JPH03246553A

JPH03246553A - 電子写真感光体

Info

Publication number: JPH03246553A
Application number: JP4400790A
Authority: JP
Inventors: Akihiko Kurahashi; 明彦倉橋; Akira Kageyama; 景山　晃
Original assignee: Hitachi Chemical Co Ltd; Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Current assignee: Idemitsu Petrochemical Co Ltd; Resonac Corp
Priority date: 1990-02-23
Filing date: 1990-02-23
Publication date: 1991-11-01
Also published as: EP0443626A3; EP0443626A2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、電子写真感光体に関し、さらに詳しく言うと
、たとえば複写機などにおいて好適に利用することかで
きる電子写真感光体に関する。

［従来技術および発明か解決しようとする帽１電子写真
感光体を組み込んてなるカールソン法による電子写真装
置たとえば複写機、レーザービームプリンター、発光ダ
イオードプリンター等においては、先ず、コロナ放電に
よって電子写真感光体の表面を帯電させ、次に必要部分
に露光を行ない、露光部の表面電荷を選択的に消去して
静電潜像を形成し、次いてトナーと称される現像剤を前
記静電潜像に付着させ、その後に、前記現像剤を紙等に
転写、定着させ、これによって、電子写真か形成される
。

従来、この種電子写真感光体は、導電性支持体の表面に
単層の光導電性層か形成されていたか。

電子写真感光体には、（１）暗所て所望の電位に帯電す
ること（帯電性）　、　（２）暗所て表面電位の漏洩か
無いこと（電位保持能力）ａ（３）光照射時には速やか
に表面電位か減衰すること（光応答性）等の特性か要求
されることから、これらの諸要求に応じるために、近年
に至っては、電荷の発生と電荷の輸送との機能をそれぞ
れ別の層で行なわせる機能分離型の、複数層からなる光
導電性層を有する電子写真感光体も出現している。

光導電性層か単層であれ複数層であれ、最近これらの装
置の印刷速度がより一層高速化し、また装置自身か小型
化する傾向にあり、１プリント当たりのプロセス時間（
帯電−露光一現像一除電の時間）も短縮する傾向にある
。このために、光導電性層に大きな機械的負荷かかかる
ようになる。

この機械的負荷は、現像剤、トナー、紙、および電子写
真感光体の表面にわずかに付着残存するトナーを清掃す
るクリーニング装置内のブレートやブラシと電子写真感
光体とか接触することにより生しる。帯電−露光一現像
一除電の一連の工程の繰り返しか高速になればなるほど
、電子写真感光体にはより大きな機械的負荷か加わる。

したがって、電子写真感光体の表面の摩耗が著しくなり
、使用可能な寿命か短くなると言う問題点がある。

さらに今後の印字速度の高速化は、電子写真感光体の一
面当たりの印刷枚数か増加するものと予想されるのて、
この場合には、電子写真感光体の機械的寿命の点から耐
摩耗性を向上させる必要が生しる。

そこで、電子写真感光体の表面の耐摩耗性の向上を図る
ために、電子写真感光体の最外層に耐摩耗性の保護層を
形成することか提案されている。

たとえば、保護層を形成するための樹脂としてシリコー
ン樹脂（特開昭６２−７５４６０号公報参照）ａエポキ
シ樹脂（特開昭５３−１０３７４１号公報参照）ａメラ
ミン樹脂（特開昭６１−２１７０５２号公報参照）ａフ
ッ素樹脂（特開昭６０−１１５９４４号公報参照）ａア
クリル樹脂（特開昭５４−　：］５５３８号公報参照等
が提案されている。

しかしながら、これらの公知技術ては、本来の目的であ
る耐摩耗性か未だ十分てなかったり、電子写真特性かか
えって低下したり、あるいは濃度低下やカブリか発生し
たりすることがある。また、電子写真感光体の性能か環
境変化、特に環境湿度により著しく変化し、画像流れと
称する印字の乱れやカブリ等の画像欠陥を生じやすくな
ると言う問題点を有している。

また前記以外の提案として、特開昭５７−８９７６４号
公報によれば、保護層形成用の結合樹脂として、ポリカ
ーボネートや硬化性樹脂が多く例示されているが、これ
らは、接着性、強度、表面硬度などにつき十分に満足な
ものてはない。

一方、特開昭６３−３０８５５号公報および特開昭６３
−５６６５８号公報においては、ポリカーボネート、ポ
リエステルなどに含フツ素樹脂粉末を加えてなる保護層
から形成された電子写真感光体が提案されている。

しかしながら、これらの提案によれば、電子写真感光体
のすべり性は、改良てきるものの、膜強度、表面硬度は
むしろ低下するという問題点かある。

本発明は前記の事情に基いてなされたものである。

本発明の目的は、硬化性ホスファゼン化合物を使用する
ことにより、導電性支持体、光導電性層、あるいは保護
層との接着性にすぐれ、表面硬度か高く、耐久性（耐熱
性、耐湿性、耐久性保持期間等）にすぐれた電子写真感
光体を提供することにある。

［課題を解決するための手段］前記課題を解決するための前記請求項１に記載の発明は
、導電性基体上に形成された光導電性層を被覆する保護
層の少なくとも表面か硬化性ホスファゼン化合物の硬化
体であることを特徴とする電子写真感光体であり、請求項２に記載の発明は、導電性支持体上に形成された
光導電性層が、硬化性ホスファゼン化合物を用いて形成
されてなることを特徴とする電子写真感光体てあり。

前記電子写真感光体においては、前記硬化性ホスファゼ
ン化合物か次の一般式［Ｉ］て表わされる硬化性ホスフ
ァゼン化合物か好ましく、−［ＮＰＣＸ）ａ（Ｙ）ｂ］
ｎ−［Ｉ］（式中、ａおよびｂは、ａｇｏ、ｂ≧０であ
り、かつａ＋ｂ＝２を満たす実数を示し、ｎ≧３であり
、Ｘは硬化性基を示し、Ｙは非硬化性基を示す。）また、請求項４に記載の発明は、導電性基体上に電荷発
生層および電荷輸送層を積層し、さらに最外層として１
次の一般式［１］で示される硬化性ホスファゼン化合物
の硬化体の保護膜を形成してなることを特徴とする電子
写真感光体である。

