JPH03198822A - 無菌性調理板 - Google Patents
無菌性調理板Info
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- JPH03198822A JPH03198822A JP1338948A JP33894889A JPH03198822A JP H03198822 A JPH03198822 A JP H03198822A JP 1338948 A JP1338948 A JP 1338948A JP 33894889 A JP33894889 A JP 33894889A JP H03198822 A JPH03198822 A JP H03198822A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
、[産業上の利用分野]
本発明は、まな板、チーズボード、ケーキラック等の調
理板に関し、特に調理板の表面部を半永久的に無菌状態
で保持することができる無菌性調理板に関する。
理板に関し、特に調理板の表面部を半永久的に無菌状態
で保持することができる無菌性調理板に関する。
[従来の技術]
いわゆるまな板などの調理板は、食品を包丁で切るため
の板であるために特に衛生状態を注意しなくてはならな
い調理用具である。
の板であるために特に衛生状態を注意しなくてはならな
い調理用具である。
従来から、まな板としての必要な条件とされているのは
、板面の耐水性、包丁の刃こぼれしない程度の硬さ、よ
ごれに(いこと、あくが出ないことが挙げられる。まな
板の材質として木製の場合は、朴、銀杏、柳、檜などが
使われ合成樹脂では、ニトリルブタジェンゴム(NBR
)、ポリエチレンブタジェンゴム等がよく使用される。
、板面の耐水性、包丁の刃こぼれしない程度の硬さ、よ
ごれに(いこと、あくが出ないことが挙げられる。まな
板の材質として木製の場合は、朴、銀杏、柳、檜などが
使われ合成樹脂では、ニトリルブタジェンゴム(NBR
)、ポリエチレンブタジェンゴム等がよく使用される。
まな板は一般的に使用することにより次第に表面にキズ
が付き、その内に入り込んだ食品の液汁を栄養源として
細菌が繁殖しやすく、使用後に衛生管理の点より充分洗
浄、殺菌する等衛生的に使用するには、多くの困難さ力
Sあった。
が付き、その内に入り込んだ食品の液汁を栄養源として
細菌が繁殖しやすく、使用後に衛生管理の点より充分洗
浄、殺菌する等衛生的に使用するには、多くの困難さ力
Sあった。
この対策として、人体に対する安全性が高い抗菌性イオ
ン含有ゼオライト(所謂抗菌性ゼオライト)を練り込ん
だ調理板が提案されている(実願昭62−201600
号)。
ン含有ゼオライト(所謂抗菌性ゼオライト)を練り込ん
だ調理板が提案されている(実願昭62−201600
号)。
〔発明が解決しようとする課題1
抗菌性ゼオライトは、従来より使用されている殺菌剤・
抗菌剤と異なり、抗菌性物質が溶出したり気化したりす
ることがなく、その抗菌性物質により食品の味を変化さ
せたり、その抗菌性物質による毒性がほとんどなく、そ
の抗菌効果が長期間持続する等、優れた抗菌剤である。
抗菌剤と異なり、抗菌性物質が溶出したり気化したりす
ることがなく、その抗菌性物質により食品の味を変化さ
せたり、その抗菌性物質による毒性がほとんどなく、そ
の抗菌効果が長期間持続する等、優れた抗菌剤である。
しかしながら、上記抗菌性ゼオライトを調理板に加工す
る場合、単純にポリエチレン等の樹脂に練り込み成型す
ると、無菌効果に関与する抗菌性ゼオライトが表面のほ
んの一部のみで、他の多くは樹脂中に埋没し効果的とは
言えなかった。
る場合、単純にポリエチレン等の樹脂に練り込み成型す
ると、無菌効果に関与する抗菌性ゼオライトが表面のほ
んの一部のみで、他の多くは樹脂中に埋没し効果的とは
言えなかった。
そこで、本発明の目的は、比較的少量の抗菌性ゼオライ
