JPH0349006A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 １菜上囚程且分立 本発明は、磁気ヘッドの製造方法に関するものであり、
特に、強磁性金属酸化物コアと磁気ギャップの間に高飽
和磁束密度の強磁性金属膜を形成してなる磁気ヘッドの
製造方法に関する。

従速匡ｌ幻１ 従来の技術としては、高透磁率、高飽和磁束密度を有す
る合金磁性材料をスパッタリング法により、高透磁率を
有する酸化物磁性材料ブロックをトラック溝形成後、そ
のギャップ対向面にギャップと平行に形成する磁気ヘッ
ドの製造方法において、磁性薄膜形成時にギャップ対向
面を±２０〜６０″傾けて、二方向から薄膜を形成し、
トラック溝側面に緻密な構造を有する磁性薄膜を形成す
る１例えば特公昭６４−２７０１１号公報に示されてい
る磁気ヘッドの製造方法がある。

上述の磁気ヘッドの製造方法を図を参照して説明する。

まず、第９図に示すようにＮＭｎ−Ｚｎ系フェライト等
の強磁性酸化物材料２１にトラック幅規制用のトラック
溝２２と対となるブロックの少なくとも一方のギャップ
対向面２３に内部巻線溝２４とガラス補強用溝２５を切
り欠き、一対の磁気コアブロック半休２８　ａ　＋　２
６　ｂとしている。さらにギャップ対向面２３に強磁性
金属薄膜をスパッタリング法により形成する工程におい
て、第１０図に示すようにギャップ対向面２３とスパッ
タリング粒子入射方向２８に垂直な面のなす角度θ１が
２０〜６０°となるように磁気コアブロック半休２６ａ
、２８ｂを傾けて、第１２図に示すように一方のトラッ
ク溝側面２９ｂに緻密な構造の強磁性金属薄膜３０ａが
形成されるようにしてスパッタリングを行い、さらにも
う一方のトラック溝側面２９ａにも緻密な構造の強磁性
金属薄膜３０ｂが形成されるように、第１１図に示すよ
うにギャップ対向面２３とスパッタリング粒子入射方向
２８に垂直な面のなす角度θ２が２０〜６０°となるよ
うに磁気コアブロック半休２６ａ　ｓ　　２８　ｂを傾
けてスパッタリングを行っていた。

上述したように、磁気コアブロック半体２６ａ。

２６ｂを傾けて、強磁性金属材料のスパッタリングを行
った結果、一方のトラック溝側面２９ｂには強磁性金属
薄膜３０ａが緻密な構造で形成されるが、もう一方のト
ラック溝側面２θａにはまわり込むスパッタリング粒子
が少ないために、強磁性金属薄膜３０ａを緻密な構造で
形成することはできない。さらに第１１図に示したよう
に、磁気コアブロック２６ａ、２６ｂの傾ける方向を変
えて、強磁性金属材料のスパッタリングを行った結果、
トラック溝側面２９ａに形成される強磁性金属薄膜３０
ｂは緻密な構造になるが、もう一方のトラック溝側面２
９ｂに形成される強磁性金属薄膜３０ｂは緻密な構造と
はならない。以上のようにして、トラック溝側面２９ａ
、２９ｂに形成した強磁性金属薄膜３０ａと３０ｂとは
緻密な構造と緻密でない構造の二層構造となり、十分に
緻密な構造の強磁性金属薄膜にはならないという問題が
ある。

また、上記の強磁性金属薄膜の形成法では、−度強磁性
酸化物よりなる磁気コアブロック半体２８ａ、２Ｅ３ｂ
の傾ける方向を変える必要があるため、スパッタリング
装置より取り出して磁気コアブロック半休２６ａ、２６
ｂの取り付は方向を変えなければならぬため、量産性が
低下する問題がある。

