JPH03229257A - 感光性組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、平版印刷版、多色印刷の校正刷、オーバーヘ
ッドプロジェクタ−用図面、更には半導体素子の集積回
路を製造する際に微細なレジストパターンを形成するこ
とが可能なポジ型感光性組成物に関する。

［従来の技術］ ０−ナフトキノンジアジド化合物とノボラック型フェノ
ール樹脂からなる感光性組成物は、非常に優れた感光性
組成物として平版印Ｕ＆ｌ１版の製造に用いられてきた
。

しかし主体として用いられるノボラック型フェノール樹
脂の性質上、基板に対する密着性が悪いこと、皮膜がも
ろいこと、塗布性が劣ること、耐摩耗性が劣り、平版印
刷版に用いた時の耐刷力が十分でないこと等の問題点が
ある。

一方、半導体素子、磁気バブルメモリ、集積回路等の電
子部品を製造するためのパターン形成法としては、従来
より、紫外線又は可視光線に感光するフォトレジストを
利用する方法が幅広く実用に供されている。フォトレジ
ストには、光照射により被照射部が現像液に不溶化する
ネガ型と、反対に可溶化するポジ型とがあるが、ネガ型
はポジ型に比べて感度が良く、湿式エツチングに必要な
基板との接着性および耐薬品性にも優れていることから
、近年までフォトレジストの主流を占めていた。しかし
、半導体素子等の高密度化、高集積化に伴ない、パター
ンの線幅や間隔が極めて小さくなり、また、基板のエツ
チングにはドライエツチングが採用されるようになった
ことから、フォトレジストには高解像度および高ドライ
エツチング耐性が望まれるようになり、現在ではポジ型
フォトレジストが大部分を占めるようになった。特に、
ポジ型フォトレジストの中でも、感度、解像度、ドライ
エツチング耐性に優れることから、例えばジェー・シー
・ストリエータ著、コダソク・マイクロエレクトロニク
ス・セミナー・プロシーデインゲス・第１１６頁（１９
７６）　　（Ｊ、Ｃ。

５ｔｒｉｅｔｅｒ、　Ｋｏｄａｋ　Ｍｉｃｒｏｅｌｅｃ
ｔｒｏｎｉｃｓ　ＳｅｍｉｎａｒＰｒｏｃｅｅｄｉｎｇ
ｓ　、　　１１６　（１９７６）　）等に挙げられる、
アルカリ可溶性のノボラック樹脂をベースにしたアルカ
リ現像型のポジ型フォトレジストが現行プロセスの主流
となっている。その他にもフェノール樹脂とオニウム塩
を組合わせた感光性組成物（ジャーナル・オブ・エレク
トロケミカル・ソサエティ第１３５巻第２３２２頁（１
９８８年）ＣＪ、　ＥＩｅｃｔｒｏｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ
、、　Ｖｏｌ、　　１３５　Ｐ、　２３２２（１９８８
））等多くのポジ型フォトレジストが報告されている。

しかしながら、近年電子機器の多機能化、高度化に伴な
い、更に高密度、ならびに高集積化を図るべくパターン
の微細化が強く要請されている。

即ち、集積回路の横方向の寸法の縮小に比べてその縦方
向の寸法はあまり縮小されていかないために、レジスト
パターンの幅に対する高さの比は大きくならざるを得な
かった。このため、複雑な段差構造を有するウェハー上
でレジストパターンの寸法変化を押さえていくことは、
パターンの微細化が進むにつれてより困難になってきた
。更に、各種の露光方式においても、最小寸法の縮小に
伴ない問題が生じてきている。例えば、光による露光で
は、基板の段差に基づく反射光の干渉作用が、寸法精度
に大きな影響を与えるようになり、一方電子ビーム露光
においては、電子の後方散乱によって生ずる近接効果に
より、微細なレジストパターンの高さと幅の比を大きく
することができなくなった。

これらの多くの問題は多層レジストシステムを用いるこ
とにより解消されることが見出された。

多層レジストシステムについては、ソリッドステート・
テクノロジー、７４　　（１９８１）［５ｏｌｉｄ　５
ｔａｔｅ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　、　７４　　（１９
８１）　］に概説が掲載されているが、この他にもこの
システムに関する多くの研究が発表されている。−船釣
に多層レジスト法には３層レジスト法と２層レジスト法
がある。３層レジスト法は、段差基板上に有機平坦化膜
を塗布し、その上に、無機中間層、レジストと重ね、レ
ジストをバターニングした後、これをマスクとして無機
中間層をドライエツチングし、さらに、無機中間層をマ
スクとして有機平坦化膜をＯ□ＲＩＢ（リアクティブイ
オンエツチング）によりパターニングする方法である。

この方法は、基本的には、従来からの技術が使用できる
ために、早くから検討が開始されたが、工程が非常に複
雑である。あるいは有機膜、無機膜、有機膜と三層物性
の異なるものが重なるために中間層にクラックやピンホ
ールが発生しやすいといったことが問題点になっている
。この３層レジスト法に対して、２層レジスト法では、
３層レジスト法でのレジストと無機中間層の両方の性質
を兼ね備えたレジスト、すなわち、酸素プラズマ耐性の
あるレジストを用いるために、クランクやピンホールの
発生が抑えられ、また、３層法から２層になるので工程
が簡略化される。しかし、３層レジスト法では、上層レ
ジストに従来のレジストが使用できるのに対して、２層
レジスト法では、新たに酸素プラズマ耐性のあるレジス
トを開発しなければならないという課題があった。

以上の背景から、２層レジスト法等の上層レジストとし
て使用できる酸素プラズマ耐性に優れた、高感度、高解
像度のポジ型フォトレジスト、特に、現行プロセスを変
えることなく使用できるアルカリ現像方式のレジストの
開発が望まれていた。

これに対し、従来のオルトキノンジアジド感光物に、ア
ルカリ可溶性を付与したポリシロキサン又は、ポリシル
メチレン等のシリコンポリマーを組合せた感光性組成物
、例えば特開昭６１１４４６３９号、同６１−２５６３
４７号、同６２−１５９１４１号、同６２−１９１８４
９号、同６２−２２０９４９号、同６２−２２９１３６
号、同６３−９０５３４号、同６３−９１６５４号、並
びに米国特許第４７２２８８１号記載の感光性組成物が
提示されている。

