JPH03255090A - ２，２’―ビス〔ジ―（３，５―ジアルキルフェニル）ホスフィノ〕―１，１’―ビナフチル及びこれを配位子とする遷移金属錯体 - Google Patents

２，２’―ビス〔ジ―（３，５―ジアルキルフェニル）ホスフィノ〕―１，１’―ビナフチル及びこれを配位子とする遷移金属錯体

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JPH03255090A
JPH03255090A JP2050262A JP5026290A JPH03255090A JP H03255090 A JPH03255090 A JP H03255090A JP 2050262 A JP2050262 A JP 2050262A JP 5026290 A JP5026290 A JP 5026290A JP H03255090 A JPH03255090 A JP H03255090A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規ホスフィン化合物に関する。更に詳細には
ルテニウム、ロジウム、パラジウム等の金属と錯体を形
成することによって種々の不″斉合成反応における有用
な触媒となり得る新規なホスフィン化合物に関するもの
である。
〔従来の技術〕
従来、有機合成反応に利用できる遷移金属錯体、例えば
、不斉水素化反応、不斉異性化反応、不斉シリル化反応
等不斉台底反応に用いられる遷移金属錯体触媒について
数多くの報告がなされている。
中でもルテニウム、ロジウム、パラジウム等の遷移金属
に、光学活性な第三級ホスフィン化合物を配位させた錯
体は、不斉合成反応の触媒として優れた性能を有するも
のが多く、この触媒の性能を更に高めるために、特殊な
構造のホスフィン化合物がこれまでに多数開発されてき
た（日本化学会編化学総ｖＡ３２ｒ有機金属錯体の化学
」ｐ２３７〜２３８、昭和５７年）。とりわけ、２２′
−ビス（ジフェニルホスフィノｌ−１，１′−ビナフチ
ル（以下単にｒＢＩＮ八Ｐ」へいう）は優れたものの一
つであり、このＢＩＮＡＩ”を配位子としたロジウム錯
体（特開昭５５−６１９３７号公報）、及びルテニウム
錯体（特開昭６１−　［ｉ　３９０号公報）がすでに報
告されている。更に、２．２’−ビス〔シ（ｐ−トリル
）ホスフィノ：］−１，１，’　−ビナフチル（以下、
ｒｐ−７−ロＩＮＡＰ　Ｊという）を配位子としたロジ
ウム錯体（特開昭６０−１９９８！１８号公報）、及び
ルテニウム錯体（特開昭６１−６３６９０号公報）につ
いても、不斉水素化反応、不斉異性化反応において良好
な結果を与えることが報告されいる。
しかしながら、これらのホスフィン錯体を用いても、対
象とする反応又はその反応基質によっては選択性、転化
率、持続性が充分でない場合があった。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明の目的は、様々な不斉合成反応において、その反
応に用いられる基質の選択性及び転化率に優れ、かつ反
応持続性があり、従来の触媒性能を画期的に高めた新規
なホスフィン化合物を提供するものである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者らは、」二記課題を解決すべく、多くのホスフ
