JPH0325951A - 半導体集積回路のレイアウトセル - Google Patents

半導体集積回路のレイアウトセル

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Publication number
JPH0325951A
JPH0325951A JP16145289A JP16145289A JPH0325951A JP H0325951 A JPH0325951 A JP H0325951A JP 16145289 A JP16145289 A JP 16145289A JP 16145289 A JP16145289 A JP 16145289A JP H0325951 A JPH0325951 A JP H0325951A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
aluminum
layout cell
aluminum film
layout
passing
Prior art date
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Pending
Application number
JP16145289A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasushi Kawakami
靖 川上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 半導体集積回路の自動レイアウトに使用されるレイアウ
トセルの構造に関する。
〔従来の技術〕
従来、金属2層配線以上の自動レイアウトセルは第2図
、第3図で示すようになっている。
第2図は、レイアウトセルの平面図である。
1はN源用アルミニウム配線、2は接地用グランド配線
、3はウェノペ4はソース側拡散層、5はドレイン側拡
敗層、6はゲート用ポリシリコン膜である。7はPch
側ドレインとNch側を接続する1層目のアルミニウム
膜(以下単に第1アルミと記す)8は拡散層と第1アル
ミとの接続をとるコンタクトである。9は第1アルミ7
と2層目のアルミニウム膜は(以下単に第2アルミと記
す)との接続をとるスルーホールであり、1lはレイア
ウトセルの上を第2アルミの通過を禁止する領域である
第3図は第2図の簡略化した平面図であり、A,B, 
C, D,○はレイアウトセル上を通過する第2アルミ
の通過可能な入出力位置を表したものである。
上述した第3図に示すように、第2アルミ通過可能な入
力位置Dを第2アルミ12aが通過したとすると、実際
レイアウトセル内には、スルーホール領域があるため、
第2アルミどうしの間隔13aが狭くなり、設計基準を
満足しない。そのため通過配線禁止領域11をもうけて
いる。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述したように、第2アルミが通過可能な領域にもかか
わらず、実際通過してしまうとスルーホールとの関係で
基準を満足しなくなるため禁止領域を設定することは、
レイアウトセルの上の有効な配線領域をつぶしてしまう
ことになり、余分な配線領域が設定されてしまい、チッ
プサイズが大きくなるという欠点がある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の自動レイアウト用のレイアウトセルは、核セル
内に、最初から出力端子の最隣りの通過領域に、通過用
配線を用意したレイアウトセルであり、2層目以上のア
ルミニウム膜からなる出力端子のすぐ隣りに、出力端子
と同じ層次のアルミニウム膜からなりレイアウトセル上
を単に通過する配線層があらかじめ用意されているとい
うものである。
〔実施例〕 次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は、本発明の平面図である。
1は電源用第1アルミ、2はグランド用第1アルミ、3
はPch,Nchを分離するウエル、4はソース側拡散
層、5はドレイン側拡散層、6はゲート用ポリシリコン
膜、7はPchドレインとNchドレインをコンタクト
8によって接続する第1アルミ、9は第1アルミ7と出
力用第2アルミ (出力端子)10を接続するスルーホ
ールである。
AI,Bl.CI. ○はレイアウトセル上を通過可能
な入出力位置を表わしている。今C1の入出力位置に通
過用第2アルミがもうけてないと従来例で説明したよう
に第2アルミ同志の基準が満たされなくなるため、第1
図の12bで示すように、すでにC1の位置にはレイア
ウトセル内に、第ニアルミ同志の間隔13bを満足する
ように、通過用の第2アルミを設定しておくことにより
、自動レイアウトでC1が使用された時、すでにレイア
ウトセル内の第2アルミを通過舅として使用するため基
準は守られ、禁止領域をもうける必要がなくなる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、自動用レイアウトセルの
出力端子の最隣りの通過可能な領域にあらかじめ通過用
第2アルミを配置しておくことでレイアウトセルの上を
配線が自由に通過することができ、従来のレイアウトセ
ルに比べ無駄な配線領域を使うことなくチップサイズを
小さくすることが可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図はそれぞれ本発明の一実施例及び従来
例のレイアウトセルの平面図、第3図は第2図のレイア
ウトセルの欠点を説明するための平面図である。 1・・・・・・電源用第1アルミ、2・・・・・・グラ
ンド用第2アルミ、3・・・・・・Pch,Nchを分
離するウェル、4・・・・・・ソース側の拡散層領域、
5・・・・・・ドレイン側の拡散層領域、6・・・・・
・ゲート用ポリシンコン、7・・・・・・Pchドレイ
ンとNchドレインを接続する第1アルミ、8・・・・
・・拡敗層と第1アルミを接続するコンタクト、9・・
・・・・第1アルミと第2アルミを接続するスルーホー
ル、10・・・・・・第2アルミ、II・・・・・・通
過配線禁止領域、12a・・・・・・通過用第2アルミ
、13a・・・・・・通過用第2アルミとスルーホール
領域との間隔、12b・・・・・・通過を可能としたレ
イアウトセル内にもうけた第2アルミ、13b・・・・
・・基準を満足したスルーホール領域と第2アルミの間
隔、A, AI, B,Bl,C,CI,D,O・・・
・・・レイアウトセル上の通過可能な人出力位置。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導体集積回路の自動レイアウト設計で使われる論理素
    子のレイアウトセルにおいて、2層目以上のアルミニウ
    ム膜からなる出力端子のすぐ隣りに、前記出力端子と同
    じ層次のアルミニウム膜からなり前記レイアウトセルを
    単に通過する配線層があらかじめ用意されていることを
    特徴とする半導体集積回路のレイアウトセル。
JP16145289A 1989-06-23 1989-06-23 半導体集積回路のレイアウトセル Pending JPH0325951A (ja)

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JP16145289A JPH0325951A (ja) 1989-06-23 1989-06-23 半導体集積回路のレイアウトセル

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JPH0325951A true JPH0325951A (ja) 1991-02-04

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JP16145289A Pending JPH0325951A (ja) 1989-06-23 1989-06-23 半導体集積回路のレイアウトセル

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62293642A (ja) * 1986-06-12 1987-12-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 集積回路
JPS6417445A (en) * 1987-07-10 1989-01-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Standard cell

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62293642A (ja) * 1986-06-12 1987-12-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 集積回路
JPS6417445A (en) * 1987-07-10 1989-01-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Standard cell

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