JP3277671B2 - 二軸配向積層ポリエステルフィルム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、優れた易滑性および耐
摩耗性を有する二軸配向積層ポリエステルフィルムに関
する。

【０００２】

【従来の技術】ポリエチレンテレフタレートに代表され
るポリエステルフィルムは磁気記録媒体の用の支持体と
して広く使用されている。磁気記録媒体用の支持体とし
ては電磁変換特性を損なわない平滑性とともに、走行性
や製造工程における搬送性、巻き取り性を高めるために
高度な易滑性が要求される。この易滑性を得るためにフ
ィルム中に粒子を添加して表面に突起をつくり摩擦を低
減する技術はよく知られている（例えば特開昭５９−１
７１６２３号公報）。しかし、上記従来の二軸配向フィ
ルムでは、例えば、磁気媒体用途における磁性層塗布、
カレンダー工程、あるいは、できたビデオテープ等をダ
ビングしてソフトテープ等を製造する工程等の工程速度
の増大に伴い、接触するロールやガイドでフィルム表面
に傷がつくという欠点があった。これを解決するために
フィルム中に高級脂肪酸エステルなどの潤滑剤を含有さ
せる技術が知られている（例えば特開昭６０−２９９３
０号公報）。

【０００３】

【本発明が解決しようとする課題】しかし、この場合に
はカレンダー工程、ダビング工程などで接触するロール
などを汚す欠点があった。さらに磁気記録媒体の製造工
程において磁性層が支持体上に設けられたあとに巻き取
られることにより潤滑剤が磁性層表面に転写して電磁変
換特性を劣化させ、ダビングにおける画質劣化を引き起
こすという問題があった。

【０００４】本発明はかかる問題点を改善し電磁変換特
性を劣化させることなく、また工程を汚さずかつ表面に
傷のつきにくいフィルムを提供することを課題とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】この目的に沿う本発明の
二軸配向積層フィルムは、ポリエステルおよび不活性粒
子を主成分とし表面の水に対する接触角が７５゜以上で
あるフィルムＡをポリエステルＢを主成分とするフィル
ムＢの少なくとも片面に積層してなる二軸配向フィルム
であって、前記フィルムＡの層の中心線表面粗さが０．
０５μm 以下であり、かつＡ層表面に設けられた突起の
平均高さｈと突起高さの標準偏差σの比σ／ｈが１．０
以下であることを特徴とする。

【０００６】本発明の二軸配向フィルムを主として構成
するポリエステルとしては特に限定されないが、エチレ
ンテレフタレ−ト、エチレンα，β−ビス（2-クロルフ
ェノキシ）エタン-4,4'-ジカルボキシレ−ト、エチレン
2,6-ナフタレ−ト単位から選ばれた少なくとも一種の構
造単位を主要構成成分とする場合に耐摩耗性、耐ダビン
グ性がより良好となるので好ましい。なかでも、エチレ
ンテレフタレ−トを主要構成成分とするポリエステルの
場合に耐ダビング性、耐摩耗性がより一層良好となるの
で特に好ましい。なお、本発明を阻害しない範囲内で、
２種以上のポリエステルを混合しても良いし、共重合ポ
リマを用いても良い。

【０００７】本発明においてポリエステルＢの少なくと
も片面に積層されるポリエステルＡの表面は水との接触
角が７５゜以上であることが必要であり、好ましくは８
０゜以上であると耐摩耗性、耐ダビング性が良好であ
る。Ａ層の表面における水との接触角が７５゜未満であ
ると高速ダビング機のガイドロールやビデオデッキある
いはカセットに設置されている金属ピンとフィルムとの
摩擦が大きくなるために摩耗しやすくなる。

