JPH03198218A

JPH03198218A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH03198218A
Application number: JP1337281A
Authority: JP
Inventors: Koichi Abe; 晃一阿部; Iwao Okazaki; 巌岡崎; Shoji Nakajima; 彰二中島
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1989-12-25
Filing date: 1989-12-25
Publication date: 1991-08-29
Anticipated expiration: 2010-12-18
Also published as: JPH07118078B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は塗布型磁気記録媒体に関するものである。

［従来の技術］塗布型磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルムに
塗布型磁性層を設けてなる磁気記録媒体が知られている
（たとえば特開昭６０−６６３１９号公報）。

［発明が解決しようとする課題］磁気記録媒体は高密度記録におけるＳ／Ｎ　（シグナル
／ノイズの比であり高いほど画質が良好となる）を高く
するため磁性層表面はますます平滑化されている。しか
し、磁性層の表面が平滑になると走行時の摩擦係数が大
きくなりその耐久性が不良となり、使用時の繰返し走行
によるＳ／Ｎの低下が大きくなるという問題点があった
。また磁性層の表面を粗くして耐久性を向上させようと
するとＳ／Ｎが低くなるというジレンマを抱えていた。

本発明はかかる課題を改善し、Ｓ／Ｎが高くかつ繰返し
走行によるＳ／Ｎの低下の小さい磁気記録媒体を提供す
ることを目的とする。

［課題を解決するための手段］本発明は、基材フィルムの少な（とも片面に塗布型磁性
層を設けてなる磁気記録媒体であって、該磁性層の表面
の凸凹のピーク数（Ｓ　Ｐ　ｃ）が１００以上、かつ、
１０点平均粗さＳＲｚが５００ｎｍ以下であることを特
徴とする磁気記録媒体としたものである。

本発明の基材フィルムを構成する熱可塑性樹脂はポリエ
ステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフェニレン
スルフィドなど特に限定されることはないが、特に、ポ
リエステル、中でも、エチレンテレフタレート、エチレ
ンα、β−ビス（２クロルフエノキシ）エタン−４，４
′−ジカルボキシレート、エチレン２，６−ナフタレー
ト単位から選ばれた少なくとも一種の構造単位を主要構
成成分とする場合に走行性がより一層良好となるので望
ましい。

また、上記の基材フィルムが下記特徴を有している場合
に、本発明の磁性層表面を得るのにきわめて有効であり
、また、Ｓ／Ｎを一層高く、Ｓ／Ｎ低下を一層小さくで
きるので望ましい。すなわち、 ■　基材フィルムが、その少なくとも片側表層に熱可塑
性樹脂Ａと粒子を主成分とする厚さ０゜００５〜３μｍ
１好ましくは０．０１〜２μｍ、さらに好ましくは０．
０３〜０．８μｍのフィルム層Ａ　（Ａ層の表面が特徴
面）を有する二軸配向熱可塑性樹脂フィルムであって、
該フィルム層Ａ中に含有される粒子の平均粒径がフィル
ム層Ａの厚さの０．１〜１０倍、好ましくは０．４〜５
倍、さらに好ましくは１．１〜３倍、該粒子の含有量が
１〜３０重量％、好ましくは２〜２０重量％、さらに好
ましくは３〜１５重量％である場合、■　基材フィルム
が二軸配向熱可塑性樹脂フィルムであり、その少なくと
も片面（特徴面）の表面突起の平均高さがフィルム中の
粒子の平均粒径の１／４以上、好ましくは１／３．５以
上、さらに好ましくは１／３以上であり、かつ、突起個
数が１万個／ｍｍ２以上、好ましくは５万個／　ｍ　ｍ
２以上、さらに好ましくは１０万個／ｍｍ２以上である
場合、 ■　基材フィルムが二軸配向熱可塑性樹脂フィルムであ
り、その少なくとも片面の表面（特徴面）について、フ
ィルム中の粒子の平均粒径の１／３以下の高さの突起数
が全突起数の７０％以下、好ましくは６５％以下、さら
に好ましくは６０％以下である場合、 ■　基材フィルムが二軸配向熱可塑性樹脂フィルムであ
り、その少なくとも片面（特徴面）の表面突起高さ分布
の相対標準偏差が０．６０以下、好ましくは０．５５以
下、さらに好ましくは０゜５０以下である場合、 ■　基材フィルムが二軸配向熱可塑性樹脂フィルムであ
り、その長手方向のＦ５値が１５ｋｇ／ｍｍ２以上、好
ましくは１８ｋｇ、／ｍｍ２以上である場合である。

