JPH036112A - 集積回路高周波入力減衰器回路 - Google Patents

集積回路高周波入力減衰器回路

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JPH036112A
JPH036112A JP2126551A JP12655190A JPH036112A JP H036112 A JPH036112 A JP H036112A JP 2126551 A JP2126551 A JP 2126551A JP 12655190 A JP12655190 A JP 12655190A JP H036112 A JPH036112 A JP H036112A
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JP
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resistor
thin film
parasitic capacitance
terminal
resistors
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JP2126551A
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Stuart B Shacter
スチュアート・ビー・シャクター
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Texas Instruments Tucson Corp
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Burr Brown Corp
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R15/00Details of measuring arrangements of the types provided for in groups G01R17/00 - G01R29/00, G01R33/00 - G01R33/26 or G01R35/00
    • G01R15/08Circuits for altering the measuring range
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H11/00Networks using active elements
    • H03H11/02Multiple-port networks
    • H03H11/24Frequency-independent attenuators

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Attenuators (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 生凱夏宜景 この発明は種々の集積回路、例えば、入力電圧が所定の
範囲内にあるか若しくは範囲外にあるかを指示する形式
の窓(ウィンドウ)比較器回路又はアナログ−ディジタ
ル変換器に使用され得る精密高周波集積回路減衰器に関
係している。
第1図は非反転(+)入力が導体4によって第1基準電
圧■□、に接続され、反転(−)入力が導体3によって
入力信号VINに接続され、且つ出力が導体6によって
出力信号■。、を発生するように接続されている比較器
1を備えた典型的な窓比較器回路を示している。第2の
比較器2はその非反転入力が導体3に接続され、その反
転入力が導体5によって第2基準電圧V 1lEF2に
接続され、且つその出力が導体7によって出力電圧V。
2を発生するように接続されている。
第1図に示された一般形式の高速窓比較器が単一のモノ
リシック集積回路チップ上へ集積化させるべき場合には
幾つかの困難な問題が生じる。−数的な標準集積回路製
造工程に対して、PN接合の望まれない順方向バイアス
付与及び/又は望まれないPN接合破壊を生じさせるこ
となく集積回路トランジスタの電極に直接加えられ得る
入力信号VINに対する許容可能な範囲は典型的には現
在の高速IC比較器については接地と−3ないし+3ボ
ルトとの間に事実上制限される。入力信号及び基準信号
をこれらが集積回路比較器に加えられる前に減衰させる
ために抵抗性分圧器が使用された場合には、第2図にお
ける25及び26のような集積回路抵抗の寄生コンデン
サは通常その抵抗の値に比例しており、抵抗13及び1
4とははるかに異なって■1Nの急速に上昇する縁部及