【０００８】ポリエステルＡの表面における水との接触
角を７５゜以上にするための手段としては、テフロンに
代表されるような表面エネルギーの低い材質のロールで
フィルム表面を圧力をかけながら接触させる、一軸延伸
した後あるいは二軸延伸後に親水性官能基を有する有機
化合物を塗布する、親水性官能基を有する有機化合物を
製膜以前に練り込んでおくなどの方法があるが、親水性
官能基を有する有機化合物を製膜以前に練り込む方法は
フィルムが繰り返し摩擦を受ける場合にも効果が高く好
ましい。この場合親水性官能基としてはポリエステル中
の水酸基、カルボキシル基と酸塩基的相互作用、あるい
は水素結合的な相互作用を持つものであればどのような
官能基でもかまわない。官能基の具体例としてはカルボ
キシル基およびその塩、水酸基、スルホン基およびその
塩、リン酸基およびその一つないし２つの水酸基をエス
テル化したものなどがあげられる。このような有機化合
物の具体例としては炭素数１２以上３０以下の高級脂肪
酸（ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステア
リン酸、アラキン酸、ベヘン酸、セロチン酸、モンタン
酸、メリシン酸、リノール酸、リノレン酸など）、フッ
化アルキル基を有するカルボン酸およびその塩（パーフ
ルオロアルキルカルボン酸塩など）、フッ化アルキル基
を有するスルホン酸およびその塩（パーフルオロヘキセ
ニルオキシベンゼンスルホン酸塩など）、フッ化アルキ
ル基を有するリン酸類（パーフルオロアルキルリン酸エ
ステルなど）等があげられる。これらの有機化合物の含
有量は０．００１〜１０重量％の範囲が望ましく、より
好ましくは０．００５〜７重量％、さらに好ましくは
０．０１〜５重量％である。この範囲より含有量が少な
いと易滑効果が発揮されにくく、またこの範囲より含有
量が多いとこれらの化合物がフィルム表面からブリード
アウトしてフィルムや磁気材料の製造工程を汚すなどの
弊害が生じる場合がある。

【０００９】本発明の二軸配向フィルムにおいてポリエ
ステルＢを主成分とするフィルムの少なくとも片面に水
との接触角が７５゜以上の表面を有するポリエステルＡ
を主成分とするフィルムを積層する方法としては、共押
し出し、ラミネート（共押し出し除く）、コーティング
などがあげられるが、フィルム全体を一様に配向でき
る、積層厚みを均一にできる、また生産性が良いなどの
理由により次のような共押し出しによる方法が有効であ
る。

【００１０】所定のポリエステルＡ組成物とポリエステ
ルＢ組成物を公知の溶融積層用押し出し機に供給し、ス
リット状のダイからシート状に押し出し、キャスティン
グロール上で冷却固化せしめて未延伸フィルムを作る。
すなわち、２または３台の押し出し機、２または３層の
マニホールドまたは合流ブロックを用いて、ポリエステ
ルＡ、Ｂを積層し、口金から２または３層のシートを押
し出し、キャスティングロールで冷却して未延伸フィル
ムを作る。この場合、ポリエステルＡのポリマー流路に
スタチックミキサー、ギアポンプを設置する方法は延伸
破れなく、本発明範囲の厚さと平均粒径の関係、含有量
望ましい範囲の配向状態、表面粗さを得るのに有効であ
る。

【００１１】本発明の二軸配向フィルムは、上記未延伸
フィルムを二軸配向せしめたフィルムである。一軸ある
いは無配向フィルムでは耐スクラッチ性が不良となるの
で好ましくない。この配向の程度は特に限定されない
が、高分子の分子配向の程度の目安であるヤング率が長
手方向、幅方向ともに３５０kg/mm2以上である場合に耐
スクラッチ性がより一層良好となるので特に好ましい。
分子配向の程度の目安であるヤング率は通常、１５００
kg/mm2程度が製造上の限界である。延伸方法としては、
逐次二軸延伸法または同時二軸延伸法を用いることがで
きる。ただし、最初に長手方向、次に幅方向の延伸を行
なう逐次二軸延伸法を用いるのがよい。長手方向の延伸
を３段階以上に分けて、総縦延伸倍率は３. ０〜６. ５
倍、温度は８０〜１５０℃、延伸速度は5,000 〜50,000
％／分の範囲で行なう方法が有効である。幅方向の延伸
方法としては例えばステンタを用いる方法があげられ、
幅方向延伸倍率は３. ０〜６. ０倍、延伸速度は1,000
〜20,000％／分、温度は８０〜１６０℃の範囲が好まし
い。