ィン化合物について鋭意研究を重ねた結果、フェニル基
の３位及び５位に低級アルキル基を導入したＩＩＩＮＡ
Ｐ誘導体が、１１１　ＮへＰ及びＩ］−Ｔ−ＢＩＮＡＰ
に比べて、不斉合Ｊ戊における選択率並びに転化率を著
しく高めることを見出し、この知見に基づいて本発明を
完成した。
すなわち、本発明は次の一般式（＋） 〔式中、１（は低級アルキル基を示ず〕で表わされる新
規なホスフィン化合物、２．２′ビス〔ジ−（３，５−
ジアルニトルフェニル〉ホスフィノ：ｌ−１，１’−ビ
ナフチル（以下、「３゜５−Ｄへ旧ＮＡＰ　Ｊという〉
に係るものである。
本発明はまた、３．５−［］八へＮ八へを配位子とする
新規な遷移金属錯体に係るものである。
本発明に係る新規化合物３．５−１］八旧ＮＡＩ）は、
前記−形式（Ｉ）で表わされるものであり、（＋）式中
、Ｒは低級アルキル基であるが、特に炭素数１〜４のア
ルキル基であることが好ましい。
また、本発明に係る３、５−ＤへＢＩＮへＰには（＋）
体及び（−）体の光学活性体が存在し、本発明はこれら
の（］−）体、（−）体及びラセミ体のいずれをも含む
ものである。
本発明に係る３、５−〇へ旧ＮＡＩ’は、例えば次の反
応式（Ｉ）及び（２）に従って製造される。
ゝ＼−□〜−７ ＼＼−−２７′ 以下余白 ／−べ　７−へく 〔式中、１（は前記と同じ意味を存する〕即ち、３−ブ
ロム−１，５−シアル］・ルベンゼン（ｎ）と金属マグ
ネシウムを反応させ、クリニャール試薬（ＩＬＩ　）を
調製し、これに、６１Ｍ。
Ｋｏｓｏｌａｐｏｆ　ｆら；　　”Ｊ、　　Ａｍ、　　
Ｃｈｅｍ、　　Ｓｏｃ、　　　、　　７１゜ｐ、　３６
９−３７０　（Ｉ９４９）の方法によって得たＮＮ−ジ
エチルアミドクロロホスフェ−１−（ＩＶ）を縮合せし
めた後、塩酸で加水分解をして、シ（３，５−ジアルキ
ルフェニル）ホスフィン酸（Ｖ）とする。更に化合物（
Ｖ）に塩化チオニルを反応させ、反応後過剰の塩化チオ
ニルを除き、次いでベンゼンーヘキリン混合液で再結晶
して、ジ−（３５−ジアルキルフェニル）ホスホニルク
ロリド（Ｖｌ）を得る。
一方、特開昭５５−６１９３７号公報で開示されている
方法によって得られる２、２′−ジブロム−１゜１′−
ビナフチル（■）に金属マグネシウムを反応させクリニ
ャール試薬（■）とし、これに先に合成した化合物（Ｖ
ｌ）を反応させて、２，２′ビス〔ジ−（３，５−ジア
ルキルフェニル）ホスホリル］−１，１’−ビナフヂル
（ＩＸ）を合成する。このラセミ体化合物（ＩＸ）を四
塩化炭素に加熱溶解し、〈−）−ジベンゾイル酒石酸の
エーテル溶液を加えて攪拌すると、結晶が析出し、該析
出結晶を再結晶して、結晶物の旋光度が一定値を示すま
で、同様の操作を繰り返す。次いで精製結晶を塩化メチ
レン下に懸濁しておき、２Ｎ−水酸化ナトリウムを加え
て、（−）体の遊離のホスフィ　ンオキシ　ド（−）　
−（ＬＸ）を得る。また、（→−）−ジベンゾイル酒石
酸を用いて」二妃と同様の光学分割を行ない、（Ｉ−）
体の遊離のボスフィンオキシド（−１−）　−（ＩＸ）
を得る。更に、この化合物（ＩＸ）の（−）体又は（＋
）体をトリクロロシランによって還元すれば、本発明に
係る３、５−ＤＡＢＩＮＡＩ’の（−）体又は（→−〉
体を得ることができる。
本発明に係る３、　　５−ＯＡＢＩＮＡＰは配位子とし