ここで上記■の場合の熱可塑性樹脂Ａの種類は特に限定
されないが、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミ
ド、ポリフェニレンスルフィドなど結晶性の熱可塑性樹
脂、中でもポリエステル、ポリフェニレンスルフィド、
特にポリエステルが好ましく用いられる。また、ポリエ
ステルの中でも、エチレンテレフタレート、エチレンα
、β−ビス（２−クロルフェノキシ）エタン−４，４′
〜ジカルボキシレート、エチレン２．６−ナフタレート
単位から選ばれた少なくとも一種の構造単位を主要構成
成分とするものが本発明範囲の表面形態を得るのに望ま
しい。ここでいう結晶性とはいわゆる非晶質ではないこ
とを示すものであり、定量的には示差走査熱量計（Ｄ　
Ｓ　Ｃ）による昇温速度１０℃／分の熱分析によって融
点が検出され、好ましくは結晶化パラメータΔＴｃｇが
１５０℃以下のものである。さらに、示差走査熱量計で
測定された融解熱（融解エンタルピー変化）が７．５ｃ
ａｌ／ｇ以上の結晶性を示す場合にＳ／Ｎがより一層良
好となるのできわめて望ましい。

またフィルム層Ａ中の粒子は、特に限定されないが、粒
径比（粒子の長径／短径）が１．０〜１゜３の球形状の
粒子の場合に本発明の磁性層表面形態が得られやすく、
また、Ｓ／Ｎを一層高く、Ｓ／Ｎ低下を一層小さ（でき
るので望ましい。

またフィルム層Ａ中の粒子の相対標準偏差が０゜６以下
、好ましくは０．５以下の場合に本発明の磁性層表面形
態が得られやすく、また、Ｓ／Ｎを一層高く、Ｓ／Ｎ低
下を一層小さくできるので望ましい。

粒子の種類として、上記の望ましい特性を満足するには
コロイダルシリカに起因する実質的に球形のシリカ粒子
、架橋高分子による粒子（たとえば架橋ポリスチレン、
シリコーン、ポリイミド等）などがあるが、これらに限
定されるわけではなく、製膜方法の工夫により他の粒子
、例えば二酸化チタン、アルミナ、炭酸カルシウム、カ
オリナイトなど従来公知の粒子でも使いこなし得るもの
である。

粒子の大きさは、特に限定されないが平均粒径（直径）
が５〜２０００ｎｍ、特に１０〜１５００ｎｍ、さらに
１０〜５００ｎｍの場合に本発明の磁性層表面形態が得
られやすく、また、Ｓ／Ｎを一層高く、Ｓ／Ｎ低下を一
層小さくできるので望ましい。

またフィルム層Ａ以外の熱可塑性樹脂部分にも本発明に
支障のない範囲で、好ましくは１重量％以下の範囲で、
フィルム層Ａの粒子より大きい粒子、同じ大きさの粒子
、小さい粒子、あるいはそれらの混合物を含有していて
も良い。

また本発明の基材フィルムは熱可塑性樹脂と粒子からな
る組成物を主要成分とするが、本発明の目的を阻害しな
い範囲内で、他種ポリマをブレンドしてもよいし、また
酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤などの有機
添加剤が通常添加される程度添加されていてもよい。

また本発明を構成する基材フィルムの特徴面（フィルム
層Ａ面、あるいは表面形態が本願発明で規定する特定の
特性を有する面）の全反射ラマン結晶化指数は、２０ｃ
ｍ−’以下の場合に本発明の磁性層表面形態が得られや
すく、また、Ｓ／Ｎを一層高く、Ｓ／Ｎ低下を一層小さ
くできるので望ましい。

本発明を構成する基材フィルムの上記特徴面の２次イオ
ンマススペクトルによって測定される表層粒子濃度比は
特に限定されないが、表層粒子濃度比が１／１０以下、
特に１１５ｏ以下である場合に走行性、出力特性がより
一層良好となるので特に望ましい。この表層粒子濃度比
は従来の塗布法あるいは塗布・延伸法によっては得られ
ないものであり、表層粒子濃度比をこの範囲にしておく
ことにより本発明の磁性層表面形態が得られやすく、ま
た、Ｓ／Ｎを一層高く、Ｓ／Ｎ低下を一層小さくできる
ので望ましく、また、フィルム表面の耐削れ性が向上し
、製膜工程、磁性層塗布やカレンダー等の加工工程での
粒子脱落によるトラブルが大きく改善されるものである
。

本発明は上記の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの少なく
とも片面に塗布型磁性層を設けてなる磁気記録媒体であ
る。用いられる磁性粉末は特に限定されないが、酸化鉄
、酸化クロム、Ｃｏ被着酸化鉄などの酸化物、あるいは
、ＦｅＸＣｏ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−
Ｎｉ等の金属または合金、これらとＡ３　Ｃｒ、Ｓｉ等
との合金等が用いられるが、特に実質的に酸化物ではな
い金属単体（合金も含む）、すなわち磁性層がメタル塗
布型である場合に本発明の磁性層表面形態が得られやす
（、また、Ｓ／Ｎを一層高く、Ｓ／Ｎ低下を一層小さく
できるので望ましい。