（たたし、Ｒ１およびＲ２はそれぞれアクリロイル基も
しくはメタクリロイル基、またはアクリロイル基もしく
はメタクリロイル基を含有する基であり、Ｒ１およびＲ
２は同一であっても相違していてもよく、ｆｔ３　、Ｒ
４、Ｒ５およびＲ６はそれぞれアクリロイル基、メタク
リロイル基、アクリロイル基もしくはメタクリロイル基
を含有する基、アルキル基、Ｍ換基を有するアルキル基
、アルコキシ基、置換基を有するアルコキシ基、アリー
ル基、置換基を有するアリール基、アリールオキシ基、
または置換基を有するアリールオキシ基てあり　Ｒ３、
Ｒ４、Ｒ’ｉおよびＲ６は互いに同一てあっても相違し
ていてもよい。）以下、本発明をさらに詳しく説明する
。

本発明において重要なことは、電子写真感光体における
光導電性層の表面に保護層を形成する場合には、その保
護層自体を硬化性ホスファゼン化合物を使用して形成し
、あるいは保護層の表面を硬化性ホスファゼン化合物を
使用してその硬化体で被覆し、あるいはこのような保護
層を形成しないときには前記光導電性層を、硬化性ホス
ファゼン化合物を使用して形成することである。

ホスファゼン本発明に用いる硬化性ホスファゼン化合物には各種のも
のがあるが、通常は一般式。

［ＮＰ　（Ｘ）−（Ｙ）ｂ　］ｎ　　　＝［Ｉ］（式中
、ａおよびｂは、ａ＞０、ｂ≧０でありかつａ＋ｂ＝２
を満たす実数を示し、ｎ≧３であり、Ｘは硬化性基を示
し、Ｙは非硬化性基を示す。）て表わされる化合物が好適に使用される。

この硬化性ホスファゼン化合物を表示する一般式［Ｉ］
は、単一の化合物を表示するものではなく、数種の化合
物の混合物の平均値としての表示である。したかって、
６基の数を示すａおよびｂは必ずしも正数に限定されず
、少数をも含む実数である。また、ｎについても同様に
３以上の範囲の正数のみならず、少数をも含む実数であ
る。ｎは３≦ｎ≦１８が好ましく、ｎ＝３あるいは４あ
るいはその混合物である環状化合物かより好ましい式中、Ｘは硬化性基を示すが、この硬化性基とは、紫外
線、可視光線、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線の照
射あるいは熱により反応して硬化する官能基を意味し、
通常は反応性二重結合を有する基である。この反応性二
重結合を有する基としては、各種のものかあるが、たと
えばアクリロイル基、メタクリロイル基、あるいはアク
リロイル基、メタクリロイル基、ビニル基またはアリル
基を含む官能基か挙げられる。

上記アクリロイル基を含む官能基あるいはメタクリロイ
ル基を含む官能基は、アクリロイルオキシ基やメタクリ
ロイルオキシ基、さらには−股部［式中、Ｒ７は水素原
子またはメチル基を示し、Ｒ８は炭素数１〜１２、好ま
しくは１〜５のアルキレン基（分岐アルキレン基を含む
、）を示す。］て表わすことかてきる。

また、このアクリロイル基やメタクリロイル基を含む官
能基は、上述の一般式（ｍ）で表わされるものの外に、
−股部［式中、Ｒ７およびＲ８は前記と同様の意味を示す。］て表わされる官能基、すなわちヒドロキシアルキル置換
（メタ）アクリルアミドの水酸基から水素原子を除いた
残基、さらに−股部［式中、Ｒ７は前記と同様の意味を示す。］て表わされ
る官能基、すなわち、アクリルアミドやメタクリルアミ
ドのアミノ基から水素原子を個除いた残基を挙げること
がてきる。

また、アリル基を含む官能基としては、アリル基そのも
のの外に、たとえばアリルオキシ基［ＣＨ２＝ＣＨ−Ｃ
Ｈ２０−］かあるが、このアリルオキシ基に限らず、広く一般式［式中Ｒ７は前記と同様の意味を示し、Ｒ９およびＲ”
はそれぞれ水素原子あるいはアルキル基を示し、Ｒ９お
よびＲ′。は同一てあっても相違していても良い、］て表わされる官能基、すなわち水酸基を一個有するアリ
ル化合物の水酸基から水素原子を除いた残基を挙げるこ
とかできる。

上記のような様々な硬化性基のうち、相手材に対する硬
化物の接着性を向上させると言う点て、ＸとしてはＮ−
メチロールアクリルアミド残基［ＣＨ，÷ＣＨＣＯＮＨ
ＣＨ２０Ｈ中の水酸基から水素原子を除いた残基］や（
メタ）アクリロイルオキシ基か好ましい。

一方、−股部［Ｉ］中のＹは、非硬化性基であり、たと
えば水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキ
ル基、アリール基、置換アリール基、アリールオキシ基
、置換アリールオキシ基。

アルコキシ基、置換アルコキシ基、−ＣＯＯＲ”、−Ｎ
　（Ｈ）Ｒ目［ただし、Ｒ”は炭素数１〜１１のアルキ
ル基である。］を含む基などである。

これらのうちフッ素を含む基は、硬化物のすべり性、耐
摩耗性を向上させるなどの点で好ましく、カルボニル基
を含む基は、硬化物の接着性を向上させる点て好ましい
。

硬化物の耐水性、耐摩耗性、吸水率の低減Σよび耐変色
性を向上させるには、Ｙは。

Ｚ　（ＣＦ２　）　ｎＣＨ２０− ［たたし、式中、ｎは１〜４の整数であり、Ｚは水素原
子、またはフッ素原子を示す。］あるいは（ＣＦ３）ｔ　ｅｌ（０− て表わされるフッ化物基であるのが好ましい。

このようなフッ化物基としては、２，２．２−トリフル
オロエトキシ基、２，２．３，３．３−ペンタフルオロ
−１−プロポキシ基、２，２゜３．３，４，４．４−へ
ブタフルオロ−１−ブトキシ基、２，２，３．３−テト
ラフルオロ−１−プロポキシ基、２，２，３，３，４，
４，５゜５−オクタフルオロ−１−ペントキシ基および
１．１，３，３．３−ヘキサフルオロ−２−プロポキシ
基などが挙げられる。

また、接着性および柔軟性を改善することを主眼とする
場合には、Ｙは飽和カルボン酸化合物の残基［０（ＣＨ
ｚ　）　１ＩＣＯＯＨ（ｎは１〜Ｉ５）〕右よび炭素環
式カルボン酸化合物の残基−０Ｃ６Ｈ，（ＣＨｔ　）　
ｎＣ０ＯＨ［ｎは０〜２の整数］　、　　ＯＣ６Ｒ３（
ＣＯＯＨ）！および一〇Ｃｓ　Ｒ３（Ｒ”）ＣＯＯＨ［
Ｒ”は−ＯＨまたは一０ＣＲ：ｌ］などが好ましい。

