JPH07297121A - 基板端縁洗浄装置 - Google Patents
基板端縁洗浄装置Info
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- JPH07297121A JPH07297121A JP11203494A JP11203494A JPH07297121A JP H07297121 A JPH07297121 A JP H07297121A JP 11203494 A JP11203494 A JP 11203494A JP 11203494 A JP11203494 A JP 11203494A JP H07297121 A JPH07297121 A JP H07297121A
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- substrate
- edge
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Nozzles (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Weting (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 溶剤のぼた落ち等を防止して、基板端縁の不
要薄膜を良好に溶解除去できる基板端縁洗浄装置を提供
する。 【構成】 基板端縁に向けて溶剤を吐出して、基板端縁
の不要薄膜を溶解除去する上部ノズル47aの溶剤貯溜
部51には、気体を排出する気体排出口55が設けら
れ、この気体排出口55に気体排出管56の一端が連通
接続されている。気体排出管56の他端は開閉可能な電
磁弁V6を介して配管57に接続されている。電磁弁V
6を開状態にして加圧容器から溶剤貯溜部51へ溶剤を
供給することにより、溶剤貯溜部51内に溜まっている
エアーを抜くように構成されている。
要薄膜を良好に溶解除去できる基板端縁洗浄装置を提供
する。 【構成】 基板端縁に向けて溶剤を吐出して、基板端縁
の不要薄膜を溶解除去する上部ノズル47aの溶剤貯溜
部51には、気体を排出する気体排出口55が設けら
れ、この気体排出口55に気体排出管56の一端が連通
接続されている。気体排出管56の他端は開閉可能な電
磁弁V6を介して配管57に接続されている。電磁弁V
6を開状態にして加圧容器から溶剤貯溜部51へ溶剤を
供給することにより、溶剤貯溜部51内に溜まっている
エアーを抜くように構成されている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、フォトレジスト塗布液
や感光性ポリイミド樹脂やカラーフィルタ用の染色剤な
どで薄膜が形成された液晶表示器用のガラス基板、フォ
トマスク用のガラス基板、カラーフィルム用の基板など
の基板に対し、その薄膜形成後の基板の端縁に溶剤を吐
出して、基板端縁の不要薄膜を溶解除去する基板端縁洗
浄装置に関する。
や感光性ポリイミド樹脂やカラーフィルタ用の染色剤な
どで薄膜が形成された液晶表示器用のガラス基板、フォ
トマスク用のガラス基板、カラーフィルム用の基板など
の基板に対し、その薄膜形成後の基板の端縁に溶剤を吐
出して、基板端縁の不要薄膜を溶解除去する基板端縁洗
浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶製造装置において、角型ガラス基板
はスピンコータ内でその表面に塗布液が塗布された後、
搬送機構によって保持されてオーブンに搬送されて塗布
液が乾燥させられるように構成されている。ここで、基
板の端縁にも塗布液が付着しているのでそのまま搬送機
構によって搬送されると、基板の端縁に付着している塗
布液が搬送機構の基板端縁との接触部にも付着し、それ
が発塵源になることが知られている。
はスピンコータ内でその表面に塗布液が塗布された後、
搬送機構によって保持されてオーブンに搬送されて塗布
液が乾燥させられるように構成されている。ここで、基
板の端縁にも塗布液が付着しているのでそのまま搬送機
構によって搬送されると、基板の端縁に付着している塗
布液が搬送機構の基板端縁との接触部にも付着し、それ
が発塵源になることが知られている。
【0003】そこで、角型基板の表面に薄膜が形成され
た後、角型基板の端縁に溶剤を吐出して、角型基板端縁
の不要薄膜を溶解除去する装置として、例えば、特開平
5−114555号公報に開示されているものがある。
た後、角型基板の端縁に溶剤を吐出して、角型基板端縁
の不要薄膜を溶解除去する装置として、例えば、特開平
5−114555号公報に開示されているものがある。
【0004】この装置は、角型基板端縁の上方に配置さ
れた吐出ノズルと、基板端縁を挟み込むように、かつ吐
出ノズルと一体化された吸引管とを備え、吐出ノズルか
ら角型基板端縁に向けて溶剤を吐出し、その溶剤と、溶
剤によって溶解されたレジスト等の溶解物とを吸引管か
ら排出しながら、吐出ノズルと吸引管とを角型基板端縁
に沿って移動させることにより角型基板端縁の洗浄を行
っている。
れた吐出ノズルと、基板端縁を挟み込むように、かつ吐
出ノズルと一体化された吸引管とを備え、吐出ノズルか
ら角型基板端縁に向けて溶剤を吐出し、その溶剤と、溶
剤によって溶解されたレジスト等の溶解物とを吸引管か
ら排出しながら、吐出ノズルと吸引管とを角型基板端縁
に沿って移動させることにより角型基板端縁の洗浄を行
っている。
【0005】しかしながら、上述した装置の場合、基板
の端縁に対して1本の吐出ノズルで構成されているの
で、そこから供給される溶剤の吐出領域が狭くなり、基
