JPH03187009A - ダブルアジマス磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
ダブルアジマス磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH03187009A JPH03187009A JP32758789A JP32758789A JPH03187009A JP H03187009 A JPH03187009 A JP H03187009A JP 32758789 A JP32758789 A JP 32758789A JP 32758789 A JP32758789 A JP 32758789A JP H03187009 A JPH03187009 A JP H03187009A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業ユニ4u助把比
本発明は、マルチヘッドタイプのVTR装置等に使用さ
れるダブルアジマスギャップを有するバルク型磁気ヘッ
ドの製造方法に関する。
れるダブルアジマスギャップを有するバルク型磁気ヘッ
ドの製造方法に関する。
毘米立皮直
例えば、VTR装置では2個の磁気ヘッドを用いて記録
・再生を行う回転2ヘツドヘリ力ルスキヤン方式のもの
が一般的である。特に、最近ではスピードサーチやフィ
ールドスチル等の特殊再生における再生画質を改善する
ため、更に磁気ヘッドを追加したマルチヘッドタイプの
VTR装置が開発されている。
・再生を行う回転2ヘツドヘリ力ルスキヤン方式のもの
が一般的である。特に、最近ではスピードサーチやフィ
ールドスチル等の特殊再生における再生画質を改善する
ため、更に磁気ヘッドを追加したマルチヘッドタイプの
VTR装置が開発されている。
このマルチヘッドタイプのVTR装置に使用されるダブ
ルアジマスヘッドのコアチップの具体例を第5図乃至第
11図を参照しながら説明する。
ルアジマスヘッドのコアチップの具体例を第5図乃至第
11図を参照しながら説明する。
第7図及び第8図において、18はバルク型のコアチッ
プで、フェライト等の強磁性体からなる一対の第1コア
半体1と第2コア半体2とを低融点ガラス5,6で接合
一体化したものである。このコアチップ18の頂端面1
9.すなわちテープ摺接面には記録密度を向上させるた
め、第9図に示すようにテープ走行方向a−bに対して
所定のアジマス角度θ(例えばプラスアジマス角度)を
設けた磁気ギャップgが形成され、該磁気ギャップgを
その両側方からガラス6.6で保護している。
プで、フェライト等の強磁性体からなる一対の第1コア
半体1と第2コア半体2とを低融点ガラス5,6で接合
一体化したものである。このコアチップ18の頂端面1
9.すなわちテープ摺接面には記録密度を向上させるた
め、第9図に示すようにテープ走行方向a−bに対して
所定のアジマス角度θ(例えばプラスアジマス角度)を
設けた磁気ギャップgが形成され、該磁気ギャップgを
その両側方からガラス6.6で保護している。
さらに、磁気テープとの接触を良くするため、第8図に
示すように、テープ走行方向に対して一定の曲率半径R
の曲面を形成しである。
示すように、テープ走行方向に対して一定の曲率半径R
の曲面を形成しである。
従来、上記コアチップ18の製造は、第1.第2コア半
体1,2ごとに直方体形状のフェライトブロックを用い
て次の要領で行われる。すなわち、第5図(a)に示す
ように鏡面ラップ仕上げされた直方体形状の第1.第2
ブロック21.22を用意し、まず第5図(b)に示す
ように第1ブロツク21の内外側面にその長手方向に沿
って巻線係止用内外溝となる切削溝3,4を切削加工し
、また第2ブロツク22の内側面にその長手方向に沿っ
てガラス溜り部となる切削溝7を切削加工する。
体1,2ごとに直方体形状のフェライトブロックを用い
て次の要領で行われる。すなわち、第5図(a)に示す
ように鏡面ラップ仕上げされた直方体形状の第1.第2
ブロック21.22を用意し、まず第5図(b)に示す
ように第1ブロツク21の内外側面にその長手方向に沿
って巻線係止用内外溝となる切削溝3,4を切削加工し
、また第2ブロツク22の内側面にその長手方向に沿っ
てガラス溜り部となる切削溝7を切削加工する。
更に、上記第1.第2ブロック21.22の頂端面内方
エッヂ部に所定のトラック幅Twを残して複数のトラッ
ク溝8,8・・・を切削形成する。そして第5図(C)
に示すように、上記トラック溝8.8・・・及び第2ブ
ロツク22の切削溝7に低融点ガラス等の接着剤6,6
・・・及び5,5・・・を詰めて、第1.第2ブロック
21.22をガラスモールドする。このガラスモールド
された第1.第2ブロック21.22の内側面を鏡面加
工し、その内側面にSiO2等の非磁性薄膜を被着形成
した後、第1.第2ブロック21.22を突き合わせて
加熱・溶着し一体化する。これにより接合一体化された
