JPH0351096B2 - - Google Patents

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JPH0351096B2
JPH0351096B2 JP58249507A JP24950783A JPH0351096B2 JP H0351096 B2 JPH0351096 B2 JP H0351096B2 JP 58249507 A JP58249507 A JP 58249507A JP 24950783 A JP24950783 A JP 24950783A JP H0351096 B2 JPH0351096 B2 JP H0351096B2
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Japan
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wiring
bonding
wire
chip
head
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Takuji Shibata
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Konica Minolta Inc
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Description

【発明の詳細な説明】 1 産業上の利用分野 本発明は集積回路装置、例えば感熱記録ヘツド
に関するものである。
2 従来技術 感熱記録ヘツド(以下、単にヘツドと略す。)
は、被記録紙又は感熱紙等の被記録体に対して直
接的に若しくはインクフイルムを介して当接され
た状態で、記録用の電気信号によつて発熱部がベ
ツト状に選択加熱され、これによつて被記録体に
画像等を記録できるように構成されている。
従来のヘツドでは一般に、基板上に発熱体層を
設け、この上に多数の対向電極を形成して発熱部
を構成しており、その(信号)電極に対し集積回
路(以下、ICと称する。)部から目的とする画像
パターンに対応した信号を与えるようにしてい
る。
こうしたヘツドしては、例えば特開昭57−8177
号、57−8178号、57−8179号、57−8180号、57−
43883号、57−43884号、57−107866号、57−
107867号、57−107868号等各公報に開示されたも
のがある。
従来のヘツド、例えばグイレクトドライブ方式
のヘツドでは、第1図に示す如き回路構成のIC
チツプ4が使用されている。ここで、Sinは記録
信号、CLKはクロツクパルス、STBはストロー
ブ信号、ENBはイネーブル信号、Vccは電源電
圧、PG及びVGは接地レベルを示す。シフトレジ
スタSRに入れたSinをCLKによつてラツチ回路
LTに送り、STBでラツチ回路LTに一旦メモリ
しておき、ゲートGに選択入力されるENBによ
つて駆動トランジスタTrをオンさせ、ラツチ回
路LTから記録信号をTrを介して発熱部への出力
配線12へ供給する。
こうしたICチツプ4と周囲の配線とは、第2
図に示す如くに接続される。図中の2はライン状
に配列された発熱部(ドツト)、9は共通の接地
電極である。上記したIC制御用の信号又は電源
電圧は、実質的に平行な配線12′によつてICチ
ツプ4に供給されるが、各配線12′とICチツプ
4とを結ぶ接続配線12″が配線12′と交差する
箇所では必ず多層配線構造となつている。なお、
図示省略したが、ICチツプ4の各ボンデイング
パツドと配線12″の端子との間はワイヤボンデ
イングで接続されている。第2図の接続方式で
は、上記の多層配線構造に必要な層間絶縁膜とス
ルーホールを形成する必要があるため、工程数が
増えて、コストアツプとなり、歩留も低下する。
また、特にスルーホール部分での絶縁膜の絶縁破
壊によるシヨート(短絡)が生じて信頼性が低下
し、かつ上下両配線の接続箇所がいわゆるドツグ
ボーン形状によつて面積をとるために集積度も低
下する。
一方、特開昭58−78786号公報によれば、第3
図に示す如く、上記したPG、ENB、STB、
CLK、Sin用の5本の配線12′をICチツプ4の
一辺側に接続し、IC部での多層配線を経て同じ