しかしながら、これらのシリコンポリマーは何れもフェ
ノール性ＯＨ基又はシラノール基（≧５ｉ−ＯＨ）導入
により、アルカリ可溶性を付与するもので、フェノール
性ＯＨ基導入によりアルカリ可溶性を付与する場合は、
製造が著しく困難となり、またシラノール基によりアル
カリ可溶性を付与する場合は経時安定性が必ずしも良好
ではない、という問題点があった。

一方、アルカリ可溶性の樹脂とオニウム塩を組合せたポ
ジ型レジストにおいては、アルカリ可溶性の樹脂として
フェノール樹脂を用いた場合は０２ＲＩＢ特性が著しく
劣り、特開昭６２−１３６６３８号記載のポリシロキサ
ン／カーボネートのブロック共重合体を用いた場合は製
造が著しく困難になるという問題点があった。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明の目的は、上記問題点が解決された新規なポジ型
感光性組成物を提供することである。即ち基板との密着
性、塗布性に優れた新規な平版印刷版用ポジ型感光性組
成物を提供することである。

本発明の別の目的は、酸素プラズマ耐性に優れた、アル
カリ現像方式によるポジ型感光性組成物を提供すること
である。

更に本発明の別の目的は製造が簡便・で、容易に取得で
きる新規なポジ型感光性組成物を提供することである。

［課題を解決するための手段］ 本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討を加えた結
果、以下に述べる新規ポジ型感光性組成物を用いること
で上記目的が達成されることを見い出した。即ち本発明
は（ａ）一般式（Ｉ）、（ｎ）、（Ｉ［［）または（Ｉ
Ｖ）で表される化合物（以下（Ａ）という）と、一般式
（Ｖ）、（Ｖｌ）、（■）または（■）で表される化合
物（以下（Ｂ）という）との環化熱付加反応生成物から
由来されるシロキサン単位を少なくとも１モル％含有す
るポリシロキサン化合物と、（ｂ）一般式（ＩＸ）また
は（Ｘ）で表されるオニウム塩化合物とを含有する感光
性組成物を提供するものである。

Ｑ　−Ｐ　１−　ｃ　＝　ｃ　−Ｒ９ （■） 式中Ｒ１〜Ｒ５は同一でも相異していても良く、水素原
子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換ア
リール基、シリル基、置換シリル基、シロキシ基または
置換シロキシ基を示す。具体的には、アルキル基として
は直鎖、分枝または環状のものであり、好ましくは炭素
原子数が約１ないし約ｌＯのものである。さらに具体的
には、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、イソプロピル
基、イソブチル基、ｔｅｒ　ｔ−ブチル基、２−エチル
ヘキシル基、シクロヘキシル基などが含まれる。

また、置換アルキル基は、上記のようなアルキル基に例
えば塩素原子のようなハロゲン原子、例えばメトキシ基
のような炭素原子数１〜６個のアルコキシ基、例えばフ
ェニル基のようなアリール基、例えばフェノキシ基のよ
うなアリールオキシ基、ニトロ基、シアノ基などの置換
したものが含まれ、具体的にはモノクロロメチル基、ジ
クロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基
、２クロロエチル基、２−ブロモエチル基、２−メトキ
シエチル基、２−エトキシエチル基、フェニルメチル基
、ナフチルメチル基、フェノキシメチル基、２−ニトロ
エチル基、２−シアノエチル基などが挙げられる。また
、アリール基は単環あるいは２環のものが好ましく、例
えばフェニル基、αナフチル基、β−ナフチル基などが
挙げられる。

置換アリール基は上記のようなアリール基に、例えばメ
チル基、エチル基などの炭素原子数１〜６個のアルキル
基、例えばメトキシ基、エトキシ基などの炭素原子数１
〜６個のアルコキシ基、例えば塩素原子などのハロゲン
原子、ニトロ基、フェニル基、カルボキシ基、ヒドロキ
シ基、アミド基、イミド基、シアン基などが置換したも
のが含まれ、１的には４−クロロフェニル基、２−クロ
ロフェニル＆、４−ブロモフェニル基、４−ニトロフェ
ニル基、４−ヒドロキシフェニル基、４−フェニルフェ
ニル基、４−メチルフェニルＭ、ｌ−メチルフェニル基
、４−エチルフェニル基、４−メトキシフェニル基、２
−メトキシフェニル基、４エトキシフエニル基、２−カ
ルボキシフェニル基、４−シアノフェニル基、４−メチ
ル−１−ナフチル基、４−クロロ−１−ナフチル基、５
−ニトロ−１−ナフチル基、５−ヒドロキシ−１−ナフ
チル基、６−クロロ−２−ナフチル基、４−ブロモ−２
−ナフチル基、５−ヒドロキシ−２−ナフチル基などが
あげられる。シリル基、置換シリル基としては例えばト
リアルキルシリル基、トリアリールシリル基などのよう
なアルキル、アリール置換シリル基であり、このような
アルキル、アリール基としては上記に示したものが挙げ
られる。

また、シロキシ基もしくは置換シロキシ基である場合に
は、下記に示すように、これらの基が隣接する構造単位
のシロキシ基もしくは置換シロキシ基と結合した構造、
または、他の分子中のシロキシ基もしくは置換シロキシ
基と結合した構造などの二次元もしくは三次元的構造の
ものであってもよい。

Ｒ６は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、了り−
ル基、置換アリール基、 アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換了り−
ル基の具体例はそれぞれＲＩ、、　ＲＳの具体例と同様
のものが挙げられる。