トによって十分な抗菌性を有し、かつ従来品とほぼ同等
の方法によって製造できる無菌性調理板を提供すること
にある。
トによって十分な抗菌性を有し、かつ従来品とほぼ同等
の方法によって製造できる無菌性調理板を提供すること
にある。
すなわち、本発明は、調理板の両表面に抗菌性ゼオライ
トを含有する一定厚さの有機高分子層を設けると共に、
該調理板の両表面に凹凸部を形成して成る無菌性調理板
を提供するものである。
トを含有する一定厚さの有機高分子層を設けると共に、
該調理板の両表面に凹凸部を形成して成る無菌性調理板
を提供するものである。
〔課題を解決するための手段1
まず、本発明において用いる「抗菌性ゼオライト」は、
ゼオライト中のイオン交換可能なイオンの一部または全
部を抗菌性イオンでイオン交換したものである。抗菌性
イオンとしては、例えば銀イオン、銅イオン、亜鉛イオ
ン等を挙げることができる。上記抗菌性ゼオライトどし
ては、樹脂の経時的変色を防止するという観点から、更
にアンモニウムイオンでイオン交換したゼオライトを用
いることもできる。
ゼオライト中のイオン交換可能なイオンの一部または全
部を抗菌性イオンでイオン交換したものである。抗菌性
イオンとしては、例えば銀イオン、銅イオン、亜鉛イオ
ン等を挙げることができる。上記抗菌性ゼオライトどし
ては、樹脂の経時的変色を防止するという観点から、更
にアンモニウムイオンでイオン交換したゼオライトを用
いることもできる。
ここでゼオライトとしては、天然ゼオライト及び合成ゼ
オライトのいずれも用いることができる。ゼオライトは
、一般に三次元骨格構造を有するアルミノケイ酸塩であ
り、一般式としてXM2/nO□ Al□03 ・Y
S、20□・ZH20で表示される。
オライトのいずれも用いることができる。ゼオライトは
、一般に三次元骨格構造を有するアルミノケイ酸塩であ
り、一般式としてXM2/nO□ Al□03 ・Y
S、20□・ZH20で表示される。
ここでMはイオン交換可能なイオンを表わし通常1又は
2価の金属イオンである。nは(金属)イオンの原子価
である。X及びYはそれぞれの金属酸化物、シリカ係数
、Zは結晶水の数を表示している。ゼオライトの具体例
としては、例えばA−型ゼオライド、X−型ゼオライド
、Y ”1ゼオライト、T−型ゼオライド、高シリカ
ゼオライト、ソーダライト、モルデナイト、アナルサイ
ム、クリノプチロライト、チャバサイト、エリオナイト
等を挙げることができる。
2価の金属イオンである。nは(金属)イオンの原子価
である。X及びYはそれぞれの金属酸化物、シリカ係数
、Zは結晶水の数を表示している。ゼオライトの具体例
としては、例えばA−型ゼオライド、X−型ゼオライド
、Y ”1ゼオライト、T−型ゼオライド、高シリカ
ゼオライト、ソーダライト、モルデナイト、アナルサイ
ム、クリノプチロライト、チャバサイト、エリオナイト
等を挙げることができる。
ただし、これらに限定されるものではない。これら例示
ゼオライトのイオン交換容量は、A−型ゼオライド7m
eq/g、X−型ゼオライド6、4meq/g、 Y−
型ゼオライト中meq/g、 T−型ゼオライド3.4
meq/g、ソーダライト1).5meq/g 、モル
デナイt−2,6meq/g、アナルサイム5meq/
g、クリノプチロライト2.6meq/g、チャバサイ
ト5meq/g、エリオナイト3.8meq/gであり
、いずれもアンモニウムイオン及び銀イオン等の抗菌性
イオンでイオン交換するに充分の容量を有している。抗
菌性イオンの例としては、銀、銅、亜鉛、ビスマス、す
ず又はタリウムのイオン、好ましくは銀、銅又は亜鉛の
イオンを挙げることができる抗菌性の点から、上記抗菌
性イオンは、ゼオライト中に0.1−15%含有されて
いることが適当である。銀イオン0.1〜15%及、び
銅イオン又は亜鉛イオンを0.1〜18%含有する抗菌
性ゼオライトがより好ましい。ゼオライト中のアンモニ
ウムイオンの含有量は0.5〜5%、好ましくは0.5