【００１２】次にこの延伸フィルムを必要に応じて熱処
理してもよい。この場合の熱処理温度は１７０〜２２０
℃、特に１７０〜２１０℃、時間は０. ５〜６０秒の範
囲が好適である。

【００１３】また、本発明フィルムは、ヤング率が上記
範囲内であっても、フィルムの厚さ方向の一部分、例え
ば表層付近のポリマ分子の配向が無配向、あるいは一軸
配向になっていない、すなわち厚さ方向の全部分の分子
配向が二軸配向である場合に耐摩耗性、耐ダビング性が
より一層良好となる。特にアッベ屈折率計、レーザーを
用いた屈折率計、全反射レーザーラマン法などによって
測定される分子配向が、表面、裏面ともに二軸配向であ
る場合に耐スクラッチ性、耐ダビング性がより一層良好
となる。

【００１４】また、本発明の二軸配向フィルムが３層以
上の構造である場合は、耐スクラッチ性、耐ダビング性
の点から、前記の水との接触角が７５゜以上である表面
を有するフィルムが、３層構造からなる積層フィルムの
１つの最外層であることが好ましい。

【００１５】前記親水性官能基を有する有機化合物をフ
ィルムに添加する場合にもこのように薄膜積層部にのみ
添加することにより、フィルム全体に添加される場合に
比べて、ブリードアウトしにくく、フィルム全体の剛性
を低下させることがないので、磁気テープとして使用し
た時にエッジダメージを起こしにくいという効果があ
る。

【００１６】積層構成の、前記水との接触角が７５゜以
上である表面を有するフィルム層以外の層を構成するポ
リエステルとしては特に限定されないが、エチレンテレ
フタレ−ト、エチレンα，β−ビス（2-クロルフェノキ
シ）エタン-4,4'-ジカルボキシレ−ト、エチレン2,6-ナ
フタレ−ト単位から選ばれた少なくとも一種の構造単位
を主要構成成分とする場合に耐スクラッチ性、耐ダビン
グ性がより良好となるので好ましい。なかでも、エチレ
ンテレフタレ−トを主要構成成分とするポリエステルの
場合に耐ダビング性、耐スクラッチ性がより一層良好と
なるので特に好ましい。

【００１７】積層構成の、前記水との接触角が７５゜以
上である表面を有するフィルム層には易滑性をさらに高
めるために不活性粒子を含有していることが望ましい。
前記水との接触角が７５゜以上である表面を有するフィ
ルム層以外の層を構成するポリマ中にも、積層フィルム
表面を粗さないかぎり粒子を含有していてもかまわな
い。この場合添加される粒子としては、炭酸カルシウ
ム、アルミナ、シリカ、チタン、カーボンブラック、ポ
リジビニルベンゼンや架橋ポリスチレンなどの有機粒子
等が例示される。これらの粒子の粒径は０．００１〜５
μｍの範囲が好ましく、さらに好ましくは０．００５〜
２μｍである。また粒子の含有量は、０．００１〜１０
重量％の範囲が好ましく、さらに好ましくは０．０１〜
５重量％である。