板端縁全周にわたって洗浄するのに時間がかかるという
欠点があった。
の端縁に対して1本の吐出ノズルで構成されているの
で、そこから供給される溶剤の吐出領域が狭くなり、基
板端縁全周にわたって洗浄するのに時間がかかるという
欠点があった。
【0006】そこで、本願出願人は、先に、特願平4−
270875号によって上記欠点を排除した基板端縁洗
浄装置を提案している。この装置は、図7に示すよう
に、溶剤吐出管100の先端に接続されたボックス状の
液溜部101の先端面に、角型基板Wの端縁に沿う方向
に所定間隔を隔てて、先端に吐出口102を有する小径
の複数個の溶剤ノズル103が連通接続されて構成さ
れ、これを角型基板Wの端縁に沿わせて相対移動させな
がら、複数個の溶剤ノズル103それぞれから溶剤を吐
出して角型基板Wの端縁の不要薄膜を溶解するものであ
る。
270875号によって上記欠点を排除した基板端縁洗
浄装置を提案している。この装置は、図7に示すよう
に、溶剤吐出管100の先端に接続されたボックス状の
液溜部101の先端面に、角型基板Wの端縁に沿う方向
に所定間隔を隔てて、先端に吐出口102を有する小径
の複数個の溶剤ノズル103が連通接続されて構成さ
れ、これを角型基板Wの端縁に沿わせて相対移動させな
がら、複数個の溶剤ノズル103それぞれから溶剤を吐
出して角型基板Wの端縁の不要薄膜を溶解するものであ
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図7に
示した基板端縁洗浄装置にも以下のような問題がある。
すなわち、この装置においては、溶剤吐出管100と溶
剤ノズル103との間に液溜部101が設けられている
ので、溶剤中に溶解していたガスやもともと液溜部10
1内に存在していたエアーが排出されずに残り、これら
が液溜部101内に溜まってしまう。このようなガスや
エアーが液溜部101内に溜まると、溶剤を吐出させる
ために液溜部101に溶剤を加圧して供給したときおよ
びその溶剤の吐出を停止させたときに、溶剤が溶剤ノズ
ル103から不意に落ちてしまうことがある。さらに溶
剤吐出中にも、溶剤ノズル103から吐出されるべき溶
剤中にこのガスやエアーが混入して溶剤が均一に吐出さ
れないので、溶剤によって洗浄された部分と洗浄されな
い部分との洗浄境界面が乱れるという問題がある。
示した基板端縁洗浄装置にも以下のような問題がある。
すなわち、この装置においては、溶剤吐出管100と溶
剤ノズル103との間に液溜部101が設けられている
ので、溶剤中に溶解していたガスやもともと液溜部10
1内に存在していたエアーが排出されずに残り、これら
が液溜部101内に溜まってしまう。このようなガスや
エアーが液溜部101内に溜まると、溶剤を吐出させる
ために液溜部101に溶剤を加圧して供給したときおよ
びその溶剤の吐出を停止させたときに、溶剤が溶剤ノズ
ル103から不意に落ちてしまうことがある。さらに溶
剤吐出中にも、溶剤ノズル103から吐出されるべき溶
剤中にこのガスやエアーが混入して溶剤が均一に吐出さ
れないので、溶剤によって洗浄された部分と洗浄されな
い部分との洗浄境界面が乱れるという問題がある。
【0008】本発明は、このような問題に着目してなさ
れたものであり、溶剤が不意に落ちたりあるいは洗浄境
界面が乱れたりすることのない基板端縁洗浄装置を提供
することを目的とする。
れたものであり、溶剤が不意に落ちたりあるいは洗浄境
界面が乱れたりすることのない基板端縁洗浄装置を提供
することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために次のような構成をとる。すなわち、請求項
1に記載の基板端縁洗浄装置は、薄膜が形成された基板
の端縁に溶剤を吐出して前記基板の端縁の不要薄膜を溶
解除去する基板端縁洗浄装置において、供給された溶剤
を貯溜する溶剤貯溜部に連通接続され、前記基板端縁の
表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出する複
数個の溶剤吐出口が形成された溶剤吐出手段を備え、前
記溶剤貯溜部に、気体を排出する開閉可能な気体排出口
を設けたものである。
成するために次のような構成をとる。すなわち、請求項
1に記載の基板端縁洗浄装置は、薄膜が形成された基板
の端縁に溶剤を吐出して前記基板の端縁の不要薄膜を溶
解除去する基板端縁洗浄装置において、供給された溶剤
を貯溜する溶剤貯溜部に連通接続され、前記基板端縁の
表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出する複
数個の溶剤吐出口が形成された溶剤吐出手段を備え、前
記溶剤貯溜部に、気体を排出する開閉可能な気体排出口
を設けたものである。
【0010】また、請求項2に記載の装置は、請求項1
に記載の装置において、前記溶剤吐出手段は、前記基板
端縁の表裏両面に溶剤を吐出するように前記基板端縁を
挟んで上下に一対配置され、前記気体排出口は、前記一
対の上下溶剤吐出手段のうちの上方の溶剤吐出手段の溶
剤貯溜部の上部に設けられているものである。
に記載の装置において、前記溶剤吐出手段は、前記基板
端縁の表裏両面に溶剤を吐出するように前記基板端縁を
挟んで上下に一対配置され、前記気体排出口は、前記一
対の上下溶剤吐出手段のうちの上方の溶剤吐出手段の溶
剤貯溜部の上部に設けられているものである。
【0011】また、請求項3に記載の装置は、請求項2
に記載の装置において、前記溶剤貯溜部は、内部上面に
傾斜構造をもち、前記気体排出口は、前記傾斜構造の上
部に設けられているものである。