Ｒ７−Ｒ９は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、
アリール基、置換アリール基、アルコキシ基、置換アル
コキシ基、シアン基、ニトロ基、ＣＬ−−ＣＯＯ−−０
ＣＯ−−ＣＯＮＲＩｆｆＮＲ１３ＣＯ−−ＳＯ□−また
は−５０３−を含んでいてもよい。このうちアルキル基
、置換アルキル基で好ましいのは、それぞれ炭素数が１
〜１０のものであり、アリール基、置換アリール基につ
いてはそれぞれ炭素数６〜１４のもので、その具体例と
としてはそれぞれＲ１−Ｒ５の具体例と同様のものが挙
げられる。

Ｒ１３は水素原子、アルキル基、置換フルキル基、アリ
ール基または置換アリール基を示し、好ましくは水素原
子、炭素数が１〜１０のアルキル基、炭素数が１〜１０
の置換アルキル基、炭素数が６〜１４のアリール基、炭
素数が６〜１４の置換了り−ル基であり、アルキル基、
置換アルキル基、了り−ル基、置換アリール基の具体例
としてはそれぞれ［、ｐｓの具体例と同様のものが挙げ
られる。

Ｒ？とＲｅまたはＲ７とＰｌは結合して環を形成してし
ても良い。

Ｘ　＋、、　Ｘ　：ｌはヒドロキシ基または加水分解可
能な基であり、好ましくは塩素原子、臭素原子などのハ
ロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基な
どのような炭素原子数１〜１０個のアルコキシ基、フェ
ノキシ基などのような炭素原子数６〜１０個の了り一ロ
キシ基、アセトキシ基などのような炭素原子数１〜１０
個のアシルオキシ基、メチルアルドキシムなどのような
炭素原子数１〜６個のオキシム基、更には、アミド基、
ウレイド基、アミノ基などが含まれている。

ｐ　＋　、、　ｐ　３は単結合、アルキレン基、置換ア
ルキレン基、アリーレン基または置換アリーレン基を示
し、−ｏ−−−ｃｏ−−ｃｏｏ−−ｏｃ。

Ｃ０ＮＲ”−１ＮＲ”　Ｃｏ　　　　５Ｏｚ−１または
ＳＯ３−を含んでいてもよい。

具体的には、アルキレン基としては、直鎖、分枝、環状
のもの、より好ましくは直鎖のものであり、好ましくは
炭素原子数が１〜１０個のものであって、例えばメチレ
ン、エチレン、ブチレン、オクチレンなどの各基が含ま
れる。置換アルキレン基は、上記アルキレン基に、例え
ば塩素原子のようなハロゲン原子、炭素原子数１〜６個
のアルコキシ基、炭素原子数６〜１０個のアリーロキシ
基などが置換されたものである。アリーレン基は、好ま
しくは単環および２環のものであって、例えばフェニレ
ン基、ナフチレン基などが含まれる。

また置換アリーレン基は、上記のようなアリーレン基に
、例えばメチル基、エチル基などの炭素原子数１〜６個
のアルキル基、例えばメトキシ基、エトキシ基などの炭
素原子数１〜６個のアルコキシ基、例えば塩素原子など
のハロゲン原子などが置換したものが含まれる。具体的
にはクロロフェニレン基、ブロモフェニレン基、ニトロ
フェニレン基、フェニルフェニレン基、メチルフェニレ
ン基、エチルフェニレン基、メトキシフェニレン基、エ
トキシフェニレン基、シアノフェニレン基、メチルナフ
チレン基、クロロナフチレン基、ブロモナフチレン基、
ニトロナフチレン基などがあげられる。

Ｙは３価の芳香環を示し、好ましくは炭素数が６〜１４
の芳香環である。

ＱはｐＫａ力月２以下の酸基を示す。

具体的には、カルボン酸基、スルホン酸基、フェノール
性水酸基、イミド基、Ｎ−ヒドロキシイミド基、Ｎ−ス
ルホニルアミド基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニル
ウレタン基、Ｎ−スルホニルウレイド基あるいは活性メ
チレン基等を有する基であり、より具体的には −ＣＯ□）Ｉ、　　　　　−ＳＯ，Ｈ。

（ｍは１〜５の整数を示す） −ＳＯ□ＮＩＩＲ”　　　　　−Ｃ０ＮＨＣＯ−Ｒ”Ｃ
０Ｎ（ＯＨ）ＣＯ−Ｒ’３　　−Ｓｏ□ＮＨＣＯＮＨＲ
”−５Ｏ２ＮＨＣＯＯ−Ｒ”　　　−ＮＨＳＯ２Ｎｌ（
ＣＯ−Ｒ”Ｃ０ＣＩＩ　ｚｃｏ　　Ｒ’　” ）′ Ｃ０−Ｎ−Ｃ０−−Ｙ”２−（Ｐ’　−Ｑ）ｌｌを示す
。

Ｐｌ−Ω ｙ″＋２は（ｎ＋２）価の芳香環で好ましくは炭素数が
６〜１４個の芳香環を示す。ｎは１〜３の整数を示す。

以下Ｚ、の具体例を示す。

Ｃ０Ｎ）ＩＣＯ−−−ＣＯＮ（０１１）ＣＯＡｒ’、Ａ
ｒ”は同一でも異なっていても良り、置換または無置換
のアリール基を示す。

Ｒ”、Ｒ”及びＲ１４は同一でも異なっていても良く、
置換または無置換のアルキル基またはアリール基を示す
。

ｚ２−はＢＦ４−　、ＰＦｈ−、ＡｇＦ２−．５ｂＦ６
−１Ｃ１ＯａＣＦ３ＳＯ，−またはＲ１０ＳＯ，−を示
す。

また、ＲＩＧ、Ｒ”及びＲ′２のうちの２つ及び、Ａｒ
’ｓ　Ａｒ”はそれぞれ単結合または置換基を介して結
合していても良い。

以下に本発明の感光性組成物の成分について詳細に説明
する。

（ポリシロキサン　人　） 本発明のポリシロキサン化合物は（Ａ）と（Ｂ）との熱
付加反応、即ちＤｉｅｔｓ−Ａｌｄｅｒ反応で得られる
環状生成物（ＸＩ）〜（ＸＸＶＴ）から由来されるシロ
キサン単位を少なくとも１モル％、好ましくは３モル％
以上さらに好ましくは５モル％以上有するポリシロキサ
ンである。

