JP2001298086A - 自動配置配線のセル配置方法 - Google Patents

自動配置配線のセル配置方法

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JP2001298086A JP2000112349A JP2000112349A JP2001298086A JP 2001298086 A JP2001298086 A JP 2001298086A JP 2000112349 A JP2000112349 A JP 2000112349A JP 2000112349 A JP2000112349 A JP 2000112349A JP 2001298086 A JP2001298086 A JP 2001298086A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 2つの半導体チップを向かい合わせに貼り合
わせた構造を有し、それにより所定の電子回路が構成さ
れる形式の半導体集積回路の形成には適さないという課
題があった。 【解決手段】 半導体集積回路を構成する複数のセル
を、カットラインにより、それを挟んで一方の側に位置
する第1のセル群と他方の側に位置する第2のセル群と
に組み分け、その後、第1及び第2のセル群のいずれか
一方のセル群を第1のチップ用に割り当て、他方のセル
群を第2のチップ用に割り当て、その後、第1及び第2
のセル群のうちいずれか一方のセル群に含まれるセルの
配置を決定し、その後、一方のセル群に含まれるセルの
位置情報、及び一方のセル群に含まれるセルと他方のセ
ル群に含まれるセルとを接続する信号線の数情報に基づ
いて、他方のセル群に含まれるセルの配置を決定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、2つの半導体チ
ップを向かい合わせに貼り合わせた構造を有し、それに
より所定の電子回路が構成される形式の半導体集積回路
を形成する際に用いる自動配置配線のセル配置方法に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路の高集積化に伴い、配線
遅延の影響が大きくなる。0.25ミクロンルール以降
は、配線遅延がトランジスタ遅延を上回ると指摘されて
いる。配線遅延は配線長の2乗に比例するため、配線長
を小さくすれば、配線遅延が小さくなる。
【0003】半導体集積回路を形成する際に用いる従来
の自動配置配線では、セルを配置する工程で、ミンカッ
ト(Min−Cut)法(Melvin A. Breuer, “Min-Cu
t Placement”, Journal of Design Automation & Faul
t Tolerant Computing, vol.1, no.4, p343-362, Oct.
1977 参照)が広く用いられている。
【0004】ミンカット法では、セルの配置領域をカッ
トラインにより順次2分割していく。その際、分割後
に、カットラインを横切る信号線の数が最小になるよう
にセルを配置する。分割後の各領域に複数個のセルが含
まれている場合、分割後の各領域をカットラインにより
さらに2分割する。分割後の一方の領域に複数個のセル
が含まれ、他方の領域に1個のセルが含まれている場
合、一方の領域のみをカットラインによりさらに2分割
する。分割後の各領域に含まれるセルが1個だけの場
合、両領域とも分割を行わない。分割は、分割後の各領
域に含まれるセルの数が1個になるまで行う。すなわ
ち、セルの配置領域を、セルを1個だけ含む最小単位ま
で分割する。ミンカット法により、セル間を接続する信
号線の数が多く、強く結びついたセル同士が近くに配置
され、総配線長が小さくなる。
【0005】図5はミンカット法の説明に供する図であ
る。図において、101〜103はセル、104はセル
間を接続する信号線、105はセルの配置領域、106
は配置領域105の最小単位、C101〜C106はカ
ットラインである。
【0006】図5(a)はセルの配置領域105にセル
101〜103を含んだすべてのセルが配置されている
状態を示している。図5(b)はセルの配置領域105
をカットラインC101により2分割した状態を示して
いる。図5(c)は図5(b)の2つの領域をカットラ
インC102により2分割した状態を示している。図5
(d)は図5(c)の上側の2つの領域をカットライン
C103により2分割し、下側の2つの領域をカットラ
インC104により2分割した状態を示している。図5
(e)は図5(d)の左側の4つの領域をカットライン
C105により2分割し、右側の4つの領域をカットラ
インC106により2分割し、セルの配置領域105を
最小単位106まで分割した状態を示している。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来の自動配置配線の
セル配置方法は以上のように構成されているので、1つ
の半導体チップで所定の電子回路が構成される構造の半
導体集積回路の形成には適するが、特開平10−233
412号公報に示されるような2つの半導体チップを向
