JPH0346970B2 - - Google Patents

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JPH0346970B2
JPH0346970B2 JP56169328A JP16932881A JPH0346970B2 JP H0346970 B2 JPH0346970 B2 JP H0346970B2 JP 56169328 A JP56169328 A JP 56169328A JP 16932881 A JP16932881 A JP 16932881A JP H0346970 B2 JPH0346970 B2 JP H0346970B2
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JP
Japan
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cell
dot pattern
dcvt
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JP56169328A
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JPS5870532A (ja
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Masakazu Tokita
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Shibaura Machine Co Ltd
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Toshiba Machine Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toshiba Machine Co Ltd filed Critical Toshiba Machine Co Ltd
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Priority to US06/405,982 priority patent/US4641252A/en
Priority to DE19823236468 priority patent/DE3236468A1/de
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Publication of JPH0346970B2 publication Critical patent/JPH0346970B2/ja
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P95/00Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass

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  • Electron Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電子ビーム描画装置に係り、特にその
描画速度の高速化を可能とするラスタスキヤン方
式の電子ビーム描画制御装置に関する。
ラスタスキヤン方式の電子ビーム描画制御装置
の一般的な構成のブロツク図を第1図に示す。第
1図において、11はデイスクメモリであつてセ
ルと称する描画の基本的な領域内に属する基本図
形ごとの圧縮したデータをストアしている。
この圧縮したデータは予じめ描画すべきパター
ンの図から計算機によりつくられるようになつて
いる。
12はコントローラであつて、デイスクメモリ
11内にストアされている圧縮データを高速デー
タ転送部13に供給するように制御する。14は
図形発生部であつて前述した圧縮データからドツ
トパターンデータを発生する。15はドツトパタ
ーンデータの記憶部、16は電子光学系であつて
記憶部15からのシリアルデータにより電子ビー
ム19のON、OFF制御を行う。17はテーブル
駆動回路であつて電子ビーム19の照射は感応す
る試料19Aをその上に載置している。18は電
子光学系16の操作駆動回路である。
第2図イ,ロは前述の基本図形の例であつて長
方形および台形を示している。図図ロで図示の如
く台形をあらわすパラメータを定めた場合長方形
はΔX1=0、ΔX2=0三角形はΔl=ΔX1+ΔX2
の如く台形を表わすパラメータの値 PX1、PY、ΔX1、ΔX2、Δl が特定の値をとることによつてすなわち台形の特
殊な場合として扱うことが可能である。