に記載の装置において、前記溶剤貯溜部は、内部上面に
傾斜構造をもち、前記気体排出口は、前記傾斜構造の上
部に設けられているものである。
【0012】
【作用】請求項1に記載の発明によれば、溶剤貯溜部に
設けられた気体排出口を開状態にして、溶剤貯溜部に溶
剤を供給することにより、溶剤貯溜部に溜まっていたエ
アーは溶剤とともに気体排出口から排出される。その
後、気体排出口を閉状態にして溶剤吐出手段の複数個の
溶剤吐出口それぞれから基板端縁の表裏両面の少なくと
もいずれか一方に溶剤を吐出して、基板の端縁の不要薄
膜を溶解除去する。
設けられた気体排出口を開状態にして、溶剤貯溜部に溶
剤を供給することにより、溶剤貯溜部に溜まっていたエ
アーは溶剤とともに気体排出口から排出される。その
後、気体排出口を閉状態にして溶剤吐出手段の複数個の
溶剤吐出口それぞれから基板端縁の表裏両面の少なくと
もいずれか一方に溶剤を吐出して、基板の端縁の不要薄
膜を溶解除去する。
【0013】また、請求項2に記載の発明によれば、基
板端縁の表裏両面に向けてそれぞれ溶剤を吐出するよう
に基板端縁を挟んで上下に一対配置された溶剤吐出手段
のうち、上方の溶剤吐出手段の溶剤貯留部に設けられた
気体排出口を開状態にして、上下両方の溶剤吐出手段の
溶剤貯留部にそれぞれ溶剤を供給する。その結果、下方
の溶剤吐出手段の溶剤ノズルは上方に向いているので、
溶剤貯留部に溜まっていたエアーは溶剤ノズルを介して
排出される。一方、上方の溶剤吐出手段の溶剤貯留部に
溜まっていたエアーは、その溶剤貯留部の上部に設けら
れた気体排出口から溶剤とともに排出される。その後、
気体排出口を閉状態にして、基板端縁を挟んで上下に一
対配置され溶剤吐出手段の複数個の溶剤吐出口それぞれ
から基板端縁の表裏両面に溶剤を吐出して、基板の端縁
の不要薄膜を溶解除去する。
板端縁の表裏両面に向けてそれぞれ溶剤を吐出するよう
に基板端縁を挟んで上下に一対配置された溶剤吐出手段
のうち、上方の溶剤吐出手段の溶剤貯留部に設けられた
気体排出口を開状態にして、上下両方の溶剤吐出手段の
溶剤貯留部にそれぞれ溶剤を供給する。その結果、下方
の溶剤吐出手段の溶剤ノズルは上方に向いているので、
溶剤貯留部に溜まっていたエアーは溶剤ノズルを介して
排出される。一方、上方の溶剤吐出手段の溶剤貯留部に
溜まっていたエアーは、その溶剤貯留部の上部に設けら
れた気体排出口から溶剤とともに排出される。その後、
気体排出口を閉状態にして、基板端縁を挟んで上下に一
対配置され溶剤吐出手段の複数個の溶剤吐出口それぞれ
から基板端縁の表裏両面に溶剤を吐出して、基板の端縁
の不要薄膜を溶解除去する。
【0014】また、請求項3に記載の発明によれば、上
方の溶剤貯溜部内に発生したエアーは、溶剤貯溜部の内
部上面の傾斜構造の上部に集まる。そこで、溶剤貯溜部
の傾斜構造の上部に設けられた気体排出口を開状態にし
て、上下の溶剤吐出手段の溶剤貯留部にそれぞれ溶剤を
供給することにより、下方の溶剤吐出手段の溶剤貯留部
内のエアーは、その溶剤吐出口から、上方の溶剤吐出手
段の溶剤貯留部内のエアーは、傾斜構造の上部に設けら
れた気体排出口から、それぞれ溶剤とともに排出され
る。その後、気体排出口を閉状態にして、基板端縁を挟
んで上下に一対配置され溶剤吐出手段の複数個の溶剤吐
出口それぞれから基板端縁の表裏両面に溶剤を吐出し
て、基板の端縁の不要薄膜を溶解除去する。
方の溶剤貯溜部内に発生したエアーは、溶剤貯溜部の内
部上面の傾斜構造の上部に集まる。そこで、溶剤貯溜部
の傾斜構造の上部に設けられた気体排出口を開状態にし
て、上下の溶剤吐出手段の溶剤貯留部にそれぞれ溶剤を
供給することにより、下方の溶剤吐出手段の溶剤貯留部
内のエアーは、その溶剤吐出口から、上方の溶剤吐出手
段の溶剤貯留部内のエアーは、傾斜構造の上部に設けら
れた気体排出口から、それぞれ溶剤とともに排出され
る。その後、気体排出口を閉状態にして、基板端縁を挟
んで上下に一対配置され溶剤吐出手段の複数個の溶剤吐
出口それぞれから基板端縁の表裏両面に溶剤を吐出し
て、基板の端縁の不要薄膜を溶解除去する。
【0015】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の一実施例を説
明する。図1は本発明に係る基板処理装置の一実施例の
一部破断平面図、図2は縦断面図であり、図3は溶剤吐
出機構の一部破断側面図である。
明する。図1は本発明に係る基板処理装置の一実施例の
一部破断平面図、図2は縦断面図であり、図3は溶剤吐
出機構の一部破断側面図である。
【0016】この基板処理装置は、大きく分けて、内部
に塗布処理空間を形成する開閉自在の外囲容器10と、
外囲容器10内に設けられ、角型基板Wを保持した状態
で回転する昇降自在の基板回転保持機構20と、角型基
板Wの昇降を許容する退避位置と塗布液供給位置とにわ
たって変位可能に構成され、塗布液供給位置で角型基板
W上に塗布液を供給する塗布液供給機構30と、角型基
板Wの上昇位置にあたる水平面内で進退移動可能に構成
され、角型基板Wの端縁に溶剤を吐出して不要薄膜を溶
解する溶剤吐出機構40とから構成されている。以下、
各部の構成を詳しく説明する。
に塗布処理空間を形成する開閉自在の外囲容器10と、
外囲容器10内に設けられ、角型基板Wを保持した状態
で回転する昇降自在の基板回転保持機構20と、角型基
板Wの昇降を許容する退避位置と塗布液供給位置とにわ
たって変位可能に構成され、塗布液供給位置で角型基板
W上に塗布液を供給する塗布液供給機構30と、角型基
板Wの上昇位置にあたる水平面内で進退移動可能に構成