て遷移金属と共に錯体を形成する。この錯体を形成する
遷移金属としては、ロジウム、パラジウム、ルテニウム
等が挙げられる。
本発υ］に係る遷移金属錯体を製造する方法としては、
例えば、［旧１（Ｃｏ）２（：ｆｆ　］２ど本発明に係
る３５−ＤＡＩＩＩＮ八Ｐとを反へせしめるとＲｈ（Ｃ
Ｄ）Ｃｆｌ（３、５−〇へ旧ＮＡＰ　）　　が得られる
。また、Ｍ、＾、［］ｅｎｎｅｔｔ；“Ｊ、　Ｃｈｅｍ
、　ＳＯｃ、　Ｄａｌｔｏｎｐ、　２３３−２４１　（
Ｉ９７４）の方法により調製した［ＲｕＣｊ２２（ｐ−
シメン）］２をヨウ化カリウムで処理して［Ｒｕ１２（
＋’−シメン〉］２とした後、これと本発明に係る３、
５−１）へ旧ＮＡｌ１とを反応せしめると［１１ｕｌ（
＋１−シメン）（３，５−［１八旧ＮＡＰ）］”ｌ−が
得られる。
このようにして得られた遷移金属錯体は、不斉合成反此
（、例えば、β−ケトニスデル類の不斉水素化反応等の
触媒として用いると、高い不斉収率でかつ高い光学純度
の還元体を与える。また、本発明に係る３、　　５−Ｏ
ＡＢＩＮＡＰの（−）体又は（＋）体のいずれか一方を
選択し、これを配位子とした遷移金属錯体を錯媒として
用いることにより、不斉合成反応において所望する絶対
配置の目的物を得、ることができる。
〔実施例〕
次に、実施例を挙げて、本発明を更に詳細に説明するが
、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、以下の測定には次の機器を用いた。
ＮＭＲ：へＭ−４００型装置（４００Ｍｌｌｚ）（プル
ツカ−社製） 内部標準物質：　’ＩＩ−ＮＭｌｉ・・・ブトラメチル
シラン 外部標準物質：　”Ｉ］−ＮＭＲ・・８５％リン酸旋光
度：［］ＩＰ−４型装置（日本分光工業■製）光学純度
；高速液体クロマトグラフィーウォーターズ液体クロマ
トグラフィー Ｍｏｄｅｌ　　５１０　　（ｔヨ本ミリポアリミテッド
■製） 検出器：Ｕｖ検出器］、ａｍｂｄａ−Ｍａｘ　Ｍｏｄｅ
１４８１　（日本ミリポアリミテッド■ 製） 実施例１ ビス（３，５−ジメチルフェニル）ホスフィン酸（Ｖ−
１）の合Ｉ戊： ３−ブロム−１，５−ジメチルベンゼン１１１ｇ（０，
６モル〉を脱水したＴｌｔｔ’　３５０　ｍｌ中で金属
マグネシウム１４．６ｇ　（０，６モル）と反応させて
、グリニヤール試薬を調製した。これにＮ、Ｎ−ジエチ
ルアミドクロロホスフェート５７　ｇ　（［ｌＪモル）
を還流下、２時間かけて滴下した。更に、２時間加熱還
流して反応せしめた後、氷水４００ｍ１と飽和塩化アン
モニウム水溶液１５０ｍ！、を加え、塩を分解した。こ
れを分液後、Ｔ　ＨＩ’層に水冷下漬塩酸５０（）−を
加え８０℃で５時間反応せしめた。生成した沈殿を濾取
、水洗、乾燥して、粗生成物を８１．２ｇ得た。これを
、水酸化す）　ＩＪウム１７．８ｇの水溶液ｌβに加え
均一溶液とした。不溶部を濾過して除去し、これに２０
％硫酸を加えて中和し、更に酸性とした後、析出物を濾
取、水洗、乾燥を行ない、精製して無色の固体ビス（３
，５−ジメチルフェニル）ホスフィン酸６２．７ｇ（収
率７６％、ｍ、ｐ、２５６〜２６１℃）を得た。
実施例２ １ ２ ビス（３，５−ジメチルフェニル）ホスホニルクロリド
（ＶＩ−１）の合成： 実施例１で得たビス（３，５−ジメチルフェニル）ボス
フィン酸６３　ｇ　（０，２３モル）をトルエン１２０