び急速に降下する縁部に応答するので、回路の周波数応
答は非常によくない、このためにVINの減衰における
許容不可能な不正確さが生じることになる0例えば、抵
抗13及び14が普通のニクロム抵抗器であり且つ抵抗
13の抵抗値が抵抗14のそれの5倍である場合には、
抵抗13と関連した寄生キャパシタンスは抵抗14と関
連した寄生キャパシタンス26よりはるかに大きくなり
そうである。それゆえ、寄生キャパシタンス25及び2
6におけるVINの容量性電圧分割は抵抗13及び14
におけるVINの電圧分割とは反対の缶部に行われ机高
周波成分に対する導体3から導体15へのVIMの減衰
における相当な誤差を生じる。これは、もちろん、窓比
較器回路100によって発生される結果に不正確さを生
じさせる。
光里豊!旌 従って、入力信号の低周波成分及び高周波成分の等しく
ない分割に起因する誤差を回避する集積回路減衰回路を
提供することがこの発明の目的である。
集積回路のあるPN接合が望まない逆接合破壊及び/又
はあるPN接合の望まれない順方向バイアス付与を受け
るレベルを実質上越えた電圧範囲を持った高周波信号に
応答して正確に動作する正確な高速度集積回路減衰器を
提供することがこの発明の別の目的である。
この発明の一実施例に従って簡単に説明すると、この発
明は、外部入力電圧を分割するための分割器回路であっ
て、入力電圧を受ける第1端子を持った薄膜第1抵抗、
基準電圧導体に接続された第1端子及び減衰した入力信
号を発生するために第1抵抗の第2端子に接続された第
2端子を持った薄膜第2抵抗を備えた前記の分割器回路
を備えている、集積回路窓比較器、アナログ−ディジタ
ル変換器などのための入力減衰器として使用され得る集
積回路減衰器を提供する。バッファが同じチップ上の集
積回路窓比較器、アナログ−ディジタル変換器などに減
衰人力信号を加える。第1抵抗はその第1及び第2の端
子間に直列に接続された複数の同じセグメントを備えて
おり、且つ第2抵抗は第2抵抗の抵抗値に対する第1抵
抗の抵抗値の比が第1抵抗の寄生キャパシタンスに対す
る第2抵抗の寄生キャパシタンスの比に精密に等しいよ
うに直並列構成で接続された複数の別別の同じセグメン
トを備えている。第1及び第2の分圧器はそれぞれ第1
及び第2の基準電圧を分割器回路が入力電圧を分割する
のと同じ比に分割する。第1抵抗の同じセグメントのす
べては第1集積回路構造物の分M8N域上に形成され、
且つ第2抵抗の孤立セグメントのすべてはこの集積回路
構造物の第2分離領域上に形成されている。既述の実施
例においては、第1及び第2の分離領域はそれぞれN形
領域に形成されたP形領域であり、そして第1分離領域
は入力信号を受けるように接続されており且つ第2分離
領域は基準電圧導体に接続されている。第2抵抗は複数
の直列接続群の同しセグメントからなっており、これら
の群のそれぞれは複数の並列に接続された同じセグメン
トからなっている。一実施例においては、減衰器は同じ
チップ上の窓比較器の入力に接続されている。別の実施
例においては、減衰器は同じチップ上のアナログ−ディ
ジタル変換器のアナログ入力に接続されている。
・・  の= な量゛■ 第2図において、数字100はこの発明の高周波減衰器
50を備えた集積回路窓比較器を示している。
しかしながら、第2図は、この発明に従って必要とされ
るような、寄生キャパシタンス25及び26がそれぞれ
抵抗13及び14の抵抗値に精密に反比例する分圧抵抗
13及び14の実現を示してはいない。
、第3A図は■。の正確な6対l減衰を与えてV IN
’を発生するために寄生キャパシタンス25及び26が
抵抗13及び14の抵抗値に対応するべき方法の一例を
図解している。抵抗13の抵抗値がRであるならば、抵
抗14の抵抗値はR+5にするべきである。抵抗13の
寄生キャパシタンスがCであるならば、抵抗14の寄生
キャパシタンスは5Cにするべきである。
第3A図において、点線51は、高周波減衰器50、及
び減衰器回路50によって発生された正確に減衰した信
号V IN’を受ける別の集積回路52、の両方を収容
した集積回路チップを示している。回路52は第2図の
窓比較器回路部、低電圧アナログ−ディジタル変換器な
どでよい、察知されるはずであるが、より低い電源電圧
で増大した性能を与える集積回路が開発されると、高周
波、高精密集積化アナログ減衰器に対する必要性が増大
するが、これはそれに加えられる外部アナログ入力信号
が非常に大きい振幅を持っていである種のPN接合の望
まれない逆バイアス付与及び/又は順バイアス付与を生
じさせることがあるからである。
第3B図は第3A図に示された回路の集積回路実現例を