前記飽和カルボン酸化合物として、オキシ酢酸、β−ヒ
ドロキシプロピオン酸、４−ヒドロキシ酢酸、１２−ヒ
ドロキシデカン酸、１６−ヒトロキシヘキサデカン酸な
どを挙げることかでき、前記炭素環式カルボン酸として
は、ｐ−オキシ安息香酸、ｐ−ヒドロキシフェニル酢酸
、ｐ−ヒドロキシフェニルプロピオン酸、４−ヒドロキ
シフタル酸、２，３−ジヒドロキシ安息香酸、４−ヒド
ロキシ−３−メトキシ安息香酸等を挙げることがてきる
。

なお、置換基Ｘは、一般式［Ｉ］で表わされるホスファ
ゼン化合物にたとえば活性エネルギー線を照射した後に
、このホスファゼン化合物を硬化させる作用を示す基で
あり、また、置換基Ｙは、得られる硬化樹脂の物性を調
節するとともに、硬化性能を調節する作用を示す基であ
る。したがフて、ａ、ｂを適宜に選定することにより、
このホスファゼン化合物の硬化体からなる樹脂の諸物性
か規定されることになる。

たたし、ａか０であるホスファゼン化合物は硬化性を有
しないので、このようなホスファゼン化合物は１本発明
に用いられる硬化性ホスファゼン化合物からは除外され
る。しかし、ａか２、ｂが０であるもの、すなわち一般
式％式％］て表わされる繰返し単位を有するホスファゼン化合物は
、本発明において利用することかできる。

本発明に用いられる硬化性ホスファゼン化合物は、上述
の一般式［Ｉ］の繰返し単位を有するものであるが、そ
の重合度は３以上、好ましくは３〜１８の範囲であり、
とりわけ３あるいは４もしくはそれらの混合物か好まし
い、また、一般式［Ｉ］の繰返し単位か鎖状に結合した
ものもあるが、好ましくは環状に結合したものである。

また１本発明においては、前記光導電性層が電荷発生層
および電荷輸送層からなるときには、その電荷輸送層の
上に形成される保護層を次の一般式［■］（たたし、Ｒ１およびＲ２はそれぞれアクリロイル基も
しくはメタクリロイル基、またはアクリロイル基もしく
はメタクリロイル基を含有する基であり、Ｒ１およびＲ
２は同一であっても相違していてもよく、Ｒ’　、Ｒ’
　、Ｒ’　ＳＪ：びＲ’　は（−れぞれアクリロイル基
もしくはメタクリロイル基、またはアクリロイル基もし
くはメタクリロイル基を含有する基、アルキル基、置換
基を有するアルキル基、アルコキシ基、置換基を有する
アルコキシ基、アリール基、置換基を有するアリール基
、アリールオキシ基、または置換基を有するアリールオ
キシ基であり、）ｔ３　、　Ｒ４、Ｒ％およびＲ６は互
いに同一であっても相違していてもよい、）て示される硬化性ホスファゼン化合物の硬化体で形成す
るのか好ましい。

ここて、アクリロイル基もしくはメタクリロイル基、ま
たはアクリロイル基もしくはメタクリロイル基を含有す
る基については、式［Ｉ］て示した硬化性ホスファゼン
化合物におけるのと同様であり、その詳細な説明を省略
する。

またアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ペンチル基等の炭素数か１〜５の低級アルキル基
を挙げることかできる。これらの低級アルキル基は、メ
チル基、エチル基等の炭素数が１〜５である低級アルキ
ル基等の分岐を有していても良い。

さらにアリール基、置換基を有するアリール基、アリー
ル基、または置換基を有するアリールオキシ基の具体例
としては、フェニル基、メチルフェニル基、フェニルオ
キシ基、メチルフェニルオキシ基等を挙げることがてき
る。

（！庄叉丑１本発明の電子写真感光体を構成する導電性支持体の具体
例としては、アルミニウム、アルミニウム合金、銅、亜
鉛、ステンレス、バナジウム、モリブデン、クロム、チ
タン、ニッケル、インジウム、金や、白金などを挙げる
ことかてきる。

その他の導電性支持体としては、たとえば、（１）アル
ミニウム、アルミニウム合金、酸化インジウム、酸化錫
、酸化インジウム合金、酸化錫合金などの、真空蒸着法
によって被膜形成された層を有するプラスチック（たと
えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、
ポリエチレンテレフタレート、アクリル樹脂、ポリフッ
化エチレンなど）ａ（２）導電性粒子（アルミニウム粉
体、酸化チタン、酸化錫、酸化亜鉛、カーボンブラック
など）を、適当なバインダーとともに、プラスチックか
らなる基体または前記導電性支持体と同し材質からなる
基体の上に被覆してなる構造体など、（３）導電性粒子
をプラスチックや紙に含浸したものなど、あるいは（４
）導電性ポリマーを有するプラスチックなどを挙げるこ
とかてきる。

なお、前記基体の表面にはバリヤー機能と下引機能とを
有する下引層（接着層）か存在しても良い、この下引層
は、光導電性層の接着性の改良、塗工性の改良、基体の
保護、基体上の欠陥の被覆、基体からの電荷注入性の改
良、それに光導電性層の電気的破壊に対する保護などの
種々も目的に応じて形成されることかできる。

下引層を形成する材料としては、ポリビニルアルコール
、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオキシ
ド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン−
アクリル酸コポリマー、カゼイン、ポリアミド、共重合
ナイロン、ニカワ、ゼラチン等が挙げられる。下引層は
公知の方法により形成することかできる。

１１里立１本発明における電子写真感光体は、前記導電性支持体上
に、光導電性層を有している。

本発明の電子写真感光体を構成する光導電性層は、単層
または多層に形成される。

■単層の光導電性層単層に形成される光導電性層の具体例とじては、Ｓｅ、
５ｅ−Ｔｅ合金、５ｓ−Ａｓ合金、５ｅ−３ｂ合金、５
ｅ−Ｂｉ金合金どの蒸着膜やポリビニルカルバゾール／
トリニトロフルオレノンなどの有機感光体、あるいはア
モルファスシリコンを挙げることかできる。

