JPH0339960A - 感光材料処理装置 - Google Patents

感光材料処理装置

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JPH0339960A
JPH0339960A JP5464190A JP5464190A JPH0339960A JP H0339960 A JPH0339960 A JP H0339960A JP 5464190 A JP5464190 A JP 5464190A JP 5464190 A JP5464190 A JP 5464190A JP H0339960 A JPH0339960 A JP H0339960A
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photosensitive material
liquid
chambers
chamber
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Takashi Nakamura
敬 中村
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、ハロゲン化銀感光材料を湿式処理する感光材
料処理装置に関する。
〈従来の技術〉 一般に、湿式処理において、露光後のハロゲン化銀感光
材料(以下、単に感光材料という)は、その処理工程に
従って、現像、定着(または漂白・定着)、水洗等の処
理が施されている。
このような処理は、通常、自動現像機等により、現像液
、定着液、洗浄水等を入れた各処理槽間を順次搬送する
ことによって行われている。
そして、このような処理に際しても、近年、環境保全、
資諒節減が要望されてきており、処理液、特に現像液の
節減が課題となっている。
現像液を節減するには、現像効率を上げることが必要で
あり、実際、所定量の現像液を入れた現像槽を複数用い
て処理すれば現像効率が上がることが知られている。
また、洗浄水を節減するには、水洗槽を複数用いて、カ
ウンターフローで水洗処理すればよいことも知られてい
る。
このようなことから、少量の処理液(現像液等)で処理
可能な方法として、いわゆるカスケード処理方式等が採
用されている。
このカスケード処理とは、同種の処理液を入れた複数の
処理槽(例えば、2〜9槽)を並設し、感光材料を各処
理槽間をクロスオーバさせて順次浸漬処理するものであ
る。 この場合、処理液も隣接する処理槽間を順次流れ
るが、処理液の流れ方向は特に定められておらず、感光
材料の進行方向に対し処理液の流れ方向が同方向である
パラレルフローと、逆方向であるカウンターフローとの
両方がある。
〈発明が解決しようとする課題〉 しかし、上記のような方法では、複数の処理槽を並設す
るため、装置が大型化して広い設置スペースが必要とな
り、また、空気と接触する部分(クロスオーバ一部)が
増え、そこでの酸化劣化骨を補う必要があるため、現像
液の消費量(補充量)の低減化においても十分とはいえ
ない。
本発明は、このような従来技術の欠点に鑑みてなされた
もので、その主たる目的は、第一に、装置の小型化およ
び処理液の補充量の低減を図ることができる感光材料処
理装置を提供することにある。
そして、第二に、上記目的に加えて、処理液の処理性能
を一定に保持することができる感光材料処理装置を提供
することにある。
〈課題を解決するための手段〉 このような目的は、以下の構成(1)〜(5)の本発明
により達成される。
(1)処理槽内に複数に区画された処理室を有し、この
処理室を連結して連続処理路が形成され、感光材料が前
記各処理室を順次通過する間に各処理室内に満たされた
処理液と接触して処理がなされるよう構成された感光材
料処理装置であって、 前記連続処理路に連通して給液口を設け、感光材料が最
初に通過する処理室および最後に通過する処理室以外の
位置に、少なくとも1つの排液口を設けたことを特徴と
する感光材料処理装置。
(2)機能の異なる2種以上の処理液を供給する2以上
の給液口を、各々異なる位置に設けた上記(1)に記載
の感光材料処理装置。
(3)前記処理液が最初に供給される処理室を他の処理
室より小さな容積をもつものとした上記(1)または(
2)に記載の感光材料処理装置。
(4)前記処理液の供給量の検出値に基づき、前記処理
液の供給量を制御するようにした上記(1)〜(3)の
いずれかに記載の感光材料処理装置。
(5)前記処理液が脱銀能を有する処理液であって、前
記感光材料が最初に通過する処理室を前記処理液が最初
に供給される処理室とした上記(3)または(4)に記
載の感光材料処理装置。
また、上記構成(1)〜(5)において、感光材料が大
気と接触することなく各処理室を順次通過するよう構成
された感光材料処理装置であるのが好ましい。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)処理槽内に複数に区画された処理室を有し、この
    処理室を連結して連続処理路が形成され、感光材料が前
    記各処理室を順次通過する間に各処理室内に満たされた
    処理液と接触して処理がなされるよう構成された感光材
    料処理装置であって、 前記連続処理路に連通して給液口を設け、感光材料が最
    初に通過する処理室および最後に通過する処理室以外の
    位置に、少なくとも1つの排液口を設けたことを特徴と
    する感光材料処理装置。
  2. (2)機能の異なる2種以上の処理液を供給する2以上
    の給液口を、各々異なる位置に設けた請求項1に記載の
    感光材料処理装置。
  3. (3)前記処理液が最初に供給される処理室を他の処理
    室より小さな容積をもつものとした請求項1または2に
    記載の感光材料処理装置。
  4. (4)前記処理液の供給量の検出値に基づき、前記処理
    液の供給量を制御するようにした請求項1〜3のいずれ
    かに記載の感光材料処理装置。
  5. (5)前記処理液が脱銀能を有する処理液であって、前
    記感光材料が最初に通過する処理室を前記処理液が最初
    に供給される処理室とした請求項3または4に記載の感
    光材料処理装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5144403A (en) * 1989-02-07 1992-09-01 Hewlett-Packard Company Bipolar transistor with trench-isolated emitter

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01166041A (ja) * 1987-12-22 1989-06-29 Hanshin Gijutsu Kenkyusho:Kk 現像処理タンク
JPH02230146A (ja) * 1988-11-09 1990-09-12 Konica Corp ハロゲン化銀写真感光材料用自動現像機

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