され、角型基板Wの端縁に溶剤を吐出して不要薄膜を溶
解する溶剤吐出機構40とから構成されている。以下、
各部の構成を詳しく説明する。
【0017】基板回転保持機構20は回転および昇降自
在に支持されたスプライン軸21を備え、このスプライ
ン軸21の上端に、角型基板Wを水平状態に保持する回
転保持板22が連結されている。スプライン軸21の下
端は軸受23によって支持されている。一方、本体フレ
ーム11に鉛直方向に設けられた支持フレーム24に一
対のガイドシャフト25の両端が支持されており、この
ガイドシャフト25に軸受23に連結した『L』の字状
のブラケット26が摺動自在に嵌め付けられている。そ
して、両ガイドシャフト25の間にブラケット26を昇
降させるためのエアーシリンダ27が設けられている。
本体フレーム11にはスプライン軸21を回転駆動する
ためのモータ28が取り付けられており、このモータ2
8の回転力が無端ベルト29及び図示しないスプライン
結合機構を介してスプライン軸21に伝達されるように
なっている。
在に支持されたスプライン軸21を備え、このスプライ
ン軸21の上端に、角型基板Wを水平状態に保持する回
転保持板22が連結されている。スプライン軸21の下
端は軸受23によって支持されている。一方、本体フレ
ーム11に鉛直方向に設けられた支持フレーム24に一
対のガイドシャフト25の両端が支持されており、この
ガイドシャフト25に軸受23に連結した『L』の字状
のブラケット26が摺動自在に嵌め付けられている。そ
して、両ガイドシャフト25の間にブラケット26を昇
降させるためのエアーシリンダ27が設けられている。
本体フレーム11にはスプライン軸21を回転駆動する
ためのモータ28が取り付けられており、このモータ2
8の回転力が無端ベルト29及び図示しないスプライン
結合機構を介してスプライン軸21に伝達されるように
なっている。
【0018】塗布液供給機構30はフォトレジストなど
の塗布液を吐出する塗布液吐出ノズル31を備え、この
塗布液吐出ノズル31が図1に実線で示した退避位置
と、角型基板W上の鎖線で示した塗布液供給位置とにわ
たって揺動駆動される。退避位置は、上昇している角型
基板Wと、塗布液吐出ノズル31とが緩衝しない位置に
設定される。
の塗布液を吐出する塗布液吐出ノズル31を備え、この
塗布液吐出ノズル31が図1に実線で示した退避位置
と、角型基板W上の鎖線で示した塗布液供給位置とにわ
たって揺動駆動される。退避位置は、上昇している角型
基板Wと、塗布液吐出ノズル31とが緩衝しない位置に
設定される。
【0019】溶剤吐出機構40は角型基板Wの回転軸心
Pを挟んで対向する位置に一対設けられている。図1,
図3に示すように、本体フレーム11上の一対の支持プ
レート41の間に一対のガイドシャフト42が架設され
ており、このガイドシャフト42に可動枠43が摺動自
在に装着されている。可動枠43の上に、モータ44が
搭載され、このモータ44の出力軸にギヤ45aが連結
され、このギヤ45aに同形のギヤ45bが噛合してい
る。各ギヤ45a,45bに連結した各軸にリンク機構
46a,46bの基端がそれぞれ連結固定されており、
各リンク機構46a,46bの先端に溶剤吐出ノズル4
7がピン結合によって支持されている。モータ44によ
りギヤ45a,45bが回転駆動されることにより、リ
ンク機構46a,46bが伸縮し、溶剤吐出ノズル47
が角型基板Wの上昇位置にあたる水平面内で進退移動さ
れる。
Pを挟んで対向する位置に一対設けられている。図1,
図3に示すように、本体フレーム11上の一対の支持プ
レート41の間に一対のガイドシャフト42が架設され
ており、このガイドシャフト42に可動枠43が摺動自
在に装着されている。可動枠43の上に、モータ44が
搭載され、このモータ44の出力軸にギヤ45aが連結
され、このギヤ45aに同形のギヤ45bが噛合してい
る。各ギヤ45a,45bに連結した各軸にリンク機構
46a,46bの基端がそれぞれ連結固定されており、
各リンク機構46a,46bの先端に溶剤吐出ノズル4
7がピン結合によって支持されている。モータ44によ
りギヤ45a,45bが回転駆動されることにより、リ
ンク機構46a,46bが伸縮し、溶剤吐出ノズル47
が角型基板Wの上昇位置にあたる水平面内で進退移動さ
れる。
【0020】溶剤吐出ノズル47は、角型基板Wの長辺
よりも若干長めに形成されている。以下、図4を参照し
て溶剤吐出ノズル47の構造を説明する。図4は、溶剤
吐出ノズルの部分横断面図と配管系を示した図であり、
図5は、上部ノズル47aの縦断面図である。
よりも若干長めに形成されている。以下、図4を参照し
て溶剤吐出ノズル47の構造を説明する。図4は、溶剤
吐出ノズルの部分横断面図と配管系を示した図であり、
図5は、上部ノズル47aの縦断面図である。
【0021】溶剤吐出ノズル47は、角型基板Wの端縁
上方から溶剤を下方へ向けて噴出する上部ノズル47a
と、角型基板Wの端縁下方から溶剤を上方へ向けて噴出
する下部ノズル47bとから構成されている。各ノズル
47a,47bは、2枚の板部材48,49の接合によ
って、多数の溶剤吐出口50を一定ピッチで形成されて
いる。上下の溶剤吐出口50は、それぞれ上下の板部材
49に長手方向に形成された溶剤貯溜部51に連通して
いる。また、上下の板部材49の間で、溶剤吐出口50
よりも内側に、溶剤を吸引排出する溶剤排出流路52が
形成されている。
上方から溶剤を下方へ向けて噴出する上部ノズル47a
と、角型基板Wの端縁下方から溶剤を上方へ向けて噴出
する下部ノズル47bとから構成されている。各ノズル