（ＸＩ） （ＸＩ［［） （ＸＩＩ） （Ｘ　Ｉ”／） （ＸＶ） （Ｘ■） （ＸＶＴ） （Ｘ■） （ＸＸｎ） ｚ （Ｘ　Ｘ　ｍ） （ＸＸＩＶ） （ＸＸＶ） （ＸＸＶＩ） 本発明のポリシロキサン化合物の製造法としては、単独
または複数の（Ａ）を加水分解、またはアルコキシ化し
た後、縮合し、得られたポリシロキサンに単独または複
数のＣＢ）を熱付加させる方法と、単独または複数の（
Ａ）と単独または複数の（Ｂ）を熱付加して（Ｘ　Ｉ）
　〜（ＸＸＶＩ）を合成した後、加水分解、またはアル
コキシ化の後、縮合する方法があり、いずれの方法も簡
便である。

また、製造時に金属触媒を添加する必要がない。

本発明のポリシロキサンは（ＸＩ）〜（ＸＸＶＩ）に下
記（ＸＸ■）〜（ＸＸＸＩ）の単独または複数を共存さ
せ、縮合させることにより性能の改善をはかることがで
きる。

この場合は（Ａ）と（Ｂ）の環化熱付加反応生成物から
由来されるシロキサン単位が共縮合後のポリシロキサン
中に少なくとも１モル％含まれていなければならないが
、アルカリ可溶性の観点から３モル％以上が好ましく、
さらに好ましくは５モル％以上である。

ＩＳ ×４ ｐ＋４ Ｓ　ｉ　−Ｐ　’ Ｉ６ Ｓ　ｉ　−Ｘ　’ （Ｘ　Ｘ　ＩＸ） Ｒ１％ Ｒ宜７ Ｉ４ ｉ ｉ χ５ （Ｘ　Ｘ　Ｘ） Ｉ５ ×６ Ｒ１４〜Ｒ１？は水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基を示し具体的にはＲ６
と同様な例が挙げられる。

Ｘ４〜Ｘ７はヒドロキシル基あるいは、加水分解可能な
基を示し、具体的にはＸ１〜Ｘ３と同様な例が挙げられ
る。

Ｉ４は単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、アリ
ーレン基、置換アリーレン基であり、ｏ−−ｃｏ−−ｃ
ｏｏ−−ｏｃｏ− ＣＯＮＲ１３−−ＮＲ”ＣＯ−−３ｏ□−または−８０
３−を含んでいてもよい。具体的にはＰ１〜Ｐ３と同様
な例が挙げられる。

そのほか本発明のポリシロキサン化合物はＣＡ）とＣＢ
）の熱付加の際に下記（ＸＸＸＩｒ）あるいは（Ｘ　Ｘ
　Ｘ　ＩＩＩ）の化合物の単独または複数を共存させる
事によっても性能改善を図ることができる。

Ｄ’−ＣＴＣ−Ｄ”　　　　　（ＸＸＸＩ［＋）Ｄ’ｓ
Ｄ”は同一であっても異なっていてもよく、結合して環
を形成していてもよいが、いずれもｐｋａが１２以下の
酸性基を有しない基で、好ましくは水素原子、アルキル
基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ア
ルコキシ基、置換アルコキシ基、シリル基、置換シリル
基、シロキシ基、置換シロキシ基、シアノ基、ニトロ基
であり、さらに好ましくは水素原子、炭素数が１〜１０
のアルキル基、炭素数が１〜１０の置換アルキル基、炭
素数が６〜１４のアリール基、炭素数が６〜１４の置換
アリール基である。なお、これらは−ｏ−−ｃｏ−−ｃ
ｏｏ−−ｏｃｏ−ＣＯＮＲ”−１−ＮＲ１３ＣＯ−−３
ｏｌ−または−８０３−を含んでいてもよい。

この場合も（Ａ）と〔Ｂ〕の熱付加反応生成物に由来す
るシロキサン単位がポリシロキサン化合物中に少なくと
も１モル％以上台まれており好ましくは３モル％以上さ
らに好ましくは５モル％以上である。

本発明のポリシロキサン化合物の分子量は好ましくは重
量平均で５００以上、さらに好ましくは１．０００〜５
００，０００である。

本発明のポリシロキサン化合物を合成する際に溶媒を用
いても良い。溶媒としては例えばシクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール
、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレング
リコールモノエチルエーテル、２−メトキシエチルアセ
テート、１−メトキシ−２−プロパツール、１−メトキ
シ−２プロピルアセテート、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、ＮＮ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル
、γ−ブチロラクトン、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン等が挙げられる。これらの溶媒は単独あるいは２種以
上混合して用いられる。

本発明のポリシロキサン化合物は単独で用いても混合し
て用いても良い。感光性組成物中に含まれるこれらのポ
リシロキサン化合物の含有量は約５〜９５重量％であり
、好ましくは約２０〜８０重量％である。

以下本発明のポリシロキサン化合物の代表的な例を示す
。

０２Ｈ ５Ｏ３１（ ＣＯＯＣＨ２ＣＩｌｚＣＯＣＨｔＣＯＣＨｉ式中ｎは１
以上の整数、 ｙ＼ ２は０または１以上 の整数を示す。

（ヨードニウム　およびスルホニウム　）本発明に用い
られる、一般式（ＩＸ）で表わされるヨードニウム塩と
しては、例えば特開昭５０１５８６８０号公報、特開昭
５１−１００７１６号公報、特公昭５２−１４２７７号
公報記載の化合物が挙げられる。具体的には次に示す化
合物が含まれる。

（ＩＸ−１） （■ （■ （ＩＸ−４） （■ （■ （ＩＸ−７） （■ （■ （■ （■ （■ （ＩＸ−１３） （ＩＸ−１４） （ＩＸ−１５） （ＩＸ　−１６） （ＩＸ−１７） （ＩＸ−１８） （■ （■ ＋ （ＩＸ−２１） ＋ （■ 一般式 で示されるスルホニウム塩として は、 例えば特開昭５１−５６ ５号公報、持分 昭５２−１４２７８号公報、米国特許第４，４４２．１
９７号、西独特許第２．９０４，６２６号、米国特許第
４　、７６００１３号の各明細書中に記載の化合物が挙
げられる。