ポリビニルカルバゾール／トリニトロフルオレノンなど
の有機感光体を形成する場合、前記硬化性ホスファゼン
化合物の硬化体を結合剤にするのか好ましい。

硬化性ホスファゼン化合物の硬化体で光導電性層を形成
する場合、光導電性層中の前記有機感光体の含有量は所
望する光感度に応じて任意に決定される。

また、前記硬化性ホスファゼン化合物を使用して光導電
性層を形成するとき、前記硬化性ホスファゼン化合物に
必要に応じて単官能、多官能子ツマ−を添加しても良い
。

前記硬化性ホスファゼン化合物と共重合可能な（メタ）
アクリル化合物、たとえば、ジペンタエリスリトールへ
キサアクリレートのような多官能アクリレートを含有し
ても良い。

また、シリコン、変性ウレタンアクリレート、（メタ）
アクリロキシシラン化合物、（メタ）アクリレート変性
ポリシロキサン等のシリコン含有硬化性化合物を用いて
もよい、これを用いることによって、表面滑性を良好に
することかできる。

また、前記硬化性ホスファゼン化合物は必要により溶剤
と混合して用いる。

溶剤としては、例えばメチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、ベン
ゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、クロ
ロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素、メ
タノール、エタノール、プロパツール、ブタノールなど
のアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど
のエーテル類などの有機溶剤やエチルセロソルブ、ブチ
ルセロソルブ等のセロソルブ類などが挙げられ、これら
はそれぞれ単独て用いてもよいし、通常。

二種以上を混合して用いてもよい。

これらの中て、ケトン類、アルコール類またはチルケト
ンあるいはイソプロピルアルコールまたはブチルアルコ
ールとの混合溶剤か好適である。

また、これらの溶剤と前記硬化性ホスファゼン化合物と
の混合割合については特に制限はないが、通常１重量比
で１＝９ないし９二ｌのａｒＭで選ばれる。

また、前記硬化性ホスファゼン化合物は硬化開始剤を添
加して用いても良い。

光硬化を利用する場合、例えば、紫外線、あるいは可視
光線を用いた硬化方法を利用する場合。

光重合開始剤として、ｌ−ヒドロキシシクロへキシルフ
ェニルケトン、ジベンゾイル、ベンゾイルメチルエーテ
ル、ベンゾイルエチルエーテル、ｐ−クロロベンゾフェ
ノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、ベンゾイルパーオ
キサイド、ジーｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイドおよび
カンフアキノンなどを添加することか好ましい。

これらの光重合開始剤は単独で用いてもよいし、二種以
上を組み合わせて用いてもよい。

この硬化促進剤の使用量は１通常、硬化性ホスファゼン
化合物１００重量部に対して、０．０５〜１Ｏ００重量
部の範囲で選ばれる。

また、熱硬化を利用する場合、加熱硬化方法や常温硬化
方法を利用する場合には、重合開始剤として過酸化物系
の化合物、アミン系の化合物を単独または組み合わせて
使用することか好ましい。

過酸化物系の化合物の例としては、ベンゾイルパーオキ
サイド、ｐ−クロロベンゾイルパーオキサイド、２．４
−ジクロロベンゾイルパーオキサイト、ｔ−ブチルヒド
ロパーオキサイド、シーｔ−ブチルパーオキサイド、ジ
クミルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシアセテー
ト、ジアセテート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート
などを挙げることかてきる。また、アミン系の化合物の
例としては、Ｎ、Ｎ−ジェタノール−Ｐ−）−ルイジン
、ジメチル−Ｐ−トルイジン、ｐ−ｔ−ルイシン、メチ
ルアミン、ｔ−ブチルアミン、メチルエチルアミン、ジ
フェニルアミン、４，４′−ジニトロジフェニルアミン
、０−ニトロアニリン、Ｐ−ブロモアニリン、２，４．
６−）−リブロモアニリンなどを挙げることができる。

この場合、過酸化物系の化合物およびアミン系の化合物
の合計の使用量は、硬化性本スフアゼン化合物１００重
量部に対して通常０．０５〜５．０重量部の範囲で選ば
れる。

硬化性ホスファゼン化合物を硬化させて光導電性層を形
成するには、硬化性ホスファゼン化合物と、必要により
単官能上ツマ−あるいは多官能モノマーと、前記有機感
光体と、溶剤と、硬化開始剤とからなる光導電性履用組
成物を調製し、これを光導電性支持体の表面に直接に、
あるいは、下引層を介して塗布し、硬化させる。

塗布の手段および方法は、従来公知の方法たとえば、ス
ピンナー法、スプレー法、ロールコータ−法、デイツプ
法、刷毛塗り法などの塗布方法により塗布し溶剤を用い
た場合にはその後に溶剤を除去する。

次いて常温硬化、加熱硬化、あるいは紫外線、電子線、
Ｘ線、γ線などを照射して、前記硬化性組成物を硬化さ
せて、硬化被覆膜を形成する。

硬化性ホスファゼン化合物を使用して形成した光導電性
層の厚みは、通常０．０１〜Ｉ００ｕＬｍである。

なお、この単層の光導電性層は、前記硬化性ホスファゼ
ン化合物の硬化体で形成せずに、他のバインダ樹脂を用
いて形成することかてき、この場合には、光導電性層の
上に、後述するように、硬化性ホスファゼン化合物の硬
化体による保護層を設けるのが良い。

■多層の光導電性層多層に形成される機能分離型の光導電層は、電荷発生層
と電荷輸送層とからなる。

−電荷発生層− 電荷発生層は、有機または無機顔料の電荷発生物質とバ
インダ樹脂とを含む。

この電荷発生物質としては、たとえば、アゾキシベンゼ
ン系、ジスアゾ系、トリスアゾ系、ベンズイミダゾール
系、多環式キノリン系、インジゴリレン系、ペリノン系
、シアニン色素、（チオ）ピリリウム塩、スクェアリリ
ウム色素などの電荷の発生か知られている顔料、色素な
どを挙げることかてきる。これらの顔料は、例えば、特
開昭４７３７５４３号、同４７−３７５４４号、同４７
−１８５４５３号、同４７１８５４４号、同４Ｂ−４３
９４２号、同４８−７０５３８号、同４９−１２３１号
、同４９−１０５５３６号、同５０−７５２１４号、お
よび同５０−９２７３８号の各公報に例示されている。

これらの顔料の中で、フタロシアニン系の顔料が好まし
い、また、フタロシアニン系顔料の中でも、特開昭５８
−１８２６４０号公報およびヨロッパ特許出願公開第９
２，２５５号公報に記載されているτ、τ　、ηおよび
η°型型金金属フタロシアニン長波長にまて高い感度を
有するので特に好ましい、さらに上記顔料の外に、光照
射により電荷担体を発生する任意の有機顔料を使用する
こともてきる。

