JPS62259447A - ブラシスクラバ−装置 - Google Patents
ブラシスクラバ−装置Info
- Publication number
- JPS62259447A JPS62259447A JP10252986A JP10252986A JPS62259447A JP S62259447 A JPS62259447 A JP S62259447A JP 10252986 A JP10252986 A JP 10252986A JP 10252986 A JP10252986 A JP 10252986A JP S62259447 A JPS62259447 A JP S62259447A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- brush
- semiconductor substrate
- nozzle
- pure water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 47
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 41
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 238000009419 refurbishment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は半導体製造装置、特に半導体基板に付着したゴ
ミを機械的に除去するブラシスクラバー装置に関するも
のである。
ミを機械的に除去するブラシスクラバー装置に関するも
のである。
[従来の技術]
従来、半導体基板に付着したゴミを除去するブラシスク
ラバー装置は半導体基板を真空吸着し回転する基体と、
半導体基板表面に純水を射出するノズルと半導体表面を
拭払するブラシを有する構造になっていた。
ラバー装置は半導体基板を真空吸着し回転する基体と、
半導体基板表面に純水を射出するノズルと半導体表面を
拭払するブラシを有する構造になっていた。
[発明が解決しようとする問題点]
上述した従来のブラシスクラバー装置は半導体基板の表
面のみのゴミ除去しか行えないため、半導体基板側面部
及び裏面に付着しているゴミは除去しきれず、これ等の
ゴミが運搬時、あるいは立替え時等の半導体基板操作時
に半導体基板表面へと再付着してしまう現象が生じてあ
り、半導体装置製造に於ける歩留低下を招いていた。年
々半導体装置製造に於いて高歩留が望まれる様になり、
半導体基板の周辺部からも良品ペレットを取らねばなら
なくなり、この様な半導体基板側面部あるいは若干裏面
に入り込んだゴミの問題も無視できなくなって来た。
面のみのゴミ除去しか行えないため、半導体基板側面部
及び裏面に付着しているゴミは除去しきれず、これ等の
ゴミが運搬時、あるいは立替え時等の半導体基板操作時
に半導体基板表面へと再付着してしまう現象が生じてあ
り、半導体装置製造に於ける歩留低下を招いていた。年
々半導体装置製造に於いて高歩留が望まれる様になり、
半導体基板の周辺部からも良品ペレットを取らねばなら
なくなり、この様な半導体基板側面部あるいは若干裏面
に入り込んだゴミの問題も無視できなくなって来た。
本発明の目的は半導体基板に付着したゴミを完全に除去
するようにしたブラシスクラバー装置を提供することに
おる。
するようにしたブラシスクラバー装置を提供することに
おる。
[問題点を解決するための手段]
本発明のブラシスクラバー装置は半導体基板を真空吸着
しこれを回転運動させる基体と、半導体基板に純水を射
出するノズルと、半導体基板表面を拭払するブラシと、
半導体基板側面及び裏面一部を拭払するブラシとを有す
ることを特徴とするものである。
しこれを回転運動させる基体と、半導体基板に純水を射
出するノズルと、半導体基板表面を拭払するブラシと、
半導体基板側面及び裏面一部を拭払するブラシとを有す
ることを特徴とするものである。
[実施例コ
次に本発明の一実施例について図面を参照して説明する
。
。
第1図は本発明の一実施例を説明する為のブラシスクラ
バー装置の断面図である。本発明のブラシスクラバー装
置は半導体基板1を真空吸着しパルスモータ2によって
回転運動させる基体3と、半導体基板1の表面に純水を
射出するノズル4と、半導体基板1の裏面に純水を射出
するノズル5と、半導体基板1の表面をこする為に半導
体基板1に対して平行に取り付けられたブラシ6と、半
導体基板1の側面及び裏面の一部をこする為に半導体基
板1に対して垂直に取り付けられたブラシ7とを有し、
ブラシ6とブラシ7とをそれぞれパルスモータ8,9に
それぞれ連動させたものである。
バー装置の断面図である。本発明のブラシスクラバー装
置は半導体基板1を真空吸着しパルスモータ2によって
回転運動させる基体3と、半導体基板1の表面に純水を
射出するノズル4と、半導体基板1の裏面に純水を射出
するノズル5と、半導体基板1の表面をこする為に半導
体基板1に対して平行に取り付けられたブラシ6と、半
導体基板1の側面及び裏面の一部をこする為に半導体基
板1に対して垂直に取り付けられたブラシ7とを有し、
ブラシ6とブラシ7とをそれぞれパルスモータ8,9に
それぞれ連動させたものである。
したがって、半導体基板1の表面にノズル4から純水を
射出しつつブラシ6にて拭払し、同時にその側面及び裏
面一部にもノズル5から純水を射出しつつブラシ7で拭
払することとなり、基板1に付着するゴミを除去する。
射出しつつブラシ6にて拭払し、同時にその側面及び裏
面一部にもノズル5から純水を射出しつつブラシ7で拭
払することとなり、基板1に付着するゴミを除去する。
[発明の効果]
以上説明したように本発明は半導体基板の側面部及び裏
面一部に入り込んだゴミ除去を行うように半導体基板に
対して垂直にブラシを配置したことにより完全に側面部
及び若干裏面に入り込んだゴミを落とすことができ、こ
れ等ゴミによる半導体基板表面への再付着の現象が低減
するため、結果的に半導体装置製造に於ける歩留低下を
招いていた問題を解決でき半導体装置の歩留向上に貢献
できる効果を有するものである。
面一部に入り込んだゴミ除去を行うように半導体基板に
対して垂直にブラシを配置したことにより完全に側面部
及び若干裏面に入り込んだゴミを落とすことができ、こ
れ等ゴミによる半導体基板表面への再付着の現象が低減
するため、結果的に半導体装置製造に於ける歩留低下を
招いていた問題を解決でき半導体装置の歩留向上に貢献
できる効果を有するものである。
第1図は本発明の一実施例におけるブラシスクラバー装
置の断面図である。 1・・・半導体基板 2,8.9・・・パルスモータ
3・・・基体 4,5・・・ノズル6.7・・
・ブラシ
置の断面図である。 1・・・半導体基板 2,8.9・・・パルスモータ
3・・・基体 4,5・・・ノズル6.7・・
・ブラシ
Claims (1)
- (1)半導体基板を真空吸着しこれを回転運動させる基
体と、半導体基板に純水を射出するノズルと、半導体基
板表面を拭払するブラシと、半導体基板側面及び裏面一
部を拭払するブラシとを有することを特徴とするブラシ
スクラバー装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10252986A JPS62259447A (ja) | 1986-05-02 | 1986-05-02 | ブラシスクラバ−装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10252986A JPS62259447A (ja) | 1986-05-02 | 1986-05-02 | ブラシスクラバ−装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62259447A true JPS62259447A (ja) | 1987-11-11 |