〜2%とすることが、該、ゼオライトを含有する樹脂に
変色を有効に防止するという観点から適当である。尚、
本明細書において、%とは1)0℃乾燥基準の重量%を
いう。
ゼオライトのイオン交換容量は、A−型ゼオライド7m
eq/g、X−型ゼオライド6、4meq/g、 Y−
型ゼオライト中meq/g、 T−型ゼオライド3.4
meq/g、ソーダライト1).5meq/g 、モル
デナイt−2,6meq/g、アナルサイム5meq/
g、クリノプチロライト2.6meq/g、チャバサイ
ト5meq/g、エリオナイト3.8meq/gであり
、いずれもアンモニウムイオン及び銀イオン等の抗菌性
イオンでイオン交換するに充分の容量を有している。抗
菌性イオンの例としては、銀、銅、亜鉛、ビスマス、す
ず又はタリウムのイオン、好ましくは銀、銅又は亜鉛の
イオンを挙げることができる抗菌性の点から、上記抗菌
性イオンは、ゼオライト中に0.1−15%含有されて
いることが適当である。銀イオン0.1〜15%及、び
銅イオン又は亜鉛イオンを0.1〜18%含有する抗菌
性ゼオライトがより好ましい。ゼオライト中のアンモニ
ウムイオンの含有量は0.5〜5%、好ましくは0.5
〜2%とすることが、該、ゼオライトを含有する樹脂に
変色を有効に防止するという観点から適当である。尚、
本明細書において、%とは1)0℃乾燥基準の重量%を
いう。
次に、抗菌性ゼオライトの製造方法について説明する。
本発明に用いる抗菌性ゼオライトは、予め調製した銀イ
オン、銅イオン、亜鉛イオン等の抗菌性イオン及びアン
モニウムイオンを含有する混合水溶液にゼオライトを接
触させて、ゼオライト中のイオン交換可能なイオンと、
上記イオンとを置換させる。接触は10〜70℃、好ま
しくは40〜60℃で3〜24時間、更に好ましくは1
0〜24時間バッチ式又は連続式(例えばカラム法)に
よって行なう。尚、上記混合水溶液のpHは3〜10.
好ましくは5〜7に調整することが適当である。該調整
により、銀の酸化物等のゼオライト表面又は細孔内への
析出を防止できるので好ましい。又、混合水溶液中の各
イオンは、通常いずれも塩として供給される6例えば、
銀イオンは硝酸銀、硫酸銀、過塩素酸銀、酢酸銀、ジア
ミン銀硝酸塩、ジアミン銀硫酸塩等、銅イオンは硝酸銅
(TI)、硫酸銅、過塩素酸銅、酢酸銅、テトラシアノ
銅酸カリウム等、亜鉛イオンは硝酸亜鉛(II)、硫酸
亜鉛等、ビスマスイオンは塩化ビスマス、ヨウ化ビスマ
ス等、すずイオンは硫酸すず、硝酸すず等、タリウムイ
オンは過塩素酸タリウム、硫酸タリウム、硝酸タリウム
、酢酸タリウム等を用いることができるゼオライト中の
銀イオン等の含有量は、前記混合液中の各イオン(塩)
a度を調節することによって、適宜制御することができ
る0例えば、抗菌性ゼオライトが、アンモニウムイオン
及び銀イオンを含有する場合、前記混合水溶液中のアン
モニウムイオン濃度を0.2M/β〜2.5M/a、銀
イオン濃度を0.0021/ ff 〜0.45M/
I2とすることによって、適宜、アンモニウムイオン含
有量0.5〜5%、銀イオン含有量0.1〜15%の抗
菌性ゼオライトを得ることができる。又、抗菌性ゼオラ
イトが更に銅イオン、亜鉛イオンを含有する場合、前記
混合水溶液中の銅イオン濃度は0.1M/β〜2.3M
/ R1亜鉛イオン濃度は0.15M/12〜2.8&
4/ ffとすることによって、適宜銅イオン含有量0
.1〜18%、亜鉛イオン含有N01)〜18%の抗菌
性ゼオライトを得ることができる。
オン、銅イオン、亜鉛イオン等の抗菌性イオン及びアン
モニウムイオンを含有する混合水溶液にゼオライトを接
触させて、ゼオライト中のイオン交換可能なイオンと、
上記イオンとを置換させる。接触は10〜70℃、好ま
しくは40〜60℃で3〜24時間、更に好ましくは1
0〜24時間バッチ式又は連続式(例えばカラム法)に
よって行なう。尚、上記混合水溶液のpHは3〜10.
