JPH0322652B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0322652B2 JPH0322652B2 JP59189244A JP18924484A JPH0322652B2 JP H0322652 B2 JPH0322652 B2 JP H0322652B2 JP 59189244 A JP59189244 A JP 59189244A JP 18924484 A JP18924484 A JP 18924484A JP H0322652 B2 JPH0322652 B2 JP H0322652B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magnetic
- formula
- magnetic metal
- plasma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 60
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 10
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 claims description 8
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims description 7
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 claims description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 4
- -1 silane compound Chemical class 0.000 description 4
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 3
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-Trichlorotrifluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(Cl)Cl AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 5-[3-(trifluoromethyl)phenyl]-2h-tetrazole Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C2=NNN=N2)=C1 KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910000361 cobalt sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940044175 cobalt sulfate Drugs 0.000 description 2
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001379 sodium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- SIBIBHIFKSKVRR-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynecobalt Chemical compound [Co]#P SIBIBHIFKSKVRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynenickel Chemical compound [P].[Ni] OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- VIPCDVWYAADTGR-UHFFFAOYSA-N trimethyl(methylsilyl)silane Chemical compound C[SiH2][Si](C)(C)C VIPCDVWYAADTGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/726—Two or more protective coatings
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
- G11B5/7253—Fluorocarbon lubricant
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/90—Magnetic feature
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/3154—Of fluorinated addition polymer from unsaturated monomers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/3154—Of fluorinated addition polymer from unsaturated monomers