第3図イはラスタスキヤン方式における電子光
学系16から発射される電子ビーム19とテーブ
ル20上の試料19Aとの相対関係を説明するも
のであつて、同図ロはイの拡大詳細図である。同
図イ,ロから判るように電子ビーム19はセルの
幅(512ビツト)をX方向にスキヤンし、この1
スキヤンの間にドツトパターンデータに対応して
電子ビームのON、OFFがなされるようになつて
いる。テーブルはY方向に等速度で移動されるよ
うになつており幅dに対するY方向の1列分のス
キヤンニングが終了すると次のとなり合う1列分
のスキヤンニングに移行するようになつている。
第4図は、第1図の12〜16を具体的に示し
た従来の制御ブロツク図である。同図において3
1はコントローラで第1図のコントローラ12に
対する部分である。32はコントロールバス34
と接続されているインタフエイスで前処理部
(PPU)37、関数発生部(FG)38、書込み
制御部(WCU)39、読出し制御部(RCU)4
0のそれぞれをコントロールバス34を介して制
御する。
33はコントローラ31を介して与えられる1
セル分の圧縮データを単位としてその数単位ずつ
をデータバス35を介してデータメモリ36に転
送する高速データ転送部(DMA)である。
37は前処理部で1組の基本図形に関する圧縮
したデータDA{PX1、PY、Δl、Δh、ΔX1、
ΔX2}をデータメモリ36からデータバス35
を介してとり入れ、関数発生部38での演算に適
するよう前述のデータを変換する。
関数発生部(FG)38は6個のデータPX1、
PX2、PY、ΔX1、ΔX2、Δhから、前述の圧縮デ
ータDAで代表される基本図形を描画する場合の
電子ビームのスキヤンニングにおけるブランキン
グ指令データすなわちビームの照射、不照射の指
令とそのブランキング指令のアドレスをつくるた
めのデータ群をその基本図形全部にわたつて形成
する。
書込み制御部(WCU)39はFG38から与え
られるブランキング指令データとアドレスデータ
とから第5図に示される1つのセルに対応するメ
モリMj(以下セルメモリと称する)内のアドレス
と、そのアドレスに対応する16ビツトのブランキ
ング指令データを形成しセルメモリMjの所定ア
ドレスにブランキング指令データを書込む。
セルメモリMjはアドレスが1行分として32個
指定され、これが512行設けられている。第5図
のセルメモリMjの上部にはコントロールエリア
CNTARが設けられており、Mj内のアドレスの
逆読み、描画の反転指示などの他にNEXT Mj
(メモリセル指定情報)をストアできるようにな
つている。{PPU、FG、WCU}は以下では1つ
の基本図形に対応する圧縮データDAをブランキ
ング指令データに変換するドツトパターンデータ
変換部DCVTと称する。
40は読出し制御部であつてセルメモリ42,
43,44からのブランキング指令データをシリ
アルに変換し、ドツトデータとして電子光学系1
6(第1図)に与える。
41,45はデータバスであつて、各セルメモ
リ42,43,44とWCU39、RCU40と接
続されている。セルメモリ42,43,44はそ
れぞれ1セルの描画領域に対応したドツトデータ
群をストアしており、例えば512×512ビツトのメ
モリ容量を有し、RCU40がセルメモリ42を
読み出し次いで43、さらに44次いで42のよ
うにサイクリツクに順次読み出していくようにな
つており従つて、今RCU40のセルメモリ42
の読み出しが終る前には少くともWCU39から
セルメモリ43への書込みは完了しているように
制御される。同図のように3個のセルメモリ42
〜44を設けることによつてRCU40はスムー
ズにドツトデータを形成できるようになつている
のである。
以上で従来の描画におけるドツトデータ形成の
概略を述べた。
ところで、現在、RCU40から電子光学系1
6へ与えられるデータの速さは20MHz程度である
が、電子ビームのスポツト径を現在の1μから0.5μ
にして描画パターンの分解能を向上させたいと要
求がある。この要求は電子ビーム径が1μのモー
ド(Aモードと称する)から0.5μのモード(Bモ
ードと称する)にすればよいわけであるが、従来
と同じ太さの線を描く場合スキヤンニング回数が
2倍必要となり、スキヤンニング速さを2倍に上
げなければ描画に要する時間も倍必要となり複雑
な描画パターンの場合には数十時間にもわたつて
描画装置を稼動させなければならない。
しかるに第4図に示される制御系においてはド
ツトパターンデータ変換部DCVTにおいて1セ
ル分の圧縮データ処理に要する時間は数msec〜
十数msecであり、一方、データメモリ36から
前記変換部DCVTへの圧縮データの転送に要す
る時間は数μsecのオーダーであり、結局のとこ