好ましくは5〜7に調整することが適当である。該調整
により、銀の酸化物等のゼオライト表面又は細孔内への
析出を防止できるので好ましい。又、混合水溶液中の各
イオンは、通常いずれも塩として供給される6例えば、
銀イオンは硝酸銀、硫酸銀、過塩素酸銀、酢酸銀、ジア
ミン銀硝酸塩、ジアミン銀硫酸塩等、銅イオンは硝酸銅
(TI)、硫酸銅、過塩素酸銅、酢酸銅、テトラシアノ
銅酸カリウム等、亜鉛イオンは硝酸亜鉛(II)、硫酸
亜鉛等、ビスマスイオンは塩化ビスマス、ヨウ化ビスマ
ス等、すずイオンは硫酸すず、硝酸すず等、タリウムイ
オンは過塩素酸タリウム、硫酸タリウム、硝酸タリウム
、酢酸タリウム等を用いることができるゼオライト中の
銀イオン等の含有量は、前記混合液中の各イオン(塩)
a度を調節することによって、適宜制御することができ
る0例えば、抗菌性ゼオライトが、アンモニウムイオン
及び銀イオンを含有する場合、前記混合水溶液中のアン
モニウムイオン濃度を0.2M/β〜2.5M/a、銀
イオン濃度を0.0021/ ff 〜0.45M/
I2とすることによって、適宜、アンモニウムイオン含
有量0.5〜5%、銀イオン含有量0.1〜15%の抗
菌性ゼオライトを得ることができる。又、抗菌性ゼオラ
イトが更に銅イオン、亜鉛イオンを含有する場合、前記
混合水溶液中の銅イオン濃度は0.1M/β〜2.3M
/ R1亜鉛イオン濃度は0.15M/12〜2.8&
4/ ffとすることによって、適宜銅イオン含有量0
.1〜18%、亜鉛イオン含有N01)〜18%の抗菌
性ゼオライトを得ることができる。
前記の如き混合水溶液以外に各イオンを単独で含有する
水溶液を用い、各水溶液とゼオライトとを逐次接触させ
ることによって、イオン交換することもできる。各水溶
液中の各イオンの濃度は、前記混合液中の各イオン濃度
に準じて定めることができる。
水溶液を用い、各水溶液とゼオライトとを逐次接触させ
ることによって、イオン交換することもできる。各水溶
液中の各イオンの濃度は、前記混合液中の各イオン濃度
に準じて定めることができる。
イオン交換が終了したゼオライトは、充分に水洗した後
に乾燥する。乾燥は、抗菌性ゼオライトに含有する水分
が樹脂成型物の成型時に蒸気化し、成型物に発泡、又は
樹脂劣化を生じるのを防止するという観点から、抗菌性
ゼオライトを含有する有機高分子層の成型温度において
ゼオライトから水が蒸発しない条件でイオン交換が終了
したゼオライトを乾燥することが望ましい。例えば、ゼ
オライトの残留水分が4%以下になるように乾燥するこ
とが好ましい。この処理方法としては、例えば、常圧で
105〜400℃、又は減圧下(約1〜30tOrr)
50〜250℃で行なうことが適当である。
に乾燥する。乾燥は、抗菌性ゼオライトに含有する水分
が樹脂成型物の成型時に蒸気化し、成型物に発泡、又は
樹脂劣化を生じるのを防止するという観点から、抗菌性
ゼオライトを含有する有機高分子層の成型温度において
ゼオライトから水が蒸発しない条件でイオン交換が終了
したゼオライトを乾燥することが望ましい。例えば、ゼ
オライトの残留水分が4%以下になるように乾燥するこ
とが好ましい。この処理方法としては、例えば、常圧で
105〜400℃、又は減圧下(約1〜30tOrr)
50〜250℃で行なうことが適当である。
尚、本発明に用いる抗菌性ゼオライトは、高い抗菌力を
有する無菌性調理板を得るという観点から、平均粒子径
が6μm以下、好ましくは、0.3〜4μmであること
が適当である。
有する無菌性調理板を得るという観点から、平均粒子径
が6μm以下、好ましくは、0.3〜4μmであること
が適当である。
一方、本発明の無菌性調理板に用いる有機高分子層用の
有機高分子としては、例えばアイオノマー樹脂、EEA
樹脂、EVAFM脂、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエチ
レン、フッ素樹脂、ポリアミド樹脂、熱可塑性ポリウレ
タンエラストマー、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、