- Y10T428/31544—Addition polymer is perhalogenated
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
（産業上の利用分野）
本発明は改良された磁気記録媒体およびその製
造方法に関するものであり、特に磁性金属膜の表
面にシラン化合物のプラズマ重合保護膜およびそ
の上にフツ素樹脂潤滑膜を順次設けることによ
り、耐久性、走行性、耐候性（耐酸化性）を格段
に向上させた磁気記録媒体に関する。 （従来の技術） 従来よりコンピユーターの発展とともにその周
辺機器の一つとして磁気デイスク、フレキシブル
デイスク等の磁気記録媒体が発展してきた。近
年、高密度化記録の要請にともない、真空蒸着、
スパツタリング、イオンプレーテイング等のペー
パーデポジツシヨン法あるいは電解メツキ、無電
解メツキ等のメツキ法により形成される磁性金属
薄膜を磁気記録層とする非バインダー型の磁気記
録媒体が注目されており、実用化への努力が種々
行われている。 磁性金属薄膜をポリエステルフイルム等の基体
上に形成する方法としては、真空蒸気、スパツタ
リング、イオンプレーテイング等のペーパーデポ
ジツシヨン法と電解メツキ、無電解メツキ等のメ
ツキ法の２通りの方法がある。これらのうちベー
パーデポジツシヨン法は真空雰囲気内での処理を
必要とするため、生産はバツチシステムになるこ
とおよび真空雰囲気を維持するための動力費が多
大にかかる等の欠点を有している。これに対し上
記メツキ法は常圧で行われるため、省エネルギ
ー、生産性の面で有利である特長をもつている。 他方、本発明者らは先にメチルハイドロジエン
ポリシラン類の少なくとも１種と酸素とのガス状
混合物を用いてプラズマ気相沈積法により潤滑性
のあるプラズマ重合膜を各種基体の保護膜として
形成する方法を提案した。この方法によれば炭化
けい素およびシラノールを含む潤滑性のある硬化
膜が容易に得られ、この薄膜はシラノール基を含
むため親水性の表面特性を示し、潤滑層の接着、
ぬれに良好な結果を示す。 本発明者らはこのような薄膜を前記メツキ法に
よる磁性金属薄膜の保護層として応用することを
検討し本発明に到達したものである。 （発明の構成） すなわち本発明は、基体上に、磁性金属膜、メ
チルハイドロジエンポリシランをプラズマ重合膜
およびフツ素樹脂膜を順次積層一体化してなる磁
気記録媒体に関するものであり、本発明はさらに
この製造方法を提供するものである。すなわち、
この製造方法は基体上に、無電解メツキもしくは
電解メツキ法により磁性金属膜を形成し、次にこ
の磁性金属膜上にメチルハイドロジエンシランを
用いてプラズマ気相沈積法によりプラズマ重合膜
を形成し、さらにこのプラズマ重合膜上にフツ素
樹脂の薄膜を形成することを特徴とする。 本発明によれば、磁性金属膜の上にプラズマ気
相沈積法によりメチルハイドロジエンポリシラン
のブラズマ重合膜が均一にかつ強固に形成され、
この重合膜が主として炭化けい素からなるシラノ
ール結合を含むものであるので、磁性金属膜の保
護層としてきわめてすぐれた耐久性、耐候性（耐
酸化性）の威力を発揮するとともに、この重合膜
上へのフツ素樹脂膜の形成がきわめて強固に行わ
れ耐久性ある走行性が達成される。 以下本発明を詳細に説明する。 本発明にかかわる磁気記録媒体は、添付図面に
示すとおり、基体１の上に磁性金属膜２、メチル
ハイドロジエンポリシランのプラズマ重合膜３、
およびびフツ素樹脂膜４を順次積層一体化してな
るものである。 基体１の材質としては非磁性材料から選択さ
れ、たとえば銅、アルミニウム、ニツケルなどの
非磁性金属材料、ポリエステル、ポリイミド、ポ
リフエニレンサルフアイドなどのプラスチツクフ
イルム等、これらプラスチツクフイルムの表面に
無電解メツキ、電解メツキ、蒸着、スパツタリン
グ等の方法により非磁性金属の膜を形成したもの
が使用される。 この基体１上に、コバルト・リン、コバルト・
ニツケル・リン等の磁性金属膜２を、無電解メツ
キあるいは電解メツキの方法により形成する。こ
の場合のメツキ浴としては、塩化コバルト、硫酸
コバルト、塩化ニツケル、硫酸ニツケル、次亜リ
ン酸ナトリウム等から選ばれた必要成分の混合溶
液が使用される。形成されるメツキ膜（磁性膜）
の厚さは、磁気記録の高密度化、表面の平滑化お
よび磁性粒子の高配向化を可能とするうえからお
おむね0.1〜2μｍ（特には0.5〜1μｍ）とすること
が望ましい。 次に上記磁性金属膜２のうえにプラズマ気相沈
積法によりメチルハイドロジエンポリシランプラ
ズマ重合膜を形成する。メチルハイドロジエンポ
リシランは酸素ガスとの混合物として用いること
が望ましく、たとえばシラン化合物のガスと酸素
ガスのモル比１：0.5〜１：８（好ましくは１：１
〜１：３）からなる混合ガスを用いて、反応器内
に設置した前述の磁性金属膜２を有する基体１に
対し、器内雰囲気圧力１トル以下の条件で高周波
電力を与えるいわゆるプラズマ気相沈積法により
プラズマ重合膜３を形成する。このプラズマ重合
膜（保護膜）の厚さはおおむね0.01〜0.5μｍ（特
には0.02〜0.1μｍ）とすることが望ましく、0.01μ
ｍ以下では保護膜表面における平滑性を十分に出
すのに難点がある。0.5μｍとしても効果がそれ以
上には向上しないのみならず磁性膜と磁気ヘツド
との距離が大きくなり記録・再生時に不具合を生
じる。 上記プラズマ気相沈積法において重合膜３を形