ろ、DCVT内のFG38、WCU39における演
算処理に要する時間がネツクとなつてRCU40
からのシリアルデータ転送速度は最大20MHzに制
限されているのである。
本発明の目的は、以上の説明のように、従来技
術において課題となつていた読み出し制御部
RCUから電子ビーム光学系へ与えられるドツト
パターンデータの速さを大にしてスキヤンニング
速度、従つて描画速度を大にした電子ビーム描画
制御装置を提供しようとするものである。尚
PPU,FG,WCUのさらに詳細な構成について
は特開昭55−9433に記載されている。
以下本発明の実施例を第6図乃至第10図にて
説明する。
第6図はドツトパターンデータ変換部DCVT
を2個設けた描画制御装置の実施例ブロツク図を
示す。同図において、描画回路100に対しコン
トローラCPU101がバスCP BUS1により接
続されておりコントローラCPU101内の主メ
モリ101−1(M・M)にストアされている圧
縮されたセルデータが高速転送部DMAからバス
CP BUS1、DMAインタフエイスDMAIFおよ
びCP BUS2を介してセルデータメモリMOに一
旦ストアされるようになつている。尚同図におい
ては各ブロツクを結ぶコントロールバスとデータ
バスは共通な1つのバスで描かれている。バス
CP BUS2には2つのドツトパターンデータ変
換部DCVT(1)とDCVT(2)とが接続されておりセ
ルデータメモリMOから演算処理の対象となるセ
ルデータがCP BUS2を経てそれぞれのドツト
パターンデータ変換部DCVT(1)、DCVT(2)へ与
えられるようになつている。
各DCVT(1)、DCVT(2)はさらに書込み制御御
バスWCU BUS1、WCU BUS2を介して各セ
ルメモリM1〜M6にそれぞれ接続されており、従
つて、各DCVT(1)、DCVT(2)で処理された各セ
ルごとのドツトパターンデータが前述の各バス
WCU BUS1又はWCU BUS2から任意のセル
メモリ(M1〜M6の中の1つ)にストアされる。
各セルメモリにストアされたドツトパターンデー
タの読み出し制御部RCU(Read Control Unit)
によりシリアルデータに変換され、ブランキング
回路102へ供給されるようになつている。
第7図はCPU101の主メモリ101−1か
ら読出し制御部RCUに到るデータの流れを説明
する図である。同図において左端側に示されるセ
ルデータNo.1、No.2、……No.10…は圧縮されたセ
ルデータであつて、その番号は描画されるセルの
順序に対応している。主メモリ101−1内のセ
ルデータはDMA転送によりデータメモリMO内
にストアされる。その際各セルデータのストアさ
れるスタートアドレスAD1、AD2、……を図示
の如く示す。
ドツトパターンデータ変換部DCVT(1)又は
DCVT(2)は、そのセル単位毎の演算処理が終る
とセルメモリデータを転送したのちCPU101
に対し割込をかけるようになつておりCPU10
1はそれに応答してデータメモリMO内のセルデ
ータを割込指令をかけた方の変換部(DCVT(1)
又はDCVT(2))に対し与えるようになつている。
各DCVT(1)、DCVT(2)にはAC、BCの記号で
示されるレジスタが設けられている。ここにレジ
スタAC1にはデータメモリMOからDCVT(1)に供
給される各セルデータのスタートアドレスADiが
セツトされるようになつておりさらに又レジスタ
BC1には変換部DCVT(1)からその演算処理の結
果である1セル分のドツトパターンデータをスト
アすべきセルメモリM1〜M6中の1つのセルメモ
リ(Mj)の識別コードがストアされる。この場
合、識別コードはセルメモリMj(j=1〜6の任
意の1つ)であるから数値jがレジスタBC1にセ
ツトされるわけである。
PC2、BC2もPC1、BC1と同様である。尚上記
各レジスタAC,BCへのデータはCPU101か
ら与えられるようになつている。
又、読出し制御部RCUはセルメモリグループ
CELMGの中にストアされているドツトパターン
データを逐次読み出してシリアルデータを変換し
て電子光学系EOSへ与える。
その際ある1つのセルメモリ(Mj)からの1
セルの分のドツトデータの読み出し終了後次にど
のセルメモリMj(i≠j)からドツトデータを読
み出すかについては種々の方法であるが、要は
CPUの主メモリのセルデータ番号No.1、No.2、
No.3…の順序に対応して指定されているセルメモ
リの順に読み出すようにすればよいのである。こ
の点を少し具体的に説明しよう。
前述した第6図の説明において、ドツトパター
ンデータ変換部DCVT(1)或いはDCVT(2)から
CPU101に対し割込指令が発せられるとその