磁性粉は各種バインダーを用いて磁性塗料とすることが
できるが、一般には熱硬化性樹脂系バインダーおよび放
射線硬化系バインダーが好ましく、その他添加剤として
分散剤、潤滑剤、帯電防止剤を常法に従って用いてもよ
い。例えば塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール
共重合体、ポリウレタンプレポリマおよびポリイソシア
ネートよりなるバインダーなどを用いることができる。

磁性層の厚さは特に限定されないが、０．５〜５μｍの
範囲としておくことが本発明の磁性層表面形態が得られ
やすく、また、Ｓ／Ｎを一層高く、Ｓ／Ｎ低下を一層小
さくできるので望ましい。

本発明の磁気記録媒体の磁性層の表面のピークカウント
ＳＰｃは１００以上、好ましくは１５０以上、さらに好
ましくは２００以上であることが必要である。ＳＰｃが
上記の範囲より小さいと繰り返し走行によるＳ／Ｎの低
下が大きくなり耐久性が不良となるので好ましくない。

ＳＰｃの上限は特に限定されないが通常５０００程度が
製造上の限界である。

また磁性層の表面のＳＲｚは５００ｎｍ以下、好ましく
は４００ｎｍ以下、さらに好ましくは２００ｎｍ以下で
あることが必要である。ＳＲｚが上記の範囲より大きい
とＳ／Ｎが低くなり画質が不良となり、またＳ／Ｎ低下
も大きくなりやすいので好ましくない。ＳＲｚの下限は
特に限定されないが通常５ｎｍ程度が製造上の限界であ
る。

また本発明の磁気記録媒体は、磁性層が片面のみの場合
にはその反対側にいわゆるバックコート処理が施されて
いてもよい。この場合のバックコート層の厚さは０．１
〜１．５μｍ１表面平均粗さＲａは５〜２００ｎｍ１好
ましくは１０〜１０Ｑｎｍの範囲の場合に本発明の磁性
層表面形態が得られやすく、また、Ｓ／Ｎを一層高く、
Ｓ／Ｎ低下を一層小さ（できるので望ましい。

次に本発明の磁気記録媒体の製造方法について説明する
。

まず、基材に望ましい、特徴面を有する二軸配向熱可塑
性樹脂フィルムの製法を説明する。

熱可塑性樹脂に粒子を含有せしめる方法としては、粒子
をエチレングリコールのスラリーとし、重合時に添加す
るかまたはベント方式の２軸混練押出機を用いて熱可塑
性樹脂に添加する方法が、延伸破れなく、本発明に望ま
しい基材フィルムを得るのにきわめて有効である。

粒子の含有量を調節する方法としては、上記方法で高濃
度マスターを作っておき、それを製膜時に粒子を実質的
に含有しない熱可塑性樹脂で希釈して粒子の含有量を調
節する方法が有効である。

次に、粒子を含有する熱可塑性樹脂Ａのペレットを必要
に応じて乾燥したのち、公知の溶融積層用押出装置に供
給し、スリット状のダイからシート状に押出し、キャス
ティングロール上で冷却固化せしめて、Ａ層の厚さがＡ
層に含有される粒子の平均粒径の０．８〜８０倍である
未延伸フィルムを作る。すなわち、２または３台の押出
し機、２または３層のマニホールドまたは合流ブロック
を用いて、熱可塑性樹脂Ａ、、Ｂを積層し、口金から２
または３層のシートを押し出し、キャスティングロール
で冷却して未延伸フィルムを作る。この場合、熱可塑性
樹脂Ａのポリマ流路に、スタティックミキサー、ギヤポ
ンプを設置する方法は延伸破れなく、本発明に望ましい
基材フィルムを得るのにきわめて有効である。

また、合流ブロックとして合流部所面が矩形のフィード
ブロックを用いるのが本発明に望ましい基材フィルムを
得るのにきわめて有効である。

上記の説明は構成として、主としてＡ／ＢＸＡ／Ｂ／Ａ
について述べたが（Ａ層面が特徴面）、Ａ／Ｂ／Ｃの構
成の場合は３台の押出機を用いて同様に、３層のマニホ
ールドまたは合流ブロックを用いて、熱可塑性樹脂Ａ、
ＢＳＣを積層し、口金から３層のシートを押し出し、キ
ャスティングロールで冷却して未延伸フィルムを作る。

いずれの場合もＡ、Ｂ、Ｃは同じ熱可塑性樹脂でも異な
っていてもよい（Ａ、Ｃ層の面が特徴面）。

次にこの未延伸フィルムを二軸延伸し、二軸配向せしめ
る。延伸方法としては、公知の縦→横または横→縦の順
で行なう逐次二軸延伸法または同時二軸延伸法を用いる
ことができる。延伸条件は熱可塑性樹脂の種類により一
層には言えないが、延伸倍率としては縦倍率と横倍率の
積を８倍以上にすることが望ましい粒径と積層厚さの関
係を得て表面形態を最適化し、特徴面近傍のポリマ分子
を二軸配向させ、かつフィルム全体の望ましい機械特性
を得るのに有効である。特徴面近傍のポリマ分子が二軸
配向していることが本フィルムが塗布法あるいは塗布・
延伸法によって作られるフィルムと大きく異なる点であ
り、本発明の磁性層表面形態が得られやす（、また、Ｓ
／Ｎを一層高く、Ｓ／Ｎ低下を一層小さくできるので望
ましく、また、フィルム表面の耐削れ性が向上し、製膜
工程、磁性層塗布やカレンダー等の加工工程での粒子脱
落によるトラブルが大きく改善されるものである。

