JPH0323997A - Icメモリカード - Google Patents
IcメモリカードInfo
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- JPH0323997A JPH0323997A JP1157830A JP15783089A JPH0323997A JP H0323997 A JPH0323997 A JP H0323997A JP 1157830 A JP1157830 A JP 1157830A JP 15783089 A JP15783089 A JP 15783089A JP H0323997 A JPH0323997 A JP H0323997A
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- Japan
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- conductor
- wiring board
- printed wiring
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- memory lsi
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- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 60
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims abstract description 59
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 5
- 238000003475 lamination Methods 0.000 abstract 2
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
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- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/50—Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、メモリLSIチップを多数個内蔵したICメ
モリカートに関するものである。
モリカートに関するものである。
従来の技術
ICメモリカードは、RAM,ROM等のメモJLS
Iを内蔵した携帯型情報記憶装置として多方面で利用さ
れている。近年その用途の拡大に伴ない記憶容量の大き
い、すなわち大容量のICメモリノノードが要望される
ようになってきた。そのため、大容量のICメモリカー
ドにおいては、多数個のメモリLSIを一定面積のプリ
ント配線板に高密度に実装しなければならない。
Iを内蔵した携帯型情報記憶装置として多方面で利用さ
れている。近年その用途の拡大に伴ない記憶容量の大き
い、すなわち大容量のICメモリノノードが要望される
ようになってきた。そのため、大容量のICメモリカー
ドにおいては、多数個のメモリLSIを一定面積のプリ
ント配線板に高密度に実装しなければならない。
ところで、メモリLSIの高密度な実装方法としては、
メモリLSIのペアチップの電極に、いわゆるフィルム
キャリア方式で導体リードを接合し、前記メモリLSI
チップをプリント配線板に平面的に並べて実装する方法
が効果的とされている。
メモリLSIのペアチップの電極に、いわゆるフィルム
キャリア方式で導体リードを接合し、前記メモリLSI
チップをプリント配線板に平面的に並べて実装する方法
が効果的とされている。
以下に従来のICメモリノノ一Fについて説明する。
第6図は従来のICメモリカートを示す部分断面図であ
る。第6図において、31はケースで、プリント配線板
32を収納している。プリント配線板32には導体配線
33が形成されている。34,34′はメモリLSIチ
ップで、ブリン1・配線板32上に平面的に配置されて
いる。メモリLSIヂップ34の電極35には、フィル
ムキャリア方式により、金属突起36を介して導体リー
ト37の一端部37aが接合されている。また導体りー
ド37の他端部37bは、プリント配線板32の導体配
線33に接合されている。
る。第6図において、31はケースで、プリント配線板
32を収納している。プリント配線板32には導体配線
33が形成されている。34,34′はメモリLSIチ
ップで、ブリン1・配線板32上に平面的に配置されて
いる。メモリLSIヂップ34の電極35には、フィル
ムキャリア方式により、金属突起36を介して導体リー