指令を発した変換部に対しAC、BCすなわちその
変換部がデータメモリMOからとり出すべきセル
データのストアされているスタートアドレスと、
そのセルデータをドツトパターンデータとしてス
トアすべきセルメモリMjを指定するようにCPU
101が動作することをのべたが、このACi、
BCiデータが与えられるとき、これらの情報
ACi、BCiをバスCP BUS3を介してRCU内に設
けたレジスタの役目を果すバンクテーブルBTに
ストアする。第10図イ,ロにはCPU101か
ら与えられるセルデータ番号に対応するセルメモ
リの番号が記載されており従つてRCUはテーブ
ルBTを参照して順次セルメモリMjを指定してそ
の指定されたMjからドツトパターンデータを受
けるようになつている。−イ さらに他の例では第6図に示すように各セルメ
モリのコントロールエリアCNTAR内にはそのセ
ルメモリの次にドツトパターン変換部からのデー
タをストアすべきセルメモリの番号(NEXT
Mi)が判るようにしてある。従つてRCUは各セ
ルメモリのコントロールエリアCNTARにセツト
されたところの次に読出すべきセルメモリの番号
を判読して順次セルメモリを指定できるようにな
つている。この例ではバンクテーブルBTは不要
となる。−ロ さらに他の方法を第6図により説明する。すな
わち、DCVT(1)、(2)からCP BUS3へ点線で示
すように各DCVT(1)、(2)での演算処理が終り、
その結果をM1〜M6の中の1つに転送する際ドツ
トデータの空(転送済状態)となつているセルメ
モリをDCVT(1)又は(2)がチエツクしてそのチエ
ツクされたセルメモリMjの番号jを順に前記バ
ンクテーブルBTへストアするようにしてもよ
い。この場合にはCPU101の負担をイ,ロに
比して多少は軽くできる。−ハ さらに他の方法としてはバンクテーブルBTが
ない場合でDCVT(1)、(2)がセルメモリグループ
CELMGのうち空になつているセルメモリをチエ
ツクして指定する場合そのセルメモリのコントロ
ールエリアCNTARに対して1つ後のセルメモリ
を指定するようにする。−ニ 第8図は上記イの例におけるCPU101の作
用を説明するタイムチヤートである。
同図において、上からドツトパターンデータ変
換部DCVT(1)、DCVT(2)および読出し制御部
RCUの順にそれぞれ占有されている時間内容を
セルメモリの記号で表示している。尚斜線部は待
ち状態を示す。
今描画動作開始時刻をT(STA)とし、それ以
前においてDCVT(1)、DCVT(2)は図示の如く各
セルメモリへストアすべきドツトパターンデータ
を演算処理している。具体的に説明すると、今、
第10図イのようにセルデータとセルメモリの順
を対応するようにする場合、すなわちM1→M2→
M3→…M6→M1→M2…のようにRCUがセルメ
モリを順次指定していく場合には先ず時刻T0
おいてDCVT(1)からの割込み指令に対しCPU1
01はGO指令を与え、セルデータをDCVT(1)
へ与える。同時にCPU101はDCVT(1)のレジ
スタBCに対しセルメモリM1を指定し且つセルデ
ータがデータメモリMO内のどのアドレスにス
トアされているかを示すスタートアドレスを
DCVT(1)内のレジスタAC1に与える。引き続い
てDCVT(1)はセルデータをドツトパターンデ
ータに変換するための演算処理を行う。一方
DCVT(2)に対してCPU101はセルデータを
演算するように指令する。そのためそのデータが
ドツトパターンデータとしてストアされるべきセ
ルメモリとしてM2をDCVT(2)内のBC1に与え且
つMO内のスタートアドレスをAC2に与える。
図で示すように、DCVT(1)でのM1すなわちセ
ルデータの処理が終ると割込指令bがCPU1
01に与えられるがこの時刻ではセルデータの
処理中のためCPU101はDCVT(1)がセルデー
タを次に処理するようそのAC1、BC1に対して
アドレスM3に関するデータを送る。同様にして
セルデータの処理が終ると割込指令cが与えら
れる。DCVT(2)はまだセルデータの処理中な
のでCPU101はセルデータを処理するよう
DCVT(1)に必要なデータ(AC1、BC1への)を
与える。セルデータの処理が終ると割込指令d
が与えられる。DCVT(2)は未だセルデータの
処理中なのでセルデータをDCVT(1)に対し指
定する。
次いでセルデータの処理終了前に割込指令e
が与えられるとCPU101はDCVT(2)が次にセ
ルデータを処理するよう指定する。(AC2、
BC2に対し) そしてセルデータの処理終了前にDCVT(1)
側から割込指令fが与えられるのでCPU101
はセルデータをDCVT(1)に対し指定する。こ
のときBC1に対しM1が指定される。やがて割込
