浄されたウェーハＷを、ＩＲランプ５０を備えた乾燥部
４２に搬送する役目を果たす。該乾燥されたウェーハＷ
はウェーハアンローダー機構４４により収納キャリア４
６内に収納される。
【００３７】なお、Ｍ１はブラシ洗浄装置１０Ａ及び１
０Ｂを駆動するモータで、Ｍ２はウェーハ搬送ベルト機
構３８を駆動するモータである。
０Ｂを駆動するモータで、Ｍ２はウェーハ搬送ベルト機
構３８を駆動するモータである。
【００３８】上記の構成によりその作用を説明する。ま
ず複数枚のウェーハＷを供給キャリア３４にセットす
る。ウェーハローダー機構３２を用いて、このキャリア
３４からウェーハＷを１枚づつブラシ洗浄部３６に供給
する。この時、ウェーハＷは、ウェーハガイド１８，２
０によりガイドされブラシ洗浄部３６に確実に供給され
る。
ず複数枚のウェーハＷを供給キャリア３４にセットす
る。ウェーハローダー機構３２を用いて、このキャリア
３４からウェーハＷを１枚づつブラシ洗浄部３６に供給
する。この時、ウェーハＷは、ウェーハガイド１８，２
０によりガイドされブラシ洗浄部３６に確実に供給され
る。
【００３９】このウェーハローダー機構３２及び回転ブ
ラシ１１ａ，１１ａ’、１１ｂ，１１ｂ’、１１ｃ，１
１ｃ’及び１１ｄ，１１ｄ’の回転により、送り出され
たウェーハＷは、閉じた状態の第１ストッパーロッド２
４ａ，２４ａによって停止せしめられる。ついで、この
第１ストッパーロッド２４ａ，２４ａを不図示のストッ
パー制御手段の指令に基づくストッパーロッド開閉機構
Ｔの動作により徐々に開くことにより、該ウェーハＷの
先端部は該ストッパーロッド２４ａ，２４ａの間から先
方に突出した状態となる。
ラシ１１ａ，１１ａ’、１１ｂ，１１ｂ’、１１ｃ，１
１ｃ’及び１１ｄ，１１ｄ’の回転により、送り出され
たウェーハＷは、閉じた状態の第１ストッパーロッド２
４ａ，２４ａによって停止せしめられる。ついで、この
第１ストッパーロッド２４ａ，２４ａを不図示のストッ
パー制御手段の指令に基づくストッパーロッド開閉機構
Ｔの動作により徐々に開くことにより、該ウェーハＷの
先端部は該ストッパーロッド２４ａ，２４ａの間から先
方に突出した状態となる。
【００４０】さらに、該第１ストッパーロッド２４ａ，
２４ａが完全に開放すると、該ウェーハＷは次の工程へ
送り出される。このウェーハＷが停止状態又は徐々に先
方に搬送される状態で、洗浄液供給ノズル２６，２８か
ら供給される洗浄液を用いてブラシ洗浄手段１１Ａ〜１
１ＤによりウェーハＷの表裏はブラシ洗浄される。
２４ａが完全に開放すると、該ウェーハＷは次の工程へ
送り出される。このウェーハＷが停止状態又は徐々に先
方に搬送される状態で、洗浄液供給ノズル２６，２８か
ら供給される洗浄液を用いてブラシ洗浄手段１１Ａ〜１
１ＤによりウェーハＷの表裏はブラシ洗浄される。
【００４１】また、該第１ストッパーロッド２４ａ，２
４ａが徐々に開いてウェーハＷの先端部が該ブラシ洗浄
手段１１Ｄの洗浄範囲から突出した場合に、第２のブラ
シ洗浄装置１０Ｂのブラシ洗浄手段１３Ａは、そのウェ
ーハＷの先端部の洗浄量が低下しないようにそのウェー
ハＷの先端部の洗浄を行なう。
４ａが徐々に開いてウェーハＷの先端部が該ブラシ洗浄
手段１１Ｄの洗浄範囲から突出した場合に、第２のブラ
シ洗浄装置１０Ｂのブラシ洗浄手段１３Ａは、そのウェ
ーハＷの先端部の洗浄量が低下しないようにそのウェー
ハＷの先端部の洗浄を行なう。
【００４２】第１のブラシ洗浄装置１０Ａから排出され
たウェーハＷは、第２のブラシ洗浄装置１０Ｂにおいて
も同様に第２ストッパーロッド２４ｂ，２４ｂによって
停止せしめられ、同様にブラシ洗浄される。
たウェーハＷは、第２のブラシ洗浄装置１０Ｂにおいて
も同様に第２ストッパーロッド２４ｂ，２４ｂによって
停止せしめられ、同様にブラシ洗浄される。
【００４３】該第２ストッパーロッド２４ｂ，２４ｂが
徐々に開いてウェーハＷの先端部が該第２ストッパーロ