ト37の一端部37aが接合されている。また導体りー
ド37の他端部37bは、プリント配線板32の導体配
線33に接合されている。
以上のようにヘアチップ34.34’をプリント配線板
32に実装しているので、プリン1・配線板でのメモリ
LSIの占有面積は、比較的小さいものである。
32に実装しているので、プリン1・配線板でのメモリ
LSIの占有面積は、比較的小さいものである。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記従来の横戒では、メモリL/SIチッ
プがプリント配線板に平面的に配置されているので、メ
モリL’SIチップの数が多くなると、その占有面積も
拡大する。従って、一定面積を有するプリント配線板に
対し、実装できるメモリLSIチップの数には自ずと限
界があった。また、メモリLSIチップの数が増えると
、メモリLSIヂップの電極に接合された導体り−1・
間を電気的に接続するブリンl・配線板の導体配線の距
離が長くなり、従って、配線スペースが増えるので、プ
リン1・配線板がコスト高になるとともに、信号の伝達
速度も遅くなるという課題を有していノこ 。
プがプリント配線板に平面的に配置されているので、メ
モリL’SIチップの数が多くなると、その占有面積も
拡大する。従って、一定面積を有するプリント配線板に
対し、実装できるメモリLSIチップの数には自ずと限
界があった。また、メモリLSIチップの数が増えると
、メモリLSIヂップの電極に接合された導体り−1・
間を電気的に接続するブリンl・配線板の導体配線の距
離が長くなり、従って、配線スペースが増えるので、プ
リン1・配線板がコスト高になるとともに、信号の伝達
速度も遅くなるという課題を有していノこ 。
本発明は上記従来の課題を解決するもので、メモリLS
Tの実装密度を飛躍的に高め、一定の面積を有するプリ
ント配線板に、多数のメモリLSIチップを搭載して大
容量化を実現するとともに、配線スペースを減少してプ
リン1・配線板のコストダウンを図り、信号伝達の高速
化をも実現できる!’Cメモリノノードを提供すること
を目的としている。
Tの実装密度を飛躍的に高め、一定の面積を有するプリ
ント配線板に、多数のメモリLSIチップを搭載して大
容量化を実現するとともに、配線スペースを減少してプ
リン1・配線板のコストダウンを図り、信号伝達の高速
化をも実現できる!’Cメモリノノードを提供すること
を目的としている。
課題を解決するための手段
この目的を達成するために、本発明のICメモノカ−1
・は、導体り−1・の一端部をメモリLSIチップの電
極に接合し、プリン1・配線板にメモリLSIチップを
その電極配列が同−になる方向に複数個積層するととも
に、積層した各メモリLSIチップの共通電極に一端を
接続した導体りーl・の他端部を積層方向に重ね合わせ
てプリン1・配線板の導体配線に接合し、非共通電極に
接合された導体リードの他端部は積層階数ごとに他とは
異なった位置に引出し、プリント配線板の各階数ごとに
対応するそれぞれの異なった導体配線に接合した構成を
有している。
・は、導体り−1・の一端部をメモリLSIチップの電
極に接合し、プリン1・配線板にメモリLSIチップを
その電極配列が同−になる方向に複数個積層するととも
に、積層した各メモリLSIチップの共通電極に一端を
接続した導体りーl・の他端部を積層方向に重ね合わせ
てプリン1・配線板の導体配線に接合し、非共通電極に
接合された導体リードの他端部は積層階数ごとに他とは
異なった位置に引出し、プリント配線板の各階数ごとに
対応するそれぞれの異なった導体配線に接合した構成を
有している。
作用
この構戒によって、メモリLSIチップの占有面積が大
幅に縮小されるので、限られた面積のプリント配線板に
多数のメモリLSIチップを搭載して大容量化を実現で
きるとともに、積層した各チップ間の共通電極の導体リ
ードどうしを直接接合しているので、配線スペースが減
少し、プリン1・配、線板のコス1・ダウンと信号伝達
の高速化とが実現できる。
幅に縮小されるので、限られた面積のプリント配線板に
多数のメモリLSIチップを搭載して大容量化を実現で
きるとともに、積層した各チップ間の共通電極の導体リ
ードどうしを直接接合しているので、配線スペースが減
少し、プリン1・配、線板のコス1・ダウンと信号伝達
の高速化とが実現できる。
実施例
以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
明する。
第1図は本発明の一実施例にお番づるICメモリカーl
・の一部を切欠いた斜視図てあり、第2図は同しく部分
断面図であり、第3図は同しく電気回路のブロック図で
あり、第4図は積層状態を示す部分斜視図である。第1