ｍ１．中に懸濁させ、これに５０〜５５℃にて塩化ヂオ
ニル３５．６ｇ　（０，２９９モル）を３時間で滴下し
た。室温に冷却後、不溶物を濾過して除去し、常圧にて
トルエンを除き、ヘキザン３００ｍｆ中へ釜残を注ぎ、
析出した結晶を手早く濾取、幌燥して無色の固体ビス（
３，５−ジメチルフェニル）ホスホニルクロリド５１．
６ｇ　（収率７６．７％、ｍ、ｐ。
１０８〜１．０９℃）を得た。
実施例３ ２．２′−ビス〔ジ−（３，５−ジメチルフェニル）ホ
スホリル）−１，１’　−ビナフチル（ＩＸ−１）の合
成： ２．２′−ジブロム−１，１′−ビナフチル１７、４ｇ
　（０，０３８モル、純度９０％）と金属マグネシウム
２．２３　ｇ　（０，０９２モル）をトルエン２７〇−
及びテトラヒドロフラン３０社中で反応させ、グリニヤ
ール試薬を調製した。このものに実施例２で得たビス（
３，５−ジメチルフェニル）ホスホニルクロリド２３．
４　ｇ　（０，０８モル）のトルエン溶液（２５ｍｎ）
を加え４０℃で反応せしめた後、常圧でテトラヒドロフ
ラン及びトルエンを回収し、更にトルエン２００ｒｎ１
．及び水２００−を加えた。このものに１０％硫酸１０
ｍ１．を加え６０℃で３０分攪拌した後、分液し温水洗
浄した。続いて、水１、０　（ｌ　ｄ及び飽和炭酸ナト
リウム水溶液ｌＯｍｅを加え、６０℃で３０分間攪拌し
た後温水洗浄を一回した。分液後溶媒を留去し、少量の
トルエンで溶解し、ヘキサン５００−で沈殿を濾取し、
トルエン１２５−及びヘキサン１２５−の混合液から再
結晶を行ない、無色の固体２．２′−ビス〔ジ３．５−
ジメチルフェニル）ホスホリル）　−１゜ｌ′−ビナフ
チル１９．９ｇ　（収率６４．９％、ｍ、　ｐ。
２８７〜２９０℃〉を得た。
実施例４ ２．２′−ビス〔ジ−（３，５−ジメチルフェニル）ホ
スホリルＥ−１，１，’　−ビナフチルの光学分割： 実施例３で得たラセミ体である２、２′−ビス〔ジ−（
３，５−ジメチルフェニル）ホスホリル）−１，１’　
−ビナフチル５．６　ｇ　（７，３０ミリモル）を、四
塩化炭素８０−にて、４０℃で溶解させた。次に、（−
）−ジベンゾイル酒石酸２．６２ｇ（７，３１ミＩＪモ
ル）をジエチルエーテル１ＯＯ−に溶解させたものを加
えた。室温に冷却後、ヘキサノを加えて沈殿を得、これ
を乾燥さけてジアステレオマー〔同符号塩、（−）　　
（−）塩〕と〔異符号塩、（＋）　　（−）塩〕を得Ｉ
こ。この含塩０．８ｇ（０，７１ミリモル）を、四塩化
炭素２，５ｒｒｄ！にて、６０℃で溶解させてから温度
を４０℃に冷却し、この溶液にエーテル２５ｍ１を攪拌
しながらゆっくり加えた。更に、攪拌しながら室温まで
冷却すると沈殿が析出してくる。１時間攪拌後、濾別し
て難溶性ジアステレオマー〔同符号塩、（−）（−〉塩
］０．２７ｇを得ｔこ。旋光度を測定し、旋光度が後に
掲げる数値と大差がなくなるまで同様の操作を繰り返す
。次いで２Ｎ−水酸化す）ＩＪウムと塩化メチレンをそ
れぞれ約４０ｍ２ずつ加えて中和し、攪拌しながらよく
溶かした。これを分液し、水層を更に塩化メチレンを用
いて各々約２０−で２〜３回抽出する。塩化メチレンの
層に炭酸カリウムを適量加え、乾燥させた。濾過した後
、溶媒を減圧留去して（−）−２，２’−ビス〔ジ（３
，５−−ジメチルフェニル）ホスホリル〕−１゜１′−