バインダ樹脂としては、例えば、ポリビニルホルマール
、ポリビニルブチラール、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂
等を挙げることかできる。

電荷発生層中のバインダ樹脂の配合割合は、電荷発生剤
１００重量部に対して５〜４００重量部であり、さらに
好ましくは１０〜３００重量部である。５重量部未満で
は電荷発生層の導電性基体との密着性に劣り、電荷発生
層の皮膜が不均一になったり、あるいは画質低下を生じ
たりすることかあり、４００重量部を越えると感度が低
下したり、残留電位が高くなる傾向にある。

なお、この電荷発生層には、必要に応じて可塑剤、消泡
剤、流動性向上剤、ピンホール制御剤、カップリング剤
、酸化防止剤等の添加剤を加えても良い。

電荷発生層は、前記電荷発生剤およびバインダ樹脂、さ
らに必要に応じて添加される添加剤を溶媒中に分散する
分散液を調製し、この分散液を。

浸漬塗工、ロール塗工、アプリケーター塗工、ワイヤー
バー塗工等の方法により導電性基体上に塗工することに
よつて、形成することがてきる。

前記溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、テ
トラヒドロフラン、トルエン、キシレン、ジクロルメタ
ン、１．２−ジクロルエタン、１、ｌ、２〜トリクロル
エタン、メタノール、イソプロピルアルコール等が挙げ
られる。

また、前記電荷発生層の厚みは０．００１〜１１０１Ｌ
、好ましくは０．Ｏ１〜５＃Ｌｍである。

０．００１ＪＬｍ未満では電荷発生層を均一に形成する
ことができなくなることかあり、一方１０ｇｍを越える
と前述した帯電性等の性能が低下することがある。

一電荷輸送層一電荷輸送層は、電荷輸送物質とバインダ樹脂とを含んで
形成される。

この電荷輸送物質としては、たとえば、フルオレン、フ
ルオレノン、２．７−シニトロー９−フルオレノン、３
．７−シニトロージベンゾチオフエンー５−オキシド、
ｌ−ブロモピレン、２−フェニルピレン、カルバゾール
、３−フェニルカルバゾール、２−フェニルインドール
、２−フェニルナフタレン、オキサゾール、オキサジア
ゾール、オキサトリアゾール、トリフェニルアミン、イ
ミダゾール、クリセン、テトラフェン、アクリジン、各
種のヒドラゾン、スチリル化合物、ｌ。

ｌ−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−４゜４−ジ
フェニル−１，３−ブタジェン、ｌ−フェニル−３−（
４−ジエチルアミノスチリル）−５〜（４−ジエチルア
ミノフェニル）ピラゾリン、２−フェニル−４−（４−
ジエチルアミノフェニル）−５−フェニルオキサゾール
、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ハロゲン化ポリ−Ｎ
−ビニルカルバゾール、ポリビニルとリン、ポリビニル
イントロキノンキサリン、ポリビニルベンゾチオフェン
、ポリビニルアントラセン、ポリビニルアクリジン、ポ
リビニルピラゾリン等を挙げることかできる。これらは
、その一種を単独で使用することもてきるし、またその
二種以上を併用することかできる。

電荷輸送層におけるバインダ樹脂としては、前記硬化性
ホスファゼン化合物か好適である。

電荷輸送層の形成に使用する硬化性ホスファゼン化合物
に関しては、単層の光導電性層を形成するときの硬化性
ホスファゼン化合物と同様であるのて、その詳細な説明
を省略する。

たたし、硬化性ホスファゼン化合物と電荷輸送物質との
配合比は、これらの合計に対し、電荷輸送物質の割合か
通常２０〜８０重量部になるように選択するのか良い、
また、硬化性ホスファゼン化合物の硬化体で形成する電
荷輸送層の厚みは、通常５〜５０ｊＬｍ、好ましくは８
〜３０井ｍである。５ｇｍ未満では帯電性が低下するこ
とがあり、また、５０ｐｍを越えると感度や光応答性が
低下する傾向がある。

硬化性ホスファゼン化合物を使用する電荷輸送層の形成
法も単層の光導電層を形成するのと同様である。

硬化性ホスファゼン化合物を使用して形成した電荷輸送
層の厚みは、通常５〜５０ｐｍであり、好ましくは８〜
３０ＪＬｍである。５ＪＬｍ未満であると、帯電性が低
下することがあり、また、５０４１１１を越えると感度
や光応答性が低下することかある。

ところて、硬化性ホスファゼン化合物をバインダ樹脂に
しないて電荷輸送層を形成するには１次に説明するよう
なバインダ樹脂を採用するのか好ましい、そして、以下
に説明するバインダ樹脂を使用して電荷輸送層を形成す
るときには、電荷輸送層の表面に硬化性ホスファゼン化
合物を用いて形成した保護層（後述）を設けるのが好ま
しい。

硬化性ホスファゼン化合物以外のバインダ樹脂としては
、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステルカーボ
ネート樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹脂、シリコーン
樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ボリアリレ
ート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂
、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合樹脂、ポリ−Ｎ−ビニ
ルカルバゾール樹脂等が挙げられる。これらはその一種
を単独で使用することもできるし、またその二種以上を
併用することかできる。

バインダ樹脂の配合量は、電荷輸送物質とバインダ樹脂
との合計に対し、通常２０〜８０重量％である。この配
合量か２０重量％未満であると光応答性か低下し、８０
重量％を越えると耐久性に劣ることかある。

なお、この電荷輸送層には、必要に応して可塑剤、消泡
剤、流動性向上剤、ピンホール制御剤、カップリング剤
、酸化防止剤等の添加剤を加えても良い。

電荷輸送層は、前記電荷輸送剤およびバインダ樹脂、さ
らに必要に応じて添加される添加剤を溶媒中に分散する
分散液を調製し、この分散液を、浸漬塗工、ロール塗工
、アプリケーター塗工、ワイヤーバー塗工等の方法によ
り前記電荷発生層上に塗工することによって、形成する
ことができる。

前記溶媒としては、前記電荷発生層の形成に使用したの
と同様の溶媒を使用することかできる。

また、前記電荷輸送層の厚みは通常５〜５０ＪＬｍであ
り、好ましくは８〜３０．ｍである。５終ｍ未満である
と、帯電性が低下することがあり、また、５０ＩＬｍを
越えると感度や光応答性か低下することかある。