また、スパッタリング装置に入れたまま傾ける方向を変
える方式とした場合も、磁気コアブロック半休を取り付
けする治具が複雑になる問題がある。

：　　　、の 本発明の磁気ヘッドの製造方法は、強磁性金属酸化物よ
りなる磁気コアブロックに、トラック溝を形成後、ギャ
ップ対向面に高飽和磁束密度の強磁性金属薄膜をスパッ
タリング法により形成し、コア半休が構成され、上記強
磁性金属薄膜同士をギャップスペーサ膜を介して突き合
わせ磁気ギャップを構成してなる磁気ヘッドの製造方法
において、対向ターゲット式スパッタリング法により、
強磁性金属薄膜を形成する工程を有し、この工程におい
てトラック溝がターゲットと平行になるように前記強磁
性酸化物ブロックを配置することを特徴とするものであ
る。

旦 このようにして、トラック溝がターゲットと平行になる
ように強磁性酸化物コアブロックを配置して、対向ター
ゲット式スパッタリング法にて強磁性金属薄膜を成膜す
ることにより、トラックの両側のトラック側面のうち、
一方のトラック側面には対向する一対のターゲットのう
ち一方のターゲットより飛来するスパッタリング粒子が
入射しやすいため、トラック側面に被着する強磁性金属
薄膜は緻密な構造となる。もう一方のトラック側面にお
いても同様に、もう一方のターゲットより飛来するスパ
ッタリング粒子が入手しやすいためトラック側面に被着
する強磁性金属薄膜は緻密な構造となる。

また、上記トラック側面の強磁性金属薄膜の構造は緻密
な構造と緻密でない構造の二層構造となることはない。

爽血阻 以下、本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の一実施
例について、図面を参照しながら説明する。

第１図は対向ターゲット式スパッタ装置の要部と強磁性
酸化物ブロックの配置を示す斜視図である。第２図、第
３図、第４図および第６図はそれぞれ磁気ヘッドの製造
方法を示す図である。

本発明の磁気ヘッドの製造方法においては、磁気コアブ
ロック半休Ａ　（Ａ）および磁気コアブロック半体Ｂ　
（Ｂ）は、例えばＭｎ−Ｚｎフェライトのような強磁性
酸化物材料１で形成され、トラック幅を規制するための
トラック溝５が切り欠かれ、一方の磁気コアブロック半
体Ａ　（Ａ）には内部巻線溝２とコアの接合強度を高め
るためのガラス補強用溝７が切り欠かれる。

上記の磁気コアブロック半休Ａ　（Ａ）および磁気コア
ブロック半体Ｂ　（Ｂ）のギャップ対向面３に、対向タ
ーゲット式スパッタ装置により、例えばセンダスト薄膜
のような強磁性金属薄膜８を被着形成する。

第８図は、対向ターゲット式スパッタ装置を示す図であ
る。対向ターゲット式スパッタ装置は、向かい合った一
対のターゲット１０ａ、１０ｂと、ターゲットの周囲の
接地されたシールド１４ａ、１４ｂとターゲット裏にマ
グネット１５ａ。

１５ｂとで構成され、ターゲット１０ａ、１０ｂには負
の高電圧が印加できるようになっている。

磁気コアブロック半休１３を固定する基板ホルダー９は
、第８図に示したような２つのターゲット１０ａ、１０
ｂの挟む空間の周囲に配される。

磁気コアブロック半休Ａ　（Ａ）および磁気コアブロッ
ク半体Ｂ　（Ｂ）の配置の仕方を示した図が第１図であ
る。

トラック溝５の長手方向が、ターゲツト面に平行な方向
ｙと一致するように、磁気コアブロック半体Ａ　（Ａ）
およびＢ　（Ｂ）を配置して、強磁性金属材料のスパッ
タリングを行う。この様子を示したのが第４図である。