指令gが与えられるとCPU101はDCVT(2)に
対しセルデータを指定し且つそのBC2にM2を
指定する。この状態で描画開始を待つている。
各セルメモリM1〜M6には描画すべきドツトパ
ターンデータがストアされているのでセルデータ
、の処理は行われない。時刻T(STA)で描
画が開始されそしてRCUがM1からのドツトパタ
ーンデータの読み出しを終了するとDCVT(1)は
M1すなわちセルデータの処理を行う。
さらにM2の読み出しが終了するとDCVT(2)は
M2すなわちセルデータの処理を行う、次いで
割込指令がDCVT(1)から与えられるとCPU10
1はセルデータを指定し、且つM3を指定する。
(BC1に対し)しかるにM3は描画動作中なので斜
線Qの如く待ち状態ののち、M3の読み出し終了
時点からDCVT(1)でのセルデータの処理が行
われる。以下同様にして、DCVT(1)、DCVT(2)
における演算処理が、割込指令j,k,l,m,
n,o,pに対応してCPU101から指示され
遂行される。尚描画時間は各セルメモリとも同一
である。
第9図はCPU101からDCVT(1)、(2)への動
作指令を説明するフローチヤートである。同図に
おいてステツプSTR1においてCPU101内のn
カウンタ、Nカウンタにn=1、N=1がプリセ
ツトされる。次いでSTP2でBC1にMnを、AC1
にADNをセツトする。次いでSTP3でDCVT(1)に
対しGO出力すなわち演算処理が指令される。
STP4においてnカウンタ、Nカウンタがインク
リメントされる。さらにSTP5で新しいn、Nに
対応するMn、ADNがBC2、AC2にセツトされ次
いでSTP6にてDCVT(2)にGO出力すなわち演算
処理が指令される。次いでSTP7においてnカウ
ンタ、Nカウンタ再びインクリメントされる。
一方DCVT(1)又はDCVT(2)からの割込指令に
対してはCPU101はSTP8においてどちらの
DCVTから割込があつたかを判定する。
DCVT(1)からの割込みであるとSTP9におい
て、BC1にMnを、AC1にADNをセツトする。次
いでDCVT(1)にGO出力を与える。又DCVT(2)か
らの割込みであると、STP10において、BC2に
Mnを、AC2にADNをセツトし次いでDCVT(2)に
GO出力を与え前述したSTP7に到り次いでCPU
101は割込み待ち信号の状態となる。
尚第8図、9図では第10図イに対応した説明
をしたが、第8図で各セルデータに対応するセ
ルメモリの指定は区別して行われてもよいことは
前述したとおりである。このような場合のRCU
のバンクテーブルBTの内容を第10図ロに示
す。
尚第6図の例では各セルメモリはそれぞれ
WCU BUS1,2に対応するポートを設ける必
要があつたが、これを避けるために第11図のよ
うにセルメモリグループを二つ(CELMG1、2)
に分ける構成としてもよい。
又、第6図、第11図にはドツトパターン変換
部を二個設ける例を示したが、必要に応じて多数
個設けるようにして又それに伴つてセルメモリの
数も多く設けるようにすればさらに描画速度を高
速化することができる。尚、第8図に示したよう
に、描画開始前にセルデータ〜に対しそれぞ
れセルメモリM1〜M6を対応させているが、こう
した場合には、RCU内にバンクテーブルBTを設
ける代りに1→2→3→4→5→6→1→2→…
の如く計算する6進カウンタを設けて同カウンタ
の値によりセルメモリを指定するようにすればよ
い。
以上説明したように本発明によればRCUにBT
を設けることによりセルデータごとのドツトパタ
ーンデータへの変換に要する処理時間の不均一さ
があつてもセルメモリM1〜M6を任意に指定でき
るという効果を奏するのである。さらに又本発明
によれば各セルメモリ内のコントロールエリアに
そのセルメモリの次のセルメモリ(NEXT Mj)
に関する情報をCPUからDCVTに与えさらに
DCVTからセルメモリへ与えるか、又はDCVT
自身がNEXT Mjを指定するかして(CPUの助
けを借りてもよい)RCUが次に読出すセルメモ
リを1つ手前のセルメモリ内の情報から判読でき
るようになつておりこの場合にはバンクテーブル
BTを必要とせずそれだけシステムの構成を単純
化できるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図はラスタ方式の描画制御の構成の一般的
なブロツク図、第3図は電子ビームによる描画の
様子を説明する図、第2図は基本図形パターンと
そのパラメータを示す図、第4図は従来の描画制
御部の具体化されたブロツク図、第5図はセルメ
モリ内のアドレスとデータの配置を示す図、第6
図は本発明による描画制御部の一実施例のブロツ