ビナフチル（−）　−（ＩＸ−１）を得た。得られた光
学活性体（−）−（ＩＸ−１，）は、四塩化炭素とエー
テル１．：１０（容量比）の混合溶媒を用いて結晶の比
旋光度の変動が見られなくなるまで再結晶を繰り逼した
。
また（＋）−ジベンゾイル酒石酸を使用した以外は上述
と同様の操作を行なって、（＋）−２゜２′−ビス〔ジ
−（３，５−ジメチルフェニル）ホスホリル：ｌ−１，
１’−ビナフチル（＋）−（ＩＸ−１，）を得た。
（＋）体〔α〕：５：＋１６４．３°（ｃ＝０．２９．
クロロホルム） （−）体〔α冗５ニー１６４．８°（ｃ＝０．２９．ク
ロロ１５ ６ ホルム） （＋）あるいは（−）体の光学純度は、下記条件の高速
液体クロマトグラフィーで検定した結果、９９．５％ｅ
ｅであっｔこ。
カラム：キラルセルＯＤφ０．４６ｃｍＸ　２５ｃｍ　
（ダイセル化学工業■製） 展開溶媒：へキサン：イソプロパツール＝９：１　（容
量比、以下溶媒比はすべて容 量比を表わす） 流　速、１−７分 検出波長：ＵＵＶ−２５４ｎ 実施例５ （−）−２，２’−ビス〔ジ−（３，５−ジメチルフェ
ニル）ホスフィノ］−１，１’　−ジナフチル（−）−
（Ｉ−１）の合成： 実施例４で得た光学活性な化合物（−）　−（ＩＸｌ　
）　Ｏ，’１７ｇ　（Ｉ，，００ミリモル）にキシレン
６．５−及びトリエチルアミン２．７　ｒｎｅ　（Ｉ９
，３７ミリモル）を加え、攪拌溶解後、トリクロロシラ
ン１．ｊｍｅ（Ｉ６，８７ミリモル）を２０〜３０分間
かけて滴下した。１００℃で１時間、１２０℃で１時間
、更に１４５℃で４時間反応させた後、室温まで冷却し
てキシレン８．５ｄと３０％水酸化ナトリウム溶液１０
−を加えた。７０℃で３０分間攪拌した後分液し、油層
を水洗、硫酸マグネジウドで乾燥させ、トルエンを減圧
留去して０．６２ｇの還元体を得た。
生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサ
ン。酢酸エチル−８：１）で分離分割し、（−）−２，
２’−ビス〔ジ−（３，５−ジメチルフェニル）ホスフ
ィノ：Ｉ−１，１’　−ビナフチル（以下単に（−）　
−３、５−１１ＭＩＩ５−１ｌという）０．２４ｇ　（
収率３２．７％）を得た。
また実施例４で得た光学活性な化合物（＋）（ＩＸ−１
＞を使用した以外は上述と同様の操作を行なって、（＋
）　−２，２’　−ビス〔ジ−（３゜５−ジメチルフェ
ニル）ホスフィノ、：ｌ−１，１’−ビナフチル０．２
２ｇ　（収率３０．０％）を得た。
（＋）イ本〔α〕二’　　：　＋２８５．０°　（ｃ＝
０．０８．クロロホルム） （−）体〔α冗５：　−２８７，５°　（ｃ＝（Ｉ，Ｏ
Ｒ，クロロ１７− ホルム） 実施例６ ［Ｒｕ１．（ｐ−シメン）　（（−）−３，５−５−１
ｌ］ＩＮ八Ｐ）ｌ”１の台底： ［ＲｕＣＪ？　ａ（Ｉ’−−シメン）］２２．１１＋；
　　（：１．２７ミリモル）、ヨウ化カリウｌ−１，８
ｇ　（Ｉ０，８４ミリモル）及びヨウ化テトラメチルア
ンモニウム０．０７ｇ　（０，３５ミリモル）を水５Ｑ
ｍｆ及び塩化メチレン５（）−の混合溶媒に溶解し、室
温で４時間攪拌した。次いでこれを分液し、水層を除い
た後、水５０−で１０洸浄し、続いて減圧下（２０ｍｍ
ｍｍ１ｌにおいて塩化メチレンを留去した。残渣を室温
、高真空下（０，２ｍｍｍｍ１ｌで乾燥して赤褐色の錯