ポリスルホン樹脂、高密度ポリエチレン、低密度ポリエ
チレン、直鎖状低密度ポリエチレン、ポリカーボネート
、ブタジェン樹脂、ポリプロピレン、スチレン系特殊透
明樹脂、ポリアクリレート、強化ポリエチレンテレフタ
レート、ポリスチレン、塩化ビニリデン樹脂、導電性樹
脂(例えば昭和型ニジヨウスタット)等を挙げることが
できる。このうち、硬さ、白度、耐久安定性の観点より
、高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、直鎖状低
密度ポリエチレン等のポリエチレンが好ましい6 更に、本発明の有機高分子層について説明する。
有機高分子としては、例えばアイオノマー樹脂、EEA
樹脂、EVAFM脂、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエチ
レン、フッ素樹脂、ポリアミド樹脂、熱可塑性ポリウレ
タンエラストマー、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、
ポリスルホン樹脂、高密度ポリエチレン、低密度ポリエ
チレン、直鎖状低密度ポリエチレン、ポリカーボネート
、ブタジェン樹脂、ポリプロピレン、スチレン系特殊透
明樹脂、ポリアクリレート、強化ポリエチレンテレフタ
レート、ポリスチレン、塩化ビニリデン樹脂、導電性樹
脂(例えば昭和型ニジヨウスタット)等を挙げることが
できる。このうち、硬さ、白度、耐久安定性の観点より
、高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、直鎖状低
密度ポリエチレン等のポリエチレンが好ましい6 更に、本発明の有機高分子層について説明する。
本発明の無菌性調理板に用いる有機高分子層は、前記抗
菌性ゼオライトと上記有機高分子化合物とを、常法によ
り混合して得られた混合物を成型することにより得られ
る。
菌性ゼオライトと上記有機高分子化合物とを、常法によ
り混合して得られた混合物を成型することにより得られ
る。
成型方法としては、例えば射出成型、押出成型、ブロー
成型、カレンダー成型、貼り合わせ法等により実施する
ことができる。例えば、カレンダー成型法は、熱可塑性
樹脂を2本の加熱したロールの間で圧延し、シート状の
成型物を作る方法であり、ロール面に彫刻を施しておく
ことにより表面に凹凸を容易につくることができる。
成型、カレンダー成型、貼り合わせ法等により実施する
ことができる。例えば、カレンダー成型法は、熱可塑性
樹脂を2本の加熱したロールの間で圧延し、シート状の
成型物を作る方法であり、ロール面に彫刻を施しておく
ことにより表面に凹凸を容易につくることができる。
又、本発明に用いる有機高分子層は、厚さ3mm以上、
好ましくは5〜10mmとすることが、調理板使用時に
刃物でできるキズ面のすべての面で無菌状態が保持でき
、かつ経済的に有効に抗菌性ゼオイラトを使用する観点
からより好ましい。又、該有機高分子層1rrI″当り
1〜400mg、好ましくは2〜100Bの抗菌性ゼオ
ライトを配合することが、より安定して無菌状態を維持
させることができる。
好ましくは5〜10mmとすることが、調理板使用時に
刃物でできるキズ面のすべての面で無菌状態が保持でき
、かつ経済的に有効に抗菌性ゼオイラトを使用する観点
からより好ましい。又、該有機高分子層1rrI″当り
1〜400mg、好ましくは2〜100Bの抗菌性ゼオ
ライトを配合することが、より安定して無菌状態を維持
させることができる。
このように構成されている本発明の無菌性調理板は、上
記抗菌性ゼオライトを含有する有機高分子層を中間樹脂
層と積層して製造されるが、更に単層のみでも製造は可
能である。又、中間樹脂層に用いる樹脂は、従来公知の
材料を用いることができる。該樹脂層には発泡体として
軽量化したり、ガラス繊維強化体として機械的強度を増
す等の加工が可能であり、又、顔料を添加してブルー、