一辺側に設けた各出力端子に導びき、これらの出
力端子から隣接する他のICチツプ4への各平行
配線12′へと接続したものが提案されている。
但、GND端子は別の配線から供給し、VCCは各チ
ツプに共通に加えられる。第3図のヘツドでは、
第2図について述べた如き多層配線構造は回避で
きるようであるが、IC内部での多層配線が必要
であつてこれも工程数の増加となり、また上記出
力端子の分だけICのボンデイングパツド数及び
ボンデイングワイヤ本数が増えるためにチツプサ
イズの増大、ボンデイングの歩留低下の原因とな
る。
3 発明の目的 本発明の目的は、多層配線を回避し、歩留及び
信頼性を高め、かつ高集積化が可能でコストダウ
ンも図ることのできる感熱記録ヘツド等の集積回
路装置を提供することにある。
4 発明の構成 即ち、本発明は、回路素子(例えばICチツプ)
のボンデイングパツドの配列方向に沿つて、前記
回路素子とは別の位置に複数の平行配線(例えば
ICチツプ制御用の配線)が設けられ、前記ボン
デイングパツトが前記平行配線に個々に接続され
ている集積回路装置において、前記接続がワイヤ
ボンデイングによつてなされ、このボンデイング
に使用されるワイヤの長さが各平行配線間で互い
に異なつており、かつ、前記回路素子のボンデイ
ングパツドのうちの両端のボンデイングパツド以
外のボンデイングパツドと接続される前記の各平
行配線が、接続される前記の各ボンデイングパツ
ドに対応する位置にてこれらボンデイングパツド
の側に折曲する折曲部を夫々有し、これら折曲部
の領域を含めて前記の各平行配線が互いに平行に
なつていて、前記折曲部にて前記ワイヤの一端が
接続していることを特徴とする集積回路装置に係
るものである。
5 実施例 先ず、参考例について詳細に説明する。
参考例によれば、第4図及び第5図に示す如
く、例えば感熱記録ヘツドの駆動用のICチツプ
4がプリント基板5上にマウントされ、チツプの
一辺側に設けた各ボンデイングパツド16と発熱
部への出力配線12とがワイヤ17によるワイヤ
ボンデイングで接続される点では従来のヘツドと
同様である。特徴的なことは、ICチツプ4の他
辺側に設けた各ボンデイングパツト18と、これ
らパツドの列方向に沿う各平行配線12′とがす
べてワイヤ19で個々にワイヤボンデイングさ
れ、かつ各ワイヤ21の長さが各平行配線12′
間で互いに異なつていることである。各平行配線
12′のボンデイング部分12a′(第6図参照)は
配線幅より幾分拡大され、ボンテイングが容易に
行なわれるようにしているが、第6図に示す如く
そ拡大幅dは30μmあれば充分である(但、配線
幅wは50μm程度、配線間の距離pは120μm以
下)から、各配線間のピツチを詰めることには支
障がなく、高集積化が可能である。また、ワイヤ
19は例えばアルミニウムのボールボンデイング
でIC側のパツド18に接続され、配線12′側へ
はウエツジボンデイングで接続されてよいが、こ
うしたワイヤボンデイングは既存のオートボンダ
ーの使用によつて充二分に可能である。ワイヤ長
については、ICチツプ4からの平行配線12′の
距離が離れる程長くなるが、ワイヤボンデイング
技術ではワイヤ長が3〜4mm以内では可能である
から、第4図の如きワイヤボンデイングは確実に
達成できる。
このように、IC制御用の各平行配線12′に対
し、ワイヤ長を変えることによつてICチツプと
の間をワイヤボンデイングで接続しているので、
従来の如き多層配線を全く設ける必要がなく、し
かもボンデイングの歩留、信頼性、更には工数削
減の面で大幅に改良された低コストな接続構造を
提供することができる。また、第3図に示した従
来技術の比較して、ICの端子数(従つてワイヤ
使用本数)を1/2程度に減らせるから、ワイヤボ
ンデイングの歩留は大幅に向上する。即ち、一般
に知られているように、全自動化されたワイヤボ
ンデイング時の歩留りは、ボンデイング位置のず
れ等の要因から0.998(99.8%)であるとされ、ワ
イヤ数(n)に応じて(0.998)nになるものとさ
れている。しかるに、第3図のヘツドでは、IC
チツプ4と配線12′との間のワイヤ本数は
(GNDを除いて)チツプ1個当り11本であり、ヘ
ツド全体としてはチツプ数を64個とするとワイヤ
の総本数は64×11=704(本)となるから、ワイヤ
ボンデイングの歩留は(0.998)704≒0.2443とな