成するための原料ガスであるシラン化合物に酸素
ガスを混合することにより、フレキシブルデイス
クを製造する際、原反より型抜きした際に、発生
する切断面である磁性膜の切り口の表面酸化、腐
蝕等が防止されるようになる。 本発明に使用されるメチルハイドロジエンポリ
シランは一般式（CH3）aSibHc（式中のｂは２また
は３で、ａおよびｃはそれぞれ関係式ａ≦2bお
よびａ＋ｃ＝2b＋２を満足する整数である）で
示されるもので、具体的例示をあげれば次のとお
りである。
造方法に関するものであり、特に磁性金属膜の表
面にシラン化合物のプラズマ重合保護膜およびそ
の上にフツ素樹脂潤滑膜を順次設けることによ
り、耐久性、走行性、耐候性（耐酸化性）を格段
に向上させた磁気記録媒体に関する。 （従来の技術） 従来よりコンピユーターの発展とともにその周
辺機器の一つとして磁気デイスク、フレキシブル
デイスク等の磁気記録媒体が発展してきた。近
年、高密度化記録の要請にともない、真空蒸着、
スパツタリング、イオンプレーテイング等のペー
パーデポジツシヨン法あるいは電解メツキ、無電
解メツキ等のメツキ法により形成される磁性金属
薄膜を磁気記録層とする非バインダー型の磁気記
録媒体が注目されており、実用化への努力が種々
行われている。 磁性金属薄膜をポリエステルフイルム等の基体
上に形成する方法としては、真空蒸気、スパツタ
リング、イオンプレーテイング等のペーパーデポ
ジツシヨン法と電解メツキ、無電解メツキ等のメ
ツキ法の２通りの方法がある。これらのうちベー
パーデポジツシヨン法は真空雰囲気内での処理を
必要とするため、生産はバツチシステムになるこ
とおよび真空雰囲気を維持するための動力費が多
大にかかる等の欠点を有している。これに対し上
記メツキ法は常圧で行われるため、省エネルギ
ー、生産性の面で有利である特長をもつている。 他方、本発明者らは先にメチルハイドロジエン
ポリシラン類の少なくとも１種と酸素とのガス状
混合物を用いてプラズマ気相沈積法により潤滑性
のあるプラズマ重合膜を各種基体の保護膜として
形成する方法を提案した。この方法によれば炭化
けい素およびシラノールを含む潤滑性のある硬化
膜が容易に得られ、この薄膜はシラノール基を含
むため親水性の表面特性を示し、潤滑層の接着、
ぬれに良好な結果を示す。 本発明者らはこのような薄膜を前記メツキ法に
よる磁性金属薄膜の保護層として応用することを
検討し本発明に到達したものである。 （発明の構成） すなわち本発明は、基体上に、磁性金属膜、メ
チルハイドロジエンポリシランをプラズマ重合膜
およびフツ素樹脂膜を順次積層一体化してなる磁
気記録媒体に関するものであり、本発明はさらに
この製造方法を提供するものである。すなわち、
この製造方法は基体上に、無電解メツキもしくは
電解メツキ法により磁性金属膜を形成し、次にこ
の磁性金属膜上にメチルハイドロジエンシランを
用いてプラズマ気相沈積法によりプラズマ重合膜
を形成し、さらにこのプラズマ重合膜上にフツ素
樹脂の薄膜を形成することを特徴とする。 本発明によれば、磁性金属膜の上にプラズマ気
相沈積法によりメチルハイドロジエンポリシラン
のブラズマ重合膜が均一にかつ強固に形成され、
この重合膜が主として炭化けい素からなるシラノ
ール結合を含むものであるので、磁性金属膜の保
護層としてきわめてすぐれた耐久性、耐候性（耐
酸化性）の威力を発揮するとともに、この重合膜
上へのフツ素樹脂膜の形成がきわめて強固に行わ
れ耐久性ある走行性が達成される。 以下本発明を詳細に説明する。 本発明にかかわる磁気記録媒体は、添付図面に
示すとおり、基体１の上に磁性金属膜２、メチル
ハイドロジエンポリシランのプラズマ重合膜３、
およびびフツ素樹脂膜４を順次積層一体化してな
るものである。 基体１の材質としては非磁性材料から選択さ
れ、たとえば銅、アルミニウム、ニツケルなどの
非磁性金属材料、ポリエステル、ポリイミド、ポ
リフエニレンサルフアイドなどのプラスチツクフ
イルム等、これらプラスチツクフイルムの表面に
無電解メツキ、電解メツキ、蒸着、スパツタリン
グ等の方法により非磁性金属の膜を形成したもの
が使用される。 この基体１上に、コバルト・リン、コバルト・
ニツケル・リン等の磁性金属膜２を、無電解メツ
キあるいは電解メツキの方法により形成する。こ
の場合のメツキ浴としては、塩化コバルト、硫酸
コバルト、塩化ニツケル、硫酸ニツケル、次亜リ
ン酸ナトリウム等から選ばれた必要成分の混合溶
液が使用される。形成されるメツキ膜（磁性膜）
の厚さは、磁気記録の高密度化、表面の平滑化お
よび磁性粒子の高配向化を可能とするうえからお
おむね0.1〜2μｍ（特には0.5〜1μｍ）とすること
が望ましい。 次に上記磁性金属膜２のうえにプラズマ気相沈
積法によりメチルハイドロジエンポリシランプラ
ズマ重合膜を形成する。メチルハイドロジエンポ
リシランは酸素ガスとの混合物として用いること
が望ましく、たとえばシラン化合物のガスと酸素
ガスのモル比１：0.5〜１：８（好ましくは１：１
〜１：３）からなる混合ガスを用いて、反応器内
に設置した前述の磁性金属膜２を有する基体１に
対し、器内雰囲気圧力１トル以下の条件で高周波
電力を与えるいわゆるプラズマ気相沈積法により
プラズマ重合膜３を形成する。このプラズマ重合
膜（保護膜）の厚さはおおむね0.01〜0.5μｍ（特
には0.02〜0.1μｍ）とすることが望ましく、0.01μ
