JPH03207018A - 磁気記録テープ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は磁気記録テープに関するものである。

［従来の技術］ 磁気記録テープとしては、ポリエステルフィルムに磁性
層を設けてなる磁気記録テープが知られている（例えば
特開昭５７−６６５２９号公報）。

［発明が解決しようとする課題コ 磁気記録テープは高密度記録におけるＳ／Ｎ（シグナル
／ノイズの比であり高いほど画質や音質が良好となる）
を高くするためその磁性層表面はますます平滑化されて
いる。しかし、磁性層の表面が平滑になると走行時の摩
擦係数が大きくなりその耐久性が不良となり、使用時の
繰返し走行によるＳ／Ｎの低下が大きくなるという問題
点があった。また磁性層の表面を粗くして耐久性を向上
させようとするとＳ／Ｎが低くなるというジレンマを抱
えていた。

本発明はかかる課題を改善し、Ｓ／Ｎが高くかつ繰返し
走行によるＳ／Ｎの低下の小さい、耐久性の優れた磁気
記録媒体を提供することを目的とする。

［課題を解決するための手段］ 本発明は、上記目的を達成するために、（１）厚さ２〜
２５μｍの二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの片面に磁性
層を設けてなる磁気記録テープであって、該フィルムの
少なくとも片面に熱可塑性樹脂Ａと粒子を主成分とする
厚さ０．００５〜３μｍのフィルム層Ａを有し、かつ、
該フィルム層Ａ中に含有される粒子の平均粒径がフィル
ム層Ａの厚さの０．１〜１０倍、該粒子の含有量がフィ
ルム層Ａに対して２〜３０重量％であることを特徴とす
る磁気記録テープ、および（２）厚さ２〜２５μｍの二
軸配向熱可塑性樹脂フィルムの片面に磁性層を設けてな
る磁気記録テープであって、該フィルムの少なくとも片
側表面に形成された表面突起ついて、全突起数が１万〜
１０億個／　ｍｍ　２であり、かつ、その突起平均高さ
の１／３以下の高さの突起数が全突起数のｌ５％以下で
あることを特徴とする磁気記録テープ、としたものであ
る。

本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルム（以下、基材フ
ィルムと称することがある）を構成する熱可塑性樹脂は
特に限定されないが、熱可塑性樹脂が結晶性ポリマであ
る場合に、Ｓ／Ｎ，耐久性が一層良好になるので望まし
い。ここでいう結晶性とはいわゆる非晶質ではないこと
を示すものであり、定量的には示差走査熱量計（Ｄ　Ｓ
　Ｃ）による昇温速度１０℃／分の熱分析によって融点
が検出され、好ましくは結晶化パラメータΔＴｃｇが１
５０℃以下のものである。さらに、示差走査熱量計で測
定された融解熱（融解エンタルピー変化）が７．５ｃａ
ｌ／ｇ以上の結晶性を示す場合に耐久性がより一層良好
となるのできわめて望寓しい。

具体例としては、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレ
フィン、ポリフエニレンスルフイドなどを用いることが
できるが、ポリエステル、特に、エチレンテレフタレー
ト、エチレンα，β−ビス（２−クロルフエノキシ）エ
タン−４．４′−ジカルボキシレート、エチレン２．６
−ナフタレート単位から選ばれた少なくとも一種の構造
単位を主要構成成分とするポリエステルの場合に本発明
の突起構造にした時の効果が一層顕著になるので望まし
い。

本発明の熱可塑性樹脂Ａ中の粒子の種類は特に限定され
ないが、アルミナ珪酸塩、１次粒子が凝集した状態のシ
リカ、内部析出粒子などは好ましくなく、粒子の真球度
が１．６以下、好ましくは１．５以下、さらに好ましく
は１．３以下である場合にＳ／Ｎ，耐久性がより一層良
好となるので特に望ましい。また粒子の粒径分布の相対
標準偏差が０．　　６以下、好ましくは０．　　５以下
のものを用いることが本発明の突起構造を得るのに有効
である。上記の特性を満足する粒子としてはコロイダル
シリカに起因する実質的に球形のシリカ粒子、架橋高分
子による粒子（たとえば架橋ポリスチレン）などがある
が、特に１０重量％減量時温度（窒素中で熱重量分析装
置島津ＴＧ−３０Ｍを用いて測定。昇温速度２０℃／分
）が３８０℃以上になるまで架橋度を高くした架橋高分
子粒子の場合に耐久性、Ｓ／Ｎがより一層良好となるの
で特に望ましい。なお、コロイダルシリカに起因する球
形シリカの場合にはアルコキシド法で製造された、ナト
リウム含有量が少ない、実質的に球形のシリカの場合に
耐久性がより一層良好となるので特に望ましい。しかし
ながら、その他の粒子、例えば炭酸カルシウム、二酸化
チタン、アルミナ等の粒子でも後述する積層厚さと平均
粒径の適切なコントロールにより十分使いこなせるもの
である。

粒子の平均粒径は特に限定されず好ましい範囲も種類に
よって異なるが、平均粒径が０．０１〜１μｍの場合に
Ｓ／Ｎ，耐久性がより一層良好となるので特に望ましい
。

本発明の基材フィルムは上記組成物を主要成分とするが
、本発明の目的を阻害しない範囲内で、他種ポリマをブ
レンドまたは共重合してもよいし、また酸化防止剤、熱
安定剤、滑剤、紫外線吸収剤、核生成剤などの無機また
は有機添加剤が通常添加される程度添加されていてもよ
い。また、上述した粒子の他に内部析出粒子を含有して
いてもよい。