47a,47bは、2枚の板部材48,49の接合によ
って、多数の溶剤吐出口50を一定ピッチで形成されて
いる。上下の溶剤吐出口50は、それぞれ上下の板部材
49に長手方向に形成された溶剤貯溜部51に連通して
いる。また、上下の板部材49の間で、溶剤吐出口50
よりも内側に、溶剤を吸引排出する溶剤排出流路52が
形成されている。
【0022】図4中、符号60は、溶剤を供給するため
の加圧容器である。加圧容器60から導出された配管6
2はフィルタ63を介して配管64に接続されている。
配管64は2方向に分岐され、一方はエアー弁V1を介
して配管65に接続されている。配管65は流量計66
と流量調整用のニードル弁V2を介して配管67の一端
に接続している。この配管67はさらに2方向に分岐さ
れ、各他端が継手部材67aを介して上部ノズル47a
の溶剤貯溜部51の両端に連通接続している。配管64
の他方の分岐管は、エアー弁V3を介して配管68に接
続されている。配管68は流量計66と流量調整用のニ
ードル弁V4を介して配管69の一端に接続している。
この配管69はさらに2方向に分岐され、各他端が継手
部材69aを介して下部ノズル47bの溶剤貯溜部51
の両端に連通接続している。
の加圧容器である。加圧容器60から導出された配管6
2はフィルタ63を介して配管64に接続されている。
配管64は2方向に分岐され、一方はエアー弁V1を介
して配管65に接続されている。配管65は流量計66
と流量調整用のニードル弁V2を介して配管67の一端
に接続している。この配管67はさらに2方向に分岐さ
れ、各他端が継手部材67aを介して上部ノズル47a
の溶剤貯溜部51の両端に連通接続している。配管64
の他方の分岐管は、エアー弁V3を介して配管68に接
続されている。配管68は流量計66と流量調整用のニ
ードル弁V4を介して配管69の一端に接続している。
この配管69はさらに2方向に分岐され、各他端が継手
部材69aを介して下部ノズル47bの溶剤貯溜部51
の両端に連通接続している。
【0023】符号71は、基板端縁の洗浄後の溶剤と溶
解物を排出するための排気ブロアである。排気ブロア7
1に接続された配管72はシーケンシャルダンパV5を
介して配管73の一端に接続され、この配管73の他端
が継手部材73aを介して溶剤排出流路52に連通接続
されている。
解物を排出するための排気ブロアである。排気ブロア7
1に接続された配管72はシーケンシャルダンパV5を
介して配管73の一端に接続され、この配管73の他端
が継手部材73aを介して溶剤排出流路52に連通接続
されている。
【0024】上記の構成により、基板端縁を洗浄する場
合、まずシーケンシャルダンパV5を開状態にし、排気
ブロア71を作動させて配管72,73を介して溶剤排
出流路52から吸引する。そして、エアー弁V1、V3
を開状態にし、加圧容器60に窒素ガス等の加圧気体を
導入する。これにより、加圧容器60内に設けられた貯
溜器61内の溶剤が、配管62を介して各配管67,6
9に流通し、上部ノズル47aおよび下部ノズル47b
の各溶剤貯溜部51に供給され、上下の溶剤吐出口50
から溶剤が噴出される。噴出され溶剤は基板端縁の不要
薄膜を溶解しつつ溶剤排出流路52内へ吸引されて配管
73,72を介して排出される。なお、エアー弁V1,
V3、及びシーケンシャルダンパV5の開閉の制御は制
御部80によって行われている。制御部80は、図示し
ないCPUやROM等によって構成されている。ROM
には、この端縁洗浄装置の各機構の制御手順、及び各弁
及びシーケンシャルダンパの開閉制御等が予め記憶され
ており、CPUはそのプログラムに従って各機構の制御
を行う。
合、まずシーケンシャルダンパV5を開状態にし、排気
ブロア71を作動させて配管72,73を介して溶剤排
出流路52から吸引する。そして、エアー弁V1、V3
を開状態にし、加圧容器60に窒素ガス等の加圧気体を
導入する。これにより、加圧容器60内に設けられた貯
溜器61内の溶剤が、配管62を介して各配管67,6
9に流通し、上部ノズル47aおよび下部ノズル47b
の各溶剤貯溜部51に供給され、上下の溶剤吐出口50
から溶剤が噴出される。噴出され溶剤は基板端縁の不要
薄膜を溶解しつつ溶剤排出流路52内へ吸引されて配管
73,72を介して排出される。なお、エアー弁V1,
V3、及びシーケンシャルダンパV5の開閉の制御は制
御部80によって行われている。制御部80は、図示し
ないCPUやROM等によって構成されている。ROM
には、この端縁洗浄装置の各機構の制御手順、及び各弁
及びシーケンシャルダンパの開閉制御等が予め記憶され
ており、CPUはそのプログラムに従って各機構の制御
を行う。
【0025】上記した一対の上下の各ノズル47a,4
7bのうち上部ノズル47aの溶剤貯溜部51には、そ
の内部上面に近い位置に、図5に示すように、気体を排
出する気体排出口55が設けられ、この気体排出口55
に気体排出管56の一端が連通接続されている。気体排
出管56の他端は開閉可能なエアー弁V6を介して配管
57に接続されている。エアー弁V6を開状態にして上
記した加圧容器60から溶剤貯溜部51へ溶剤を供給す
ることにより、溶剤貯溜部51内に溜まっているエアー
を気体排出口55から抜くように構成されている。
7bのうち上部ノズル47aの溶剤貯溜部51には、そ
の内部上面に近い位置に、図5に示すように、気体を排
出する気体排出口55が設けられ、この気体排出口55
に気体排出管56の一端が連通接続されている。気体排
出管56の他端は開閉可能なエアー弁V6を介して配管
57に接続されている。エアー弁V6を開状態にして上