また上記二軸配向フィルムをさらに少なくとも一方向に
再延伸する方法が望ましい機械特性を得るのに有効であ
る。次にこの延伸フィルムを熱可塑性樹脂樹脂の融点〜
融点−１００℃の温度範囲で０．５〜６０秒行なうのが
好適である。

次に、この基材フィルムに所定の磁性層を塗布する。磁
性層を塗布する方法は公知の方法で行なうことができる
が、グラビヤロールやギーサで塗布する方法が本発明の
磁性層表面形態が得られやすく、また、Ｓ／Ｎを一層高
く、Ｓ／Ｎ低下を一層小さくできるので望ましい。

塗布後の乾燥工程は、温度を９０〜１２０℃とするのが
好ましい。

また、カレンダー工程は、ポリアミド系樹脂またはポリ
エステル系樹脂を弾性ロールに用い、２５〜９０℃の温
度範囲で行なうのが本発明の磁性層表面形態が得られや
すく、また、Ｓ／Ｎを一層高く、Ｓ／Ｎ低下を一層小さ
くできるので望ましい。またカレンダー時の圧力は１０
０〜５００ｋｇ／ｃｍの範囲が本発明の磁性層表面形態
が得られやすく、また、Ｓ／Ｎを一層高く、Ｓ／Ｎ低下
を一層小さくできるので望ましい。

次に磁性層が塗布された原反を巻とってロールの形で磁
性層硬化のためにキュアする。キュアの温度条件は４０
〜１００℃の範囲が本発明の磁性層表面形態が得られや
すく、また、Ｓ／Ｎを一層高く、Ｓ／Ｎ低下を一層小さ
くできるので望ましい。

このような磁気記録媒体の製造条件の微調整でも本発明
の磁性層表面は得られるが、本発明に記載の好ましい基
材フィルムを用いて下記条件で製造した磁気記録媒体は
本発明の磁性層表面形態が得られやすく、また、Ｓ／Ｎ
を一層高く、Ｓ／Ｎ低下を一層小さくできるので特に望
ましい。

すなわち、 ■　基材フィルムの特徴面に磁性層塗布（特徴面に接着
性付与などのアンダーコート等の前処理をする場合も含
めて）する場合：基材フィルムの両面とも特徴面、塗布
面が特徴面、反対面が通常面に相当・カレンダー温度＝７５〜９０℃ ・カレンダー圧カニ　１７０〜５００ｋｇ／ｃｍ・キュ
ア温度　　＝４０〜７０℃ ◎　基材フィルムの特徴面の反対側に磁性層塗布する場
合：基材フィルムの塗布面が通常面、反対面が特徴面に
相当・カレンダー温度＝２０〜８０℃ ・カレンダー圧カニ　１００〜３００ｋｇ／ｃｍ・キュ
ア温度　　＝５５〜９０℃ さらに、この磁気記録媒体の原反（広幅）をスリットし
て磁気記録媒体を得る。また磁性層と反対側にバックコ
ートをする場合の時期は特に限定されず、磁性層塗布の
前、カレンダーの前、カレンダー後キユア前、キュア後
のいずれでも良い。

［物性の測定方法ならびに効果の評価方法］本発明の特
性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである
。

（１）粒子の平均粒径フィルム表面から熱可塑性樹脂をプラズマ低温灰化処理
法で除去し粒子を露出させる。処理条件は熱可塑性樹脂
は灰化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択す
る。これを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、粒子
の画像をイメージアナライザーで処理する。観察箇所を
変えて粒子数５．０００個以上で次の数値処理を行ない
、それによって求めた数平均径りを平均粒径とする。

Ｄ＝ΣＤｉ／Ｎここで、Ｄｉは粒子の円相光径、Ｎは粒子数である。

（２）粒径比上記（１）の測定において個々の粒子の（長径の平均値
）／（短径の平均値）の比である。すなわち、下式で求
められる。

長径＝ΣＤｌｉ／Ｎ短径＝ΣＤ２ｉ／ＮＤｌｉ、　Ｄ２ｉはそれぞれ個々の粒子の長径（最大径
）、短径（最短径）、Ｎは粒子数である。

（３）粒径の相対標準偏差上記（１）の方法で測定された個々の粒径Ｄｉ１平均平
均径０干（＝（Σ（Ｄｉ　−Ｄ）　２／Ｎ）　”’　）を平均径
りで割った値（σ／Ｄ）で表わした。