本発明における内部析出粒子とは、ポリエステル重合時
に添加したカルシウム化合物、マグネシウム化合物、リ
チウム化合物の少なくとも一種の化合物とポリエステル
構或或分とが結合して生戊する粒子である。なお、本発
明の内部析出粒子には、本発明の目的を阻害しない範囲
内で、リン元素および微量の他の金属成分、たとえば、
亜鉛、コバルト、アンチモン、ゲルマニウム、チタンな
どが含まれていてもよい。

また本発明の基材フィルムのフィルム層Ａ以外の部分に
も本発明の効果を阻害しない範囲で粒子その他の添加物
が含有されていても良い。特に０．１〜１μｍの粒子が
０．０１〜１重量％、特に０．０５〜０．３重量％含有
されている場合にフィルムが高速走行した時のの耐スク
ラッチ性（耐スリ傷性）、ロール状に高速でフィルムを
巻く時の巻特性が良好になるので望ましい。

本発明の基材フィルムは上記組成物を二軸配向せしめた
フィルムである。未延伸フィルムでは耐久性が不良とな
るので好ましくないし、また表面部分のみが一軸配向に
なっているような塗布延伸法等による基材フィルムでは
磁気記録テープの耐久性（以下耐久性）を満足し得ない
。すなわちフィルム層Ａの分子が二軸配向になっている
ことが必要である。二軸配向の程度は特に限定されない
が、分子配向の程度を表わすフィルムのヤング率が長手
方向、幅方向ともに、３５０ｋｇ／ｍｍ２、好ましくは
４００ｋｇ／ｍｍ２以上の場合に耐久性が一層良好とな
るので特に望ましい。また極表層の分子配向は全反射ラ
マン法、赤外スペクトルなどで確認できる。

本発明を構或する基材フィルムは、少なくとも片面に熱
可塑性樹脂Ａと粒子を主成分とするフィルム層Ａを有し
、Ａ層の厚さは０．００５〜３μｍ１好ましくは０．０
２〜１μｍ１さらに好ましくは０．０３〜０．８μｍで
あることが必要である。フィルム層Ａの厚さが上記の範
囲より小さいと耐久性が不良となり、逆に大きいと磁気
記録テープとしてのＳ／Ｎ　（以下Ｓ／Ｎ）が不良とな
るので好ましくない。

また該フィルム層Ａ中に含有される粒子の平均粒径がフ
ィルム層Ａの厚さの０．　　１〜１０倍、好ましくは０
．４〜５倍、さらに好ましくは１．１〜４倍の範囲であ
ることが必要である。粒子の平均粒径が上記の範囲より
小さいとＳ／Ｎ，耐久性が不良となり、逆に大きくても
Ｓ／Ｎが不良となるので好ましくない。

また該フィルム層Ａ中の該粒子の含有量がフィルム層Ａ
に対して２〜３０重量％、好ましくは３〜２０重量％、
さらに好ましくは２〜１５重量％であることが必要であ
る。含有量が上記の範囲より小さいと耐久性が不良とな
り、逆に大きいとＳ／Ｎが不良となるので好ましくない
。

また基材フィルムの厚さは２〜２５μｍ１好ましくは３
〜２０μｍの範囲であることが必要である。基材フィル
ムの厚さが上記の範囲より小さいとＳ／Ｎが不良となり
、逆に大きいと耐久性が不良となり、また、今後の磁気
記録テープの小型化にも対応しにくいので好ましくない
。

また別の方法で本発明の基材フィルムを記述すると、基
材フィルムの少なくとも片側表面に形成された表面突起
について、全突起数が１万〜１０億個／−２、好ましく
は２万〜６，７億個／肺２さらに好ましくは２万〜５億
個／ｍｎｌ２であることが必要である。突起個数が上記
の範囲より小さいと耐久性が不良となり、逆に大きいと
Ｓ／Ｎが不良となるので好ましくない。また該表面突起
の突起平均高さの１／３以下の高さの突起が全突起数の
１５％以下、好ましくは１０％以下、さらに好ましくは
８％以下であることが必要である。上記突起の比率が上
記の範囲より大きいとＳ／Ｎ，耐久性ともに不良となる
ので好ましくない。

また本発明を構戊する基材フィルムの特徴面（フィルム
層Ａ面、表面形態が上記の特定の特性を有する面）の突
起高さ分布の相対標準偏差が０．６０以下、好ましくは
０，５５以下、さらに好ましくは０．５０以下である場
合にＳ　／Ｎ，耐久性がより一層良好とできるので望ま
しい。

また本発明を構成する基材フィルムの特徴面の全反射ラ
マン結晶化指数は、２０ｃｍ−１以下の場合にＳ／Ｎ，
耐久性がより一層良好とできるので望ましい。

本発明を構成する基材フィルムの特徴面の２次イオンマ
ススペクトルによって測定される表層粒子濃度比は特に
限定されないが、表層粒子濃度比が１／１０以下、特に
１／５０以下である場合にＳ／Ｎ、耐久性がより一層良
好とできるので望ましい。表層粒子濃度比が小さいとい
うことは粒子によって形成された突起の粒子の上にしっ
かり熱可塑性樹脂の薄皮が被っていることであり、粒子
が露出している確率が低いことを示すものである。