記した加圧容器60から溶剤貯溜部51へ溶剤を供給す
ることにより、溶剤貯溜部51内に溜まっているエアー
を気体排出口55から抜くように構成されている。
【0026】次に、上記のように構成された基板処理装
置を用いた洗浄動作について説明する。
置を用いた洗浄動作について説明する。
【0027】(1)塗布液供給機構30により角型基板
Wに薄膜を形成した後、角型基板Wを所定位相(図1に
示す鎖線の状態)で停止させる。続いて、エアーシリン
ダ27を駆動して、角型基板Wを端縁洗浄位置(図2に
鎖線で示す)にまで上昇させる。このとき、図1および
図2に鎖線で示すように、各溶剤吐出ノズル47は角型
基板Wの側方に外れた待機位置に後退している。この状
態でエアー弁V6を開状態にして、加圧容器60内に設
けられた貯留器61から上下の溶剤貯留部51に一定時
間だけ溶剤を供給(空だし)する。下側の溶剤貯留部5
1内のエアーは、その浮力によって、その溶剤貯留部5
1の上側にあたる溶剤吐出口50側に集まっている。し
たがって、上記の溶剤供給によって、下側の溶剤貯留部
51内のエアーは溶剤吐出口50から完全に排出され
る。一方、上側の溶剤貯留部51内のエアーは、その溶
剤貯留部51の上側にあたる、溶剤吐出口50とは反対
側(内部上面)に集まっている。したがって、上記の溶
剤供給によって、溶剤貯留部51内のエアーは、下側に
位置する溶剤吐出口50から排出され難いが、溶剤貯留
部51の内部上面近くに設けられた気体排出口55から
容易かつ完全に排出される。本実施例で、気体排出口5
5を上部ノズル47aにのみ設けたのは、このような理
由による。
Wに薄膜を形成した後、角型基板Wを所定位相(図1に
示す鎖線の状態)で停止させる。続いて、エアーシリン
ダ27を駆動して、角型基板Wを端縁洗浄位置(図2に
鎖線で示す)にまで上昇させる。このとき、図1および
図2に鎖線で示すように、各溶剤吐出ノズル47は角型
基板Wの側方に外れた待機位置に後退している。この状
態でエアー弁V6を開状態にして、加圧容器60内に設
けられた貯留器61から上下の溶剤貯留部51に一定時
間だけ溶剤を供給(空だし)する。下側の溶剤貯留部5
1内のエアーは、その浮力によって、その溶剤貯留部5
1の上側にあたる溶剤吐出口50側に集まっている。し
たがって、上記の溶剤供給によって、下側の溶剤貯留部
51内のエアーは溶剤吐出口50から完全に排出され
る。一方、上側の溶剤貯留部51内のエアーは、その溶
剤貯留部51の上側にあたる、溶剤吐出口50とは反対
側(内部上面)に集まっている。したがって、上記の溶
剤供給によって、溶剤貯留部51内のエアーは、下側に
位置する溶剤吐出口50から排出され難いが、溶剤貯留
部51の内部上面近くに設けられた気体排出口55から
容易かつ完全に排出される。本実施例で、気体排出口5
5を上部ノズル47aにのみ設けたのは、このような理
由による。
【0028】(2)所定時間にわたってエアー抜きを行
った後、エアー弁V6を閉状態にする。なお、エアー弁
V6の開閉の制御は、溶剤貯溜部51からエアーを抜く
のに十分な条件を考慮して、タイマー制御がなされる。
った後、エアー弁V6を閉状態にする。なお、エアー弁
V6の開閉の制御は、溶剤貯溜部51からエアーを抜く
のに十分な条件を考慮して、タイマー制御がなされる。
【0029】(3)一対の溶剤吐出機構40の各モータ
44を駆動し、図4に示すように、各溶剤吐出ノズル4
7の上下の溶剤吐出口50が角型基板Wの端縁を挟む込
む位置にまで溶剤吐出ノズル47を前進移動させた後、
溶剤排出流路52から吸引しながら、上下の溶剤吐出口
50から溶剤を噴出することにより、角型基板Wの対向
する端縁全体が同時に洗浄される。溶剤吐出ノズル47
を後退移動させた後、次にモータ28を駆動して角型基
板Wを90°回転変位させ、角型基板Wの別の対向する
端縁全体を洗浄する。最後に、図示しない基板搬出ロボ
ットによって、端面洗浄された角型基板Wを搬出し、以
下、上述の動作を繰り返し実行する。
44を駆動し、図4に示すように、各溶剤吐出ノズル4
7の上下の溶剤吐出口50が角型基板Wの端縁を挟む込
む位置にまで溶剤吐出ノズル47を前進移動させた後、
溶剤排出流路52から吸引しながら、上下の溶剤吐出口
50から溶剤を噴出することにより、角型基板Wの対向
する端縁全体が同時に洗浄される。溶剤吐出ノズル47
を後退移動させた後、次にモータ28を駆動して角型基
板Wを90°回転変位させ、角型基板Wの別の対向する
端縁全体を洗浄する。最後に、図示しない基板搬出ロボ
ットによって、端面洗浄された角型基板Wを搬出し、以
下、上述の動作を繰り返し実行する。
【0030】なお、本発明は次のように変形実施するこ
とができる。 (1)実施例では上部ノズル47aの溶剤貯溜部51の
内部上面を水平面としたが、これに限らず、例えば、図
6に示すように、内部上面を傾斜構造として、この傾斜
した上部に強制的にエアーを溜めて、この上部に気体排
出口55を設けることにより、より確実にエアー抜きを
行うようにしてもよい。また、両側端から中央部へ向か
って上昇する傾斜構造として、その上りきった上端に気
体排出口55を設けてもよい。
とができる。 (1)実施例では上部ノズル47aの溶剤貯溜部51の
内部上面を水平面としたが、これに限らず、例えば、図
6に示すように、内部上面を傾斜構造として、この傾斜
した上部に強制的にエアーを溜めて、この上部に気体排
出口55を設けることにより、より確実にエアー抜きを
行うようにしてもよい。また、両側端から中央部へ向か
って上昇する傾斜構造として、その上りきった上端に気
体排出口55を設けてもよい。