ピンク等色彩のカラフルなものをも製造できる。
記抗菌性ゼオライトを含有する有機高分子層を中間樹脂
層と積層して製造されるが、更に単層のみでも製造は可
能である。又、中間樹脂層に用いる樹脂は、従来公知の
材料を用いることができる。該樹脂層には発泡体として
軽量化したり、ガラス繊維強化体として機械的強度を増
す等の加工が可能であり、又、顔料を添加してブルー、
ピンク等色彩のカラフルなものをも製造できる。
本発明において用いられる中間層の厚さは、用途及び構
成材料により異なるが、例えば、5〜150mffIと
する。
成材料により異なるが、例えば、5〜150mffIと
する。
本発明の無菌性調理板で抗菌性ゼオライト含有層と中間
層を積層させる方法としては、従来から知られている、
例えば熱融圧着法、共押出法、貼り合わせ法等いずれも
適用できる。
層を積層させる方法としては、従来から知られている、
例えば熱融圧着法、共押出法、貼り合わせ法等いずれも
適用できる。
本発明の無菌性調理板は、その表面に凹凸部をほどこす
ことによって、より効果的に無菌保持力を得ることがで
きるにの凹凸部は、平面時の面積の120%以上、好ま
しくは150%以上とすることが無菌保持力を増すとい
う観点より適当である。又、凹凸部は調理板の厚さ方向
に対して0.05〜3mmのものが、抗菌性ゼオライト
の露出する頻度が高く、かつ調理板としての使用上にお
いて爵も好ましい6更に、凹凸部の形状は、調理板の表
面になるべく均一に施されている方が良く、1〜3mm
前後の幾何学模様等にすることもできる。
ことによって、より効果的に無菌保持力を得ることがで
きるにの凹凸部は、平面時の面積の120%以上、好ま
しくは150%以上とすることが無菌保持力を増すとい
う観点より適当である。又、凹凸部は調理板の厚さ方向
に対して0.05〜3mmのものが、抗菌性ゼオライト
の露出する頻度が高く、かつ調理板としての使用上にお
いて爵も好ましい6更に、凹凸部の形状は、調理板の表
面になるべく均一に施されている方が良く、1〜3mm
前後の幾何学模様等にすることもできる。
本発明の無菌性調理板の表面に凹凸部をほどこす方法と
しては、−旦、鏡面仕上したロールを腐蝕処理や機械的
処理して得た凹凸を持つエンボスロールや、マツトロー
ル等へ加熱溶融した成型物を圧着して、凹凸を転写する
方法等が挙げられる。
しては、−旦、鏡面仕上したロールを腐蝕処理や機械的
処理して得た凹凸を持つエンボスロールや、マツトロー
ル等へ加熱溶融した成型物を圧着して、凹凸を転写する
方法等が挙げられる。
[実施例]
以下、本発明の実施例より更に詳細に説明する。
豊マ舅(抗菌性ゼオライトの調製例)
本発明で用いたゼオライトは、市販の八−型ゼオライド
(Na20・Al2O3:1.9Si02・XH2O:
平均粒径1.5um)と、市販のY−型ゼオライド(1
、lNa2O・A1□031.03tOz ・XH2O
:平均粒径0.7μm)の2種類を使用した。又、各イ
オン交換をするための塩としては、硝酸銀、硝酸銅、硝
酸亜鉛、硝酸アンモニウムの4種類を使用した。そして
表1には、各ザンブル調製時に使用したゼオライトの種
類について、イオン交換溶液に含まれる塩の種類と、そ
の濃度を示したものである。
(Na20・Al2O3:1.9Si02・XH2O:
平均粒径1.5um)と、市販のY−型ゼオライド(1
、lNa2O・A1□031.03tOz ・XH2O
:平均粒径0.7μm)の2種類を使用した。又、各イ
オン交換をするための塩としては、硝酸銀、硝酸銅、硝
酸亜鉛、硝酸アンモニウムの4種類を使用した。そして
表1には、各ザンブル調製時に使用したゼオライトの種
類について、イオン交換溶液に含まれる塩の種類と、そ
の濃度を示したものである。
各サンプルとも、 1)0℃で加熱乾燥した粉末1Kg
に水を加えて、1.3 Eのスラリーとし、その後撹拌
して脱気し、更に適量の0.5N硝酸溶液と水を加えて
PHを5〜7に調整し、全容を1.8βのスラリーとし
た。次に、イオン交換のため、所定濃度の所定の塩の水