【００１８】積層フィルムの表面粗さは中心線平均粗さ
で０．０５μm 以下であり、好ましくは０．０３μm 以
下である。この範囲よりも表面粗さが大きいとフィルム
上に設けられる磁性膜の電磁変換特性が劣化してしま
う。また、Ａ層表面に設けられた突起はなるべく高さが
均一であることが磁性膜の電磁変換特性を高める上で必
要である。即ち、Ａ層表面に設けられた突起の平均高さ
ｈと突起高さの標準偏差σの比σ／ｈが１．０以下であ
ることが必要である。この突起高さの均一性を得るため
にＡ層の膜厚が３μm 以下であるか、または全膜厚の１
０％以下であり、かつＡ層に含まれる不活性粒子の粒径
がＡ層の厚さの０．１から１０倍であるようにすること
が望ましい。このように積層厚みを薄く設定することに
より該層に粒子を含有させた場合、形成される突起の高
さが均一になり、また深層部に沈みこんだ粒子によって
形成されるフィルム表面のウネリが低減されるために、
耐ダビング性を損なうことなく耐摩耗性、易滑性を向上
することができる。

【００１９】本発明の二軸配向フィルムは、少なくとも
片面の突起個数が２×１０³ 〜５×１０⁵ 個／mm² であ
ることが好ましい。少なくとも片面の突起個数が上記範
囲より少なくても、また多くても耐ダビング性、耐スク
ラッチ性が悪化する傾向にある。少なくとも片面の突起
個数は、好ましくは３×１０³ 〜４×１０⁵ 個／mm²、
より好ましくは５×１０³ 〜３×１０⁵ 個／mm² であ
る。

【００２０】本発明における二軸配向フィルムは、磁気
記録媒体用の支持体として用いられるが、磁気媒体の製
造工程においてとくに強い圧力やせん断力による負荷を
受けるディジタルビデオあるいはディジタルオーディオ
などの高級メタルテープ用の支持体、ダビング工程にお
いて強度の摩耗負荷をうける高速ダビング用のビデオテ
ープの支持体として用いると特に有効である。

【００２１】［物性の測定方法ならびに効果の評価方
法］本発明の特性値の測定方法並びに効果の評価方法は
次の通りである。

【００２２】（１）粒子の平均粒径 フィルム断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用い、１
０万倍以上の倍率で観察する。ＴＥＭの切片厚さは約１
００ｎｍとし、場所を変えて１００視野以上測定する。
粒子の平均径は重量平均径から求める。また凝集粒子の
一次粒径は、凝集粒子の分割できない粒子最小単位につ
いての数平均径、凝集二次粒径は凝集体についての数平
均径である（それぞれ等価円相当径）。

【００２３】（２）粒子の含有量 ポリエステルは溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択
し、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重
量に対する比率（重量％）をもって粒子含有量とする。
場合によっては赤外分光法の併用も有効である。

【００２４】（３）フィルム積層厚み ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層か
ら深さ５０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子のうち最
も高濃度の粒子に起因する元素とポリマの炭素元素の濃
度比（Ｍ⁺ ／Ｃ⁺ ）を粒子濃度とし、表層から深さ５０
００ｎｍまで厚さ方向の分析を行う。表層では表面とい
う界面のために粒子濃度は低く表面から遠ざかるにつれ
て粒子濃度は高くなる。本発明フィルムの場合は、一旦
極大値となった粒子濃度がまた減少し始める。この濃度
分布曲線をもとに表層粒子濃度が極大値の１／２となる
深さ（この深さは極大となる深さよりも深い）を求め、
これを積層厚さとした。条件は次の通り。

【００２５】測定装置 ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ） 西独,ATOMIKA社製 A-DIDA3000 測定条件 １次イオン種 ： Ｏ₂ ⁺ １次イオン加速電圧： １２kV １次イオン電流 ： ２００nA ラスター領域 ： ４００μm 分析領域 ： ゲート３０％ 測定真空度 ： ６．０×１０^-9Torr Ｅ−ＧＵＮ ： ０．５kV−３．０A なお、表層から深さ５０００ｎｍの範囲に最も多く含有
する粒子が有機高分子の場合は、ＳＩＭＳでは測定が難
しいので、表面からエッチングしながらＸＰＳ（Ｘ線光
電子分光法）、ＩＲ（赤外分光法）などで上記同様のデ
プスプロファイルを測定し積層厚さを求めても良いし、
また電子顕微鏡等による断面観察で粒子濃度の変化状態
やポリマの違いによるコントラストの差から界面を認識
し積層厚さを求めることもできる。さらには積層ポリマ
剥離後、薄膜段差測定機を用いて求めることもできる。