（４）粒子の含有量熱可塑性樹脂は溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択し
、粒子を熱可塑性樹脂から遠心分離し、粒子の全体重量
に対する比率（重量％）をもって粒子含有量とする。

（５）結晶化パラメータΔＴａｇ，融解熱示差走査熱量
計（Ｄ　Ｓ　Ｃ）を用いて測定した。

ＤＳＣの測定条件は次の通りである。すなわち、試料１
０ｍｇをＤＳＣ装置にセットし、３００℃の温度で５分
間溶融した後、液体窒素中に急冷する。

この急冷試料を１０℃／分で昇温し、ガラス転移点Ｔｇ
を検知する。ざらに昇温を続け、ガラス状態からの結晶
化発熱ピーク温度をもって冷結晶化温度Ｔｃｃとした。

さらに昇温を続け、融解ピークから融解熱を求めた。こ
こでＴｃｃとＴｇの差（Ｔｃｃ−Ｔｇ）を結晶化パラメ
ータΔＴｃｇと定義する。

（６）Ｆ５値Ｊ　Ｉ　５−Ｚ−１７０２に規定された方法にしたがっ
て、インストロンタイプの引っ張り試験機を用いて、２
５℃、６５％Ｒ　Ｈにて測定した。

（７）全反射ラマン結晶化指数全反射ラマンスペクトルを測定し、カルボニル基の伸縮
振動である１　７　３　０ｃｍ−”の半価幅をもって表
面の全反射ラマン結晶化指数とした。測定条件は次の通
りである。但し測定深さは、表面から５００〜１，０Ｏ
ＯＡ程度とした。

■光源アルゴンイオンレーザ−（５，　１４５人）■試料のセ
ツティングレーザー偏光方向（Ｓ偏光）とフィルム長手方向が平行
となるようにフィルム表面を全反射プリズムに圧着させ
、レーザーのプリズムへの入射角（フィルム厚さ方向と
の角度）は６０°　とした。

■検出器ＰＭ　：　ＲＣＡ３１０３４／Ｐｈｏｔｏｎ　Ｃｏｕｎ
ｔｉｎｇ　Ｓｙｓｔｅｍ（Ｈａｍａｍａｌｓｕ　Ｃ１２
３０）　　（ｓｕｐｐ１７　１，６００Ｖ）■測定条件５ＬＩＴ　　　　　　　　１，０００　ｔｔｍＬＡＳＥ
Ｒ　　　　　　　１００ｍＷＧＡＴＥ　ＴＩＭＥｌ．　０ｓｅｃＳＣＡＮ　５ＰＥＥＤ　　　　　１２ｃｍ−１／ｍｉｎ
ＳＡＭＰＬＩＮＧ　ＩＮＴＥＲＶＡＬ　Ｏ．　２ｃｍ　
−”ＲＥＰＥＡＴ　ＴＩＭＥ　　　　６（８）表面の分子配向（屈折率）ナトリウムＤ線（５８９ｎｍ）を光源として、アツベ屈
折率計を用いて測定した。マウント液にはヨウ化メチレ
ンを用い、２５℃、６５％ＲＨにて測定した。ポリマの
二軸配向性は長手方向、幅方向、厚さ方向の屈折率をＮ
１、Ｎ２、Ｎ３とした時、（Ｎｌ　−Ｎ２　’）の絶対
値が０．０７以下、かつ、Ｎ３　／　［　（Ｎｌ　＋Ｎ
２　）／２］が０．９５以下であることをひとつの基準
とできる。また、レーザー型屈折率計を用いて屈折率を
測定しても良い。さらに、この方法では測定が難しい場
合は全反射レーザーラマン法を用いることもできる。

レーザー全反射ラマンの測定は、Ｊｏｂｉｎ−Ｙｖｏｎ
社製Ｒａｍａｎｏｒ　Ｕ　−１０００ラマンシステムに
より、全反射ラマンスペクトルを測定し、例えばポリエ
チレンテレフタレートの場合では、１６１５　ｃ　ｍ　
−”（ベンゼン環の骨格振動）と１７３０ｃｍ−’（カ
ルボニル基の伸縮振動）のバンド強度比の偏光測定比（
ＹＹ／ＸＸ比など。ここでＹＹ：レーザーの偏光方向を
ＹにしてＹに対して平行なうマン光検出、ＸＸ：レーザ
ーの偏光方向をＸにしてＸに対して平行なうマン光検出
）が分子配向と対応することを利用できる。ポリマの二
軸配向性はラマン測定から得られたパラメータを長手方
向、幅方向の屈折率に換算して、その絶対値、差などか
ら判定できる。この場合の測定条件は次のとおりである
。

■光源アルゴンイオンレーザ−（５１４５Ａ）■試料のセツテ
ィングフィルム表面を全反射プリズムに圧着させ、レーザのプ
リズムへの入射角（フィルム厚さ方向との角度）は６０
°とした。