ッド２４ｂ，２４ｂの先端から突出して上記ブラシ洗浄
手段１３Ｄの洗浄範囲から突出した場合に、前記補助ブ
ラシ洗浄手段１５Ａは、そのウェーハＷの先端部の洗浄
量が低下しないようにそのウェーハＷの先端部の洗浄を
行なう作用を果たす。
徐々に開いてウェーハＷの先端部が該第２ストッパーロ
ッド２４ｂ，２４ｂの先端から突出して上記ブラシ洗浄
手段１３Ｄの洗浄範囲から突出した場合に、前記補助ブ
ラシ洗浄手段１５Ａは、そのウェーハＷの先端部の洗浄
量が低下しないようにそのウェーハＷの先端部の洗浄を
行なう作用を果たす。
【００４４】該補助ブラシ洗浄手段１５Ａは、該ブラシ
洗浄装置１０Ｂの洗浄範囲から先端が突出したウェーハ
Ｗの先端部の洗浄を行なうのが役割であり、補助ストッ
パーロッド２４ｃ，２４ｃは、ウェーハＷの先端部を洗
浄中にウェーハＷが次工程に移動しないようにウェーハ
Ｗを停止するものである。この補助洗浄が終了し、かつ
次工程にウェーハが存在しないことが確認されれば、該
補助ストッパーロッド２４ｃ，２４ｃは開放され、該ウ
ェーハＷが次工程に排出される。
洗浄装置１０Ｂの洗浄範囲から先端が突出したウェーハ
Ｗの先端部の洗浄を行なうのが役割であり、補助ストッ
パーロッド２４ｃ，２４ｃは、ウェーハＷの先端部を洗
浄中にウェーハＷが次工程に移動しないようにウェーハ
Ｗを停止するものである。この補助洗浄が終了し、かつ
次工程にウェーハが存在しないことが確認されれば、該
補助ストッパーロッド２４ｃ，２４ｃは開放され、該ウ
ェーハＷが次工程に排出される。
【００４５】各ストッパーロッド２４ａ，２４ａ、２４
ｂ，２４ｂ及び２４ｃ，２４ｃは、次工程にウェーハが
排出されたことを確認した後に閉じられる。
ｂ，２４ｂ及び２４ｃ，２４ｃは、次工程にウェーハが
排出されたことを確認した後に閉じられる。
【００４６】ブラシ洗浄装置１０Ｂ及び補助ブラシ洗浄
装置１５Ａによる洗浄を終了したウェーハＷは、ウェー
ハ搬送ベルト機構３８に取りつけられたウェーハ保持治
具３９に狭持され、リンス洗浄工程４０を一定速度で移
動する。この移動時にウェーハＷの表裏は、リンス供給
ノズル４７，４８から供給されたリンス液によってリン
ス洗浄される。
装置１５Ａによる洗浄を終了したウェーハＷは、ウェー
ハ搬送ベルト機構３８に取りつけられたウェーハ保持治
具３９に狭持され、リンス洗浄工程４０を一定速度で移
動する。この移動時にウェーハＷの表裏は、リンス供給
ノズル４７，４８から供給されたリンス液によってリン
ス洗浄される。
【００４７】リンス洗浄されたウェーハＷはＩＲランプ
５０を取りつけた乾燥部４２を通過し、乾燥される。乾
燥後のウェーハＷはウェーハアンローダー機構４４によ
り、収納キャリア４６に収納される。
５０を取りつけた乾燥部４２を通過し、乾燥される。乾
燥後のウェーハＷはウェーハアンローダー機構４４によ
り、収納キャリア４６に収納される。
【００４８】
【発明の効果】以上述べたごとく、本発明のブラシ洗浄
装置によれば、１以上のブラシ洗浄手段を並列に並べて
洗浄を行うことにより、ブラシ洗浄時間を短縮すること
ができる上、ブラシ回転方向にストッパー手段を設ける
ことにより、ワーク例えばウェーハの洗浄時間を自在に
制御でき、かつ、ワーク、例えばウェーハの最外周部ま
で洗浄することが出来、またこのブラシ洗浄装置をワー
ク洗浄システムに組み込むことにより、洗浄効率を高め
ることが可能となる。
装置によれば、１以上のブラシ洗浄手段を並列に並べて
洗浄を行うことにより、ブラシ洗浄時間を短縮すること
ができる上、ブラシ回転方向にストッパー手段を設ける
ことにより、ワーク例えばウェーハの洗浄時間を自在に
制御でき、かつ、ワーク、例えばウェーハの最外周部ま
で洗浄することが出来、またこのブラシ洗浄装置をワー
ク洗浄システムに組み込むことにより、洗浄効率を高め
ることが可能となる。
【図１】本発明のブラシ洗浄装置の洗浄動作を上面から
見た状態を示す上面説明図である。