具体的には次に示す化合物が含まれる。

（Ｘ−１） （Ｘ−２） （Ｘ （Ｘ−４） （Ｘ （Ｘ （Ｘ−７） （Ｘ−８） （Ｘ−９） （Ｘ ｈ３ｔ、ｕ （Ｘ （Ｘ （Ｘ ■コし くＸ （Ｘ （Ｘ （Ｘ （Ｘ （Ｘ 一般式（ＩＸ）、（Ｘ）で示される上記化合物は公知で
あり、例えばＪ、　Ｗ、　Ｋｎａｐｃｚｋら著、Ｊ、八
ｍ。

Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、、第９１巻、第１４５頁（１９６
９年）Ａ、Ｌ、　Ｍａｙｃｏｃｋら著、Ｊ、　Ｏｒｇ、
　Ｃｈｅｍ、、第３５巻、第２５３２頁（１９７０年）
　、Ｅ、　Ｇｏｅｔｈａｌｓら著、Ｂｕｌｌ、　Ｓｏｃ
、　Ｃｈｅｍ、　Ｂｅ１ｇ、、第７３巻、第５４６頁、
（１９６４年）　、）１１Ｍ、Ｌｅｉｃｅｓｔｅｒ著、
Ｊ、八ｍ。

Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、、第５１巻、第３５８７頁（１９
２９年）　、Ｊ、Ｖ、　Ｃｒ１ｖｅｌｌｏら著、Ｊ、　
Ｐｏｉｙｍ、　Ｓｃｉ。

Ｐｏｌｙｍ、　Ｃｈｅｍ、　Ｅｄ、、第１８巻、第２６
７７頁（１９８０年）、米国特許筒２，８０７，６４８
号及び同第４，２４７，４７３号明細書、Ｆ、　Ｍ、　
Ｂｅｒｉｎｇｅｒら著、Ｊ。

Ａｍ、　Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、＋第７５巻、第２７０５
頁（１９５３年）、特開昭５３−１０１，３３１号公報
などに示された手順により製造することができる。

これらのヨードニウム塩またはスルホニウム塩の添加量
は全組成物の固形分に対し５〜７０重量％好ましくは１
０〜５０重量％の範囲である。

（アルカリ可溶性ポリマー） 本発明のポジ型感光性組成物は、本発明のポリシロキサ
ンに、更にアルカリ可溶性ポリマーを添加して使用して
もよい。

本発明に使用されるアルカリ可溶性ポリマーは、好まし
くはフェノール性水酸基、カルボン酸基、スルホン酸基
、イミド基、スルホンアミド基、Ｎスルホニルアミド基
、Ｎ−スルホニルウレタン基、活性メチレン基等のｐＫ
ａ　Ｉ　１以下の酸性−水素原子を有するポリマーであ
る。好適なアルカリ可溶性ポリマーとしては、ノボラッ
ク型フェノール樹脂、具体的にはフェノールホルムアル
デヒド樹脂、０−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、
ｍ−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、ｐ−タレゾー
ル−ホルムアルデヒド樹脂、キシレノール−ホルムアル
デヒド樹脂、またこれらの共縮合物などがある。更に特
開昭５０−１２５８０６号公報に記されている様に上記
のようなフェノール樹脂と共に、ｔ−ブチルフェノール
ホルムアルデヒド樹脂のような炭素数３〜８のアルキル
基で置換されたフルエノールまたはクレゾールとホルム
アルデヒドとの縮合物とを併用してもよい。またＮ−（
４ヒドロキシフエニル）メタクリルアミドのようなフェ
ノール性ヒドロキシ基含有千ツマ−を共重合成分とする
ポリマー、ｐ−ヒドロキシスチレン、０−ヒドロキシス
チレン、ｍ〜イソプロペニルフェノール、ｐ−イソプロ
ペニルフェノール等の単独又は共重合のポリマー、更に
またこれらのポリマーの部分エーテル化、部分エステル
化したポリマーも使用できる。

更に、アクリル酸、メタクリル酸等のカルボキシル基含
有上ツマ−を共重合成分とするポリマー特開昭６１−２
６７０４２号公報記載のカルボキシル基含有ポリビニル
アセクール樹脂、特開昭６３１２４０４７号公報記載の
カルボキシル基含有ポリウレタン樹脂も好適に使用され
る。

更にまた、Ｎ−（４−スルファモイルフェニル）メタク
リルアミド、Ｎ−フェニルスルホニルメタクリルアミド
、マレイミドを共重合成分とするポリマー、特開昭６３
−１２７２３７号公報記載の活性メチレン基含有ポリマ
ーも使用できる。

これらのアルカリ可溶性ポリマーは単一で使用できるが
、数種の混合物として使用してもよい。

感光性組成物中の好ましい添加量は用途により異なるが
、一般に怒光性組成物全固型分に対し、１〜９０重量％
、更に好ましくは５〜８０重量％の範囲である。

（その他の好ましい成分） 本発明のポジ型感光性組成物には必要に応じて、更に染
料、顔料、可塑剤及びヨードニウム塩又はスルホニウム
塩化合物の分解効率を増大させる化合物（所謂増感剤）
などを含有させることができる。

このような増感剤として、例えば一般式（ＩＸ）、（Ｘ
）で示される化合物に対しては米国特許第４．２５０，
０５３号、同第４，４４２．１９７号の明細書中に記載
された化合物を挙げることができる。具体的にはアント
ラセン、フェナンスレン、ペリレン、ピレン、クリセン
、１．２−ベンゾアントラセン、コロネン、１．６−ジ
フェニル−１，３，５−ヘキサトリエン、１．１，４．
４−テトラフェニル１．３−ブタジェン、１．２．３．
５−テトラフェニルヘアミン、２，５−ジフェニルチオ
フェン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、
フェノチアジン、１．３−ジフェニルピラゾリン、１．
３−ジフェニルイソベンゾフラン、キサントン、ベンゾ
フェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、アンスロン
、ニンヒドリン、９−フルオレノン、２，４．７−）リ
ニトロフルオレノン、インダノン、フエナンスラキノン
、テトラロン、７−メドキシー４−メチルクマリン、３
−ケト−ビス（７−ジニチルアミノクマリン）、ミヒラ
ーケトン、エチルミヒラーケトンなどが含まれる。