る。これに対し、第4図のこの参考例では、IC
チツプ1個当りのワイヤ本数は(Sin、Soutの分
を除いて)6本となり、総本数は64×6=384
(本)であるから、歩留は(0.998)384≒0.4636と
なり、大幅に向上する。
なお、上記の接続構造においては、ワイヤ19
自体が本来細いものであるから、上記した配線1
2′の拡大部分12a′を設けなくても、配線1
2′に対し直接ワイヤボンデイングすることがで
きる。この場合には、配線12′間のピツチを更
に詰め、集積度を上げることができる。
第7図及び第8図は、本発明の実施例を示すも
のであるが、この例では、各平行配線12′をIC
のパツド18に対応した位置で斜めに折曲せし
め、この折曲部分12b′にワイヤ19をボンデイ
ングしている。
この折曲部分12b′の存在によつて、第8図に
示す如く、ワイヤのボンデイング方向(図面上下
方向)における配線12′の幅が拡張されること
になり、かつその方向と直交する方向における幅
(即ちワイヤ19を受入れる幅)も拡大されるか
ら、ワイヤボンデイングを確実に行なうことがで
き、しかも各平行配線12′間のピツチも第7図
から理解されるように可能な限り小さくすること
ができる。
次に、前述した参考例(第4図〜第6図の例)
による接続構造を第9図〜第11図によつて説明
する。第7図〜第8図の上記実施例にあつても実
質的に異なるところは無い。
このヘツド20によれば、共通の基体(例えば
アルミニウム基板)1上に、発熱部2を設けた抵
抗体板(例えばアルミナ等のセラミツクス板)3
と、多数(例えば64個)のICチツプ4を固定し
たプリント基板(例えばガラス・エポキシ又はセ
ラミツクス板)5とが一定の間隙6を置いて対向
して固定されている。ICチツプ4と発熱部2と
の電気的接続は、上記間隙6上にてプリント基板
5と抵抗体板3との間に架け渡されたフイルムキ
ヤリアテープ7によつて行なわれている。
発熱部2は、抵抗体板3上に被着された発熱体
(例えば窒化タンタル)層8上に形成されている
例えばアルミニウム製の共通の接地電極9と、同
発熱体層8上において接地電極9の長さ方向に多
数配列せしめられている例えばアルミニウム製信
号電極10との各対向部分11によつて形成され
ている。一方、ICチツプ4は一定個数毎に、30
で示した分離ラインで互いに接合された別々のプ
リント基板5上にマウントされ、プリント基板5
上に所定パターンに設けられた例えばアルミニウ
ム製の配線12に対し、Au又はAl等のワイヤ1
7によつてワイヤボンデイングされている。な
お、上記の各配線パターンは簡略図示されてい
る。フイルムキヤリアテープ7は、例えばポリイ
ミド基板14上に、上記信号電極10及び配線1
2に対応した本数(例えば64本)の例えば銅箔製
のリード15が接着されたものからなつている。
これらのリード15と信号電極10との接続はい
わゆるビームリード方式で行なつてよく、リード
15の両端部を予め幾分張出させておき、ここを
熱圧着して接続を行なうことができる。リード1
5と出力配線12との間はワイヤ13でワイヤボ
ンデイングされるか、或いは上記のビームリード
方式で接続されてもよい。
なお、上記した各電極又は配線の形成、ICチ
ツプのマウント及びワイヤボンデイングは、公知
の半導体実装技術によつて行なえるので、それら
の詳細な説明は省略する。また、図示省略した
が、第11図において発熱体層8上には更に、
SiO2膜及び酸化タンタル膜(耐摩耗被膜)が順
次披着され、発熱体層8下にはSiO2等の熱保持
層が設けられる。
このヘツド20によれば、発熱部2と共にIC
チツプ4を共通の支持体である基体1上に設けて
いるので、ヘツド構成が著しく簡略化若しくはコ
ンパクトなものとなる。この場合、特にIC部は、
ICチツプ4のマウント及び配線へのワイヤボン
デイングで実装されるが、作動時にICチツプ4
から発生する熱は下地の基板5(更には1)を通
して放散されるから、ICの熱破壊を効果的に防
止できる。また、プリント基板5は発熱部2側に
抵抗体板3に対し上記間隙6を置いて分離して対
向配置されているので、発熱部2で生じた熱はプ
リント基板5側へ殆んど伝達されることはなく、
この点でもIC部を有効に保護することができる。
プリント基板5と抵抗体板3とが上記のように