この表層粒子濃度比は従来の塗布法や塗布・延伸法では
得られないものであり、表層粒子濃度比をこの範囲にし
ておくことにより本発明の磁性層表面形態が得られやす
く、また、Ｓ／Ｎを一層高く、Ｓ／Ｎ低下を一層小さく
できるので望ましく、また、熱可塑性樹脂の薄皮が被っ
ている突起構造のため、フィルム表面の耐削れ性が向上
し、製膜工程、磁性層塗布やカレンダー等の加工工程で
の粒子脱落によるトラブルが著しく改善されるものであ
る。

本発明は上記の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの片面に
磁性層を設けてなる磁気記録媒体である。

用いられる磁性粉末は特に限定されないが、酸化鉄、酸
化クロム、Ｃｏ被着酸化鉄などの酸化物、あるいは、Ｆ
ｅ，．ＣＯ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ，Ｃｏ−Ｎ
ｉ等の金属または合金、これらとＡＩ、Ｃｒ，Ｓｉ等と
の合金等が用いられ、これらの磁性粉末と有機バインダ
ーを主戊分とする磁性塗料を塗布したいわゆる塗布型の
磁気記録テープ、あるいは、実質的に有機バインダーを
含有しない磁性金属を蒸着、スパッタ法などによって基
材フィルムの表面に設けた金属薄膜型磁気記録テープの
いずれでもよい。また、上記塗布型磁性層の場合ほのバ
インダーの種類は特に限定されないが、一般的には熱硬
化性樹脂系バインダーおよび放射線硬化系バインダーが
好ましく、その他添加剤として公知の潤滑剤、研磨剤、
遮光剤、帯電防止剤等の添加物を常法に従って用いても
よい。

例えば塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重
合体、ポリウレタンプレボリマおよびポリイソシアネー
トよりなるバインダーなどを用いることができる。また
、金属薄膜型磁性層の場合にはその表面潤滑剤、保護膜
等公知の処理をしてもよい。

磁性層の厚さは特に限定されないが、塗布型磁気記録テ
ープの場合は、０．　　５〜６μｍの範囲、金属薄膜型
の場合は０．０５〜０．　　５μｍとしておくとＳ／Ｎ
，耐久性を一層良好とできるので望ましい。

本発明の磁気記録テープにおいて、磁性層の反対側の基
材フィルム表面に厚さ０．１〜１．５μｍ１好ましくは
０．２〜０．９μｍのバックコート層を設けた磁気記録
テープはＳ／Ｎ，耐久性がより一層良好となるので望ま
しい。バックコート層の種類、組成は特に限定されず公
知の粒子、シリカ、二酸化チタン、カーボンブラック、
炭酸力ルシウム、アルミナ等をポリウレタン等のパイン
ダーを用いて塗設したものが好ましく用いられる。

ただし、上記のバックコート層の表面の平均粗Ｒａが０
．１μｍ以下、好ましくは０．　　０５μｍ以下、さら
に好ましくは０．０４μｍ以下である場合にＳ／Ｎ，耐
久性がより一層良好となるので望ましい。

本発明の磁気記録テープの基本構成例は下記の通りに整
理できる。すなわち、 ■層Ａ／層Ｂ構成の基材フィルムの場合ａ特徴面に磁性
層を塗布、バックコートなしｂ特徴面に磁性層を塗布、
反対面にバックコート Ｃ特徴面の反対面に磁性層を塗布、バックコートなし ｄ特徴面の反対面に磁性層を塗布、反対面にバックコー
ト ■層Ａ／層Ｂ／層Ａ構成の基材フィルムの場合ａ片面に
磁性層、バックコートなし ｂ片面に磁性層、バックコートあり ■層Ａ／層Ｂ／層Ｃ構成の基材フィルムの場合（突起平
均高さ：層Ａく層Ｃ） ａ層Ａ面に磁性層を塗布、バックコートなしｂ層八面に
磁性層を塗布、反対面にバックコート 上記の構成の中で．特徴面の活用および基材フィルムの
生産性等の観点から特に望ましいのは、■一〇、■−ｄ
、■−ａ，ｂである。

また本発明の磁気記録テープはテープを所定の幅にスリ
ットする時の粉（破片）の発生が従来のものに比べて著
しく少なくその粉によるテープの端でも記録障害（ドロ
ップアウト等）がなく、テープの幅か有効に利用できる
ため、特に、幅の狭い、テープの幅が１５ｍｍ以下、好
ましくは１０ｍｍ以下の磁気記録テープにおいてますま
すその特性が発揮できるものである。

また、本発明の磁気記録テープは、その長手方向のＦ５
値が１２ｋｇ／ｍｍ２以上、好ましくは１６ｋｇ／［［
ｌＩｎ２以上、さらに好ましくは２０ｋｇ／ｍｍ２以上
である場合にＳ／Ｎが一層良好となるので望ましい。

次に本発明の磁気記録媒体の製造方法について説明する
。

まず、基材となる特徴面を有する二軸配向熱可塑性樹脂
フィルムの製法を説明する。

熱可塑性樹脂に粒子を含有せしめる方法としては、粒子
をエチレングリコールのスラリーとし、重合時に添加す
るかまたはベント方式の２軸混練押出機を用いて熱可塑
性樹脂に添加する方法が、延伸破れなく、本発明に望ま
しい基材フィルムを得るのにきわめて有効である。