これらの増感剤と光又は放射線照射により分解する化合
物との割合は、モル比で０．０１／１〜２０／１であり
、好ましくは０．１　／　１〜５／１の範囲で使用され
る。

また着色剤として染料を用いることができるが、好適な
染料としては油溶性染料及び塩基性染料がある。具体的
には、オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１３
０、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ１オイ
ルブルーＢＯ３，オイルブルー＃６０３、オイルブラッ
クＢＹ、オイルブランクＢＳ、オイルプラックＴ−５０
５（以上、オリエント化学工業株式会社製）クリスタル
バイオレット（（ｊ４２５５５）、メチルハイオレソト
（ＣＩ４２５３５）、ローダミンＢ　（ＣＩ４５１７０
Ｂ）マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレン
ブルー（ＣＩ５２０１５）などをあげることができる。

本発明の組成物中には、更に感度を高めるために環状酸
無水物、その他のフィラーなどを加えることができる。

環状酸無水物としては米国特許筒４．１１５，１２８号
明細書に記載されているように無水フタル酸、テトラヒ
ドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３．６
−ニンドオキシーΔ４−テトラヒドロ無水フタル酸、テ
トラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水
マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク
酸、ピロメリット酸等がある。これらの環状酸無水物を
全組成物中の１から１５重量％含有させることによって
感度を最大３倍程度に高めることができる。

菖ＪＪＬＩ− 本発明のポジ型感光性組成物は、平版印刷版用の材料と
して使用する場合は上記各成分を溶解する溶媒に溶かし
て支持体上に塗布する。また半導体等のレジスト材料用
としては、゛溶媒に溶解したままで使用する。ここで使
用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘ
キサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、メタノール、エタノール、プロパツール、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２プロ
パツール、エチレングリコールモノエチルエーテル、２
−メトキシエチルアセテート、２エトキシエチルアセテ
ート、１−メトキシ−２プロピルアセテート、ジメトキ
シエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ、Ｎ−ジメチル
アセトチミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラ
メチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、Ｔ−ブチロラクトン、トルエン、
酢酸エチルなどがあり、これらの溶媒を単独あるいは混
合して使用する。そして上記成分中の濃度（添加物を含
む全固形分）は、２〜５０重世％である。また、塗布し
て使用する場合塗布量は用途により異なるが、例えば感
光性平版印刷版についていえば一般的に固形分として０
．５〜３．０ｇ／ｍ”が好ましい。塗布量が少くなるに
つれて感光性は大になるが、感光膜の物性は低下する。

（′　　１　の１１゛翫） 本発明のポジ型感光性組成物を用いて平版印刷版を製造
する場合、その支持体としては、例えば、紙、プラスチ
ックス（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレンなど）がラミネートされた紙、例えばアルミニウ
ム（アルミニウム合金も含む。）、亜鉛、銅などのよう
な金属の板、例えば二酢酸セルロース、三酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪
酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン
、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのよう
なプラスチックのフィルム、上記の如き金属がラミネー
ト、もしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィル
ムなどが含まれる。

これらの支持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著し
く安定であり、しかも安価であるので特に好ましい。更
に、特公昭４８−１８３２７号公報に記されているよう
なポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウ
ムシートが結合された複合体シートが好ましい。アルミ
ニウム板の表面はワイヤブラシグレイニング、で研磨粒
子のスラリーを注ぎながらナイロンブラシ粗面化するブ
ラシグレイニング、ボールグレイニング、溶体ホーニン
グによるグレイニング、パフダレイニング等の機械的方
法、ＨＦやＡｌＣＮ３、）ＩｃＪをエッチャントとする
ケミカルグレイニング、硝酸又は塩酸を電解液とする電
解グレイニングやこれらの粗面化法を複合させて行なっ
た複合グレイニングによって表面を砂目室てした後、必
要に応じて酸又はアルカリによりエツチング処理され、
引続き硫酸、リン酸、蓚酸、ホウ酸、クロム酸、スルフ
ァミン酸またはこれらの混酸中で直流又は交流電源にて
陽極酸化を行いアルミニウム表面に強固な不動態皮膜を
設けたものが好ましい。この様な不動態皮膜自体でアル
ミニウム表面は親水化されてしまうが、更に必要に応じ
て米国特許第２，７１４，０６６号明細書や米国特許第
３．１８Ｌ４６１号明細書に記載されている珪酸塩処理
（ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、米国特許第２
，９４６，６３８号明細書に記載されている弗化ジルコ
ニウム酸カリウム処理、米国特許第３，２０１，２４７
号明細書に記載されているホスホモリズデート処理、英
国特許筒１，１０８，５５９号明細書に記載されている
アルキルチタネート処理、独国特許第１，０９１，４３
３号明細書に記載されているポリアクリル酸処理、独国
特許第１，１３４，０９３号明細書や英国特許筒Ｌ２３
０，４４７号明細書に記載されているポリビニルホスホ
ン酸処理、特公昭４４６４０９号公報に記載されている
ホスホン酸処理、米国特許第３．３０７，９５１号明細
書に記載されているフィチン酸処理、特開昭５８−１６
８９３号や特開昭５８−１８２９１号の各公報に記載さ
れている親水性有機高分子化合物と２価の金属よりなる
複合処理、特開昭５９−１０１６５１号公報に記載され
ているスルホン酸基を有する水溶性重合体の下塗によっ
て親水化処理を行ったものは特に好ましい。その他の親
水化処理方法としては米国特許第３，６５８，６６２号
明細書に記載されているシリケート電着をもあげること
が出来る。