見た状態を示す上面説明図である。
【図２】図１の洗浄動作を側面から見た状態を示す説明
図である。
図である。
【図３】本発明のブラシ洗浄装置を用いて構成されたワ
ーク洗浄システムを示す上面説明図である。
ーク洗浄システムを示す上面説明図である。
【図４】図３の側面説明図である。
【図５】図３のＶ−Ｖ線断面図である。
【図６】図３のＶＩ−ＶＩ線断面図である。
１０，１０Ａ，１０Ｂ ブラシ洗浄装置 １１ａ，１１ａ’〜１１ｄ，１１ｄ’ 回転ブラシ １１Ａ〜１１Ｄ ブラシ洗浄手段 １２ａ，１２ａ’，１２ｂ，１２ｂ’ 回転ブラシ １２ｃ，１２ｃ’ 補助回転ブラシ １２Ａ，１２Ｂ ブラシ洗浄手段 １２Ｃ 補助ブラシ洗浄手段 １３ａ，１３ａ’〜１３ｄ，１３ｄ’ 回転ブラシ １３Ａ〜１３Ｄ ブラシ洗浄手段 １５ａ，１５ａ’ 補助回転ブラシ １５Ａ 補助ブラシ洗浄手段 １８，２０ ウェーハガイド ２２ ストッパー手段 ２４ ストッパーロッド ２２ａ 第１ストッパー手段 ２４ａ 第１ストッパーロッド ２２ｂ 第２ストッパー手段 ２４ｂ 第２ストッパーロッド ２２ｃ 補助ストッパー手段 ２４ｃ 補助ストッパーロッド ２６，２８ 洗浄液供給用シャワー ３０ ワーク洗浄システム ３２ ウェーハローダー機構 ３４ 供給キャリア ３６ ブラシ洗浄部 ３８ ウェーハ搬送ベルト機構 ３９ ウェーハ保持治具 ４０ リンス洗浄工程 ４２ 乾燥部 ４４ ウェーハアンローダー機構 ４６ 収納キャリア ４７，４８ リンス液供給ノズル ５０ ＩＲランプ Ｗ ウェーハ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高松 広行 福島県西白河郡西郷村大字小田倉字大平 150 信越半導体株式会社半導体白河研究 所内 (72)発明者 鈴木 盛江 福島県西白河郡西郷村大字小田倉字大平 150 信越半導体株式会社半導体白河研究 所内
Claims (7)
- 【請求項１】 上下に相対向して設けられた一対の回転
ブラシからなるブラシ洗浄手段を一個以上有し、該一対
の回転ブラシ間に搬送される円板状のワークを洗浄する
ブラシ洗浄装置であり、上記ブラシ洗浄手段の回転方向
の先方に上記円板状ワークの停止及び排出を行なうスト
ッパー手段を設けたことを特徴とするブラシ洗浄装置。 - 【請求項２】 上記ストッパー手段が、開閉可能な一対
のストッパーロッドから構成され、該一対のストッパー
ロッドを閉じた場合又は上記ワークの直径より小さく開
いた場合に該ワークを停止し、徐々に開くことにより該
ワークは徐々に前進し、該ワーク直径より大きく開いた
場合には該ワークを排出するようにしたことを特徴とす
る請求項１記載のブラシ洗浄装置。 - 【請求項３】 上記ストッパー手段の近接した先方に上
下に相対向して設けられた一対の補助回転ブラシからな
る補助ブラシ洗浄手段を１個以上設け、上記一対のスト
ッパーロッドを上記ワークの直径より小さく開いた時に
該ストッパーロッドの間から先方に突出するワークの先
端部分を該補助ブラシ洗浄手段によって洗浄することを
特徴とする請求項２記載のブラシ洗浄装置。 - 【請求項４】 上記補助ブラシ洗浄手段の回転方向の先
方に上記円板状ワークの停止及び排出を行う補助ストッ
パー手段を設けたことを特徴とする請求項３記載のブラ
シ洗浄装置。 - 【請求項５】 上記補助ストッパー手段が、開閉可能な
一対の補助ストッパーロッドから構成され、該一対の補
助ストッパーロッドを閉じた場合又は上記ワークの直径
より小さく開いた場合に該ワークを停止し、徐々に開く
ことにより該ワークは徐々に前進し、該ワーク直径より
大きく開いた場合には該ワークを排出するようにしたこ
とを特徴とする請求項４記載のブラシ洗浄装置。 - 【請求項６】 上記円板状ワークが半導体ウェーハであ
ることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項記載の