■検出器ＰＭ　：　ＲＣＡ３１０３４／Ｐｈｏｔｏｎ　Ｃｏｕｎ
ｔｉｎｇ　Ｓｙｓｔｅｍ（Ｈａｍａｍａｔｓｕ　Ｃ１２
３０）　　（ｓｕｐｐ１７１６００Ｖ）■測定条件５ＬＩＴ　　　　　　　　１０００μｍＬＡＳＥＲ１０
０ｍＷＧＡＴＥ　ＴＩＭＥ　　　　　１．０ｓｅｃＳＣＡＮ　
５ＰＥＥＤ　　　　　１２ｃｍ”／ｍｉｎＳＡＭＰＬＩ
ＮＧ　ＩＮＴＥＲＶＡＬ　Ｏ，２ｃｍ　−’ＲＥＰＥＡ
Ｔ　ＴＩＭＥ　　　　６（９）表層粒子濃度比２次イオンマススペクトル（ＳＸＭＳ）を用いて、フィ
ルム中の粒子に起因する元素のうち最も高濃度の元素と
熱可塑性樹脂の炭素元素の濃度比を粒子濃度とし、厚さ
方向の分析を行なう。ＳＩＭＳによって測定される最表
層粒子濃度（深さＯの点）における粒子濃度Ａとさらに
深さ方向の分析を続けて得られる最高濃度Ｂの比、Ａ／
Ｂを表層粒子濃度比と定義した。測定装置、条件は下記
のとおりである。

１次イオン種　　　＝０２１次イオン加速電圧＋１２ＫＶ１次イオン電流　　：２００ｎ＾ラスター領域　　　：４００μｍ口分析領域　　　　　：ゲート３０％測定真空度　　　　：　６．　　ＯＸ　１０−９Ｔｏｒ
ｒＥ−ＧＵＮ　　　　　：　０．５ＫＶ−３，０Ａ（１
０）表面突起の高さ、高さ分布、個数２検出器方式の走
査型電子顕微鏡［ＥＳＭ−３２００、エリオニクス（株
）製］と断面測定装置［ＰＭＳ−１、エリオニクス（株
）製］においてフィルム表面の平坦面の高さを０として
走査した時の突起の高さ測定値を画像処理装置［Ｉ　Ｂ
ＡＳ２０００、カールツアイス（株）製］に送り、画像
処理装置上にフィルム表面突起画像を再構築する。次に
、この表面突起画像で突起部分を２値化して得られた個
々の突起の面積から円相光径を求めこれをその突起の平
均径とする。また、この２値化された個々の突起部分の
中で最も高い値をその突起の高さとし、これを個々の突
起について求める。この測定を場所をかえて５００回繰
返し、突起個数を求め、測定された全突起についてその
高さの平均値を平均高さとした。また個々の突起の高さ
データをもとに、高さ分布の標準偏差を求めた。相対標
準偏差はこの標準偏差を平均高さで割った値である。ま
た走査型電子顕微鏡の倍率は、１０００〜８０００倍の
間の値を選択する。なお、場合によっては、高精度光干
渉式３次元表面解析装置（ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄ
、対物レンズ：４０〜２００倍、高解像度カメラ使用が
有効）を用いて得られる高さ情報を上記ＳＥＭの値に読
み替えて用いてもよい。

（１１）磁性層の表面形態小板研究所の非接触表面粗さ計ＨＩＰＯ８Ｓ（型式ＥＴ
−３０ＨＫ）を用いて３次元粗さを測定した。条件は下
記のとおりであり、２０回の測定の平均値をもって値と
した。

・縦倍率＝２万倍・横倍率＝５００倍拳カットオフ：０．０８ｍｍ・送りピッチ＝０．５μｍ・測定長　　：５００μｍ・測定面積　：０．０１９４ｍｍ２・走査速度　：１００μｍ／秒 −ＨＹ　Ｓ　Ｔ　　、±５ｎｍ平均表面粗さＳＲｚは上記測定によって得られる１０点
平均粗さ、ピーク数ＳＰｃは中心面±５ｎｍの領域を下
から横切って上に出ているピークを１個と数えた場合の
ピークの数、すなわちＨＹＳＴ：±５ｎｍにおけるピー
ク数であり、個１０゜１ｍｍ２に換算したものである。

（１２）バックコートの表面粗さパラメータＲａ表面粗
さ計を用いて測定した。条件は下記のとおりであり、２
０回の測定の平均値をもって値とした。

・触針先端半径：０．５μｍ・触針荷重　　：　５ｍｇ・測定長　　　：１ｍｍ・カットオフ値：０．０８ｍｍ（１３）基材フィルムの積層厚さ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層か
ら深さ３０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内もっ
とも高濃度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素
元素の濃度比（Ｍ”　／Ｃ”　）を粒子濃度とし、表面
から深さ３０００ｎｍまで厚さ方向の分析を行なう。表
層では表面という界面のために粒子濃度は低く表面から
遠ざかるにつれて粒子濃度は高くなる。本発明を構成す
る望ましいフィルムの場合は、通常ではいったん極大値
となった粒子濃度がまた減少し始める。この濃度分布曲
線をもとに表層粒子濃度かの極大値の１／２となる深さ
（この深さは極大値となる深さよりも深い）を求め、こ
れを積層厚さとした。条件は次の通り。