また砂目室て処理、陽極酸化後、封孔処理を施したもの
も好ましい。かかる封孔処理は熱水及び無機塩又は有機
塩を含む熱水溶液への浸漬並びに水蒸気浴などによって
行われる。

（活性　線　は放射線） 本発明に用いられる活性光線の光源としては例えば、水
銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカ
ルランプ、カーボンアーク灯などがある。放射線として
は電子線、ｘ　ｖＡ、イオンビーム、遠紫外線などがあ
る。好ましくはフォトレジスト用の光源として、ｇ線、
ｉ線、Ｄｅｅｐ　−Ｕ　Ｖ光が使用される。また高密度
エネルギービーム（レーザービーム又は電子線）による
走査露光も本発明に使用することができる。このような
レーザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザ−アル
ゴンレーザー、クリプトンイオンレーザ−ヘリウム・カ
ドミウムレーザー、ＫｒＦエキシマレーザ−などが挙げ
られる。

（現像液） 本発明のポジ型感光性組成物に対する現像液としては、
珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム
、第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第
ニリン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナ
トリウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤及
びテトラアルキルアンモニウム○Ｈ塩などのような有機
アルカリ剤の水溶液が適当であり、それらの濃度が０．
１〜１０重量％、好ましくは０．５〜５重景％になるよ
うに添加される。

また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性剤
やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもでき
る。

〔発明の効果〕

本発明のポジ型感光性組成物は、基板との密着性、塗布
性に優れ、又酸素プラズマ耐性に優れている。

〔実施例〕

以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明の内容がこれにより限定されるものではな
い。

介腹健上 （本発明のポリシロキサン（化合物例５０））マレイミ
ド７．３ｇ、２−）リメトキシシリル−１，３−ブタジ
ェン１３．１　ｇをジオキサン５００−に溶解し、１０
０℃で１時間反応させた。反応液にフェニルトリエトキ
シシラン１０２ｇを加えた後、蒸留水１０ｍ１と塩酸０
．２−を加えて３０分加熱濃縮した。

濃縮液を蒸留水２０００艷に攪拌しながら投入し、析出
した固体を減圧上乾燥することにより目的のポリシロキ
サン５１ｇを得た。

ゲルパーミェーションクロマトグラフィーによリ、この
ポリシロキサンの重量平均分子量を測定したところ１２
００であった。

金双桝太 （本発明のポリシロキサン（化合物例３９））アセチレ
ンジカルボン酸１１．４ｇ、２−トリメトキシシリル−
１，３−ブタジェン１７．４　ｇ、トリルトリメトジキ
シラン１２２．６　ｇをジオキサンを溶媒として合成例
１と同様な方法で反応させ、目的のポリシロキサン４３
ｇを得た。

ゲルパーミェーションクロマトグラフィーにより、この
ポリシロキサンの重量平均分子量を測定したところ８６
００であった。

今戊開１ （本発明のポリシロキサン（化合物例２５））Ｎ−（ｐ
−ヒドロキシフェニル）マレイミド１８．９ｇ、２−ト
リメトキシシリルーエ　３−ブタジェン１７．４　ｇを
エチレングリコールモノメチルエーテル５００　ｍｌを
溶媒として合成例１と同様な方法で反応させて褐色の目
的物１８ｇを得た。

ゲルパーミェーションクロマトグラフィーにより、この
ポリシロキサンの重量平均分子量を測定したところ３３
００であった。

金底±玉 （本発明のポリシロキサン（化合物例２７））Ｎ−（ｐ
−スルファモイル）マレイミド２５．２ｇ、２−１−リ
フトキシシリル１．３−ブタジエン１７、４　ｇをＮ、
Ｎ−ジメチルアセトアミド５００ｍ１を溶媒として合成
例１と同様な方法で反応させ、褐色の目的物３６ｇを得
た。

ゲルパーミェーションクロマトグラフィーにより、この
ポリシロキサンの重量平均分子量を測定したところ２３
００であった。

立辰汎ｉ （本発明のポリシロキサン（化合物例４４））Ｎ−（ｐ
−トルエンスルホニル）アクリルアミド２２．５　ｇ、
２−トリメトキシシリル−１，３ブタジエン１７．４　
ｇ、４−クロロフェニルトリメトキシシラン６４ｇをエ
チレングリコールモノメチルエーテル５００−を溶媒と
して合成例１と同様な方法で反応させて目的物４０ｇを
得た。

ゲルパーミェーションクロマトグラフィーにより、この
ポリシロキサンの重量平均分子量を測定したところ４７
００であった。

金威■五 （本発明のポリシロキサン（化合物例５７））アセトア
セトキシエチルアクリレート１０．０　ｇ、１−トリメ
トキシシリル−１，３−ブタジェン１７．４ｇ、Ｎ−フ
ェニルアクリルアミド８．４ｇをジオキサンを溶媒とし
て合成例１と同様な方法で反応させ、目的のポリシロキ
サン２５．１　ｇを得た。

ゲルパーミェーションクロマトグラフィーにより、この
ポリシロキサンの重量平均分子量を測定したところ１７
００であった。

尖膳開上二度 厚さ０．２４　＊＊の２８アルミニウム板を８０’Ｃに
保った第３燐酸ナトリウムの１０％水溶液に３分間浸漬
して脱脂し、ナイロンブラシで砂目室てした後アルミン
酸ナトリウムで約１０分間エツチングして、硫酸水素ナ
トリウム３％水溶液でデスマット処理を行った。このア
ルミニウム板を２０％硫酸中で電流密度２Ａ／ｄｍ”に
おいて２分間陽極酸化を行いアルミニウム板を作成した
。

次に下記感光液（Ａ）の本発明のポリシロキサン化合物
の種類を変えて、６種類の感光液（Ａ）−１〜（Ａ）−
６を調製し、この感光液を陽極酸化させたアルミニウム
板の上に塗布し、１００℃で２分間乾燥して、それぞれ
の感光性平版印刷版（Ａ〕−１〜（Ａ）−６を作成した
。このときの塗布量は全て乾燥重量で１．５ｇ／ｍ２で
あった。