かい合わせに貼り合わせた構造を有し、それにより所定
の電子回路が構成される形式の半導体集積回路の形成に
は適さないという課題があった。
【0008】図6は特開平10−233412号公報に
示された半導体集積回路の構造を示す図である。図6
(a)は第1の半導体チップの概略的な平面図であり、
図6(b)は第2の半導体チップの概略的な平面図であ
り、図6(c)は第1の半導体チップと第2の半導体チ
ップとを向かい合わせに貼り合わせた状態を示す概略的
な平面図であり、図6(d)は図6(c)中のX−X線
に沿った断面図である。図において、13は第1の半導
体チップ、14は第2の半導体チップ、1,2は第1の
半導体チップ13に形成されたセル、3,4は第2の半
導体チップ14に形成されたセル、9はセル1中の入出
力ピン、10はセル2中の入出力ピン、11はセル3中
の入出力ピン、12はセル4中の入出力ピン、15はセ
ル2中の入出力ピン10とセル4中の入出力ピン12と
を接続する配線、16は第1の半導体チップ13の外周
部に形成されたボンディングパッドである。
【0009】図6に示すように、特開平10−2334
12号公報に示された半導体集積回路は、セル1及びセ
ル2を含んだ複数のセルから成る第1のセル群が形成さ
れた第1の半導体チップ13と、セル3及びセル4を含
んだ複数のセルから成る第2のセル群が形成された第2
の半導体チップ14とを別々に形成した後、第1及び第
2の半導体チップ13,14を向かい合わせに貼り合わ
せた構造をしている。また、セル1中の入出力ピン9と
セル3中の入出力ピン11とが直接接続し、セル2中の
入出力ピン10とセル4中の入出力ピン12とが配線1
5により接続して、所定の電子回路が構成されている。
この場合、向かい合わせのセル1及びセル3中の入出力
ピン9及び入出力ピン11を接続する配線が不要とな
り、また、向かい合わせできなかったセル2及びセル4
中の入出力ピン10及び入出力ピン12を接続する配線
15を短くすることができる。総配線長は、接続する信
号線の数が多いセル同士を向かい合わせて配置する程、
小さくなる。
【0010】この発明は上記のような課題を解決するた
めになされたもので、2つの半導体チップを向かい合わ
せに貼り合わせた構造を有し、それにより所定の電子回
路が構成される形式の半導体集積回路を形成する際に用
いる自動配置配線のセル配置方法を得ることを目的とす
る。
【0011】
【課題を解決するための手段】この発明に係る自動配置
配線のセル配置方法は、半導体集積回路を構成する複数
のセルを、カットラインにより第1のセル群と第2のセ
ル群とに組み分ける組分ステップと、第1及び第2のセ
ル群のうちのいずれか一方のセル群を、第1の半導体チ
ップ用に割り当て、他方のセル群を、第2の半導体チッ
プ用に割り当てる割り当てステップとを有し、組分ステ
ップが、カットラインと交差する、第1のセル群に含ま
れるセルと第2のセル群に含まれるセルとを接続する信
号線の数が最大になるように行うものである。
【0012】この発明に係る自動配置配線のセル配置方
法は、割り当てステップの後、第1及び第2のセル群の
うちのいずれか一方のセル群に含まれるセルの配置を決
定する第1の配置決定ステップと、一方のセル群に含ま
れるセルの位置情報、及び一方のセル群に含まれるセル
と他方のセル群に含まれるセルとを接続する信号線の数
情報に基づいて、他方のセル群に含まれるセルの配置を
決定する第2の配置決定ステップとを有するものであ
る。
【0013】この発明に係る自動配置配線のセル配置方
法は、半導体集積回路を構成する複数のセルを、ミンカ
ット法を適用して、カットラインにより2個または3個
のセルを含んだ複数のグループに組み分ける組分ステッ
プと、各グループに含まれるセルを2つに分け、一方の
セルを第1の半導体チップ用に割り当て、他方のセルを
第2の半導体チップ用に割り当てる割り当てステップと
を有するものである。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の一形態を
説明する。 実施の形態1.図1はこの発明の実施の形態1による自
動配置配線のセル配置方法の説明に供する図である。図
において、1〜4はセル、5はセル1及びセル2を含ん
だ複数のセルから成る第1のセル群、6はセル3及びセ
ル4を含んだ複数のセルから成る第2のセル群、7は第
1のセル群5に含まれるセルと第2のセル群6に含まれ
るセルとを接続する信号線、8は同じセル群内に含まれ
るセル間を接続する信号線、9は信号線7に接続するセ
ル1中の入出力ピン、10は信号線7に接続するセル2
中の入出力ピン、11は信号線7に接続するセル3中の
入出力ピン、12は信号線7に接続するセル4中の入出
力ピン、Cはカットラインである。なお、符号7,8は
一部省略して付していない部分もある。また、信号線
7,8はその一部分のみを示している場合もある。
【0015】図2はこの発明の実施の形態1による自動
配置配線のセル配置方法を示すフローチャートである。
先ず、半導体集積回路を構成する複数のセルを、カット
ラインにより、それを挟んで一方の側に位置する第1の
セル群と他方の側に位置する第2のセル群とに組み分け