図解している。第3C図は第3B図又は第4図の回路の
バイポーラ集積回路実施例の断面を示している。第3C
図における集積回路構造物はP子基板29を備えている
。基板29の上面におけるN形エビクキシャル層30に
はP十分離拡散部35によって分離されたN形アイラン
ド30A又は30Bがある。P形拡散ベース領域27 
、28 (これは第3B図及♂すを領域27及び28で
あることができる)がそれぞれN形領域30A又は30
Bの上面に形成されている。酸化物層38がN形層30
の上面に配置されている。N十埋込み層拡散領域31が
ベース形領域27又は28の下に形成されている。N+
コレクタ接触領域36は低抵抗電気的接触がN十埋込み
層31に対して行われることを可能にしている。複数の
方形の細長いニクロム5キロオーム抵抗33がP形領域
2728の上方の酸化物層38上に配置されている。
第3B図に言及すると、抵抗13は抵抗値Rを持ったニ
クロム抵抗器である。抵抗13.!:その下にあるP形
領域27との間の寄生キャパシタンスは抵抗13の面積
に、従ってその抵抗値に比例している。
P形領域27はN形領域30Bに配置されていて、VI
N導体3に接続されている。ダイオード27AはP形領
域27と分離N形領域30Bとの間のPN接合を表して
おり、又ダイオード27BはN形領域30BとP子基板
29との間のPN接合を表している。
抵抗14は抵抗値R15を持ったニクロム抵抗器である
。抵抗14七その下にあるP形領域28との間の寄生キ
ャパシタンスは抵抗14の面積に比例している。P形領
域28はN形エピクキシャル領域30Aに配置されてい
る。N形領域30A及び308は両方共電気的に浮動し
ている。P形領域28は接地に接続されている。P子基
板29は−V、に接続されている。ダ4 、t −F2
8AハP Y3’pM域トN形SN域30Bト(7)間
のPN接合を表している。ダイオード28BはN形領域
30BとP子基板29との間のPN接合を表している。
これらの背中合せのダイオード構造物は■、の基板への
クランピングを防止し、VINが他の場合に許容される
であろうよりも大きい電圧範囲にわたって動作すること
を可能にし、且つ集積回路においである種のPN接合の
望ましくない逆破壊及び/又はある種のPN接合の望ま
しくない順バイアス付与を回避する。
第3B図において、抵抗14はそれぞれ抵抗値Rを有し
且つそれぞれ抵抗13と同じ幅を有する五つの並列抵抗
14 、14−2・・・・・・14−5で形成されてい
る。抵抗14 、14−2などのそれぞれは抵抗13と
同じ抵抗率を持ったニクロム材料で構成されている。抵
抗14 、14−2などはP形領域28の上方に形成さ
れている。
第4図は第3B図に示された減衰器回路の実用的な正確
な実施例の概略的説明図である。抵抗13は、例えば1
00キロオームの抵抗値を持つように設計されており、
直列に接続された四つの25キロオーム抵抗によって実
現されている。抵抗13A〜13Dのそれぞれは直列に
接続された五つの5キロオーム・ニクロム抵抗33(第
3C図を見よ)で形成されている。数字25Aは各5キ
ロオーム・ニクロム抵抗33とその下にあるP形領域2
7との間の寄」キャパシタンスを示している。それゆえ
これらの寄生キャパシタンスはすべて、たとえニクロム
抵抗が電気的に直列に接続されていても、実質上並列に
接続されている。
このように、分圧抵抗13は所望の100キロオームを
与えるように直列に接続された20の5キロオーム・ニ
クロム抵抗33からなっている。しかしながら、抵抗1
3とP形領域27との間の全寄生キャパシタンスは個別
の5キロオーム抵抗33とP形領域27との間の20の
等しい寄生キャパシタンス25Aの和である。
察知されるはずであるが、容量性電圧分割の前述の説明
は幾分単純化されすぎている。実際には、個別の抵抗セ
グメント(33)と関連した寄生キャパシタンスは並列
になってはいす、それどころか、一方の端子が共通であ
り且つそれらのそれぞれの第2の端子が抵抗の連糸に沿
って分布している。
第4図に言及すると、この方法で接続されたキャパシタ
ンスを接続することの結果は、VINにおける任意の変
化が寄生キャパシタンス13A、13B、13c笈び1
3Dにおける等しくない電圧変化を生じさせることであ
る。同様に、VIN’がVINにおける変化に従って変
化すると、寄生キャパシタンス14^14B、 14C
及び140における電圧変化も又等しくなる。
これらの電圧変化は、やはり等しくない容量性変位電流
を生じさせる。しかしながら、既述の実施例においては
、寄生キャパシタンス130における電圧変化が寄生キ
ャパシタンス14Aにおけるそれより5倍大きいので寄