■　測定装置２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）西独、ＡＴＯＭＩＫＡ社製　Ａ−ＤＩＤＡ３０００■　
測定条件１次イオン種　二０２１次イオン加速電圧：１２ＫＶ１次イオン電流：２００ｎＡラスター領域２４００μｍ口分析領域：ゲート３０％測定真空度：　５．　　ＯＸ　１０−９ＴｏｒｒＥ−Ｇ
ＵＮ：０．５ＫＶ−３，ＯＡなお、表層から深さ３０００　ｎｍの範囲にもっとも多
く含有する粒子が有機高分子粒子の場合はＳ　ＩＭＳで
は測定が難しいので、表面からエツチングしなからＸＰ
Ｓ（Ｘ線光電子分光法）、ＩＲ（赤外分光法）などで上
記同様のデプスプロファイルを測定し積層厚さを求めて
も良いし、また、電子顕微鏡等による断面観察で粒子濃
度の変化状態やコントラストの差から界面を認識し積層
厚さを求めることもできる。

（１４）磁気記録媒体のＳ／Ｎ磁気記録媒体をＶＴＲカセットに組み込み８ｍｍ　Ｖ　
Ｔ　Ｒテープとした。このテープに家庭用ＶＴＲを用い
てシバツク製のテレビ試験波形発生器（ＴＧ７／Ｕ７０
６）により１００％クロマ信号を記録し、その再生信号
からシバツク製カラービデオノイズ測定器（９２５Ｄ／
１）でクロマＳ／Ｎを測定した。

このクロマＳ／Ｎを市販されているＨｉ８テープ（ハイ
バンド用８ｍｍＶＴＲテープ、５ＯＮＹ製Ｈｉ８ＭＰ１
２０）と比較して、Ｓ／Ｎが１ｄＢ以上高い場合はＳ／
Ｎ良好、１ｄＢ未満の場合はＳ／Ｎ不良と判定した。

（１５）磁性面の耐久性上記テープを５ＯＮＹ製Ｈｉ　８ＶＴＲを用いて４０℃
、８０％ＲＨの条件で１０００回再生、巻き戻しを繰り
返した後再度上記Ｓ／Ｎを測定しＳ／Ｎの低下が走行前
に比べて１ｄＢ未満の場合は耐久性良好、１ｄＢ以上の
場合は耐久性不良と判定した。

［実施例］本発明を実施例に基づいて説明する。

実施例１〜１０、比較例１〜６平均粒径の異なる架橋ポリスチレン粒子、コロイダルシ
リカに起因する球形シリカ粒子を含有するエチレングリ
コールスラリーを調製し、テレフタル酸ジメチルとエス
テル交換反応させ、重縮合し、該粒子を１〜３５重量％
含有するポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴと略
す）のペレットを作った（熱可塑性樹脂Ａ）。また、常
法によって、コロイダルシリカに起因する球形シリカ粒
子（平均径０．２μｍ）を０．２重量％を含有するＰＥ
Ｔを製造し、熱可塑性樹脂Ｂとした。

これらのポリマをそれぞれ１８０℃で６時間減圧乾燥（
３Ｔｏｒｒ）　した後、熱可塑性樹脂Ｂを押出機１に供
給し３１０℃で溶融し、さらに、熱可塑性樹脂Ａを押出
機２に供給し、２８０℃で溶融し、これらのポリマを合
流ブロックで合流積層し、静電印加キャスト法を用いて
表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷
却固化し、積層未延伸フィルムを作った。この時、それ
ぞれの押出機の吐出量を調節し総厚さ、熱可塑性樹脂Ａ
層の厚さを調節した。

この未延伸フィルムを温度８０℃にて長手方向に４．０
倍延伸した。この延伸は２組ずつのロールの周速差で、
３段階で行なった。この−軸延伸フィルムをステンタを
用いて延伸速度２，０００％／分で１００℃で幅方向に
４．０倍延伸し、さらに縦方向に１．６倍再延伸した後
、定長下で、１９０℃にて５秒間熱処理し、総厚さ７μ
ｍの二軸配向積層フィルムを得た。また公知の方法で０
．２μｍ径の球形シリカを０．２重量％および０．６μ
ｍの球形シリカを０．０５重量％をフィルム全体に含有
する総厚さ７μｍの二軸配向単層フィルムを得た。さら
に０．３μｍ径の球形シリカをフィルム全体に６重量％
含有する二軸配向単層フィルムを得た。