粒子の含有量を調節する方法としては、上記方法で高濃
度マスターを作っておき、それを製膜時に粒子を実質的
に含有しない熱可塑性樹脂で希釈して粒子の含有量を調
節する方法が有効である。

次に、粒子を含有する熱可塑性樹脂Ａのペレットを必要
に応じて乾燥したのち、公知の溶融積層用押出装置に供
給し、スリット状のダイからシ一ト状に押出し、キャス
ティングロール上で冷却固化せしめて、フィルム層Ａの
厚さがフィルム層Ａに含有される粒子の平均粒径よりも
厚い未延伸フィルムを作る。すなわち、２または３台の
押出し機、２または３層のマニホールドまたは合流ブロ
ックを用いて、熱可塑性樹脂Ａ，Ｂを積層し、口金から
２または３層のシートを押し出し、キャスティングロー
ルで冷却して未延伸フィルムを作る。

この場合、熱可塑性樹脂Ａのボリマ流路に、スタティッ
クミキサー、ギヤポンプを設置する方法は延伸破れなく
、本発明に望ましい基材フィルムを得るのにきわめて有
効である。

また、ポリマが合流する合流ブロックとしてその断面形
状が横／縦比が２以上の長方形のフィードブロックを用
いることによりフィルム長手方向、幅方向の積層厚さ斑
を小さくできるので磁気記録テープとした時のＳ／Ｎ変
動斑を小さくできるので、本発明に特に望ましい。

上記の説明は構成として、主として層Ａ／層Ｂ、層Ａ／
層Ｂ／層Ａについて述べたが（層Ａ面が特徴面）、層Ａ
／層Ｂ／層Ｃの構成の場合は３台の押出機を用いて同様
に、３層のマニホールドまたは合流ブロックを用いて、
熱可塑性樹脂Ａ，Ｂ，Ｃを積層し、口金から３層のシー
トを押し出し、キャスティングロールで冷却して未延伸
フィルムを作る。いずれの場合もＡ，ＢＸＣは同じ熱可
塑性樹脂でも異なっていてもよい（層Ａ１層Ｃの面が特
徴面）。

次にこの未延伸フィルムを二軸延伸し、二軸配向せしめ
る。延伸方法としては、公知の縦→横または横→縦の順
で行なう逐次二軸延伸法または同時二軸延伸法、チュー
ブラー法を用いることができる。延伸条件は熱可塑性樹
脂の種類により一概には言えないが、延伸倍率としては
縦倍率と横倍率の積を８倍以上にすることが、粒径と積
層厚さの関係を本発明範囲とし、表面形態を最適化し、
特徴面近傍のボリマ分子を二軸配向させ、かつフィルム
全体の望ましい機械特性を得るのに有効である。いずれ
にしても粒径よりも厚い積層厚さを有する未延伸フィル
ムを作っておき、その積層厚さを二軸延伸によって粒子
の大きさ近傍あるいはそれ以下に薄くすることが本基材
フィルムの製法のポイントである。また、表層のポリマ
分子が二軸配向していることが、本フィルムが塗布法、
あるいは塗布・延伸法によって作られるフィルムと大き
く異なる点であり、Ｓ／Ｎ，耐久性をより一層良好とで
き、また、フィルム表面の耐削れ性が向上し、製膜工程
、磁性層塗布やカレンダー等の加工工程での粒子脱落に
よるトラブルが大きく改善されるものである。

また上記二軸配向フィルムをさらに少なくとも１方向に
再延伸してもよい。次にこの延伸フィルムを熱可塑性樹
脂樹脂の融点〜融点−１００℃の温度範囲で０．　　５
〜６０秒行なうのが好適である。

次に、この基材フィルムに磁性層を設ける。磁性層を塗
布する方法は公知の方法で行なうことができるが、グラ
ビヤロールやギーサで塗布する方法がＳ／Ｎ，耐久性を
一層良好とできるので望ましい。

塗布後の乾燥工程は、温度を９０〜１２０℃とするのが
好ましい。

また、カレンダー工程は、ボリアミド系樹脂またはポリ
エステル系樹脂を弾性ロールに用い、２５〜９０℃の温
度範囲で行なうのが、Ｓ／Ｎ，耐久性を一層良好とでき
るので望ましい。またカレンダー時の圧力は１　０　０
〜５　０　０ｋｇ／ｃｍの範囲が、Ｓ／Ｎ，耐久性を一
層良好とできるので望ましい。

次に磁性層が塗布された原反を巻とってロールの形で磁
性層硬化のためにキュアする。キュアの温度条件は４０
〜１００℃の範囲が、Ｓ／Ｎ、耐久性を一層良好とでき
るので望ましい。

また金属薄膜型の場合の磁性層の形成法は公知の方法で
可能であり、例えば、鉄、コバルト・ニッケルまたはそ
の合金の金属薄膜を真空蒸着、イオンプレーティング、
スパッタリング法等により基材フィルム上に直接、ある
いはアルミニウム、チタン、クロム等の下地薄膜を介し
て形成させるのが好ましい。

［物性の測定方法ならびに効果の評価方法］本発明の特
性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである
。