溶液3aを加えて全容を4.8℃とし、このスラリー液
を40〜60℃に保持し10〜48時間撹拌しつつ平均
状態に到達させた状態に保持した。イオン交換終了後は
、ゼオライト相を濾過し室温の水又は、温水でゼオライ
ト相中の過剰の銀イオン等を使用してイオン成分が検出
しなくなるまで水洗した。次に、サンプルを1)0℃で
加熱乾燥して得られたNo、1〜4の各サンプルに関す
るデータを求めた。そのデータ結果は表1に示すとおり
である。
に水を加えて、1.3 Eのスラリーとし、その後撹拌
して脱気し、更に適量の0.5N硝酸溶液と水を加えて
PHを5〜7に調整し、全容を1.8βのスラリーとし
た。次に、イオン交換のため、所定濃度の所定の塩の水
溶液3aを加えて全容を4.8℃とし、このスラリー液
を40〜60℃に保持し10〜48時間撹拌しつつ平均
状態に到達させた状態に保持した。イオン交換終了後は
、ゼオライト相を濾過し室温の水又は、温水でゼオライ
ト相中の過剰の銀イオン等を使用してイオン成分が検出
しなくなるまで水洗した。次に、サンプルを1)0℃で
加熱乾燥して得られたNo、1〜4の各サンプルに関す
るデータを求めた。そのデータ結果は表1に示すとおり
である。
実施例(無菌性調理板の製造例)
前記参考例で得た抗菌性ゼオライトを、所定の乾燥条件
で5時間乾燥した(残留水分量3.8%以下)。これを
低密度ポリエチレン(三菱化成製ツバチックF161)
を配合して、抗菌性ゼオライトがlO〜40mg/rr
l”となるようにした層と、低密度ポリエチレンのみの
中間層、更に抗菌性ゼオライトを含む層の3層を、共押
出方法にて成型した。成型形状は、縦900mm、幅2
00mm厚さ4+20+4mmである。尚、成型温度は
260°Cである。更に、辺長1mm、深さ0.05〜
3mmの正方形模様を一面に印刻したエンボスロールに
て、その両表面にエンボス加工をほどこして無菌性調理
板を得た。
で5時間乾燥した(残留水分量3.8%以下)。これを
低密度ポリエチレン(三菱化成製ツバチックF161)
を配合して、抗菌性ゼオライトがlO〜40mg/rr
l”となるようにした層と、低密度ポリエチレンのみの
中間層、更に抗菌性ゼオライトを含む層の3層を、共押
出方法にて成型した。成型形状は、縦900mm、幅2
00mm厚さ4+20+4mmである。尚、成型温度は
260°Cである。更に、辺長1mm、深さ0.05〜
3mmの正方形模様を一面に印刻したエンボスロールに
て、その両表面にエンボス加工をほどこして無菌性調理
板を得た。
更に、抗菌性ゼオライトの含まないサンプル(比較例1
)、及び抗菌性ゼオライトを含むがエンボス加工をほど
こさないサンプル(比較例2)も製造した。
)、及び抗菌性ゼオライトを含むがエンボス加工をほど
こさないサンプル(比較例2)も製造した。
尚、本実施例により得た無菌性調理板の形状については
、図1.2に示すとおりである。
、図1.2に示すとおりである。
試験例(実用細菌試験例)
実施例及び比較例で得た調理板を1ケ月間家庭で使用し
た後、板表面に存在する細菌(サルモネラ菌、腸炎ビブ
リオ菌)を、スタンプ法にて測定した。その結果は表2
に示すとおりである。
た後、板表面に存在する細菌(サルモネラ菌、腸炎ビブ
リオ菌)を、スタンプ法にて測定した。その結果は表2
に示すとおりである。
〔発明の効果1
本発明の無菌性調理板は、比較的少量の抗菌性ゼオライ
トによって充分な抗菌性を有し、かつ従来品とほぼ同等
の方法によって製造が可能である。
トによって充分な抗菌性を有し、かつ従来品とほぼ同等
の方法によって製造が可能である。
更に、本発明の無菌性調理板は、次のような具体的な効
果を有する。
果を有する。
ア、本発明から成る調理板を用いれば、調理後に簡単な
洗浄のみにより調理板を無菌状態で保持させておくこと
ができるので、調理板の衛生管理が簡便となるばかりか
、従来のような乾燥殺菌設備などを全く必要としない。
洗浄のみにより調理板を無菌状態で保持させておくこと
ができるので、調理板の衛生管理が簡便となるばかりか