図から第4図において、1はケースてプリン1・配線板
2を収納している。
・の一部を切欠いた斜視図てあり、第2図は同しく部分
断面図であり、第3図は同しく電気回路のブロック図で
あり、第4図は積層状態を示す部分斜視図である。第1
図から第4図において、1はケースてプリン1・配線板
2を収納している。
プリン1・配線板2は、メモリ回路部3,コントロール
回路部4,外部インターフェイス回路部5から構成され
ている。メモリ回路部3は、複数のメモリLSIチップ
6て描成され、メモリLSIチップを2層に積層したも
のを多数組プリント配線板2に搭載している。コントロ
ール回路部4は、デコーダIC7等で構成され、アドレ
ス信号によるチップ選択,電源切換えによるバックアッ
プコンl・ロール等を行う。外部インターフェイス回路
部5は、接続コネクタ8等て構威され、接続コネクタ8
は、他の機器や装置に取イ」けられた接続部(図示せず
)に結合され、プリント配線板2に対して電源の供給と
信号の授受を行う。9はメモリ回路部3をバックアップ
する電池で、ボタン型リチウム電池等を使用し、ケース
1内に収納されている。電池9は、メモリ回路部3に対
して接5 6 続=Iネクタ8から電源が供給されない時に、バ・ンク
アップ電源を供給する。
回路部4,外部インターフェイス回路部5から構成され
ている。メモリ回路部3は、複数のメモリLSIチップ
6て描成され、メモリLSIチップを2層に積層したも
のを多数組プリント配線板2に搭載している。コントロ
ール回路部4は、デコーダIC7等で構成され、アドレ
ス信号によるチップ選択,電源切換えによるバックアッ
プコンl・ロール等を行う。外部インターフェイス回路
部5は、接続コネクタ8等て構威され、接続コネクタ8
は、他の機器や装置に取イ」けられた接続部(図示せず
)に結合され、プリント配線板2に対して電源の供給と
信号の授受を行う。9はメモリ回路部3をバックアップ
する電池で、ボタン型リチウム電池等を使用し、ケース
1内に収納されている。電池9は、メモリ回路部3に対
して接5 6 続=Iネクタ8から電源が供給されない時に、バ・ンク
アップ電源を供給する。
次に、メモリLSIチップ6の積層状態について述へる
。
。
メモリLSIチップ6はイ也のメモリLSIチップ6′
の上に、それぞれの電極配列か同一となる方向に積層さ
れている。10,10゛はメモリLSIヂップ6,6゛
のそれぞれの電極で、金属突起11.11’を介して導
体リート12,1.2の一端部12a,12’aが接続
されている。13,13′はメモリLSIチップ6,6
゛の弛の電極て、それぞれ金属突起14.14’を介し
て導体ノー1”15.15’の一端部1.5a,15’
aが接合されている。そして電極10.10’はメモJ
L S Iチップ6,6′の共通電極であるので、導
体リード12゛の他端部12゛bの上に導体リ− 1’
1 2の他端部12bを重ねて、プリント配線板2の
導体配線16に接合されている。しかし、電極13.1
3’はメモリLSIチップ6,6の非共通電極なので、
その導体り−F15,15’は絶縁フィルム20.20
’上で他端部15b,15′bがそれそれ異なった位置
に引出されており、他端部15bはプリン1・配線板2
の導体配線17に接合され、他端部15′bはプリンl
・配線板2の導体配線18に接合されている。このよう
に非共通電極の導体リート15,15゜の他端部15b
,15′bはプリント配線板2のそれそれ対応ずる導体
配線17,1.8に接合され、相互に分離される。
の上に、それぞれの電極配列か同一となる方向に積層さ
れている。10,10゛はメモリLSIヂップ6,6゛
のそれぞれの電極で、金属突起11.11’を介して導
体リート12,1.2の一端部12a,12’aが接続
されている。13,13′はメモリLSIチップ6,6
゛の弛の電極て、それぞれ金属突起14.14’を介し
て導体ノー1”15.15’の一端部1.5a,15’
aが接合されている。そして電極10.10’はメモJ
L S Iチップ6,6′の共通電極であるので、導
体リード12゛の他端部12゛bの上に導体リ− 1’
1 2の他端部12bを重ねて、プリント配線板2の
導体配線16に接合されている。しかし、電極13.1
3’はメモリLSIチップ6,6の非共通電極なので、
その導体り−F15,15’は絶縁フィルム20.20
’上で他端部15b,15′bがそれそれ異なった位置
に引出されており、他端部15bはプリン1・配線板2
の導体配線17に接合され、他端部15′bはプリンl
・配線板2の導体配線18に接合されている。このよう
に非共通電極の導体リート15,15゜の他端部15b
,15′bはプリント配線板2のそれそれ対応ずる導体
配線17,1.8に接合され、相互に分離される。