一方のトラック溝側面６ａには一方のターゲット１０ａ
よりスパッタリング粒子入射方向１１ａに向かって飛び
出したスパッタリング粒子が被着し、緻密な構造の強磁
性金属薄膜８が形成される。またもう一方のトラック溝
側面６ｂにももう一方のターゲット１０ｂよりスパッタ
リング粒子入射方向ｔｉｂに向かって飛び出したスパッ
タリング粒子が被着し、緻密な構造の強磁性薄膜８が形
成される。その結果、第５図に示すようにトラック溝側
面Ｅ３ａ、８ｂに被着形成される強磁性金属薄膜は、十
分緻密な構造となる。その結果、このようにして得られ
た一対の磁気コアブロックのギャップ対向面３を向かい
合わせて突き合わせ、内部巻線溝２とガラス補強溝７に
作業温度が５５０℃程度のガラス棒を入れ、加熱し溶融
接合し、第６図に示した磁気コアブロック１６にすると
ころの、ガラス融着工程において、強磁性金属薄膜８が
緻密であるために、ガラスがトラック溝側面６　ａ　ｓ
　８　ｂの強磁性金属薄膜８中に拡散侵入するのを防ぐ
ことができる。

このようにして得られた磁気コアブロック１６にテープ
摺動面４に曲面研削をほどこした後、スライス加工を行
って第７図の斜視図に示すような磁気ヘッドを得ること
ができる。

主肌立効果 以上の説明からも明らかなように、本発明の磁気ヘッド
の製造方法によれば、トラック溝側面に被着形成される
強磁性金属薄膜の構造の緻密性が向上し、ガラス融着工
程におけるガラスの強磁性金属薄膜への拡散侵入が防止
でき、歩留りが向上する。

しかも従来の製造方法のように、トラック溝の一対の側
面に対し、各々にコアブロック半休の向きを変えて成膜
を行うという手間がなく、量産に適しているという長所
もある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の対向ターゲット式スパッタ装置の要部
と磁気コアブロック半休の配置を示す斜視図である。 第２図、第３図、第６図は本発明の磁気ヘッドの製造方
法を示す図であり、第４図はスパッタリング粒子入射方
向とトラック溝側面の位置関係を示す図であり、第５図
はその結果、成膜された強磁性金属薄膜の様子を示す図
である。第７図は磁気ヘッドの外観を示す斜視図である
。第８図は対向ターゲット式スパッタ装置の構成を示す
図である。 第９図、第１０図、第１１図は従来の磁気ヘッドの製造
方法を示す図であり、第１２図はその結果成膜された強
磁性金属薄膜の様子を示す図である。 Ａ、Ｂ・・・・・・磁気コアブロック半休、Ｘ・・・・
・・ターゲツト面と垂直な方向、ｙ・・・・・・ターゲ
ツト面と平行な方向、１・・・・・・強磁性酸化物材料
、 ２・・・・・・内部巻線窓、 ３・・・・・・ギャップ対向面、 ４・・・・・・テープ摺動面、 ５・・・・・・トラック溝、 ６ａ、６ｂ・・・・・・トラック溝側面、７・・・・・
・ガラス補強溝、 ８・・・・・・強磁性金属薄膜、 ９・・・・・・基板ホルダー、 １０ａ、１０ｂ・・・・・・ターゲット、１１ａ、ｌｌ
ｂ・・・・・・スパッタリング粒子入射方向、 １２・・・・・・ガラス、 １６・・・・・・磁気コアブロック、 ２１・・・・・・強磁性酸化物材料、 ２２・・・・・・トラック溝、 ２３・・・・・・ギャップ対向面、 ２４・・・・・・内部巻線溝、 ２５・・・・・・ガラス補強用溝、 ２８ａ、２６ｂ・・・・・・磁気コアブロック半休、２
７・・・・・・テープ摺動面、 ２８・・・・・・スパッタリング粒子入射方向、２９ａ
、２９ｂ・・・・・・トラック溝側面、３０ａ、３０ｂ
・・・・・・強磁性金属薄膜。 第 図 第 第 図 第１図 （０） （ｂ） 第 図 第 ］Ｏ 図 第 １ 図 第 ２ 図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 高透磁率、高飽和磁束密度の強磁性金属材料を、スパッ
   タリング法により、高透磁率を有する強磁性酸化物コア
   ブロックのギャップ対向面に、トラック溝形成後、形成
   する磁気ヘッドの製造方法において、対向ターゲット式
   スパッタリング法により上記強磁性金属薄膜を形成する
   工程を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。