分離して設けることの他の利点としては、そのよ
うに構成することによつて抵抗体板3自体の幅を
狭くできる(即ち小幅で長尺状の抵抗体板にでき
る)から、発熱体層8を例えばスパツタ法で形成
する際に抵抗体板3をスパツタ装置内に挿入し易
く、また一度に処理される抵抗体板の個数も増や
せるために量産性が向上することになる。
また、ICチツプ4をマウントするプリント基
板5は、第9図及び第10図に示した如く、IC
チツプの一定個数毎に別々に設けられていること
も重要である。これは、ICチツプのワイヤボン
デイングとの関連で顕著な効果がある。仮に、上
記とは異なつて1枚のみのプリント基板上に多数
のICチツプをマウントしたとき、例えばワイヤ
の総本数を3000本とすれば歩留は(0.998)3000
0.0025となることがある。これに対し、本実施例
のようにプリント基板5を幾つかに分けると、プ
リント基板上のICチツプ数(従つてワイヤ本数)
を減らせるから、各プリント基板5上のICチツ
プ数に対応したワイヤ本数を各プリント基板毎に
例えば500本にでき、このためにワイヤボンデイ
ングの歩留は各プリント基板について夫々
(0.998)500≒0.3675となる。従つて、本実施例の
ようにプリント基板を複数(例えば6枚)に分け
ることによつて、歩留が大幅に向上することにな
る。
ICチツプ4は各プリント基板5毎にマウント
され、ワイヤボンデイングされた後に、各プリン
ト基板5が基板1上に接着等で固定されるが、こ
の際、基体1には必ずと言つてよい程反りがあ
り、その表面は全体として平担でない。このた
め、仮に、1枚のみのプリント基板を基体1上に
固定した場合、両者の密着性が悪く、接着不良が
生じ易い。しかし、本実施例によれば、プリント
基板を分割し、個々に基体1上に固定できるの
で、上記に比べて基体1の表面性の影響を緩和
し、個々のプリント基板5の基体1に対する密着
性は良くなり、接着強度が向上する。加えて、各
プリント基板5の位置は、その固定時に独立して
決めることができるから、例えばフイルムキヤリ
アテープ7上のリード15に対し各配線12が可
能な限り正確に対応するように各プリント基板5
を位置調整でき、その調整に自由度をもたせるこ
とができる。
更に、本実施例によれば、上記の如くに位置調
整されたプリント基板5上の各配線12と、発熱
部2側の信号電極配線10との間が、上記したフ
イルムキヤリアテープ7のリード15によつてビ
ームリード方式で電気的(及び機械的)に接続さ
れ、かつこの場合にICチツプ4の複数個(図面
では例えば2個)に対し1枚のテープ7が使用さ
れている。1個のICチツプ4に対し1枚のテー
プ7を使用してもよいが、上記のように複数の
ICチツプ当り1枚のテープ7を使用すれば、ヘ
ツド全体としてのフイルムキヤリアテープの使用
枚数を減らせ、この分かなりのコストダウンを図
れることになる。本例のフイルムキヤリアテープ
7は夫々、ICチツプ4を別のプリント基板5上
にマウントしたために、配線としてのCuリード
15のみを所定パターンに設けるだけでよく、そ
のパターンは簡略化できる。しかも、ICチツプ
4をすべてプリント基板5側に配し、これを配線
12、リード15、配線10を介して発熱部2に
接続する構造であるから、ICチツプの実装密度
を高めることができ、テープ7では配線本数に応
じた数のリードを公知のメタライジング技術で容
易かつ正確に形成することができる。
次に、上述した各実施例によるヘツドを使用し
た感熱記録方法及びその装置を説明する。
第12図の例によれば、ヘツド20をインクフ
イルム41を介して被記録紙33に当接させた感
熱転写タイプの感熱記録装置39において、ケー
ス53内に感熱記録のための各種装置が組込まれ
ている。
被記録紙33は、例えばカセツト34内に折畳
み状態で収納され、ローラー25を経て熱転写部
36へ送られ、転写後は矢印Aの如く装置外へ排
紙される。インクフイルム41は、供給ロール4
2から、ガイドローラー43、駆動ローラー44
を経て熱転写部36へ送られ、更に駆動ローラー
45から巻取りローラー46に巻取られる。な
お、インクフイルム41は、例えば供給ロール4
2とガイドローラー43との間で、熱溶融性イン
ク(図示せず)が塗布されるように構成されてい
る。
インクフイルム41の移動経路中において、駆