栗１１保護層は、光導電性層の表面に形成される。

本発明において、保護層は、前記硬化性ホスファゼン化
合物の硬化体により形成されていても良いし、あるいは
、他の材質で形成された被覆層と、その表面に形成され
た前記硬化性ホスファゼン化合物の硬化層とで形成され
ていても良い。

保護層を前記硬化性ホスファゼン化合物の硬化体て形成
する場合について説明する。

この場合の硬化性ホスファゼン化合物の性能、前記ホス
ファゼン化合物に所望により配合される単官能上ツマ−
あるいは多官能子ツマ−の種類等、所望により使用され
る溶剤の種類等、所望により使用される硬化開始剤の種
類等、硬化性ホスファゼン化合物を使用した保護層を形
成する方法等については、前述と同様である。

もっとも、好ましい硬化性ホスファゼン化合物は、前記
［１１］で表わされる化合物である。

また、滑性なさらに良好にするため、シリコーンオイル
等の潤滑剤を添加しても良い。あるいは、前記電荷輸送
物質や電荷輸送層の説明において例示した添加物を適宜
に配合することもできる。

なお、硬化性ホスファゼン化合物の硬化体で保護層を形
成するとき、この保護層中に、金属、あるいは、金属酸
化物などの粉末を分散させても良い保護層中に分散させる金属として、たとえば。

アルミニウム、アルミニウム合金等、保護層中に分散さ
せる金属酸化物としては、二酸化銀、二酸化アンチモン
、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化錫、酸化インジニウム、
酸化ビスマス等を挙げることかできる。

これらの金属、あるいは金属酸化物の粉末は、平均粒径
が０．３ｇｍ以下であることが好ましい、これらの金属
あるいは金属酸化物の含有量は、通常３０重量％以下で
あり、好ましくは１０重量％以下である。

また、この硬化性ホスファゼン化合物の硬化体である保
護層中には、滑材として、たとえば、含フツ素樹脂粉末
などが含まれても良い。

含フツ素樹脂粉末の具体例としては、四フッ化エチレン
、三フッ化塩化エチレン、六フッ化エチレン、プロピレ
ン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、ニフッ化二塩化
エチレン、トリフルオロプロピルメチルジクロルシラン
などの重合体、あるいはこれらの共重合体、あるいは塩
化ビニルとの共重合体樹脂の粉体などを挙げることがで
きる。

保護層自体を硬化性ホスファゼン化合物の硬化体により
形成する場合、保護層の厚みは、必要に応し０．０１〜
１００　ｇｍ、好ましくは０．５〜１５ＩＬｍ、さらに
好ましくは１．５〜１Ｇｐｍの範囲の任意の厚みに調製
することかてきる。厚みが０．０１ｐｍ未満ては保護層
としての機能か十分に発現せず、耐摩耗性か低下するこ
とかあり、一方、１１００ＩＬを越えると感度や光応答
性が低下し、残留電位が高くなることかある。

また、硬化性ホスファゼン化合物の硬化体により形成さ
れた保護層か複数層からなる積層体であってもよい。

本発明における保護層の他の態様である、他の材質で形
成された被覆層とその表面に形成された前記硬化性ホス
ファゼン化合物の硬化層とからなる保護層について説明
する。

被覆層を形成することのできる他の材質としては、ポリ
ウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリレー
ト樹脂、ポリメタクリレート樹脂、ポリイソシアネート
またはヒドロキシル基含有ポリエステルまたはポリエー
テル、ポリイソシアネート３よびヒドロキシル基含有ア
クリルまたはエポキシ樹脂、または−時マスク化イソシ
アネート基含有ポリイソシアネートプレボリマーまたは
ポリイソシアネート等を挙げることかできる。

この被覆層は、塗布法、浸漬法、吹付は法、後乾燥法、
硬化法等により形成することかできる。

そして、この被覆層の厚みは、通常０．５〜１０ｐｍで
ある。

この被覆層中には前記金属あるいは金属酸化物を含有し
ていても良い。

被覆層の表面に形成される。硬化性ホスファゼン化合物
の硬化層については、保護層自体を硬化性ホスファゼン
化合物の硬化体で形成する場合と同様である。

ただし、この場合、前記硬化性ホスファゼン化合物の硬
化層の厚みは、０．２〜１０４ｍ、好ましくは、　０．
５〜５ＪＬｍである。

以上に詳述した本発明の電子写真感光体の形状は特に限
定されるものてはないか通常ドラム状として形成される
。

［実施例］次に、この発明の実施例を示し、この発明についてさら
に具体的に説明する。

（製造例１）温度計、攪拌装置１滴下ロートおよびコンデンサーを取
り付けた１！Ｌのフラスコに、テトラヒドロフラン１０
０ｍｊＬＥよび金属ナトリウムｔｔ、６ｇ（０，５モル
）を投入し、さらに、これにフェノール５１．７ｇ　　
（０，５５モル）を滴下し、還流下にナトリウムが消失
するまで、反応を行なった。

次にヘキサクロロシクロトリスホスファゼン５８ｇ　（
０，１６７モル）をトルエン１００ｍ１に溶解した溶液
を上記の反応溶液中に滴下し、還流下て４時間かけて反
応を続けた０次いで、反応液の温度を室温まで冷却した
後、これにＨＥＭＡ　（２−ヒトロキシエチルメタクリ
レート）７８ｇ　（０，６モル）を滴下ロートから徐々
に滴下した。

その後、温浴にて６０℃に加熱し、その温度で８時間か
けて攪拌し、反応を行なった０次いで、トルエン４００
ｃｃを加え、析出した結晶および触媒をろ別し、ろ液を
水洗した。ろ液を芒硝を用いて乾燥した後、溶媒を減圧
蒸留により除去し、黄色液状物８２．５ｇを得た。

（製造例２）温度計、攪拌装置、滴下ロートおよびコンデンサーを取
りつけた１１のフラスコにヘキサクロロシクロトリホス
ファゼン５８ｇ　（０，１６７モル）ａトルエン５０ｍ
ＪＬおよびピリジン１６８　ｇ　（２，０モル）を投入
し、攪拌を開始した０次ぎに、ＨＥＭＡ　（２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート）１４３ｇ　（１，１モル）
を滴下ロートから徐々に滴下した。