ｍ以下では保護膜表面における平滑性を十分に出
すのに難点がある。0.5μｍとしても効果がそれ以
上には向上しないのみならず磁性膜と磁気ヘツド
との距離が大きくなり記録・再生時に不具合を生
じる。 上記プラズマ気相沈積法において重合膜３を形
成するための原料ガスであるシラン化合物に酸素
ガスを混合することにより、フレキシブルデイス
クを製造する際、原反より型抜きした際に、発生
する切断面である磁性膜の切り口の表面酸化、腐
蝕等が防止されるようになる。 本発明に使用されるメチルハイドロジエンポリ
シランは一般式（CH3）aSibHc（式中のｂは２また
は３で、ａおよびｃはそれぞれ関係式ａ≦2bお
よびａ＋ｃ＝2b＋２を満足する整数である）で
示されるもので、具体的例示をあげれば次のとお
りである。
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
（Meはメチル基を示す）
プラズマ気相沈積法により形成した重合膜３の
上に充分な走行性をもたせるためにフツ素樹脂膜
４を形成する。ここに使用されるフツ素樹脂とし
ては下記式で示されるパーフロロアルキルポリエ
ーテル等のような耐熱性、化学安定性にすぐれて
いるものがよい。 これらのフツ素樹脂を用いて膜を形成する方法
としては、上記フツ素樹脂をフレオン113等で希
釈したものをスプレーまたは浸漬する等して塗布
する。膜厚はおおむね0.01〜0.2μｍ望ましくは
0.03〜0.08μｍである。 なお、塗布後、不織布、羊毛等によるバフがけ
を行うことによりフツ素樹脂の偏析を防止すると
ともにフツ素樹脂の潤滑性の向上を図るものであ
る。 次に具体的実施例をあげる。 実施例 表面粗面化処理および活性化処理を施した厚さ
約75μｍのポリエステルフイルムを硫酸銅溶液に
入れて無電解メツキを行わせメツキ膜の厚さが約
0.5μｍになつた時点で次工程に移し電解銅メツキ
を継続して行わせ、厚さ約8μｍの電解銅メツキ
を形成した。 次に硫酸コバルト、硫酸ニツケルおよび次亜リ
ン酸ナトリウムを含む溶液からなるコバルト合金
メツキ浴に、上記銅メツキを施したポリエステル
フイルムを浸漬し、銅薄膜上にCo−Ni−Ｐから
なるコバルト合金薄膜（磁性金属膜）を膜厚約
0.8μｍとなるように形成した。 内部に放電電極対を有する反応装置内に上記磁
性金属膜を形成したフイルムを設置し、器内を５
×10-2トルまで排気したのちテトラメチルジシラ
ンガスと酸素ガスとのモル比１：２の混合ガスを
導入し流通させながら器内を0.1トルに調整保持
し、この雰囲気下で電極間に13.56MHzの高周波
電力（30W）を印加してグロー放電を行わせるこ
とによりプラズマ気相沈積反応を行わせ、フイル
ムの磁性金属膜上に厚さ約0.2μｍのプラズマ重合
膜を形成させた。 次にこのプラズマ重合膜の表面に、パーフロロ
アルキルポリエーテルをフレオン113に約0.3％の
濃度で溶解した溶液を塗布し、乾燥後この塗布面
を不織布でバフがけし厚さ約0.03μｍ潤滑膜を形
成した。 以上のようにして製造した磁気記録媒体につい
て、下記に示す初期動摩擦係数、摩擦耐久
性、耐候性を試験するととともに、耐候性試
験後の外観および摩擦耐久性試験後の加圧圧子
の表面状態を調べた。結果はそれぞれ第１表に示
すとおりであつた。 初期動摩擦係数：被試験体を温度23±２℃、
相対湿度40〜60％、試験前放置時間最低24時間
の状態に置いて、動摩擦係数を測定する。 摩擦耐久性：被試験体を温度23±２℃、相対
温度40〜60％、試験前放置時間最低24時間放置
し、これを回転数300±7rpm（min-1）、280±
10mm2の圧子を0.70±0.05Nの力で押しつけた状
態で100万回回転させた後に動摩擦係数を測定
する。 耐候性：被試験体を温度50±３℃、相対湿度
80％の環境に72時間放置後直ちに温度０±３
℃、相対湿度20％以下の環境に72時間放置し、
ついで室内に開放状態で24時間放置したのち、
動摩擦係数を測定 比較例 実施例と同様にして銅薄膜上にCo−Ni−Ｐか
らなるコバルト合金薄膜（磁性金属膜）を形成し
たものに対し、スピンナーにより二酸化けい素の
薄膜よりなる保護膜（厚さ約0.2μｍ）を形成し、
その表面に従来から使用されているシリコーンオ
イルを塗布し潤滑膜（厚さ約0.03μｍ）を形成し、
磁気記録媒体を作成した。 このものについて実施例と同様に試験した結果
を第１表に併記した。
上に充分な走行性をもたせるためにフツ素樹脂膜
４を形成する。ここに使用されるフツ素樹脂とし
ては下記式で示されるパーフロロアルキルポリエ
ーテル等のような耐熱性、化学安定性にすぐれて
いるものがよい。 これらのフツ素樹脂を用いて膜を形成する方法
としては、上記フツ素樹脂をフレオン113等で希
釈したものをスプレーまたは浸漬する等して塗布
する。膜厚はおおむね0.01〜0.2μｍ望ましくは
0.03〜0.08μｍである。 なお、塗布後、不織布、羊毛等によるバフがけ
を行うことによりフツ素樹脂の偏析を防止すると
ともにフツ素樹脂の潤滑性の向上を図るものであ
る。 次に具体的実施例をあげる。 実施例 表面粗面化処理および活性化処理を施した厚さ
約75μｍのポリエステルフイルムを硫酸銅溶液に
入れて無電解メツキを行わせメツキ膜の厚さが約
0.5μｍになつた時点で次工程に移し電解銅メツキ
を継続して行わせ、厚さ約8μｍの電解銅メツキ