Family
ID=14329835
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10252986A Pending JPS62259447A (ja) | 1986-05-02 | 1986-05-02 | ブラシスクラバ−装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62259447A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03123582U (ja) * | 1990-03-30 | 1991-12-16 | ||
EP0655772A3 (en) * | 1993-11-30 | 1995-07-12 | Setek M Kk | Substrate cleaning method and apparatus. |
JPH0817771A (ja) * | 1994-07-04 | 1996-01-19 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | ブラシ洗浄装置及びワーク洗浄システム |
US5636401A (en) * | 1994-05-12 | 1997-06-10 | Tokyo Electron Limited | Cleaning apparatus and cleaning method |
JP2002049144A (ja) * | 2000-08-07 | 2002-02-15 | Toppan Printing Co Ltd | 基板端面洗浄装置 |
JP2012216709A (ja) * | 2011-04-01 | 2012-11-08 | Ulvac Japan Ltd | 処理装置および処理方法 |
JP2019062055A (ja) * | 2017-09-26 | 2019-04-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60106137A (ja) * | 1983-11-14 | 1985-06-11 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体ウエ−ハの表面異物除去装置 |
JPS619838B2 (ja) * | 1978-10-20 | 1986-03-26 | Kyowa Hakko Kogyo Kk |
-
1986
- 1986-05-02 JP JP10252986A patent/JPS62259447A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS619838B2 (ja) * | 1978-10-20 | 1986-03-26 | Kyowa Hakko Kogyo Kk | |
JPS60106137A (ja) * | 1983-11-14 | 1985-06-11 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体ウエ−ハの表面異物除去装置 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03123582U (ja) * | 1990-03-30 | 1991-12-16 | ||
EP0655772A3 (en) * | 1993-11-30 | 1995-07-12 | Setek M Kk | Substrate cleaning method and apparatus. |
US5636401A (en) * | 1994-05-12 | 1997-06-10 | Tokyo Electron Limited | Cleaning apparatus and cleaning method |
JPH0817771A (ja) * | 1994-07-04 | 1996-01-19 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | ブラシ洗浄装置及びワーク洗浄システム |
JP2002049144A (ja) * | 2000-08-07 | 2002-02-15 | Toppan Printing Co Ltd | 基板端面洗浄装置 |
JP2012216709A (ja) * | 2011-04-01 | 2012-11-08 | Ulvac Japan Ltd | 処理装置および処理方法 |
JP2019062055A (ja) * | 2017-09-26 | 2019-04-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7503983B2 (en) | Methods of proximity head brushing | |
TWI240296B (en) | Wafer cleaning module and method for cleaning the surface of a substrate | |
TWI310221B (en) | Angular spin, rinse, and dry module and methods for making and implementing the same | |
JPS62259447A (ja) | ブラシスクラバ−装置 | |
KR20100075393A (ko) | 액체비산방지컵, 기판처리장치 및 상기 장치의 운전방법 | |
JPS6116528A (ja) | ウエハ洗浄装置 | |
JP2004335671A (ja) | 枚葉式2流体洗浄装置及び半導体装置の洗浄方法 | |
US20090038638A1 (en) | Megasonic cleaning system | |
JPH06120192A (ja) | 両面スクラブ洗浄装置 | |
JPH10261605A (ja) | 半導体処理装置 | |
JPH04107824A (ja) | 洗浄用部材の洗浄方法 | |
JPH05206266A (ja) | ウェハダイシング装置 | |
KR102341061B1 (ko) | 기판 세정 장치 | |
JP2607479B2 (ja) | 異物検査用鏡面ウェハの再生用スクラバ | |
JP2000150441A (ja) | ローラブラシ洗浄装置 | |
KR20050047147A (ko) | 웨이퍼 세정 장치 | |
JPH03149183A (ja) | 半導体基板の切削方法 | |
JP2002049144A (ja) | 基板端面洗浄装置 | |
JPH03220723A (ja) | ウェットエッチング装置 | |
JP2628168B2 (ja) | 半導体ウエーハの表面処理装置 | |
JPH0831780A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2943212B2 (ja) | 半導体ウェハのダイシング方法及びダイシング装置 | |
JPH03274722A (ja) | 半導体装置の製造方法及び製造装置 | |
JP2002233829A (ja) | 基板洗浄装置および洗浄方法 | |
JPH0471232A (ja) | 洗浄装置 |