温浴にて、６０℃に加熱を行い、攪拌下に反応を８時間
かけて行なった０次いでトルエン４００ｃｃを加え、析
出した結晶および触媒をろ別し、ろ液を水洗した。ろ液
を芒硝を用いて乾燥した後、触媒を減圧蒸留により除去
して黄色液状物１３６ｇを得た。

（比較例１）ポリアミド樹脂［日本リルサン（株）製、商品名Ｍ９９
５　（固形分１００重量％）６．０重量部をメタノール
とジクロルメタンのｌ＝１の混合溶媒９４重量部に完全
に溶解した。この溶液を厚さ０．１ｍｍのアルミ板上に
浸漬塗工し、１２０℃で４０分かけて乾燥し、膜厚０．
２ｇｍの中間層を形成した。

次に、τ型態金属フタロシアニン２．５重Ｊ１部、シリ
コーン樹脂［信越化学工業（株）製、商品名ＫＲ−２５
５（固形分５０重量％）］５５．０重量およびメチルエ
チルケトン９２．５重量部を配合した混合液をボールミ
ル［日本化学陶業（株）製ボットミル］に入れ、２４時
間かけて混線分散し、電荷発生層形成用分散液を得た。

この分散液を浸漬塗工法にて上記の中間層の上に塗布し
、１２０℃で６０分かけて乾燥して膜厚０．３＃Ｌｍの
電荷発生層を形成した。

次にｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒドージフェニル
ヒドラゾン６．０重量部、ポリカーボネート樹脂［粘度
平均分子量、２７，０００．固形分１００重量％３１４
．０重量部、ジクロルメタン５０重量部および１．ｌ、
２−トリクロルエタン３０重量部を混合、溶解して電荷
輸送層用溶液を調製した。この溶液を前記電荷発生層の
表面に浸漬塗工し、１１０℃にて６０分かけて乾燥する
ことにより膜厚１６ＩＬｍの電荷輸送層を形成した。

この段階での感光体をＮｏ、Ｒ１と称する。

この感光体Ｎｏ、Ｒ１の特性を以下の方法により測定し
、結果を第１表に示した。

（電子写真特性）静電記録紙試験装置［川口電機（株）製、５Ｐ−４２８
］により６０Ｘ７０ｍｍ角の感光体試料て測定した。

初期電位（ＶＯ）は、試料を１，０００回転／分の速度
で回転させながら、−５ｋＶのコロナを１０秒間照射し
たときの電位減衰（Ｖ　ｋ　＝　Ｖ　３ｏ／■。、■３
゜は３０秒後の電位）を表わし、半減露光量（Ｅ、、）
は、その後ｌＯルックスの白色光を照射し、電位が１７
２になるのに要する光量値を褒わす、残留電位（ｖｌＩ
）は白色光を６０！１ｊｉＪｌ照射した後の電位を表わ
す。

（耐久試験）電子写真特性の評価に用いたのと同様の感光体試料を使
用し、コロナ帯電（表面電位−１，０００±１００Ｖ）
Ｓよび除電（除電光波長５００ｎｍ、露光量５０ｍＪ／
ｍ”）をｉｏ、ｏｏｏ回繰り返した後、電子写真特性を
測定し、初期値と比較した。

（表面硬度）感光体試料の鉛筆硬さを測定した。

（摩耗試験）日立化成工業株式会社製の摩耗試験機を使用し、感光体
試料の表面をゴム硬度７０のウレタンゴムブレード（荷
重ｚｏｏｇ）で毎分２００回摺動し、２０分間に摩耗し
た感光体の重量を測定した。

（実施例１）前記製造例１で得られた１、３．５−トリ（メタアクリ
ロイルオキシエチレンジオキシ）−１゜３．５−）す（
フェノキシ）シクロトリホスファゼン８０重量部とベン
ゾイルパーオキシド０．４重量部とをメチルエチルケト
ン６重量部とイソブタノール１３．６重量部とに溶解し
た。この溶液を前記感光体Ｎｏ、Ｒ１の電荷輸送層表面
に塗布し、１１０℃で６０分かけて乾燥し、硬化するこ
とによって膜厚４ｇｍの保護層を形成した。

この保護層を有する感光体をＮ０１ｌと称する。

この感光体Ｎｏ、１の特性を前記比較例１に記載の方法
により測定し、その結果を第１表に示した。

（実施例２）前記比較例１と同様にして、導電性支持体である０、１
ｍｍのアルミ板上に中間層および電荷発生層を形成した
。

次に、１．１−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−
４，４−ジフェニル−１，３−ブタジェン６．０重量部
、ボッカーボネート樹脂１４．０重量部、ジクロルメタ
ン８０重量部を混合、溶解して電荷輸送層用溶液を調製
した。この溶液を、前記電気発生層表面に浸漬塗工法に
より塗布し。

１１０℃で６０分かけて乾燥して膜厚１６４ｍの電荷輸
送層を形成した。

この電荷輸送層表面に、１，３．５−）−リ（メタアク
リロイルオキシエチレンジオキシ）−１゜３．５−）す
（フェノキシ）シクロトリホスファゼン５０重量部、ビ
スフェノールＡとプロピレノキシドとの付加物のジメタ
アクリレート２５重量部、およびベンゾイルパーオキシ
ド０．４重量部をメチルエチルケトン８部とイソブタノ
ール１６．６重量部とに溶解した保護層用溶液を塗布し
、１１０℃で６０分かけて乾燥、硬化することにより膜
厚５ｐｍの保護層を形成した。

この保護層を有する感光体をＮｏ、２と称する。

この感光体Ｎｏ、２の特性を前記比較例１に記載の方法
により測定し、その結果を第１表に示した。

（実施例３）保護層の乾燥、硬化を窒素気流中で行なった外は前記実
施例１と同様にして感光体Ｎ０９３を製造した。

この感光体Ｎ０９３の特性を前記比較例１に記載の方法
により測定し、その結果を第１表に示した。

第１表に示すように、本発明の電子写真感光体は、耐電
性、暗減衰、半減露光量、残留電位か保護層を設けない
感光体と同程度に良好であり、電気的な耐久性にも優れ
ていると同時に、表面硬度および摩耗量か保護層を設け
ない感光体に比べて格段に優れている。この結果から見
ても、感光体の摩耗寿命は従来の感光体に比べて３〜８
倍に向上することか期待される。

第１表（実施例４）アルミニウムからなる板状の導電性支持体上に形成され
た光導電性層である５０ＢｍのＳｅ蒸着層の上に、下記
のコーテイング材（Ａ）または（Ｂ）をスプレーコーテ
ィングしてからＵＶ硬化（１６０ｍｊ／ｃ■２照射）さ
せ、厚みが３終ｍである保護膜を得た。