【００２６】（４）表面の平均突起高さ及び高さの標準
偏差 ２検出方式の走査型電子顕微鏡[ESM-3200 、エリオニク
ス 製] と断面測定器[PSM-1、エリオニクス 製 ]にお
いてフィルム表面の平坦面の高さを０として走査した時
の突起高さ測定値を画像処理装置[IBAS2000 、カーリツ
ァイス 製] に送り、画像処理装置上にフィルム表面突
起像を再構築する。次に、この表面突起画像で突起部分
を２値化して得られた個々の突起の面積から円相当径を
求めこれをその突起の平均径にする。また、この２値化
された個々の突起部分の中で最も高い値をその突起の高
さとし、これを個々の突起について求める。この測定を
場所を変えて５００回繰り返し突起個数を求め、測定さ
れた全突起についてその高さの平均値を平均高さとし
た。また個々の突起高さデータをもとに、高さ分布の標
準偏差を求めた。走査型電子顕微鏡の倍率は、１０００
〜８０００倍の間の値を選択する。なお、場合によって
は、高精度光干渉式３次元表面解析装置（ＷＹＫＯ社製
ＴＯＰＯ−３Ｄ、対物レンズ：４０〜２００倍、高解像
度カメラ使用が有効）を用いて得られる高さ情報を上記
ＳＥＭの値に読み替えても良い。

【００２７】（５）中心線表面粗さＲａ 小坂研究所製の高精度薄膜段差測定器ＥＴ−１０を用い
て測定した。条件は下記のとおりであり、２０回の測定
の平均値をもって値とした。

【００２８】・触針先端半径： ０．５μｍ ・触針荷重 ： ５ｍｇ ・測定長 ： １ｍｍ ・カットオフ値： ０．０８ｍｍ なお、Ｒａの定義は例えば、奈良治郎著「表面粗さの測
定・評価法」（総合技術センター、１９８３）に示され
ているものである。

【００２９】（６）耐スクラッチ性 フィルムを幅1/2 インチのテ−プ状にスリットしたもの
をテ−プ走行性試験機を使用して、ガイドピン（表面粗
度：Ｒａで１００ｎｍ）上を走行させる（走行速度２５
０ｍ／分、走行回数１パス、巻き付け角：６０゜、走行
張力：９０ｇ）。この時、フィルムに入った傷を顕微鏡
で観察し、幅１μｍ以上の傷がテ−プ幅あたり２本未満
は優（○）、２本以上１０本未満は良（△）、１０本以
上は不良（×）と判定した。優が望ましいが、良でも実
用的には使用可能である。

【００３０】（７）耐ダビング性 フィルムに下記組成の磁性塗料をグラビヤロールにより
塗布し、磁気配向させ、乾燥させる。さらに、小型テス
トカレンダ−装置（スチ−ルロール／ナイロンロール、
５段）で、温度：７０℃、線圧：２００ｋｇ／ｃｍでカ
レンダ−処理した後、７０℃、４８時間キュアリングす
る。上記テ−プ原反を１／２インチにスリットし、パン
ケーキを作成した。このパンケーキから長さ２５０ｍの
長さをＶＴＲカセットに組み込みＶＴＲカセットテープ
とした。