これらのフィルムに磁性塗料をグラビヤロールを用いて
、Ａ層側の面（特徴面）に塗布した。磁性塗料は次のよ
うにして調製した。

・Ｆｅ（鉄）　　　　　　　　　　１００部平均粒子サ
イズ　長さ　二０．３μｍ針状比：１０／１抗磁力　　　　　２０００　０ｅ・ポリウレタン樹脂　　　　　　　　１５部・塩化ビニ
ル・酢酸ビニル共重合体　　５部ニトロセルロース樹脂
　　　　　　　５部・酸化アルミ粉末　　　　　　　　
　　３部平均粒径　　　　　　　：０．３μｍ・カーボンブラック　　　　　　　　　１部・レシチン
　　　　　　　　　　　　　２部φメチルエチルケトン
　　　　　　１００部・メチルイソブチルケトン　　　
　１００部・トルエン　　　　　　　　　　　１００部
・ステアリン酸　　　　　　　　　　　２部上記組成物
をボールミルで４８時間混合分散した後、硬化剤６部を
添加して得られた混線物をフィルターでろ過して磁性塗
布液を準備し、上記フィルム上に塗布、磁場配向させ、
１１０℃で乾燥し、さらに小型テストカレンダー装置（
スチールロール／ナイロンロール、５段）で、温度、線
圧を変更してカレンダー処理した後ロール状に巻とり、
１０〜１５０℃の範囲で温度を変更して、４８時間キユ
アリングし塗布型磁気記録媒体を得た。

これらの磁気記録媒体の特性は第１表、第２表に示した
とおりであり、本発明の要件を満足する塗布型磁気記録
媒体は、Ｓ／間が高く、かつ繰り返し走行させた後のＳ
／Ｎ低下小さく耐久性に優れているが、そうでない場合
は上記を満足する磁気記録媒体は得られないことがわか
る。

［発明の効果］本発明は、磁気記録媒体の磁性層表面を従来と大幅に変
え、緻密な凸凹を多く形成した結果、ノイズの発生は小
さく押さえながらその耐摩耗性を向上できたので、Ｓ／
間が高く、かつ繰り返し走行させた後のＳ／Ｎ低下小さ
く耐久性に優れる磁気記録媒体が得られたものであり、
また特殊な基材フィルムを用いることにより、上記磁性
層の表面が得やすく、また、Ｓ／間を一層高く、Ｓ／Ｎ
低下を一層小さくできたものである。

本発明の磁気記録媒体はビデオテープ、フロッピーディ
スク、ビデオフロッピー、オーディオテープ、メモリー
テープ等全ての用途に有用であるが、高密度記録の８ｍ
ｍビデオ、８ｍｍハイバンドビデオ、５ＶＨＳビデオ、
デジタルビデオ用、ＨＤＴＶ　（ハイディフィニション
ＴＶ、高品位テレビ）用等の高密度磁気記録媒体あるい
は繰り返し使用が多いソフト用ビデオテープ等に特に有
用である。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）基材フィルムの少なくとも片面に塗布型磁性層を
設けてなる磁気記録媒体であって、該磁性層の表面の凸
凹のピーク数（ＳＰｃ）が１００以上、かつ、１０点平
均粗さＳＲｚが５００ｎｍ以下であることを特徴とする
磁気記録媒体。
（２）基材フィルムが、その少なくとも片側表層に熱可
塑性樹脂Ａと粒子を主成分とする厚さ０．００５〜３μ
ｍのフィルム層Ａを有する二軸配向熱可塑性樹脂フィル
ムであって、該フィルム層Ａ中に含有される粒子の平均
粒径がフィルム層Ａの厚さの０．１〜１０倍、該粒子の
含有量が１〜３０重量％であることを特徴とする請求項
（１）記載の磁気記録媒体。
（３）基材フィルムが二軸配向熱可塑性樹脂フィルムで
あり、その少なくとも片面の表面突起の平均高さがフィ
ルム中の粒子の平均粒径の１／４以上であり、かつ、突
起個数が１万個／ｍｍ＾２以上であることを特徴とする
請求項（１）記載の磁気記録媒体。
（４）基材フィルムが二軸配向熱可塑性樹脂フィルムで
あり、その少なくとも片面の表面について、フィルム中
の粒子の平均粒径の１／３以下の高さの突起数が全突起
数の７０％以下であることを特徴とする請求項（１）記
載の磁気記録媒体。
（５）基材フィルムが二軸配向熱可塑性樹脂フィルムで
あり、その少なくとも片面の表面突起高さ分布の相対標
準偏差が０．６以下であることを特徴とする請求項（１
）記載の磁気記録媒体。
（６）基材フィルムが二軸配向熱可塑性樹脂フィルムで
あり、その長手方向のＦ５値が１５ｋｇ／ｍｍ＾２以上
であることを特徴とする（１）〜（５）のいずれかに記
載の磁気記録媒体。
（７）磁性層がメタル塗布型であることを特徴とする請
求項（１）〜（６）のいずれかに記載の磁気記録媒体。