る(ステップST11)。この場合、カットラインと交
差する、第1のセル群に含まれるセルと第2のセル群に
含まれるセルとを接続する信号線の数が最大になるよう
に組み分ける。例えば、図1に示すように、セル1及び
セル2を含んだ複数のセルから成る第1のセル群5と、
セル3及びセル4を含んだ複数のセルから成る第2のセ
ル群6とに組み分ける。
【0016】その後、第1及び第2のセル群のいずれか
一方のセル群を第1のチップ用に割り当て、他方のセル
群を第2のチップ用に割り当てる(ステップST1
2)。
【0017】その後、第1及び第2のセル群のうちいず
れか一方のセル群に含まれるセルの配置を決定する(ス
テップST13)。この場合、一方のセル群に含まれる
セルを、例えば、上述したミンカット法を用いて配置す
るが、この方法に限らない。
【0018】その後、ステップST13で決定した一方
のセル群に含まれるセルの位置情報、及び一方のセル群
に含まれるセルと他方のセル群に含まれるセルとを接続
する信号線の数情報に基づいて、他方のセル群に含まれ
るセルの配置を決定する(ステップST14)。信号線
の数情報とは、例えば、一方のセル群に含まれる一つの
セルと他方のセル群に含まれる一つのセルとを接続する
信号線の数を、一方のセル群に含まれるすべてのセルと
他方のセル群に含まれるすべてのセルとの間の関係につ
いて求めたものであり、一方のセル群にn個のセルが含
まれ、他方のセル群にm個のセルが含まれている場合、
信号線の数情報は、n×m個の情報からなる。この場
合、他方のセル群に含まれるセルを、接続する信号線の
数が多い一方のセル群に含まれるセルと直接接続するよ
うに配置するか、あるいは接続する信号線の数が多い一
方のセル群に含まれるセルの近くに位置するように配置
する。
【0019】以上のように、この実施の形態1によれ
ば、半導体集積回路を構成する複数のセルを、カットラ
インと交差する信号線の数が最大となるように、第1の
セル群と第2のセル群とに組み分け、一方のセル群を第
1のチップ用に割り当て、他方のセル群を第2のチップ
用に割り当てるので、2つの半導体チップを向かい合わ
せに貼り合わせた構造を有し、それにより所定の電子回
路が構成される形式の半導体集積回路を形成する際に用
いる自動配置配線のセル配置方法に適用することができ
る効果が得られる。
【0020】また、実施の形態1の自動配置配線のセル
配置方法を適用した場合、第1及び第2の半導体チップ
上の配線数が少なく、第1及び第2の半導体チップ間の
信号経路の多い半導体集積回路が得られる。
【0021】実施の形態2.図3はこの発明の実施の形
態2による自動配置配線のセル配置方法の説明に供する
図である。図において、21はセルの配置領域、22は
配置領域21の分割後の領域、23は同じ領域22に含
まれるセル間を接続する信号線、24は異なる領域22
に含まれるセル間を接続する信号線、C1〜C6はカッ
トラインである。その他は図1で同一符号を付して示し
たものと同一あるいは同等である。
【0022】図4はこの発明の実施の形態2による自動
配置配線のセル配置方法を示すフローチャートである。
先ず、半導体集積回路を構成する複数のセルを、ミンカ
ット法を適用して、カットラインにより、2個または3
個のセルを含んだ複数のグループに組み分ける(ステッ
プST21)。すなわち、セルの配置領域を、ミンカッ
ト法を適用して、分割後の各領域に含まれるセルの数が
2個または3個になるまで分割する。例えば、図3に示
すように、セル1とセル3とを同一グループに組み分
け、セル2とセル4とを同一グループに組み分ける。こ
の場合、ミンカット法を適用しているため、半導体集積
回路を構成する複数のセルは、カットラインを横切る信
号線の数が最小になるように配置される。すなわち、接
続する信号線が多いセル同士が同一グループ内に配置さ
れる。
【0023】その後、各グループに含まれるセルを2つ
に分け、一方のセルを第1の半導体チップ用に割り当
て、他方のセルを第2の半導体チップ用に割り当てる
(ステップST22)。例えば、図3中のセル1とセル
2を第1の半導体チップ用に割り当て、セル3とセル4
を第2の半導体チップ用に割り当てる。この場合、同一
グループに含まれる一方のセルと他方のセルとが直接接
続するように配置されるか、あるいは一方のセルと他方
のセルとが近くに位置するように配置される。
【0024】以上のように、この実施の形態2によれ
ば、半導体集積回路を構成する複数のセルを、ミンカッ
ト法を適用して2個または3個のセルを含んだ複数のグ
ループに組み分け、各グループに含まれるセルを、第1
の半導体チップ用と第2の半導体チップ用とに割り当て
るので、2つの半導体チップを向かい合わせに貼り合わ
せた構造を有し、それにより所定の電子回路が構成され
る形式の半導体集積回路を形成する際に用いる自動配置
配線のセル配置方法に適用することができる効果が得ら
れる。
【0025】実施の形態2の自動配置配線のセル配置方
法を適用した場合、第1及び第2の半導体チップ上の配
線数が少なく、第1及び第2の半導体チップ間の信号経
路の多い半導体集積回路が得られる。
【0026】なお、上述した実施の形態1及び2では、
必要に応じて、配線長が短くなるように、セルの座標や