を形成した。 次に硫酸コバルト、硫酸ニツケルおよび次亜リ
ン酸ナトリウムを含む溶液からなるコバルト合金
メツキ浴に、上記銅メツキを施したポリエステル
フイルムを浸漬し、銅薄膜上にCo−Ni−Ｐから
なるコバルト合金薄膜（磁性金属膜）を膜厚約
0.8μｍとなるように形成した。 内部に放電電極対を有する反応装置内に上記磁
性金属膜を形成したフイルムを設置し、器内を５
×10-2トルまで排気したのちテトラメチルジシラ
ンガスと酸素ガスとのモル比１：２の混合ガスを
導入し流通させながら器内を0.1トルに調整保持
し、この雰囲気下で電極間に13.56MHzの高周波
電力（30W）を印加してグロー放電を行わせるこ
とによりプラズマ気相沈積反応を行わせ、フイル
ムの磁性金属膜上に厚さ約0.2μｍのプラズマ重合
膜を形成させた。 次にこのプラズマ重合膜の表面に、パーフロロ
アルキルポリエーテルをフレオン113に約0.3％の
濃度で溶解した溶液を塗布し、乾燥後この塗布面
を不織布でバフがけし厚さ約0.03μｍ潤滑膜を形
成した。 以上のようにして製造した磁気記録媒体につい
て、下記に示す初期動摩擦係数、摩擦耐久
性、耐候性を試験するととともに、耐候性試
験後の外観および摩擦耐久性試験後の加圧圧子
の表面状態を調べた。結果はそれぞれ第１表に示
すとおりであつた。 初期動摩擦係数：被試験体を温度23±２℃、
相対湿度40〜60％、試験前放置時間最低24時間
の状態に置いて、動摩擦係数を測定する。 摩擦耐久性：被試験体を温度23±２℃、相対
温度40〜60％、試験前放置時間最低24時間放置
し、これを回転数300±7rpm（min-1）、280±
10mm2の圧子を0.70±0.05Nの力で押しつけた状
態で100万回回転させた後に動摩擦係数を測定
する。 耐候性：被試験体を温度50±３℃、相対湿度
80％の環境に72時間放置後直ちに温度０±３
℃、相対湿度20％以下の環境に72時間放置し、
ついで室内に開放状態で24時間放置したのち、
動摩擦係数を測定 比較例 実施例と同様にして銅薄膜上にCo−Ni−Ｐか
らなるコバルト合金薄膜（磁性金属膜）を形成し
たものに対し、スピンナーにより二酸化けい素の
薄膜よりなる保護膜（厚さ約0.2μｍ）を形成し、
その表面に従来から使用されているシリコーンオ
イルを塗布し潤滑膜（厚さ約0.03μｍ）を形成し、
磁気記録媒体を作成した。 このものについて実施例と同様に試験した結果
を第１表に併記した。
【表】
【表】
第１表の結果から、比較例に比べ本発明は動摩
擦抵抗の劣化がなく、耐久性、走行性、耐候性に
すぐれていることがわかる。
擦抵抗の劣化がなく、耐久性、走行性、耐候性に
すぐれていることがわかる。
図面は本発明にかかわる磁気記録媒体の断面構
造を示したものである。 １……基体、２……磁性金属膜、３……シラン
化合物のプラズマ重合膜、４……フツ素樹脂膜。
造を示したものである。 １……基体、２……磁性金属膜、３……シラン
化合物のプラズマ重合膜、４……フツ素樹脂膜。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基体上に、磁性金属膜、一般式（CH3）aSib
Hc（式中のｂは２または３で、ａおよびｃはそれ
ぞれ関係式ａ≦2bおよびａ＋ｃ＝2b＋２を満足
する整数である）で示されるメチルハイドロジエ
ンポリシランのプラズマ重合膜、およびフツ素樹
脂膜を順次積層一体化してなる磁気記録媒体。 ２ 基体上に、無電解メツキもしくは電解メツキ
法により磁性金属膜を形成し、この金属膜上に一
般式（CH3）aSibHc（式中のｂは２または３で、ａ
およびｃはそれぞれ関係式ａ≦2bおよびａ＋ｃ
＝2b＋２を満足する整数である）で示されるメ
チルハイドロジエンポリシランを用いてプラズマ
気相沈積法によりプラズマ重合膜を形成し、さら
にこの重合膜上にフツ素樹脂の薄膜を形成するこ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59189244A JPS6168725A (ja) | 1984-09-10 | 1984-09-10 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| DE8585401751T DE3568658D1 (en) | 1984-09-10 | 1985-09-09 | Magnetic recording medium and manufacturing method thereof |
| EP85401751A EP0175614B1 (en) | 1984-09-10 | 1985-09-09 | Magnetic recording medium and manufacturing method thereof |
| US06/774,449 US4601950A (en) | 1984-09-10 | 1985-09-10 | Magnetic recording medium and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59189244A JPS6168725A (ja) | 1984-09-10 | 1984-09-10 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6168725A JPS6168725A (ja) | 1986-04-09 |