体［Ｒｕｌ□（ｐ−シメン）］２２３．０３ｇ　（収率
９５％）を得た。
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ２ＣＡ　２）δｐｐｍ　：１、２５　
＋１．６１１．　Ｊ−６，９３１１ｚ）２．３５　ｓ、
３Ｈ） ３００　ｄ−ｔ、　ＩＨ，Ｊ＝６．９３１１ｚ）５４２
　ｄ、　２１１．　Ｊ−５，９６Ｈｚ）５５２　（ｄ、
　２１１．　Ｊ＝５．９６１１ｚ）この錯体０．０２９
６ｇ　（０，０３ミリモル）と実施例５で得た（−）−
３、５−［］ＭＵＩＮＡＰ　Ｏ，０５（Ｉ４ｇ（（Ｉ，
０６７１ミリモル）をエタノール５４−及び塩化メチレ
ン２．７５ｍｆ！の混合溶奴に溶かし、５０℃で１時間
反応せしめた。反応液を濃縮乾固して標題の錯体０，０
８ｇを定量的に得た。。
元素分析値：　Ｃ６２１１ａ２１２Ｐ２１１ｕ１１ 理論値（％）　　６０．１１４　　　５．１１実測値（
％）　　６０．９７　　　５．２５”Ｐ−ＮＭＩＩ（Ｃ
Ｉ］２［：　Ｇ２）δｐｐｍ　：２５、７３　（ｄ、　
Ｊ−５７，８１１ｚ）３９、３６　（ｄ、　Ｊ＝５８．
５１１ｚ）実施例７ 旧＋（Ｃｏ）Ｃｊ！　　（（−）　　３．　５−ＤＩ、
（旧ＮＡＰ）の台底：［Ｒｕ（Ｃｏ）　２Ｃｊ２　］］
２００２［ｉｌｇ　（０，０ロアミリモル）と実施例５
で得た（−）　−３，５−ＤＭＢＩＮ八Ｐ０．へ００８
ｇ　（０，１３４ミＵモル）を塩化メチレン３．０−に
溶かし、室温で３０分反応せしめた。反ＬＵ液を濃縮乾
固して標題の錯体０，１２７ｇを定量的に得た。
９ ０ 元素分析値：　ｃ５３１１＜ｅｃ、ｇ　０１’２１ｔｌ
＋ＣＩＩ 理論値（％）　　７０．６３　　　５．　：（７実測値
（％）　　７０．９４　　　５．５３３１１１−ＮＭｌ
ｉ　（ＣＩ）２Ｃ１２）δｐｐｍ　　＋２３．１０（ｄ
ｄ、、Ｉ＝１２６．６．　４２．２Ｈｚ）４７．０５（
ｄｄ、Ｊ−１６１，７，４２，２１１ｚ）実施例８ ２−ベンズアミドメチル−；３−オニ１−ツブタン酸メ
チルエステルの不斉水素化反応 予め窒素置換を行なった１０（）−のスデンレス製オー
トクレーブに、２−ベンズアミドメチル３−オキソブタ
ン酸メチルエステル５．０１ｇ　（２０，１ミリモル）
、メタノール２０ｍ１及び［Ｒｕ１（ｐ−シメン）（（
−）　　−３，５−ＤＭ［ＩＩＮ八Ｐへ］２８、３ｍｇ
　（０，０２３ミリモル）を仕込み、水素圧５０ｋｇ／
　ｃｎｔ、５０℃の条件で２０時間水素化反応を行ない
、反応後溶媒を留去して３．１３ｇの水素化物を得た。
生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（ヘキサン
：イソプロパノ−ルー８５：１５）で分離分割した後、
’ｌ−ＮＭＲスペクトルにより構造を確認したところ、
ジアステレオマ−２戒分が生成していた。
＋１−ＮＭｌｉ（［：ＤＣｎ　３）δｐｐｍＡ１戊分　
；　　］、　］２６（ｃｌ、　３１１．　Ｊ＝６．２５
１１７．）２、６０〜２．６４　（ｍ、　１ｌｌ）３５
７〜３　Ｇ２（ｍ　１．１１） ４、００〜４．０３　（ｍ、　ＩＩＩ）３７３　（ｓ、
　：１ｌｌ） ４０８〜４，１．４（…、ＩＩ＋） ７、２７　（ｌｉｒ、　ｓ、　１．１０７、４１〜７．
４５　（ｍ、　２１１）７４９〜７．５３　（ｍ、　ｌ
　Ｉｆ）７７７〜７．８０　（ｍ、　１ｌｉ） Ｂ成分；　］、　］３０（ｄ、　３１１．　Ｊ＝６．２