生キャパシタンス130における容量性変位電流は寄生
キャパシタンス1411におけるそれに等しいことに注
意することが重要である。しかし、寄生キャパシタンス
14Aは寄生キャパシタンス130より5倍大きいので
、対応する変位電流は等しくなる。
同様に、寄生キャパシタンス13C及び14Bの変位電
流は等しく、寄生キャパシタンス13B及び14Cの変
位電流は等しく、且つ寄生キャパシタンス13A及び1
40の変位電流は等しくなる。それゆえ、容量性変位電
流のすべての和は零となり、これによりVINの高周波
成分の正確な減衰が可能になる。
分圧抵抗14は、例えば20キロオームの全抵抗値を持
つように設計されており、四つの直列接続の5キロオー
ム・ニクロム抵抗14A〜140からなっている。ニク
ロム抵抗14^〜140のそれぞれとその下にあるP形
領域28との間の寄生キャパシタンスは他のもののすべ
ての対応する寄生キャパシタンスと並列に加わる。 1
4Aのような5キロオーム抵抗のそれぞれは、P形領域
28の上方に形成された、第4B図に示されたように直
列に接続された五つの1キロオーム・ニクロム抵抗41
からなっている。
1キロオーム抵抗41のそれぞれは、P形領域28の上
方に形成された、第4C図に示されたように並列に接続
された五つの5キロオーム・ニクロム抵抗33からなっ
ている。
それゆえ、領域28とニクロム抵抗14との間の全寄生
キャパシタンスは、抵抗14の電気抵抗値が20キロオ
ームにすぎないとはいえ、100抵抗33のそれぞれと
P形領域28との間の100の個別のキャパシタンス2
6^の和に等しい。
従って、抵抗13の抵抗値は精密に抵抗14のそれの5
倍であって、VINとV IN’との間に6対1の直流
電圧比を生じる。ニクロム抵抗13の寄生キャパシタン
スは精密に抵抗14のそれの5分の1であって、VIN
とV IN’との間に6対1の高周波交流電圧分割比を
生じる。、それゆえ、ニクロム抵抗13及び14並びに
これらのそれぞれの寄生キャパシタンスによる高周波入
力信号の等しくない減衰の結果としてV IN’には誤
差が発生しない。
抵抗8及び9の抵抗値並びに抵抗18及び19の抵抗値
は抵抗13及び14の抵抗値に精密に対応することがで
き、そしてこの場合集積化電圧比較器100はVINが
Vl11□と■□Ftとによって規定された電圧窓の間
にあるときを示す出力を発生する。種々の低電圧集積回
路比較器、アナログ−ディジタル変換器などによって必
要とされる高アナログ振幅入力信号の非常に高確度の高
周波及び低周波減衰が達成される。
第5図では、高周波減衰器50を含む、第2図の集積回
路窓比較器100に対するチップ配置が示されている。
このチップは水平方向に約3.1mm (124ミル)
及び垂直方向に約2.3m(90ミル)の長さがある。
比較器l及び2における、バッファ16.17゜23及
び24における、特に比較器出力トランジスタ区域55
A、55B及び比較器出力トランジスタ区域56A56
Bにおける電力消費の変動から生じるシリコン温度にお
ける差に起因する回路動作の不正確さを回避するために
、レイアウトは、できるだけチップの右半部の配置が、
二つの半部を分割する中心線57について、チップの左
半部の配置の鏡像であるように構成された。
最大の熱的差は四つの比較器出力トランジスタによって
発生されるので、これらは精密減衰器抵抗器13及び1
4からできるだけ離れた、チップの左上及び右上の隅に
配置された。上に示されたように、抵抗13及び14は
N形エピクキシャル領域の上方に形成されている。第5
図にはエピタキシャル領域の配置が示されている。熱的
効果を更に最小化するために、抵抗13は中心線57の
周りに対称的に配置された二つの部分に分割された。更
に明確には、N形領域30^は図示のように配置された
二つの等しい部分に分割され、且つN形領域30Bは図
示のように中心線57の周りに対称的に配置された二つ
の部分30及び30−2に分割された。ブロック62は
この発明には重要でない付加的な入力回路部を収容して
いる。
VINポンディングパッド導体3及びアナログ接地導体
バッド60はこれらがDIPリードフレームど の最も低いインダクタンスリードにワイヤ≠ンドされ得
るようにチップの下方縁部の中央に配置されており、又
電力供給共通導体ポンディングパッドは同じ理由のため
にチップの上方縁部に沿って同様に配置されている。比
較器1及び2の動作のために必要とされるバイアス回路
部は中心線50の周りに対称的に配置された区域58A
及び58Bに配置されている。上述のバッファを収容し
たバッファ回路部は図示のようにブロック16.17.