| JPH0322652B2 true JPH0322652B2 (ja) | 1991-03-27 |
Family
ID=16238032
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59189244A Granted JPS6168725A (ja) | 1984-09-10 | 1984-09-10 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4601950A (ja) |
| EP (1) | EP0175614B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6168725A (ja) |
| DE (1) | DE3568658D1 (ja) |
Families Citing this family (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4759991A (en) * | 1984-03-06 | 1988-07-26 | Toagosei Chemical Industry Co., Ltd. | Magnetic recording medium having a lubricating coating layer |
| US4693927A (en) * | 1984-03-19 | 1987-09-15 | Fuji Photo Film Company Limited | Magnetic recording medium and process for producing the same |
| GB2166668B (en) * | 1984-11-09 | 1988-03-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JPS61122925A (ja) * | 1984-11-19 | 1986-06-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 記録媒体の製造方法 |
| DE3577246D1 (de) * | 1984-11-20 | 1990-05-23 | Hitachi Maxell | Magnetischer aufzeichnungstraeger und herstellung derselben. |
| JPH0610871B2 (ja) * | 1984-12-25 | 1994-02-09 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JPS61289530A (ja) * | 1985-06-17 | 1986-12-19 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体 |
| US4824444A (en) * | 1986-04-11 | 1989-04-25 | Applied Membrane Technology, Inc. | Gas permselective composite membrane prepared by plasma polymerization coating techniques |
| US4769281A (en) * | 1986-04-15 | 1988-09-06 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Magnetic recording medium and method of manufacturing the same |
| JPH0827931B2 (ja) * | 1986-06-27 | 1996-03-21 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気記録媒体 |
| US4889767A (en) * | 1986-04-23 | 1989-12-26 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
| DE3624467A1 (de) * | 1986-07-19 | 1988-01-28 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Verfahren zum herstellen transparenter schutzschichten aus siliziumverbindungen |
| CA2071124A1 (en) * | 1991-06-19 | 1992-12-20 | Utami Yonemura | Resin article having anti-static property |
| JPH0528466A (ja) * | 1991-07-22 | 1993-02-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
| EP0524529B1 (en) * | 1991-07-23 | 1996-02-14 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Hydrophylic substrate and method of manufacturing the same |