【００３１】（磁性塗料の組成） ・Ｃｏ含有酸化鉄 ：１００重量部 ・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体 ： １０重量部 ・ポリウレタンエラストマ ： １０重量部 ・ポリイソシアネート） ： ５重量部 ・レシチン ： １重量部 ・メチルエチルケトン ： ７５重量部 ・メチルイソブチルケトン ： ７５重量部 ・トルエン ： ７５重量部 ・カーボンブラック ： ２重量部 ・ラウリン酸 ：１．５重量部 このテープに家庭用ＶＴＲを用いてテレビ試験波形発生
器により１００％クロマ信号を記録し、その再生信号か
らカラ−ビデオノイズ測定器でクロマＳ／Ｎを測定しＡ
とした。また上記と同じ信号を記録したマスタ−テープ
のパンケーキを磁界転写方式のビデオソフト高速プリン
トシステム（スプリンタ）を用いてＡを測定したのと同
じ試料テープ（未記録）のパンケーキへダビングした後
のテープのクロマＳ／Ｎを上記と同様にして測定し、Ｂ
とした。このダビングによるクロマＳ／Ｎの低下（Ａ−
Ｂ）が３ｄＢ未満の場合は耐ダビング性：優（○）、３
ｄＢ以上５ｄＢ未満の場合は良（△）、５ｄＢ以上は不
良（×）と判定した。優が望ましいが、良でも実用的に
は使用可能である。

【００３２】（８）エッジダメージ 前記家庭用ＶＴＲを用いてテープの先頭から５分間の部
分を４００回繰り返し再生モードで走行させたあと、テ
ープを観察し異常のないものを優（○）、テープの下エ
ッジがややわかめ状に波打っているが実用上問題のない
ものを良（△）、強くわかめ状あるいはのこぎり状にダ
メージを受けているものを不良（×）とした。

【００３３】（９）摩擦係数μｋ フィルムを幅１／２インチのテープ状にスリットしたも
のをテープ走行性試験機ＴＢＴ−３００型（（株）横浜
システム研究所製）を使用し、６０℃、８０％ＲＨ雰囲
気で走行させ、初期の摩擦係数を下記の式より求めた。

【００３４】μｋ＝０．７３３ｌｏｇ（Ｔ1 ／Ｔ2 ） ここでＴ1 は入り側張力、Ｔ2 は出側張力である。ガイ
ド径は６ｍｍφであり、ガイド材質はすＳ２７（表面粗
度０．２Ｓ）、巻き付け角は１８０゜、走行速度は３．
３ｃｍ／秒である。この測定によって得られたμｋが
０．３５以下の場合は摩擦係数良好（○）、０．３５を
越える場合は摩擦係数不良（×）と判定した。このμｋ
の値は磁気記録媒体、コンデンサ、包装用フィルムなど
を加工する時の臨界点である。

【００３５】（１０）接触角 ２０℃、５０％ＲＨの条件下で、マイクロメータを用い
てフィルム表面に純水を滴下し水滴とフィルム表面のな
す接触角を接触角計ＣＡ−Ｄ型（協和界面科学製）で測
定した。

【００３６】

【実施例】次に実施例に基づき、本発明をさらに詳細に
説明する。

【００３７】実施例１（表１、表２） 粒子中の組成がジビニルベンゼン８１％である０．４５
μｍのジビニルベンゼン粒子の水スラリーをステアリン
酸とともに直接ポリエチレンテレフタレートペレットと
混合し、ベント式の２軸混練押出機を用いて練り込み、
ポリエチレンテレフタレ−トのマスタペレットを得た。
さらに、粒子およびステアリン酸を含有しないポリエチ
レンテレフタレートのマスタペレットを得た。

【００３８】これらのポリマを適当量混合し（ポリマ
Ａ：無粒子、ジビニルベンゼン粒子およびステアリン
酸、ポリマＢ：無粒子）、１８０℃で８時間減圧乾燥
（３Torr）した後、それぞれ押出機１、押出機２に供給
し２９０℃、２８０℃で溶融した。これらのポリマを高
精度瀘過した後、矩形合流部にて３層積層とした（Ａ／
Ｂ／Ａ）。

【００３９】これを静電印加キャスト法を用いて表面温
度２５℃のキャスティング・ドラムに巻きつけて冷却固
化し、未延伸フィルムを作った。この時、口金スリット
間隙／未延伸フィルム厚さの比を１０とした。また、そ
れぞれの押出機の吐出量を調節し総厚さ、熱可塑性樹脂
Ａ層の厚さを調節した。