23及び34において鏡像式に配置されている。比較器
1及び2は、そのそれぞれの出力トランジスタを含めて
、チップの上半部に全体的に配置されている。このレイ
アウトは減衰器を形成するニクロム抵抗の最大の分離を
与え、従ってチップ動作中シリコンに発生した熱的差に
よって引き起こされる不正確さを最小にする。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来技術の窓比較器回路の概略図である。 第2図は従来技術の諸問題を説明するのに且つ又この発
明を説明するのに有効な集積回路窓比較器の概略図であ
る。 第3A図はこの発明の詳細な説明するのに有効な回路図
である。 第3B図はこの発明の減衰器の実施例を図解した線図で
ある。 第3C図はこの発明の詳細な説明す、るのに有効な部分
的断面線図である。 第4図はこの発明の採択実施例を説明するのに有効な概
略図である。 第4A図は第4図における細部4^の構造を図解してい
る。 第4B図は第4図における細部4Bの構造を図解してい
る。 第4C図は第4図における抵抗の一つの線図である。 第5図はこの発明の減衰器、及び窓比較器回路を備えた
集積回路の配置図である。 (外4名) Fxr、、3A

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 1. (a) 外部入力信号を導くための入力導体、(
    b) 第1端子が入力導体に結合されている薄膜第1抵
    抗、 (c) 第1端子が基準電圧導体に接続され且つ第2端
    子が第1抵抗の第2端子に接続されている薄膜第2抵抗
    、並びに (d) 入力信号に応答して高周波減衰器によって発生
    された減衰した入力信号を導くために第1抵抗及び第2
    抵抗の第2端子に接続された出力導体、を備えていて、 第1抵抗が、それぞれその第1及び第2の端子間に直列
    に接続された、抵抗値及び寄生キャパシタンスを持った
    複数の別々の同じセグメントからなっており、且つ第2
    抵抗が、第2抵抗の抵抗値に対する第1抵抗の抵抗値の
    比が第1抵抗の寄生キャパシタンスに対する第2抵抗の
    寄生キャパシタンスの比に精密に等しいように直並列配
    置で接続された複数の別々の同じセグメントからなって
    いる、集積回路高周波減衰器。
  2. 2. 第1抵抗の同じセグメントのすべてが第1集積回
    路構造物の第1分離領域の上方に形成され、且つ第2抵
    抗の同じセグメントのすべてがこの集積回路構造物の第
    2分離領域の上方に形成されている、請求項1の集積回
    路高周波減衰器。
  3. 3. 第2抵抗が複数の直列接続された群の同じセグメ
    ントからなっていて、これらの群のそれぞれが複数の並
    列に接続された同じセグメントからなっている、請求項
    2の集積回路高周波減衰器。
  4. 4. 第1及び第2の分離領域がそれぞれ第1及び第2
    のN形領域に形成されたP形領域であり、且つ第1分離
    領域が入力導体に接続され且つ第2分離領域が基準電圧
    導体に接続されている、請求項2の集積回路高周波減衰
    器。
  5. 5. (a) i.外部入力信号を導くための入力導体
    、ii.第1端子が入力導体に結合されている薄膜第1
    抵抗、 iii.第1端子が基準電圧導体に接続され且つ第2端
    子が第1抵抗の第2端子に接続されている薄膜第2抵抗
    、並びに iv.入力信号に応答して高周波減衰器によって発生さ
    れた減衰した入力信号を導くために第1抵抗及び第2抵
    抗の第2端子が接続された出力導体、を備えていて、 第1抵抗が、それぞれその第1及び第2の端子間に直列
    に接続された、抵抗値及び寄生キャパシタンスを持った
    複数の別々の同じセグメントからなっており、且つ第2