この感光体について、クロスカットセロテープ剥離テス
トを行ったところ、保護膜の剥離はまったくみられなか
った。

また、保護膜の表面は鉛筆硬度７Ｈて、スチールウール
てこすっても傷付きはなかった。

コーテイング材組成（Ａ）硬化性ホスファゼン化合物　　　　　　　２５ｇ［１，
ｌ、３，３，５．５−へキサ（メタクリロイルエチレン
ジオキシ）シクロトリホスファゼン］　（製造例２参照
）メチルエチルケトン　　　　　　　　　　１０ｇエチル
セロソルブ　　　　　　　　　　　５ｇキシレン　　　
　　　　　　　　　　　　１０ｇイソプロピルアルコー
ル　　　　　　　　２０ｇエタノール　　　　　　　　
　　　　　　　５ｇ１−ヒドロキシシクロへキシルフェ
ニルケトンｇコーテイング材組成（Ｂ）コーテイング材組成（Ａ）に、Ｓ　ｎ　Ｏｔ　８５重量
部、Ｓｂ、０３１５重量部からなる粒径０．３４ｍ以下
の粉末を５ｇ加えて調製された。

なお、コーテイング材（Ａ）を石英板上で硬化させて得
た３ＩＬｍの膜のＵＶ吸収スペクトルを測定したところ
、吸光度は低く、３００ｎｍ以上ては殆ど吸光を示さな
かった（第１図参照）。

（実施例５）アルミニウムからなる板状の導電性支持体上に形成され
た光導電性層である５０ＩＬｍのＳｅ蒸着層の上に、Ｓ
ｎ０．８５重量％およびｓｂｏ。

１５重量％からなる０、３４ｍ以下の微粉末３０重量％
をポリカーボネートに加えてなる塩化メチリン溶液を使
用して、４ＪＬｍの保護膜を形成した。この保護膜の上
に、実施例４で用いたコーテイング材（Ａ）を用いて、
前記実施例４と同様にして保護膜であるｌＪＬｍ厚みの
ホスファゼン硬化膜を形成した。

この感光体についてクロスカットセロテープ剥離テスト
を行ったところ保護膜の剥離は全くみられなかった。

また、保護膜の表面は鉛筆硬度７Ｈで、スチールウール
てこすっても傷付きはなかった。

（実施例６）アルミニウムからなる板状の導電性支持体上に下記の組
成からなる光導電柱層用組成物を塗布し、乾燥すること
により、厚みか４ｇｍである光導電性層を形成した。

光導電柱層用組成物硬化性ホスファゼン化合物　　　　　　　２５ｇ［１，
１，３，３，５，５−へキサ（メタクリロイルエチレン
ジオキシ）シクロトリホスファゼン］　（製造例２参照
）メチルエチルケトン　　　　　　　　　　１０ｇエチル
セロソルブ　　　　　　　　　　　５ｇキシレン　　　
　　　　　　　　　　　　１０ｇイソプロピルアルコー
ル　　　　　　　　２０ｇエタノール　　　　　　　　
　　　　　　　５ｇ１−ヒドロキシシクロへキシルフェ
ニルケトンｇポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール　　　　０．０１ｇトリ
ニトロフルオレン　　　　　　　　０．０１ｇこの感光
体についてクロスカットセロテープ剥離テストを行った
ところ光導電性層の剥離は全くみられなかった。

また、光導電性層の表面は鉛筆硬度７Ｈて、スチールウ
ールてこずっても傷付きはなかった。

［発明の効果］この発明の硬化性ホスファゼン化合物の硬化層により形
成された保護層によれば、保護膜の剥離、傷付きかなく
、保護層が薄くても強度に優れ、保護層の歪みかないな
ど優れた電子写真特性を有するという効果が得られる。

従って、硬化性ホスファゼン化合物の硬化層により形成
された保護層を有する電子写真感光体は、耐熱性、耐湿
性、などの点において耐久性か良好であり、安定画質か
長期安定して得られる。

また、光導電性層を硬化性ホスファゼン化合物の硬化体
て形成すると、光導電性層の剥離、傷付きかなく、光導
電性層か薄くても強度に優れ、光導電性層の歪みかない
という効果か得られる。

従って、硬化性ホスファゼン化合物を使用して形成され
た光導電性層を有する電子写真感光体は、耐熱性、耐湿
性、などの点において耐久性か良好であり、安定画質か
長期に渡って安定して得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は硬化性ホスファゼン化合物の硬化なＵＶスペク
トルにより表した図である。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）導電性基体上に形成された光導電性層を被覆する
保護層の少なくとも表面が硬化性ホスファゼン化合物の
硬化体であることを特徴とする電子写真感光体。
（２）導電性支持体上に形成された光導電性層が、硬化
性ホスファゼン化合物を用いて形成されてなることを特
徴とする電子写真感光体。
（３）前記硬化性ホスファゼン化合物が次の一般式［
I ］で表わされる前記請求項１または請求項２の記載の
電子写真感光体。 −［ＮＰ（Ｘ）＿ａ（Ｙ）＿ｂ］＿ｎ−［ I ］（式中
、ａおよびｂは、ａ＞０、ｂ≧０であり、かつａ＋ｂ＝
２を満たす実数を示し、ｎ≧３であり、Ｘは硬化性基を
示し、Ｙは非硬化性基を示す。）
（４）導電性基体上に電荷発生層および電荷輸送層を積
層し、さらに最外層として、次の一般式［II］で示され
る硬化性ホスファゼン化合物の硬化体の保護膜を形成し
てなることを特徴とする電子写真感光体。 ▲数式、化学式、表等があります▼［II］（ただし、Ｒ＾１およびＲ＾２はそれぞれアクリロイル
基もしくはメタクリロイル基、またはアクリロイル基も
しくはメタクリロイル基を含有する基であり、Ｒ＾１お
よびＲ＾２は同一であっても相違していてもよく、Ｒ＾
３、Ｒ＾４、Ｒ＾５およびＲ＾６はそれぞれアクリロイ
ル基もしくはメタクリロイル基、アクリロイル基もしく
はメタクリロイル基を含有する基、アルキル基、置換基
を有するアルキル基、アルコキシ基、置換基を有するア
ルコキシ基、アリール基、置換基を有するアリール基、
アリールオキシ基、または置換基を有するアリールオキ
シ基であり、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５およびＲ＾６は互
いに同一であっても相違してもよい。。）