【００４０】この未延伸フィルムを温度８５℃にて長手
方向に３. ５倍延伸した。この延伸は２組ずつのロ−ル
の周速差で、４段階で行なった。この一軸延伸フィルム
をステンタを用いて延伸速度2,000 ％／分で１００℃で
幅方向に４. ０倍延伸し、定長下で、２００℃にて５秒
間熱処理し、総厚さ１５μｍ、積層部厚さ０．５μｍの
二軸配向積層フィルムを得た。このフィルムの特性は表
２に示したとおりであり、耐スクラッチ性、耐ダビング
性が良好であった。

【００４１】比較例１（表１、表２） 実施例１においてステアリン酸を添加せずに製膜を行っ
た。

【００４２】実施例２〜７、比較例４（表１、表２） 実施例１と同様にして、粒子の種類、親水性官能基を有
する有機化合物の種類、量を変更したフィルムを得た。

【００４３】比較例２、３（表１、表２） 実施例１と同様にして、矩形合流部にて２層積層したフ
ィルムを得た。また積層厚みを変化させて比較例２のフ
ィルムを得た。さらにステアリン酸のかわりにパーフル
オロヘキセニルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウムを
練り込み、比較例３を得た。

【００４４】表２に示すように本発明範囲のフィルムは
耐スクラッチ性、耐ダビング性が良好であるが、そうで
ないものは耐スクラッチ性、耐ダビング性を両立するこ
とができない。あるいはエッジダメージを起こし易い。

【００４５】

【表１】

【表２】

【００４６】

【発明の効果】本発明の二軸配向積層フィルムによれ
ば、表面の水に対する接触角が７５゜以上であるフィル
ムＡをポリエステルＢを主成分とするフィルムＢの少な
くとも片面に積層してなる二軸配向フィルムであって、
前記Ａ層の中心線表面粗さが０．０５μm 以下であり、
かつＡ層表面に設けられた突起の平均高さｈと突起高さ
の標準偏差σの比σ／ｈが１．０以下となるようにした
ことにより表面が傷つきにくく、また、磁気媒体用とし
た時に、優れたダビング特性、エッジダメージ特性を得
ることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B32B 1/00 - 35/00

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ポリエステルおよび不活性粒子を主成分
   とし表面の水に対する接触角が７５゜以上であるフィル
   ムＡをポリエステルＢを主成分とするフィルムＢの少な
   くとも片面に積層してなる二軸配向フィルムであって、
   前記Ａ層表面の中心線表面粗さが０．０５μm 以下であ
   り、かつＡ層表面に設けられた突起の平均高さｈと突起
   高さの標準偏差σの比σ／ｈが１．０以下である二軸配
   向積層ポリエステルフィルム。
2. 【請求項２】 前記Ａ層とＢ層が共押し出しにより積層
   されることを特徴とする請求項１の積層ポリエステルフ
   ィルム。
3. 【請求項３】 前記Ａ層の膜厚が３μm 以下であるか、
   または全膜厚の１０％以下であり、かつＡ層に含まれる
   不活性粒子の粒径がＡ層の厚さの０．１〜１０倍である
   ことを特徴とする請求項１ないし２の積層ポリエステル
   フィルム。
4. 【請求項４】 前記Ａ層が親水性官能基を有する有機化
   合物を含有することを特徴とする請求項１ないし３の積
   層ポリエステルフィルム。
5. 【請求項５】 前記親水性官能基を有する有機化合物が
   炭素数１２以上３０以下の高級脂肪酸であることを特徴
   とする請求項１ないし４の積層ポリエステルフィルム。
6. 【請求項６】 前記親水性官能基を有する有機化合物が
   フッ化アルキル基を有することを特徴とする請求項１な
   いし４の積層ポリエステルフィルム