1つは樹脂等で構成された絶縁材であり、電極10,1
0’,13.13’を保護するとともに、メモJLS
Iヂップ6,6゛のヂップエツジと導体リードの一端部
12a,12’a,15a,15’aが直接接触するの
を防ぎ、また、メモリLSIチップ6の裏面と導体リー
ド12’,15゜の一端部12’a,15’aが直接接
触するのを防ぎ、20は絶縁フィルムで、導体リード1
2.15を支持することにより導体り−1−”12.1
5の機械的強度を高める。
0’,13.13’を保護するとともに、メモJLS
Iヂップ6,6゛のヂップエツジと導体リードの一端部
12a,12’a,15a,15’aが直接接触するの
を防ぎ、また、メモリLSIチップ6の裏面と導体リー
ド12’,15゜の一端部12’a,15’aが直接接
触するのを防ぎ、20は絶縁フィルムで、導体リード1
2.15を支持することにより導体り−1−”12.1
5の機械的強度を高める。
以上のように本実施例によれば、メモリLSIチップ6
,6′を2個積層してプリント配線板2に実装jること
によって、メモリLSIチップ6,6 の占有面積を半
減ずることができ、一定面積のブリン1・配線板2に多
数のメモリLS+チップを実装することができるので、
大容量のICメモリカートを実現できる。
,6′を2個積層してプリント配線板2に実装jること
によって、メモリLSIチップ6,6 の占有面積を半
減ずることができ、一定面積のブリン1・配線板2に多
数のメモリLS+チップを実装することができるので、
大容量のICメモリカートを実現できる。
さらに積層したメモリLSIヂップ6,6゛の共通電極
10.10’の導体り−1・の地端部12b,12′b
を重ね合わせてプリン1・配線板2の導体配線16に接
合しているので、配線スペースが小さくなり、プリント
配線板2のコストダウンが図れるとともに、信号伝達速
度の速いICメモリノノートを実現できる。
10.10’の導体り−1・の地端部12b,12′b
を重ね合わせてプリン1・配線板2の導体配線16に接
合しているので、配線スペースが小さくなり、プリント
配線板2のコストダウンが図れるとともに、信号伝達速
度の速いICメモリノノートを実現できる。
なお、実施例では2層積層を示したが、3層,4層と積
層階数を増加させれば、さらにメモリLSIヂップの占
有面積が小さくなり、ICメモリノ7 −ドの大容量化
が可能となる。
層階数を増加させれば、さらにメモリLSIヂップの占
有面積が小さくなり、ICメモリノ7 −ドの大容量化
が可能となる。
発明の効果
このように本発明は、電極に導体り−1・の一端部が接
合されたメモリLSIチップを、その電極配列が同一と
なる方向に複数個積層するとともに、メモリLSIチッ
プの共通電極の導体リードの他端部を、積層方向に重ね
合わせてプリント配線板の導体配線に接合し、非共通電
極の導体リードの他端部を積層階数ごとに他とは異なっ
た位置に引出し、プリン1・配線板の各階数ごとに対応
ずるそれぞれ異なった導体配線に接合したことにより、
一定面積のプリント配線板に多数のメモリLSIチップ
を搭載できるので、大容量のICメモリカードを実現て
きる。さらに、プリント配線板における配線スペースが
小さくなるため、プリント配線板のコスl・ダウンを図
れるとともに、信号の伝達速度も速くなり、高速で情報
処理することができる、優れたICメモリカードを実現
できるものである。
合されたメモリLSIチップを、その電極配列が同一と
なる方向に複数個積層するとともに、メモリLSIチッ
プの共通電極の導体リードの他端部を、積層方向に重ね
合わせてプリント配線板の導体配線に接合し、非共通電
極の導体リードの他端部を積層階数ごとに他とは異なっ
た位置に引出し、プリン1・配線板の各階数ごとに対応
ずるそれぞれ異なった導体配線に接合したことにより、
一定面積のプリント配線板に多数のメモリLSIチップ
を搭載できるので、大容量のICメモリカードを実現て
きる。さらに、プリント配線板における配線スペースが
小さくなるため、プリント配線板のコスl・ダウンを図
れるとともに、信号の伝達速度も速くなり、高速で情報
処理することができる、優れたICメモリカードを実現
できるものである。
第1図は本発明の一実施例におけるICメモリノ1−ド
の一部を切欠いた斜視図、第2図はその部分断面図、第
3図は同しく電気回路のブロック図、第4図は同しく積
層状態を示す部分斜視図、第5図は従来のICメモリノ
ノートにおける部分断9 1 0 面図である。 2・・・・・・プリン1〜配線板、6,6゛・・・・・
・メモリI.SIチップ、1 0・・・・・・電極、1
2・・・・・・導体リード、1. 2 a・・・・・・
導体リードの一端部、12b・・・・・・導体り−1・