動ローラー44の手前位置に熱溶融性インクを塗
布したインクフイルム41を検出するためのフオ
トセンサ(例えば赤外光センサ)47が配されて
いる。また被記録紙33の検出用として、圧接ロ
ーラー48の手前位置にフオトセンサ(例えば赤
外光センサ)49が配されている。
熱転写部36には、上述したヘツド20とプラ
テンローラー24との組が設けられている。ま
た、被記録紙33及びインクフイルム41を挟着
するための圧接ローラー48が配されている。
なお、図面中に矢印Bは、圧接駆動機構を有す
ることを示している。
こうした感熱記録装置39において注目すべき
ことは、第13図に拡大図示する如くにプラテン
ローラー24とヘツド20との間に被記録紙33
とインクフイルム41とを発熱部2の位置で挟着
して記録を行なう(即ち、インクフイルム41上
の熱溶融性インク50を選択的に加熱、溶融せし
めて被記録紙33上に記録パターン50′を形成
する)際に、上述した如きヘツド構成に基いて発
熱部2を図中のヘツド左端側に設けることができ
ることから、記録直後に被記録紙33をヘツド2
0外へ取出せることである。この結果、記録後、
まもない時間内に被記録紙33上の記録パターン
50′を目視することができ、極めて都合がよい。
これに反し、従来のヘツドのように、発熱部がヘ
ツドの中間位置にある場合には、発熱部とヘツド
端部との間には本実施例のヘツドに比較してかな
りの距離があるため、その分だけ記録直後に被記
録紙が出てくるまでに時間を要し、使用者にとつ
て扱いずらいという問題が生じる。
第14図には、感熱紙を用いる感熱記録装置5
9を示し、これによれば、ケース53内にて感熱
紙51が供給ロール52から繰出され、ヘツド2
0とプラテンローラー54との間で挟着されてヘ
ツド20による加熱で選択的に発色せしめられ
る。そして、この感熱紙は画像が色パターンとし
て記録された状態で搬送ローラー55及び56間
から排出される。
以上、本発明を例示したが、上述の例は本発明
の技術的思想に基いて更に変形が可能である。
例えば、発熱部及びIC部、配線の配置や形状、
層構成、材料、電気的接続方式等は種々変更して
よい。上述のプリント基板はヘツド全長に亘つて
1枚のみ使用してよいし、また発熱部とICとは
単一に基体に対し直接設けることもできる。
また、本発明は、上述した感熱ヘツドに限ら
ず、集積回路装置一般に適用可能であり、ボンデ
イングされる回路素子は上述のICチツプ以外で
あつてよい。
6 発明の作用効果 本発明は上述した如く、回路素子の各ボンデイ
ングパツドと各平行配線とがワイヤ長を変えるこ
とによつて個々にワイヤボンデイングされるよう
にしたので、多層配線を用いることなく接続で
き、歩留、信頼性、コストの面で非常に有利であ
り、その上、各平行配線をボンデイングパツド側
へ折曲させ、かつ、この折曲部の領域を含めて平
行にし、この折曲部にてワイヤの一端を接続する
ようにしているので、上記折曲部の少なくとも片
側で各平行配線のピツチを小さくでき、その結
果、著しい高集積化が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第3図は従来例を示すものであつて、
第1図は感熱記録ヘツドに用いられるIC部の回
路図、第2図は同ICチツプ及びその配線を示す
等価回路図、第3図は他のヘツドにおけるICチ
ツプ及びその配線の等価回路図である。第4図〜
第6図は参考例を示すものであつて、第4図は感
熱記録ヘツドに用いられるICチツプ及びその配
線を示す一部分を平面図、第5図は第4図のX−
X線断面図、第6図は第4図の要部拡大図、第7
図〜第14図は本発明の実施例を示すものであつ
て、第7図は他の例による第4図と同様の平面
図、第8図は第7図の要部拡大図、第9図は感熱
記録ヘツドの一部分の概略斜視図、第10図は第
9図の拡大平面図、第11図は第9図のX′−
X′線拡大断面図、第12図は感熱転写記録装置
全体の概略断面図、第13図は第12図の要部拡
大図、第14図は感熱紙を用いる感熱記録装置全
体の概略断面図である。 なお、図面に示された符号において、1……基
体、2……発熱部、3……抵抗体板、4……IC
チツプ、5……プリント基板、7……フイルムキ
ヤリアテープ、8……発熱体層、9……接地電
極、10……信号電極、12,12′……配線、
12b′…折曲部、13,17,19……ワイヤ、