ブラシ洗浄装置。 - 【請求項７】 キャリアにセットされた円板状ワークの
排出搬送を行なうローダー機構と、該ローダー機構から
搬送されたワークを洗浄するブラシ洗浄部と、該ブラシ
洗浄部で洗浄されたワークをリンス洗浄するリンス洗浄
部と、該リンスされたワークを乾燥する乾燥部と、乾燥
後のワークをキャリアに収納するワークアンローダー機
構とからなるワーク洗浄システムにおいて、該洗浄部と
して請求項１〜５のいずれか１項に記載のブラシ洗浄装
置を１個以上用いることを特徴とするワーク洗浄システ
ム。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6151874A JP2888412B2 (ja) | 1994-07-04 | 1994-07-04 | ブラシ洗浄装置及びワーク洗浄システム |
| EP95304174A EP0691675B1 (en) | 1994-07-04 | 1995-06-16 | Brush cleaning apparatus and cleaning system for disk-shaped objects using same |
| DE69505060T DE69505060T2 (de) | 1994-07-04 | 1995-06-16 | Reinigungsvorrichtung mit Bürsten und diese verwendendes Reinigungssystem für scheibenförmige Gegenstände |
| US08/493,070 US5581837A (en) | 1994-07-04 | 1995-06-21 | Brush cleaning apparatus and cleaning system for disk-shaped objects using same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6151874A JP2888412B2 (ja) | 1994-07-04 | 1994-07-04 | ブラシ洗浄装置及びワーク洗浄システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0817771A true JPH0817771A (ja) | 1996-01-19 |
| JP2888412B2 JP2888412B2 (ja) | 1999-05-10 |
Family
ID=15528104
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6151874A Expired - Lifetime JP2888412B2 (ja) | 1994-07-04 | 1994-07-04 | ブラシ洗浄装置及びワーク洗浄システム |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5581837A (ja) |
| EP (1) | EP0691675B1 (ja) |
| JP (1) | JP2888412B2 (ja) |
| DE (1) | DE69505060T2 (ja) |
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Also Published As
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| EP0691675B1 (en) | 1998-09-30 |
| JP2888412B2 (ja) | 1999-05-10 |
| US5581837A (en) | 1996-12-10 |
| DE69505060D1 (de) | 1998-11-05 |
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