| AU5298993A (en) * | 1992-10-06 | 1994-04-26 | Maxtor Corporation | Slider for magnetic recording head having self-lubricating overcoat |
| WO1995024033A1 (en) * | 1994-03-02 | 1995-09-08 | Conner Peripherals, Inc. | Oxidation-stabilized hydrocarbon liquid bearings for lubricated disk drives |
| US5661618A (en) * | 1995-12-11 | 1997-08-26 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording device having a improved slider |
| KR20010023016A (ko) * | 1997-08-18 | 2001-03-26 | 시게이트 테크놀로지 인코포레이티드 | 적재/방출 어플리케이션을 위한 탄소코팅을 갖는 디스크 및 드라이브 시스템 및 방법 |
| US6673429B1 (en) | 2000-07-25 | 2004-01-06 | Seagate Technology Llc | Magnetic recording media with a multiple-layer lubricant |
| JP3733878B2 (ja) * | 2001-06-29 | 2006-01-11 | ソニー株式会社 | 金属薄膜型磁気記録媒体及びその製造方法 |
| US7060377B2 (en) * | 2003-10-20 | 2006-06-13 | Seagate Technology | Lubricant film containing additives for advanced tribological performance of magnetic storage medium |
| TWI322833B (en) * | 2005-12-27 | 2010-04-01 | Ind Tech Res Inst | Water-repellent structure and method for making the same |
| US20110171426A1 (en) * | 2005-12-27 | 2011-07-14 | Industrial Technology Research Institute | Hard water-repellent structure and method for making the same |
| CN101528975B (zh) * | 2006-10-20 | 2012-05-23 | 3M创新有限公司 | 用于易于清洁的基底的方法以及由其制得的制品 |
| WO2008070704A1 (en) * | 2006-12-07 | 2008-06-12 | 3M Innovative Properties Company | Particles comprising a fluorinated siloxane and methods of making and using the same |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6089817A (ja) * | 1983-10-20 | 1985-05-20 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4380558A (en) * | 1979-10-02 | 1983-04-19 | Nippon Electric Co., Ltd. | Process for manufacturing a protective polysilicate layer of a record member by a laser beam and a magnetic record member suitably manufactured thereby |
| JPS57135442A (en) * | 1981-02-16 | 1982-08-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium and its manufacture |
| JPS57164432A (en) * | 1981-04-02 | 1982-10-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS5829119A (ja) * | 1981-08-14 | 1983-02-21 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 帯電防止性磁気テ−プ |
| JPH0715751B2 (ja) * | 1982-05-12 | 1995-02-22 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体の製造法 |