（１）粒子の平均粒径 フィルム表面から熱可塑性樹脂をプラズマ低温灰化処理
法で除去し粒子を露出させる。処理条件は熱可塑性樹脂
は灰化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択す
る。これを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、粒子
の画像をイメージアナライザーで処理する。観察箇所を
変えて粒子数５，０００個以上で次の数値処理を行ない
、それによって求めた数平均径Ｄを平均粒径とする。

Ｄ＝ΣＤｉ／Ｎ ここで、Ｄｉは粒子の円相当径、Ｎは粒子数である。

（２）粒径比 上記（１）の測定において個々の粒子の（長径の平均値
）／（短径の平均値）の比である。すなわち、下式で求
められる。

長径＝ΣＤｌｉ／Ｎ 短径＝ΣＤ　２　ｉ　／　Ｎ Ｄ　ｌｉ，　Ｄ　２ｉはそれぞれ個々の粒子の長径（最
大径）、短径（最短径）、Ｎは粒子数である。

（３）粒径の相対標準偏差 上記（１）の方法で測定された個々の粒径Ｄｉ１平均径
Ｄ１粒子数Ｎから計算される標準偏差σ（＝｛Σ（Ｄｉ
　−Ｄ）　２／Ｎ｝　”２）を平均径Ｄで割った値（σ
／Ｄ）で表わした。

（４）粒子の含有量 熱可塑性樹脂は溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択し
、粒子を熱可塑性樹脂から遠心分離し、粒子の全体重量
に対する比率（重量％）をもって粒子含有量とする。

（５）結晶化パラメータΔＴｃｇ，融解熱示差走査熱量
計（Ｄ　Ｓ　Ｃ）を用いて測定した。

ＤＳＣの測定条件は次の通りである。すなわち、試料１
０ｍｇをＤＳＣ装置にセットし、３００℃の温度で５分
間溶融した後、液体窒素中に急冷する。

この急冷試料を１０℃／分で昇温し、ガラス転移点Ｔｇ
を検知する。さらに昇温を続け、ガラス状態からの結晶
化発熱ピーク温度をもって冷結晶化温度Ｔｃｃとした。

さらに昇温を続け、融解ピークから融解熱を求めた。こ
こでＴｃｃとＴｇの差（Ｔｃｃ−Ｔｇ）を結晶化パラメ
ータΔＴｃｇと定義する。

（６）Ｆ５値（５％伸長時強度），ヤング率ＪＩＳ−Ｚ
−１．．７０２に規定された方法にしたがって、インス
トロンタイプの引っ張り試験機を用いて、２５℃、６５
％ＲＨにて測定した。

（７）全反射ラマン結晶化指数 全反射ラマンスペクトルを測定し、カルボニル基の伸縮
振動である１７３０ｃｍ−’の半価幅をもって表面の全
反射ラマン結晶化指数とした。測定条件は次の通りであ
る。但し測定深さは、表面から５００〜１，ＯＯＯＡ程
度とした。

■光源 アルゴンイオンレーサー（５，　１４５　Ａ）■試料の
セッティング レーザー偏光方向（Ｓ偏光）とフィルム長手方向が平行
となるようにフィルム表面を全反射プリズムに圧着させ
、レーザーのブリズムへの入射角（フィルム厚さ方向と
の角度）は６０゜　とした。

■検出．器 ＰＭ：ＲＣ＾３１０３４／Ｐｈｏｔｏｎ　Ｃｏｕｎｔｉ
ｎｇ　Ｓｙｓｔｅｍ（Ｈａｍａｍａｔｓｕ　Ｃ１２３０
）　　（ｓｕｐｐｌｙ　１，６００Ｖ）■測定条件 ＳＬＩＴ　　　　　　　　１．０００　μｍＬＡＳＥＲ
　　　　　　　ｌ００ｍＷ ＧＡＴＥ　ＴＩＭＥ　　　　　ｌ．　ＯｓｅｃＳＣＡＮ
　ＳＰＥＥＤ　　　　　１２ｃｍ−’／ｍｉｎＳＡＭＰ
ＬＩＮＧ　ＩＮＴＥＲＶＡＬ　Ｏ．　２ｃｍＲＥＰＥＡ
Ｔ　ＴＩＭＥ　　　　６ （８）表面の分子配向（屈折率） ナトリウムＤ線（５８９ｎｍ）を光源として、アッペ屈
折率計を用いて測定した。マウント液にはヨウ化メチレ
ンを用い、２５℃、６５％ＲＨにて測定した。ポリマの
二軸配向性は長手方向、幅方向、厚さ方向の屈折率をＮ
１、Ｎ２、Ｎ３とした時、（Ｎｌ　−Ｎ２　’）の絶対
値が０．０７以下、かつ、Ｎ３　／　［　（Ｎｌ　＋Ｎ
２　）／２コが０．９５以下であることをひとつの基準
とできる。また、レーザー型屈折率計を用いて屈折率を
測定しても良い。さらに、この方法では測定が難しい場
合は全反射レーザーラマン法を用いることもできる。

レーザー全反射ラマンの測定は、Ｊｏｂｉｎ−Ｙｖｏｎ
社製Ｒａｍａｎｏｒ　Ｕ　−　１　０　０　０ラマンシ
ステムにより、全反射ラマンスペクトルを測定し、例え
ばＰＥＴの場合では、１６１５ｃｍ−’（ベンゼン環の
骨格振動）と１　７　３　０ｃｍ−’　（カルボニル基
の伸縮振動）のバンド強度比の偏光測定比（ＹＹ／ＸＸ
比など。ここでＹＹ：レーザーの偏光方向をＹにしてＹ
に対して平行なラマン光検出、ｘＸ：レーザーの偏光方
向をＸにしてＸに対して平行なラマン光検出）が分子配
向と対応することを利用できる。ボリマの二軸配向性は
ラマン測定から得られたパラメータを長手方向、幅方向
の屈折率に換算して、その絶対値、差などから判定でき
る。この場合の測定条件は次のとおりである。