ク図、第7図は描画回路二重化によるデータ変換
のプロセスの概略を説明する図、第8図はCPU
とドツトパターンデータ変換部(DCVT)とセ
ルメモリとの間の処理中の関係を説明するタイム
チヤート、第9図は第8図に対応するCPUの動
作を説明するフローチヤート、第10図イ,ロは
バンクテーブルの内容を示す図、第11図は第6
図に対応する他の実施例の描画制御部のブロツク
図である。 100……描画制御回路、101……CPU、
102……ブランキング回路。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 描画すべき図形パターンが描画単位領域(以
    下セルと称する)ごとの複数の基本図形に分割さ
    れその各基本図形を表わすパラメータ(以下セル
    データと称する)を記憶する第1の記憶部(M0)
    と、 前記第1の記憶部から順次セルデータを取り出
    して対応する基本図形の描画用データ(以下ドツ
    トパターンデータと称する)を発生する複数のド
    ツトパターンデータ変換部と、 前記各ドツトパターンデータ変換部により発生
    されたドツトパターンデータを記憶する複数にグ
    ループ化された第2の記憶部(CELMG)と、 前記第1の記憶部へ転送される前記セルデータ
    群をストアする第3の記憶部(M・M)と、 前記第3の記憶部にストアされているセルデー
    タを前記ドツトパターンデータ変換部へ転送する
    データ転送部(DMA,DMAIF)と、 前記第3の記憶部から前記データ転送部を経由
    して前記第1の記憶部へ転送されるセルデータの
    転送を制御するコントローラ(CPU)と、 前記各々のドツトパターンデータ変換部と前記
    第2の記憶部との間でデータ転送が行なわれる複
    数の書込み制御バス(WCU BUS)と、 前記各第2の記憶部にストアされたドツトパタ
    ーンデータを読み出し、シリアル変換する読出し
    制御部(RCU)と、 前記読出し制御部によりシリアル変換されたド
    ツトパターンデータが供給される電子光学系
    (EOS)と、 前記電子光学系電子ビームにより所定領域をラ
    スタ状に走査するための走査駆動回路と、 前記電子ビームが照射される試料を載置する試
    料台と、を備え、 さらに前記各ドツトパターンデータ変換部は、 ドツトパターンデータを転送し、ストアした領
    域を指定した情報をストアする第4の記憶部
    (AC,BC)を備え、 前記読みだし制御部は、 前記コントローラから前記各ドツトパターン変
    換部内のそれぞれの第4の記憶部に与えるセルメ
    モリ指定情報を順次ストアするバンクテーブルを
    記憶する第5の記憶部(BT)を備え、 前記第2の記憶部は、分割された複数のセルメ
    モリと、 読出し制御部が順次に読み出すべきセルメモリ
    に関するメモリ指定情報をストアする第6の記憶
    部(CNTAR)と、を備えて構成し、 前記第4の記憶部、第5の記憶部、および第6
    の記憶部を使用し、前記複数のドツトパターン変
    換部により変換されたドツトパターンデータを高
    速に転送制御したことを特徴とする電子ビーム描
    画制御装置。
JP56169328A 1981-10-01 1981-10-22 電子ビ−ム描画制御装置 Granted JPS5870532A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56169328A JPS5870532A (ja) 1981-10-22 1981-10-22 電子ビ−ム描画制御装置
US06/405,982 US4641252A (en) 1981-10-01 1982-08-06 Electron beam drawing control system
DE19823236468 DE3236468A1 (de) 1981-10-01 1982-10-01 Elektronenstrahlzeichensteuervorrichtung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56169328A JPS5870532A (ja) 1981-10-22 1981-10-22 電子ビ−ム描画制御装置

Publications (2)

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JPS5870532A JPS5870532A (ja) 1983-04-27
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