| JPS58222438A (ja) * | 1982-06-18 | 1983-12-24 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPH0766528B2 (ja) * | 1983-03-18 | 1995-07-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| US4529659A (en) * | 1983-11-05 | 1985-07-16 | Nippon Telegraph & Telephone Public Corporation | Magnetic recording member and process for manufacturing the same |
-
1984
- 1984-09-10 JP JP59189244A patent/JPS6168725A/ja active Granted
-
1985
- 1985-09-09 EP EP85401751A patent/EP0175614B1/en not_active Expired
- 1985-09-09 DE DE8585401751T patent/DE3568658D1/de not_active Expired
- 1985-09-10 US US06/774,449 patent/US4601950A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6089817A (ja) * | 1983-10-20 | 1985-05-20 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0175614A3 (en) | 1987-03-25 |
| US4601950A (en) | 1986-07-22 |
| EP0175614A2 (en) | 1986-03-26 |
| EP0175614B1 (en) | 1989-03-08 |
| JPS6168725A (ja) | 1986-04-09 |
| DE3568658D1 (en) | 1989-04-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0322652B2 (ja) | ||
| US5080971A (en) | Magnetic recording medium | |
| JP2781656B2 (ja) | 記録媒体 | |
| US5399758A (en) | Diacylhydrazine photo-reactive compounds | |
| JP2623611B2 (ja) | 硬質炭素膜被覆を施した金属基体 | |
| JPH0520658A (ja) | 磁気記録媒体用基板及びその製造方法 | |
| JPH0251463B2 (ja) | ||
| JPS6089817A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6292114A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPS60155668A (ja) | 磁気記憶媒体表面に炭化水素保護膜を形成する方法 | |
| JPH10114038A (ja) | 芳香族ポリアミドフィルム、その製造方法およびそれを用いた磁気記録媒体 | |
| JPS62183033A (ja) | 磁気記録体の製造方法 | |
| JP2000003512A (ja) | 磁気ディスク並びにそれらを備えた磁気ディスク装置 | |
| JP2001126237A (ja) | 記録媒体用基板および記録媒体ならびに情報記録装置 | |
| JPS63106924A (ja) | 磁気デイスク用保護膜の製造方法 | |
| JPS62146430A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS62264424A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS63113924A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS63220422A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0630147B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS61278025A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPS6122432A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS62264423A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS62167615A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPS61216124A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 |