    抵抗が、第2抵抗の抵抗値に対する第1抵抗の抵抗値の
    比が第1抵抗の寄生キャパシタンスに対する第2抵抗の
    寄生キャパシタンスの比に精密に等しいように直並列配
    置で接続された複数の別々の同じセグメントからなって
    いる、 高周波減衰器。 (b) 入力導体を持ったアナログ回路、 (c) 減衰した入力信号を受けて、バッファされた、
    減衰した入力信号を発生し、これをアナログ回路の入力
    導体に加えるためのバッファ装置、を備えている集積回
    路。
  6. 6. 低周波成分、高周波成分、及び最大振幅を持った
    入力信号の振幅を正確に減小する方法であって、 (a) 入力信号を出力導体によって第1薄膜抵抗の第
    1端子及び第1薄膜抵抗の下にあり且つこれから分離さ
    れている第1半導体領域に加え、その際第1薄膜抵抗の
    第2端子が出力導体によって第2薄膜抵抗の第1端子に
    接続され、第2薄膜抵抗が第1供給電圧導体に接続され
    ている第2端子を持っており、第2薄膜抵抗の下にあり
    且つこれから分離されている第2半導体領域が第1供給
    電圧導体に電気的に接続される段階、 (b) 第1及び第2の薄膜抵抗の抵抗値の和により除
    算された第2薄膜抵抗の抵抗値に等しい係数によって低
    周波成分を減小させて出力導体に入力信号の減小した低
    周波成分を発生する段階であって、その際第1薄膜抵抗
    と第1半導体領域との間に第1寄生キャパシタンスが存
    在し、且つ第2薄膜抵抗と第2半導体領域との間に第2
    寄生キャパシタンスが存在する前記の段階、 (c) 段階(b) と同時に、前記の係数によって高
    周波成分を減小させ、且つ前記の係数に、第1及び第2
    の寄生キャパシタンスの和により除算された第1寄生キ
    ャパシタンスに等しい値を持たせて出力導体に入力信号
    の減小した高周波成分を発生する段階、 を含んでいる方法。
  7. 7. 第1及び第2の寄生キャパシタンスの和に対する
    第1寄生キャパシタンスの比が前記の係数に精密に等し
    くなるように第2薄膜抵抗を複数のより小さい同じ薄膜
    抵抗の直並列接続として形成することを含んでいる、請
    求項6の方法。
  8. 8. 第1数の同じ薄膜抵抗の直列接続を作ることによ
    って第1抵抗を形成し、且つ複数の直列接続された群の
    抵抗から第2薄膜抵抗を形成し、これらの群のそれぞれ
    が複数のより小さい同じ薄膜抵抗を備えており、第1及
    び第2抵抗の薄膜抵抗がすべて同じであるように形成さ
    れていることを含んでいる、請求項7の方法。
JP2126551A 1989-05-16 1990-05-16 集積回路高周波入力減衰器回路 Pending JPH036112A (ja)

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US07/352,849 US4968901A (en) 1989-05-16 1989-05-16 Integrated circuit high frequency input attenuator circuit
US352849 1989-05-16

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JPH036112A true JPH036112A (ja) 1991-01-11

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JP2126551A Pending JPH036112A (ja) 1989-05-16 1990-05-16 集積回路高周波入力減衰器回路

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