15……リード、16,18……パツド、20…
…感熱記録ヘツドである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 回路素子のボンデイングパツドの配列方向に
    沿つて、前記回路素子とは別の位置に複数の平行
    配線が設けられ、前記ボンデイングパツドが前記
    平行配線に個々に接続されている集積回路装置に
    おいて、前記接続がワイヤボンデイングによつて
    なされ、このボンデイングに使用されるワイヤの
    長さが各平行配線間で互いに異なつており、か
    つ、前記回路素子のボンデイングパツドのうちの
    両端のボンデイングパツド以外のボンデイングパ
    ツドと接続される前記の各平行配線が、接続され
    る前記の各ボンデイングパツドに対応する位置に
    てこれらボンデイングパツドの側に折曲する折曲
    部を夫々有し、これら折曲部の領域を含めて前記
    の各平行配線が互いに平行になつていて、前記折
    曲部にて前記ワイヤの一端が接続していることを
    特徴とする集積回路装置。
JP58249507A 1983-12-29 1983-12-29 集積回路装置 Granted JPS60143639A (ja)

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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5239747A (en) * 1991-09-18 1993-08-31 Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. Method of forming integrated circuit devices
US5340772A (en) * 1992-07-17 1994-08-23 Lsi Logic Corporation Method of increasing the layout efficiency of dies on a wafer and increasing the ratio of I/O area to active area per die
US5461544A (en) * 1993-03-05 1995-10-24 Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. Structure and method for connecting leads from multiple chips
KR0156622B1 (ko) * 1995-04-27 1998-10-15 문정환 반도체 패키지,리드프레임 및 제조방법

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS519681A (ja) * 1974-07-15 1976-01-26 Seiko Instr & Electronics
JPS5881181A (ja) * 1981-11-06 1983-05-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd 感熱記録ヘツド

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5111342Y2 (ja) * 1971-12-29 1976-03-26
JPS52120549U (ja) * 1975-10-20 1977-09-13
JPS5794946U (ja) * 1980-12-03 1982-06-11

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS519681A (ja) * 1974-07-15 1976-01-26 Seiko Instr & Electronics
JPS5881181A (ja) * 1981-11-06 1983-05-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd 感熱記録ヘツド

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