、従来のような乾燥殺菌設備などを全く必要としない。
イ、本発明の調理板は、抗菌性ゼオライトを用いている
ので、従来の殺菌剤のような殺菌性物質が溶出したり気
化するようなことがないので、食品の風味を変えたり、
毒性が発生ずることがない。
ので、従来の殺菌剤のような殺菌性物質が溶出したり気
化するようなことがないので、食品の風味を変えたり、
毒性が発生ずることがない。
第1図は本発明から成る無菌性調理板を示した斜視図、
第2図は第1図に図示されているIIIIの断面図であ
る。
第2図は第1図に図示されているIIIIの断面図であ
る。
Claims (4)
- (1)調理板の表裏面若しくは全面に抗菌性ゼオライト
を含有する約3mm程度以上の有機高分子層を設け、か
つ該調理板の表裏面に凹凸部を形成して成ることを特徴
とする無菌性調理板。 - (2)前記調理板の表裏面凹凸部が、平面時の約120
%程度以上の面積を有している請求項(1)記載の無菌
性調理板。 - (3)前記調理板の表裏面凹凸部が、厚さ方向に対して
0.05〜3mm程度である請求項(1)記載の無菌性
調理板。 - (4)前記有機高分子層の素材が、主としてポリエチレ
ンから成る請求項(1)記載の無菌性調理板。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1338948A JP2740315B2 (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 無菌性調理板 |
| US07/496,676 US5085416A (en) | 1989-12-27 | 1990-03-21 | Sterilized food cutting board |
| KR1019900004407A KR920008547B1 (ko) | 1989-12-27 | 1990-03-31 | 무균성조리판 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1338948A JP2740315B2 (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 無菌性調理板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03198822A true JPH03198822A (ja) | 1991-08-30 |
| JP2740315B2 JP2740315B2 (ja) | 1998-04-15 |
Family
ID=18322836
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1338948A Expired - Lifetime JP2740315B2 (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 無菌性調理板 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5085416A (ja) |
| JP (1) | JP2740315B2 (ja) |
| KR (1) | KR920008547B1 (ja) |
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| JP2011024681A (ja) * | 2009-07-22 | 2011-02-10 | Sumibe Techno Plastics Co Ltd | 食品取扱い用の板状材 |
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1990
- 1990-03-21 US US07/496,676 patent/US5085416A/en not_active Expired - Lifetime
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