方向を調整する。
【0027】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、半導
体集積回路を構成する複数のセルを、カットラインによ
り第1のセル群と第2のセル群とに組み分ける組分ステ
ップと、第1及び第2のセル群のうちのいずれか一方の
セル群を、第1の半導体チップ用に割り当て、他方のセ
ル群を、第2の半導体チップ用に割り当てる割り当てス
テップとを有し、組分ステップが、カットラインと交差
する、第1のセル群に含まれるセルと第2のセル群に含
まれるセルとを接続する信号線の数が最大になるように
行うように構成したので、2つの半導体チップを向かい
合わせに貼り合わせた構造を有し、それにより所定の電
子回路が構成される形式の半導体集積回路を形成する際
に用いる自動配置配線のセル配置方法に適用することが
できる効果がある。
【0028】この発明によれば、半導体集積回路を構成
する複数のセルを、ミンカット法を適用して、カットラ
インにより2個または3個のセルを含んだ複数のグルー
プに組み分ける組分ステップと、各グループに含まれる
セルを2つに分け、一方のセルを第1の半導体チップ用
に割り当て、他方のセルを第2の半導体チップ用に割り
当てる割り当てステップとを有するように構成したの
で、2つの半導体チップを向かい合わせに貼り合わせた
構造を有し、それにより所定の電子回路が構成される形
式の半導体集積回路を形成する際に用いる自動配置配線
のセル配置方法に適用することができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1による自動配置配線
のセル配置方法の説明に供する図である。
【図2】 この発明の実施の形態1による自動配置配線
のセル配置方法を示すフローチャートである。
【図3】 この発明の実施の形態2による自動配置配線
のセル配置方法の説明に供する図である。
【図4】 この発明の実施の形態2による自動配置配線
のセル配置方法を示すフローチャートである。
【図5】 ミンカット法の説明に供する図である。
【図6】 特開平10−233412号公報に示された
半導体集積回路の構造を示す図である。
【符号の説明】
1〜4 セル、5 第1のセル群、6 第2のセル群、
7,8 信号線、9〜12 入出力ピン、21 配置領
域、22 領域、23,24 信号線、C,C1〜C6
カットライン。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // H01L 27/00 301

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1の半導体チップと第2の半導体チッ
    プとを備え、該第1及び第2の半導体チップを向かい合
    わせに貼り合わせた構造を有し、それにより所定の電子
    回路が構成される形式の半導体集積回路を形成する際に
    用いる自動配置配線のセル配置方法において、 上記半導体集積回路を構成する複数のセルを、カットラ
    インにより第1のセル群と第2のセル群とに組み分ける
    組分ステップと、 上記第1及び第2のセル群のうちのいずれか一方のセル
    群を、上記第1の半導体チップ用に割り当て、他方のセ
    ル群を、上記第2の半導体チップ用に割り当てる割り当
    てステップとを有し、 上記組分ステップは、上記カットラインと交差する、上
    記第1のセル群に含まれるセルと上記第2のセル群に含
    まれるセルとを接続する信号線の数が最大になるように
    行うことを特徴とする自動配置配線のセル配置方法。
  2. 【請求項2】 割り当てステップの後、第1及び第2の
    セル群のうちのいずれか一方のセル群に含まれるセルの
    配置を決定する第1の配置決定ステップと、 上記一方のセル群に含まれるセルの位置情報、及び上記
    一方のセル群に含まれるセルと他方のセル群に含まれる
    セルとを接続する信号線の数情報に基づいて、上記他方
    のセル群に含まれるセルの配置を決定する第2の配置決
    定ステップとを有することを特徴とする請求項1記載の
    自動配置配線のセル配置方法。
  3. 【請求項3】 第1の半導体チップと第2の半導体チッ
    プとを備え、該第1及び第2の半導体チップを向かい合
    わせに貼り合わせた構造を有し、それにより所定の電子
    回路が構成される形式の半導体集積回路を形成する際に
    用いる自動配置配線のセル配置方法において、 上記半導体集積回路を構成する複数のセルを、ミンカッ
    ト法を適用して、カットラインにより2個または3個の
    セルを含んだ複数のグループに組み分ける組分ステップ
    と、 各グループに含まれるセルを2つに分け、一方のセルを
    上記第1の半導体チップ用に割り当て、他方のセルを上
    記第2の半導体チップ用に割り当てる割り当てステップ
    とを有することを特徴とする自動配置配線のセル配置方
    法。
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