【0031】(2)また、上記の各実施例では、角型基
板Wの端縁の表裏から溶剤を吐出するように構成した
が、本発明はこれに限定されない。例えば、角型基板の
下方に溶剤を供給しながら回転塗布を行うように構成し
た場合には、基板端縁の裏面側には不要薄膜が形成され
ないので、角型基板Wの端縁洗浄時には端縁の表面側に
のみ溶剤を吐出するように構成してもよい。あるいは、
角型基板Wの端縁の裏面側にのみ溶剤を吐出し、表面張
力により基板端縁の表面側に溶剤を回り込ませるように
構成するなど、本発明としては、角型基板Wの端縁の表
裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出するよう
に構成するものであればよい。
板Wの端縁の表裏から溶剤を吐出するように構成した
が、本発明はこれに限定されない。例えば、角型基板の
下方に溶剤を供給しながら回転塗布を行うように構成し
た場合には、基板端縁の裏面側には不要薄膜が形成され
ないので、角型基板Wの端縁洗浄時には端縁の表面側に
のみ溶剤を吐出するように構成してもよい。あるいは、
角型基板Wの端縁の裏面側にのみ溶剤を吐出し、表面張
力により基板端縁の表面側に溶剤を回り込ませるように
構成するなど、本発明としては、角型基板Wの端縁の表
裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出するよう
に構成するものであればよい。
【0032】(3)また、実施例では洗浄前の溶剤空出
し工程の段階でエアー弁を用いて自動でエアー抜きをし
たが、本発明はこれに限定されない。例えば、手動の開
閉弁を用いて定期的にオペレータがエアーを抜くように
してもよい。
し工程の段階でエアー弁を用いて自動でエアー抜きをし
たが、本発明はこれに限定されない。例えば、手動の開
閉弁を用いて定期的にオペレータがエアーを抜くように
してもよい。
【0033】(4)上述した実施例では角型基板を洗浄
する装置のものであったが、角型基板に限らず、半導体
ウエハ等の円形状の基板を洗浄する装置にも適用するこ
とができる。ようするに、溶剤吐出管と溶剤ノズルとの
間に液溜部が設けられている装置であれば、本発明を適
用することができる。
する装置のものであったが、角型基板に限らず、半導体
ウエハ等の円形状の基板を洗浄する装置にも適用するこ
とができる。ようするに、溶剤吐出管と溶剤ノズルとの
間に液溜部が設けられている装置であれば、本発明を適
用することができる。
【0034】(5)なお、上記エアー抜きの動作は、必
ずしも1枚の基板の端縁を洗浄する度に行う必要はな
い。たとえば、1枚の基板の端縁洗浄動作を開始する前
に必ずエアー抜きを行う以外に、指定の枚数だけ基板の
端縁洗浄動作を行うたびにエアー抜きを行ったり、複数
個のカセットの処理が終了するたびにエアー抜きを行っ
たり、あるいは所定の時間ごとにエアー抜きを行ったり
すればよい。このエアー抜きのタイミングは必要に応じ
て自由に設定すれば良い。
ずしも1枚の基板の端縁を洗浄する度に行う必要はな
い。たとえば、1枚の基板の端縁洗浄動作を開始する前
に必ずエアー抜きを行う以外に、指定の枚数だけ基板の
端縁洗浄動作を行うたびにエアー抜きを行ったり、複数
個のカセットの処理が終了するたびにエアー抜きを行っ
たり、あるいは所定の時間ごとにエアー抜きを行ったり
すればよい。このエアー抜きのタイミングは必要に応じ
て自由に設定すれば良い。
【0035】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
1に記載の発明によれば、溶剤貯溜部に溜まるエアーを
溶剤ノズル以外の経路を介して外部に排出することがで
きるので、このエアーの存在による溶剤のぼた落ちや洗
浄境界面の乱れを防止することができる。
1に記載の発明によれば、溶剤貯溜部に溜まるエアーを
溶剤ノズル以外の経路を介して外部に排出することがで
きるので、このエアーの存在による溶剤のぼた落ちや洗
浄境界面の乱れを防止することができる。
【0036】また、請求項2に記載の発明によれば、基
板端縁を挟んで上下に配置された一対の溶剤吐出手段の
うち、上方の溶剤吐出手段にのみ気体排出口を設けてい
るので、下方の溶剤吐出手段の溶剤貯留部内のエアー
は、その溶剤吐出口から、上方の溶剤吐出手段の溶剤貯
留部内のエアーは、前記気体排出口から、それぞれ効果
的に排出される。
板端縁を挟んで上下に配置された一対の溶剤吐出手段の
うち、上方の溶剤吐出手段にのみ気体排出口を設けてい
るので、下方の溶剤吐出手段の溶剤貯留部内のエアー
は、その溶剤吐出口から、上方の溶剤吐出手段の溶剤貯
留部内のエアーは、前記気体排出口から、それぞれ効果
的に排出される。
【0037】さらに、請求項3に記載の発明によれば、
気体排出口が、上方の溶剤吐出手段の溶剤貯溜部の傾斜
構造の上部に設けられているので、その傾斜構造の上部
に溜まったエアーをより確実に抜くことができる。
気体排出口が、上方の溶剤吐出手段の溶剤貯溜部の傾斜
構造の上部に設けられているので、その傾斜構造の上部
に溜まったエアーをより確実に抜くことができる。
【図1】本発明に係る基板処理装置の一実施例の一部破
断平面図である。
断平面図である。
【図2】実施例装置の縦断面図である。
【図3】溶剤吐出機構の一部破断側面図である。
【図4】溶剤吐出ノズルの部分断面図と配管系を示した
図である。
図である。
【図5】上部ノズルの縦断面図である。
【図6】上部ノズルの別実施例を示した図である。
【図7】従来装置の溶剤吐出ノズルを示した図である。