■光源 アルゴンイオンレーザー（５１４５Ａ）■試料のセッテ
ィング フィルム表面を全反射プリズムに圧着させ、レーザのプ
リズムへの入射角（フィルム厚さ方向との角度）は６０
’　とした。

■検出器 ＰＭ　：　ＲＣＡ３１０３４／Ｐｈｏｔｏｎ　Ｃｏｕｎ
ｔｉｎｇ　Ｓｙｓｔｅｍ（Ｈａｍａｍａｆｓｕ　Ｃｌ２
３０）　　（ｓｕｐｐｌｙ　１６００Ｖ）■測定条件 ＳＬＩＴ　　　　　　　　１０００μｍＬＡＳＥＲ　　
　　　　　ｌ００ｍＷ ＧＡＴＥ　ＴＩＭＥ　　　　　ｌ．　ＯｓｅｃＳＣＡＮ
　ＳＰＥＥＤ　　　　　１２ｃｍ−”／ｍｉｎＳＡＭＰ
ＬＩＮＧ　ＩＮＴＥＲＶＡＬ　Ｏ、２ｃｍ　−”ＲＥＰ
ＥＡＴ　ＴＩＭＥ　　　　６ （９）表層粒子濃度比 ２次イオンマススペクトル（ＳＩＭＳ）を用いて、フィ
ルム中の粒子に起因する元素のうち最も高濃度の元素と
熱可塑性樹脂の炭素元素の濃度比を粒子濃度とし、厚さ
方向の分析を行なう。ＳＩＭＳによって測定される最表
層粒子濃度（深さＯの点）における粒子濃度Ａとさらに
深さ方向の分析を続けて得られる最高濃度Ｂの比、Ａ／
Ｂを表層粒子濃度比と定義した。測定装置、条件は下記
のとおりである。

１次イオン種　　　：０２ １次イオン加速電圧：１２ＫＶ １次イオン電流　　：２００ｎＡ ラスター領域　　　：４００μｍ口 分析領域　　　　　：ゲート３０％ 測定真空度　　　　：　６．　　Ｏ　Ｘ　Ｉ　ＣＶ９Ｔ
ｏｒｒＥ−ＧＵＮ　　　　　：０．５ＫＶ−３．ＯＡ（
１０）表面突起の高さ、高さ分布、個数２検出器方式の
走査型電子顕微鏡［ＥＳＭ−３２００、エリオニクス（
株）製コと断面測定装置［ＰＭＳ−１、エリオニクス（
株）製］においてフィルム表面の平坦面の高さをＯとし
て走査した時の突起の高さ測定値を画像処理装置［ＩＢ
ＡＳ２　０　０　０，カールツアイス（株）製］に送り
、画像処理装置上にフィルム表面突起画像を再構築する
。次に、この表面突起画像で突起部分を２値化して得ら
れた個々の突起の面積から円相当径を求めこれをその突
起の平均径とする。また、この２値化された個々の突起
部分の中で最も高い値をその突起の高さとし、これを個
々の突起について求める。この測定を場所をかえて５０
０回繰返し、突起個数を求め、測定された全突起につい
てその高さの平均値を平均高さとした。また個々の突起
の高さデータをもとに、高さ分布の標準偏差を求めた。

相対標準偏差はこの標準偏差を平均高さで割った値であ
る。また走査型電子顕微鏡の倍率は、１０００〜８００
０倍の間の値を選択する。なお、場合によっては、高精
度光干渉式３次元表面解析装置（ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ
−３Ｄ，対物レンズ＝４０〜２００倍、高解像度カメラ
使用が有効）を用いて得られる高さ情報を上記ＳＥＭの
値に読み替えて用いてもよい。

（１１）バックコートの表面粗さパラメータＲａ表面粗
さ計を用いて測定した。条件は下記のとおりであり、２
０回の測定の平均値をもって値とした（小坂研究所製薄
膜段差測定機ＥＴ−１０による）。

・触針先端半径：０．５μｍ ・触針荷重　　：５ｍｇ ・測定長　　　：１ｍｍ ・カットオフ値：０，０８ｍｍ （１２）積層厚さ ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層か
ら深さ３０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内もっ
とも高濃度の粒子に起因する元素と熱可塑性樹脂の炭素
元素の濃度比（Ｍ＋／Ｃ＋）を粒子濃度とし、表面から
深さ３０００ｎｍまで厚さ方向の分析を行なう。表層で
は表面という界面のために粒子濃度は低く表面から遠ざ
かるにつれて粒子濃度は高くなる。本発明を構戚する望
ましいフィルムの場合は、通常、いったん極大値となっ
た粒子濃度がまた減少し始める。この濃度分布曲線をも
とに表層粒子濃度かの極大値の１７２となる深さ（この
深さは極大値となる深さよりも深い）を求め、これを積
層厚さとした。条件は次の通り。