８１１ｚ）２８４〜２．８６　（ｍ、　Ｉ　ｌ−１）３
、７４　（ｓ、　３１１） ３７１〜３．７７　（ｍ、　ＩＨ） ３８５〜３．９１（ｍ、　ＩＨ） ４、０９〜４．１４　（ｍ、　１．ｆｌ）６、９２　（
ｂｒ、　ｓ、　ＩＩＩ） ７．４０〜７．４４　（ｍ、　２１１）７．４８〜７．
５０（ｍ、１ｌＩ） ７．７４〜７．７６　（ｍ、　ＩＩＩ）転化率並びにジ
アステレオマ−２成分の生成比は下記条件の高速液体ク
ロマトグラフィーにより分析した。結果は転化率６２．
５％、ジアステレオマ化Ａ／Ｂ　＝８６．５／１３．５
　（重量）であった。
カラム：コスモシルφ０．４６ｃｍＸ　２５ｅＩｌｌ（
ナカライテスク社製） 溶離液：へキサン：クロロホルム：メタノール９００：
１００：２０ 流　速：２ｄ／分 検出波長：［ＩＶ−２５４ｎｎ＋ 更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン
：酢酸エチル−１：ｌ）で単離した各成分をメトキシト
リフロロメチルフェニル酢酸エステルに誘導した後、下
記条件の高速液体クロマトグラフィーにより分析した結
果、Ａ成分の光学純度は９６％ｅｅであった。
カラム：コスモシルφ０．４６ｃｍｘ　２５　ｃｎ＋　
（ナカライテスク社製） 溶離液：ヘキザン；テトラヒドロフラン；メタノール−
１００：１００：１ 流　速：１−７分 検出波長：ＩＩＶ−２５４ｎｍ 比較例１ 予め窒素置換を行なった１００−のオートクレーブに２
−ベンズアミトメデル−３オキソブタン酸メチルエステ
ル５．２７ｇ（２１，１ミリモル）　メタノール２１ｍ
Ｅ及び［Ｒｕ１（ｐ−シメン）（（−）　　−ＢＩＮＡ
Ｐ）］”ｌ−２３，５ｍｇ（０，０２２ミリモル）を仕
込み、水素圧５０ｋｇ／Ｃｎｔ。
５０℃の条件で２０時間水素化反応を行なった。
実施例８と同様の方法で、転化率並びにジアステレオマ
ー比及び光学純度を測定した結果、転化率４９．４％、
ジアステレオマー比Ａ／Ｂ＝８０．８／１９．２、Ａ成
分の光学純度９５％ｅｅであった。
〔発明の効果〕
本発明に係る３、　　５−ＤＡＢＩＮＡＰは不斉合成月
蝕３ ４ 媒の配位子として優れたものであり、これとルテニウム
、ロジウム、パラジウム等の遷移金属との錯体は、不斉
水素化、不斉異性化、不斉シリル化等、種々の不斉合成
用触媒として優れた触媒活性を有し、これを用いれば光
学純度の高い光学活性体を製造することができる。
以　　」二

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、次の一般式（ I ） 〔式中、Ｒは低級アルキル基を示す〕 で表わされる２，２′−ビス〔ジ−（３，５−ジアルキ
    ルフェニル）ホスフィノ〕−１，１′−ビナフチル。 ２、請求項１記載の２，２′−ビス〔ジ−（３，５−ジ
    アルキルフェニル）ホスフィノ〕−１，１′−ビナフチ
    ルを配位子とする遷移金属錯体。
JP2050262A 1990-03-01 1990-03-01 ２，２’―ビス〔ジ―（３，５―ジアルキルフェニル）ホスフィノ〕―１，１’―ビナフチル及びこれを配位子とする遷移金属錯体 Expired - Lifetime JPH0768260B2 (ja)

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