W … 角型基板 10 … 外囲容器 20 … 基板回転保持機構 30 … 塗布液供給機構 40 … 溶剤吐出機構 47a … 上部ノズル 47b … 下部ノズル 50 … 溶剤吐出口 51 … 溶剤貯溜部 55 … 気体排出口 60 … 加圧容器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 1/08 X H01L 21/304 341 N 21/306
Claims (3)
- 【請求項1】 薄膜が形成された基板の端縁に溶剤を吐
出して前記基板の端縁の不要薄膜を溶解除去する基板端
縁洗浄装置において、 供給された溶剤を貯溜する溶剤貯溜部に連通接続され、
前記基板端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶
剤を吐出する複数個の溶剤吐出口が形成された溶剤吐出
手段を備え、 前記溶剤貯溜部に、気体を排出する開閉可能な気体排出
口を設けたことを特徴とする基板端縁洗浄装置。 - 【請求項2】 請求項1に記載の装置において、 前記溶剤吐出手段は、前記基板端縁の表裏両面に溶剤を
吐出するように前記基板端縁を挟んで上下に一対配置さ
れ、 前記気体排出口は、前記一対の上下溶剤吐出手段のうち
の上方の溶剤吐出手段の溶剤貯溜部の上部に設けられて
いる基板端縁洗浄装置。 - 【請求項3】 請求項2に記載の装置において、 前記溶剤貯溜部は、内部上面に傾斜構造をもち、 前記気体排出口は、前記傾斜構造の上部に設けられてい
る基板端縁洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11203494A JPH07297121A (ja) | 1994-04-26 | 1994-04-26 | 基板端縁洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11203494A JPH07297121A (ja) | 1994-04-26 | 1994-04-26 | 基板端縁洗浄装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07297121A true JPH07297121A (ja) | 1995-11-10 |
Family
ID=14576356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11203494A Pending JPH07297121A (ja) | 1994-04-26 | 1994-04-26 | 基板端縁洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07297121A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6079428A (en) * | 1997-08-01 | 2000-06-27 | Tokyo Electron Limited | Apparatus for removing coated film from peripheral portion of substrate |
JP2008043950A (ja) * | 2000-12-27 | 2008-02-28 | Toray Ind Inc | 口金並びに塗液の塗布装置および塗布方法 |
KR100822371B1 (ko) * | 2006-11-28 | 2008-04-17 | 세메스 주식회사 | 처리액 분사장치 및 방법, 그리고 상기 장치를 구비하는기판 처리 설비 |
JP2011066301A (ja) * | 2009-09-18 | 2011-03-31 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
CN106938222A (zh) * | 2017-02-09 | 2017-07-11 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种光阻涂布装置及喷嘴 |
-
1994
- 1994-04-26 JP JP11203494A patent/JPH07297121A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6079428A (en) * | 1997-08-01 | 2000-06-27 | Tokyo Electron Limited | Apparatus for removing coated film from peripheral portion of substrate |
JP2008043950A (ja) * | 2000-12-27 | 2008-02-28 | Toray Ind Inc | 口金並びに塗液の塗布装置および塗布方法 |
KR100822371B1 (ko) * | 2006-11-28 | 2008-04-17 | 세메스 주식회사 | 처리액 분사장치 및 방법, 그리고 상기 장치를 구비하는기판 처리 설비 |
JP2011066301A (ja) * | 2009-09-18 | 2011-03-31 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
CN106938222A (zh) * | 2017-02-09 | 2017-07-11 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种光阻涂布装置及喷嘴 |
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