また感光液（Ａ）−１〜（Ａ）−６に用いた本発明のポ
リシロキサン化合物は第１表に示す。

感光液［Ａｌ 感光性平版印刷版（Ａ、）−１〜〔Ａ）−６の感光層上
に濃度差０．１５のグレースケールを密着させ、２ｋｗ
の高圧水銀灯で５０ｃｍの距離から１分間露光を行った
。露光した感光性平版印刷版（Ａ）−１〜（Ａ）−６を
ＤＰ−４（商品名：富士写真フィルム■製）の８倍希釈
水溶液で２５℃において６０秒間浸漬現像したところ、
鮮明な青色のポジ画像が得られた。

第１表 ス１」（しΣ１２ シリコンウェハー上に実施例１〜６の感光液（Ａ）−１
〜［Ａ）−６からオイルブルーを除いて感光液（Ａ’）
−１〜（Ａ’）−６をスピナーで塗布し、ホットプレー
ト上で９０℃において２分間、乾燥させた。膜厚は１．
０μｍであった。

次に波長４３６ｎｍの単色光を用いた縮小投影露光袋Ｗ
（ステッパー）により露光し、テトラメチルアンモニウ
ムハイドロオキシドの２．４％水溶液で６０秒間現像す
ることによりレジストパターンを形成させた。その結果
、０．８μｍのライン＆スペースの良好なパターンが得
られた。

実施例１３ シリコンウェハー上に、ノボラック系市販レジストＨＰ
Ｒ−２０４＜富士ハントケミカル■製）をスピナーで塗
布し、２２０℃で１時間乾燥させて下層を形成した。下
層の膜厚は２．０　ｐ　ｍであった。

その上に下記感光液（Ｂ）をスピナーで塗布し、ホット
プレート上で９０℃において２分間乾燥させ、厚さ０．
５μｍの塗膜を形成させた。

感光液ＣＢ） 次に実施例７〜１２と同様に露光、現像を行なったとこ
ろ、０．８μｍのライン＆スペースの良好なパターンが
得られた。

その後、酸素ガスプラズマ（２，ＯＸ　１０−”　Ｔｏ
ｒｒＲＦ　Ｏ，０６Ｗ／ｅｌｌ”　）を用イテ酸素フラ
スマエソチングを行なった結果、レジストパターンに覆
われていない部分の下層レジストは完全に消失した。

即ち本レジストが２層レジスト法の上層レジストとして
使用できることが確認された。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （ａ）一般式（ I ）、（II）、（III）または（IV）で
   表される化合物と、一般式（Ｖ）、（VI）、（VII）ま
   たは（VIII）で表される化合物との環化熱付加反応生成
   物から由来されるシロキサン単位を少なくとも１モル％
   含有するポリシロキサン化合物と、 （ｂ）一般式（IX）または（Ｘ）で表わされるオニウム
   塩化合物とを含有する感光性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ）▲数式、化学
   式、表等があります▼（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） Ｑ−Ｐ＾１−Ｃ≡Ｃ−Ｒ＾９（VIII） ▲数式、化学式、表等があります▼（IX） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ） 式中Ｒ＾１〜Ｒ＾５は水素原子、アルキル基、置換アル
   キル基、アリール基、置換アリール基、シリル基、置換
   シリル基、シロキシ基、または置換シロキシ基を示す、
   Ｒ＾６は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリ
   ール基、置換アリール基、▲数式、化学式、表等があり
   ます▼または ▲数式、化学式、表等があります▼を示す。 Ｒ＾７〜Ｒ＾９は水素原子、アルキル基、置換アルキル
   基、アリール基、置換アリール基、アルコキシ基、置換
   アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、−Ｐ＾１−Ｑまた
   は▲数式、化学式、表等があります▼であり、−Ｏ−、
   −ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ＾１＾
   ３−、−ＮＲ＾１＾３ＣＯ−、−ＳＯ＿２−または−Ｓ
   Ｏ＿３−を含んでいてもよい。 Ｒ＾１＾３は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、
   アリール基、または置換アリール基を示す。 Ｒ＾７とＲ＾８あるいはＲ＾７とＰ＾１は結合して環を
   形成してしてもよい。 Ｘ＾１〜Ｘ＾３はヒドロキシ基または加水分解可能な基
   を示す。 Ｐ＾１〜Ｐ＾３は単結合、アルキレン基、置換アルキレ
   ン基、アリーレン基または置換アリーレン基を示し、−
   Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ
   ＾１＾３−、−ＮＲ＾１＾３ＣＯ−、−ＳＯ＿２−、ま
   たは−ＳＯ＿３−を含んでいてもよい。 Ｙは３価の芳香環を示す。 ＱはｐＫａが１２以下の酸基を示す。 Ｚ＿１は▲数式、化学式、表等があります▼、−ＣＯＮ
   ＨＣＯ−、−ＣＯＮ（ＯＨ）ＣＯ−、−ＣＯＮ（Ｐ＾１
   −Ｑ）ＣＯ−、▲数式、化学式、表等があります▼を示
   す。 Ｙ＾ｎ＾＋＾２は（ｎ＋２）価の芳香環を示す。ｎは１
   〜３の整数を示す。 Ａｒ＾１、Ａｒ＾２は同一でも相異していても良く、置
   換または無置換のアリール基を示す。 Ｒ＾１＾０、Ｒ＾１＾１及びＲ＾１＾２は同一でも相異
   していてもよく、置換または無置換のアルキル基、また
   はアリール基を示す。 Ｚ＿２＾−はＢＦ＿４＾−、ＰＦ＿６＾−、ＡｓＦ＿６
   ＾−、ＳｂＦ＿６＾−、ＣｌＯ＿４＾−、ＣＦ＿３ＳＯ
   ＿３＾−またはＲ＾１＾０ＳＯ＿３＾−を示す。 またＲ＾１＾０、Ｒ＾１＾１及びＲ＾１＾２のうちの２
   つ及びＡｒ＾１、Ａｒ＾２はそれぞれ単結合又は置換基
   を介して結合していてもよい。