の他端部、L3・・・・・・電極、15・・・・・・導
体り−1・、15a・・・・・・導体リードの一端部、
15b,15c・・・・・・導体リートの他端部、16
,17,1.8・・・・・・導体配線。
の一部を切欠いた斜視図、第2図はその部分断面図、第
3図は同しく電気回路のブロック図、第4図は同しく積
層状態を示す部分斜視図、第5図は従来のICメモリノ
ノートにおける部分断9 1 0 面図である。 2・・・・・・プリン1〜配線板、6,6゛・・・・・
・メモリI.SIチップ、1 0・・・・・・電極、1
2・・・・・・導体リード、1. 2 a・・・・・・
導体リードの一端部、12b・・・・・・導体り−1・
の他端部、L3・・・・・・電極、15・・・・・・導
体り−1・、15a・・・・・・導体リードの一端部、
15b,15c・・・・・・導体リートの他端部、16
,17,1.8・・・・・・導体配線。
Claims (1)
- プリント配線板に、メモリLSIチップが複数個積層
され、前記積層された各メモリLSIチップの電極には
導体リードの一端部が接合され前記導体リードのうち前
記メモリLSIチップの共通電極に接合されたリードの
他端部は、重ね合わされて前記プリント配線板の導体配
線に接合され、前記メモリLSIチップの非共通電極に
接合された前記導体リードの他端部は積層階数ごとに他
とは異なった位置に引出し、前記プリント配線板の各階
数ごとに対応するそれぞれ異なった導体配線に接合した
ことを特徴とするICメモリカード。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1157830A JPH0323997A (ja) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | Icメモリカード |
EP19890907813 EP0379592A4 (en) | 1988-06-29 | 1989-06-28 | Ic memory card |
PCT/JP1989/000643 WO1990000117A1 (en) | 1988-06-29 | 1989-06-28 | Ic memory card |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1157830A JPH0323997A (ja) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | Icメモリカード |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0323997A true JPH0323997A (ja) | 1991-01-31 |
Family
ID=15658259
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1157830A Pending JPH0323997A (ja) | 1988-06-29 | 1989-06-20 | Icメモリカード |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0323997A (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6188382A (ja) * | 1984-10-03 | 1986-05-06 | Seiko Epson Corp | カ−ドの製造方法 |
JPS63317394A (ja) * | 1987-06-22 | 1988-12-26 | 大日本印刷株式会社 | Icカ−ド用icモジュ−ル |
JPS641269A (en) * | 1987-06-24 | 1989-01-05 | Hitachi Ltd | Semiconductor device |
-
1989
- 1989-06-20 JP JP1157830A patent/JPH0323997A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6188382A (ja) * | 1984-10-03 | 1986-05-06 | Seiko Epson Corp | カ−ドの製造方法 |
JPS63317394A (ja) * | 1987-06-22 | 1988-12-26 | 大日本印刷株式会社 | Icカ−ド用icモジュ−ル |
JPS641269A (en) * | 1987-06-24 | 1989-01-05 | Hitachi Ltd | Semiconductor device |
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