（１）測定装置 ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ） 西独、ＡＴＯ旧ＫＡ社製　Ａ−［ＤＡ３［１Ｇ［１（２
）測定条件 １次イオン種　：０２ １次イオン加速電圧：１２ＫＶ １次イオン電流：２００ｎＡ ラスター領域：　４００μｍ口 分析領域：ゲート３０％ 測定真空度：　５．　　Ｏ　Ｘ　１　０−’ＴｏｒｒＥ
−ＧＵＮ：０．５ＫＶ−３．ＯＡ なお、表層から深さ３０００ｎｍの範囲にもっとも多く
含有する粒子が有機高分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測
定が難しいので、表面からエッチングしなからＸＰＳ（
Ｘ線光電子分光法）、ＩＲ（赤外分光法）などで上記同
様のデプスプロファイルを測定し積層厚さを求めても良
いし、また、電子顕微鏡等による断面観察で粒子濃度の
変化状態やコントラストの差から界面を認識し積層厚さ
を求めることもできる。

（１４）磁気記録媒体のＳ／Ｎ 磁気記録媒体をＶＴＲカセットに組み込み８ｍｍＶＴＲ
テープとした。このテープに家庭用ＶＴＲを用いてシバ
ソク製のテレビ試験波形発生器（ＴＧ７／Ｕ７０６）に
より１００％クロマ信号を記録し、その再生信号からシ
バソク製カラービデオノイズ測定器（９２５Ｄ／１）で
クロマＳ／Ｎを測定した。

このクロマＳ／Ｎを市販されているＨｉ８テープ（ハイ
バンド用８ｍｍ塗布型ＶＴＲテープ、ＳＯＮＹ製Ｈｉ８
ＭＰ１２０）と比較して、Ｓ／Ｎが１（ＩＢ以上高い場
合はＳ／Ｎ良好、１ｄＢ未満の場合はＳ／Ｎ不良と判定
した。なお金属薄膜型の磁気テープの場合はＳＯＮＹ製
ハイバント用８ｍｍ金属薄膜型ＶＴＲテープ、Ｈｉ８Ｍ
Ｅ１２０と比較して、Ｓ／Ｎが１ｄＢ以上高い場合はＳ
／Ｎ良好、１ｄＢ未満の場合はＳ／Ｎ不良と判定した。

（１５）磁性面の耐久性 上記テープをＳＯＮＹ製Ｈｉ　８ＶＴＲを用いて４０℃
、８０％ＲＨの条件で１０００回再生、巻き戻しを繰り
返した後再度上記Ｓ／Ｎを測定しＳ／Ｎの低下が走行前
に比べて１ｄＢ未満の場合は耐久性良好、１ｄＢ以上の
場合は耐久性不良と判定した。

［実施例コ 本発明を実施例に基づいて説明する。

実施例１〜５、比較例１〜４、６ 平均粒径の異なる架橋ポリスチレン粒子、コロイダルシ
リカに起因する球形シリカ粒子等を含有するエチレング
リコールスラリーを調製し、常法によって該粒子を含有
するポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴと略す）
、ポリエチレン−２，６−ナフタレート（以下ＰＥＮ）
のペレットを作った（熱可塑性樹脂Ａ）。また、常法に
よって、コロイダルシリカに起因する球形シリカ粒子（
平均径０．　　２μｍ）を０．２重量％を含有するＰＥ
Ｔを製造し、熱可塑性樹脂Ｂとした。

これらのポリマをそれぞれ１８０℃で６時間減圧乾燥（
　３　Ｔｏｒｒ）　Ｌた後、熱可塑性樹脂Ｂを押出機１
に供給し３１０℃で溶融し、さらに、熱可塑性樹脂Ａを
押出機２に供給し、２８０℃で溶融し、これらのポリマ
を合流ブロックで合流積層し、静電印加キャスト法を用
いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけ
て冷却固化し、積層未延伸フィルムを作った。この時、
それぞれの押出機の吐出量を調節し総厚さ、熱可塑性樹
脂Ａ層（フィルム層Ａ）の厚さを調節した。

この未延伸フィルムを温度８０℃にて（熱可塑性樹脂Ｂ
がＰＥＮの場合は１４０℃）、長手方向に４．０倍延伸
した。この延伸は２組ずつのロールの周速差で、３段階
で行なった。この一軸延伸フィルムをステン夕を用いて
延伸速度５．　０００％／分で１００°Ｃ（熱可塑性樹
脂ＢがＰＥＮの場合は１４０℃）で幅方向に４。０倍延
伸し、さらに縦方向に１．６倍再延伸した後、定長下で
、２１０℃にて５秒間熱処理し、総厚さ７μｍの二軸配
向積層フィルムを得た。また公知の方法で０．３μｍ径
の球形シリカをフィルム全体に６重量％含有する総厚さ
７μｍの二軸配向単層フィルムを得た。

これらの基材フィルムに磁性塗料をグラビヤロールを用
いて、フィルム層Ａ側の面（特徴面）と反対側に塗布し
た。磁性塗料は次のようにして調製した。

・Ｆｅ（鉄）　　　　　　　　　　　１００部平均粒子
サイズ　長さ　：０．３μｍ 針状比：１０／１ 抗磁力　　　　　２０００　　０ｅ ポリウレタン樹脂　　　　　　　　１５部・塩化ビニル
・酢酸ビニル共重合体　　５部・ニトロセルロース樹脂
　　　　　　　５部・酸化アルミ粉末　　　　　　　　
　　３部平均粒径　　　　　　　：０．３μｍ ・カーボンブラック　　　　　　　　　１部・レシチン
　　　　　　　　　　　　　２部・メチルエチルケトン
　　　　　　１００部・メチルイソブチルケトン　　　
　１００部・トルエン　　　　　　　　　　　　１００
部・ステアリン酸　　　　　　　　　　　２部上記組或
物をボールミルで４８時間混合分散した後、硬化剤６部
を添加して得られた混練物をフィルターでろ過して磁性
塗布液を準備し、上記フィルム上に塗布、磁場配向させ
、１１０℃で乾燥し、さらに小型テストカレンダー装置
（スチールロール／ナイロンロール、５段）で、温度、
線圧を変更してカレンダー処理した後ロール状に巻とり
、１０〜１５０℃の範囲で温度を変更して、４８時間キ
ュアリングした。次に下記組成物をボールミルにて４８
時間混合し、これにコロネートＬを２８　５重量部添加
してバックコート層塗料をを作成し、これを磁性層と反
対側の面に乾燥厚さが０．８μｍとなるようにバックコ
ートして、その後８ｍｍ幅にスリットして塗布型磁気記
録媒体を得た。

（バックコート層組成） ・ＬｉＡＩＯ２　（粒径０．２μｍ） ＝１０重量部 ・カーボンブラック（粒径２４ｎｍ，キャボット製“ブ
ラックパールＬ”）：９０重量部・塩化ビニルー酢酸ビ
ニル共重合体（結合剤）：３０重量部 ・ポリウレタン（結合剤，日本ポリウレタン製Ｎ５０３
３）　　　　　　　：２０重量部・プチルステアレート
（潤滑剤）：１重量部・メチルエチルケトン（溶剤）：
２００重量部・メチルイソブチルケトン（溶剤） ：５０重量部 ・トルエン（溶剤）　　　　　　：５０重量部実施例６
〜８、比較例５ 上記方法と同様の方法で製造された基材フィルムの片面
に、まず実施例１に用いたバックコート層を厚さ０．５
μｍとなるよう塗設し、その後、その反対側に電子ビー
ム蒸着法（最小入射角＝５０゜の斜方蒸着）でコバルト
／ニッケル合金（ｃｏ／Ｎ　ｉ　＝７　５／２　５重量
比）を蒸着し、厚さ１０００Ａの金属薄膜型磁気記録媒
体を得た。次にこのテープ原反を８Ｍ幅にスリットし金
属薄膜型磁気記録テープを得た。

これらの磁気記録媒体の特性は第１表に示したとおりで
あり、本発明の要件を満足する金属薄膜型磁気記録テー
プは、Ｓ／Ｎが高く、かつ繰り返し走行させた後のＳ／
Ｎ低下小さく耐久性に優れているが、そうでない場合は
上記を満足する磁気記録テープは得られないことがわか
る。

［発明の効果コ 本発明は、磁気記録テープの基材フィルムおよびテープ
構成を特定なものとしたため、磁性層との特異な相互作
用によって、ノイズの発生は小さく押さえながらその耐
摩耗性を向上できたので、Ｓ／Ｎが高く、かつ繰り返し
走行させた後のＳ／Ｎ低下が小さく耐久性に優れる磁気
記録テープが得られたものである。

本発明の磁気記録媒体はビデオテープ、フロッピーディ
スク、ビデオフロッピー、オーディオテープ、メモリー
テープ等全ての用途に有用であるが、高密度記録の８ｍ
ｍビデオ、８ｍｍハイバンドビデオ、ＳＶＨＳビデオ、
デジタルビデオ用、ＨＤＴＶ用（ハイビジョン等の高品
位テレビ）等の高密度磁気記録媒体あるいは繰り返し使
用が多いソフト用ビデオテープ等に特に有用である。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）厚さ２〜２５μｍの二軸配向熱可塑性樹脂フィル
   ムの片面に磁性層を設けてなる磁気記録テープであって
   、該フィルムの少なくとも片面に熱可塑性樹脂Ａと粒子
   を主成分とする厚さ０．００５〜３μｍのフィルム層Ａ
   を有し、かつ、該フィルム層Ａ中に含有される粒子の平
   均粒径がフィルム層Ａの厚さの０．１〜１０倍、該粒子
   の含有量がフィルム層Ａに対して２〜３０重量％である
   ことを特徴とする磁気記録テープ。
2. （２）厚さ２〜２５μｍの二軸配向熱可塑性樹脂フィル
   ムの片面に磁性層を設けてなる磁気記録テープであって
   、該フィルムの少なくとも片側表面に形成された表面突
   起ついて、全突起数が１万〜１０億個／ｍｍ＾２であり
   、かつ、その突起平均高さの１／３以下の高さの突起数
   が全突起数の１５％以下であることを特徴とする磁気記
   録テープ。
3. （３）磁性層の反対側に厚さ０．１〜１．５μｍのバッ
   クコート層を設けてなる請求項（１）または（２）記載
   の磁気記録テープ。
4. （４）バックコート層の表面平均粗さＲａが０．１μｍ
   以下である請求項（３）記載の磁気記録テープ。
5. （５）テープの幅が１５ｍｍ以下であることを特徴とす
   る請求項（１）〜（４）のいずれかに記載の磁気記録テ
   ープ。