第1.第2ブロック21.22の頂端面に磁気ギャップ
gが形成される。その後、第5図(d)に示すように、
第2ブロツク22の外側部分をその長手方向に沿って切
削除去して該第2ブロツク22の幅を小さくする。これ
は後述するように、ダブルアジマスヘッドの場合、2個
のコアチップを1つのへラドベース上に並置するに際し
て、コアチップの各磁気ギャップを近接させるためであ
る。そして上記第1.第2ブロツク21゜22の頂端面
を磁気ギャップgと直角方向に回転運動もしくは首振り
運動を与える円筒研削加工等によりテープ走行方向に曲
面を形成した後、第6図の鎖線11,1.・・・で示す
ように、各コアチップの磁気ギャップgにアジマス角度
θを設けるため、第1.第2ブロック21.22の短手
方向に対して所定角度θだけ傾斜した方向に、第1.第
2ブロック21.22を定ピツチでスライスする方法を
とっている。しかし、この従来の方法では、曲面は磁気
ギャップgと直角方向に形成されるので、テープ走行方
向からはギャップアジマス角度θだけずれてしまう。従
って、特開昭58−158020の従来例にも示しであ
るように、テープ入口側と出口側とでねじれを生じ、そ
の結果磁気テープとの接触状態が悪くなるため、従来は
スライスしてヘッドチップ単体に加工した後、シリング
に組み込みラッピングテープ等によりヘッド表面を研摩
して上記ねじれを除去し、テープ走行方向に対して均一
な曲面ができるように修正することにより、第7図乃至
第9図に示すコアチップ18を得ていた。
エッヂ部に所定のトラック幅Twを残して複数のトラッ
ク溝8,8・・・を切削形成する。そして第5図(C)
に示すように、上記トラック溝8.8・・・及び第2ブ
ロツク22の切削溝7に低融点ガラス等の接着剤6,6
・・・及び5,5・・・を詰めて、第1.第2ブロック
21.22をガラスモールドする。このガラスモールド
された第1.第2ブロック21.22の内側面を鏡面加
工し、その内側面にSiO2等の非磁性薄膜を被着形成
した後、第1.第2ブロック21.22を突き合わせて
加熱・溶着し一体化する。これにより接合一体化された
第1.第2ブロック21.22の頂端面に磁気ギャップ
gが形成される。その後、第5図(d)に示すように、
第2ブロツク22の外側部分をその長手方向に沿って切
削除去して該第2ブロツク22の幅を小さくする。これ
は後述するように、ダブルアジマスヘッドの場合、2個
のコアチップを1つのへラドベース上に並置するに際し
て、コアチップの各磁気ギャップを近接させるためであ
る。そして上記第1.第2ブロツク21゜22の頂端面
を磁気ギャップgと直角方向に回転運動もしくは首振り
運動を与える円筒研削加工等によりテープ走行方向に曲
面を形成した後、第6図の鎖線11,1.・・・で示す
ように、各コアチップの磁気ギャップgにアジマス角度
θを設けるため、第1.第2ブロック21.22の短手
方向に対して所定角度θだけ傾斜した方向に、第1.第
2ブロック21.22を定ピツチでスライスする方法を
とっている。しかし、この従来の方法では、曲面は磁気
ギャップgと直角方向に形成されるので、テープ走行方
向からはギャップアジマス角度θだけずれてしまう。従
って、特開昭58−158020の従来例にも示しであ
るように、テープ入口側と出口側とでねじれを生じ、そ
の結果磁気テープとの接触状態が悪くなるため、従来は
スライスしてヘッドチップ単体に加工した後、シリング
に組み込みラッピングテープ等によりヘッド表面を研摩
して上記ねじれを除去し、テープ走行方向に対して均一
な曲面ができるように修正することにより、第7図乃至
第9図に示すコアチップ18を得ていた。
上述のようにして得れたコアチップ18.および該コア
チップ18と同一要領で製造され、且つコアチップ18
の磁気ギャップgと逆のマイナスアジマス角度の磁気ギ
ャップg′を有するコアチップ18′とをヘッドベース
(図示省略)上に、第10図に示すように一定のギャッ
プ間隔Gwを保ちながら並設し、例えば樹脂などにより
接着を行い、この状態でコアチップ18.18’にCu
製の線材を所定ターン数巻回し、その両端部をヘッドベ
ース上のプリント基板に電気的に接続する。
チップ18と同一要領で製造され、且つコアチップ18
の磁気ギャップgと逆のマイナスアジマス角度の磁気ギ
ャップg′を有するコアチップ18′とをヘッドベース
(図示省略)上に、第10図に示すように一定のギャッ
プ間隔Gwを保ちながら並設し、例えば樹脂などにより
接着を行い、この状態でコアチップ18.18’にCu
製の線材を所定ターン数巻回し、その両端部をヘッドベ
ース上のプリント基板に電気的に接続する。
尚、このヘッドベースをVTR装置の回転ドラムに装着
することによりダブルアジマスヘッドが実装される。
することによりダブルアジマスヘッドが実装される。
ところで、上記従来方法により製造されたダブルアジマ
スヘッドのコアチップ18.18’のテープ摺接部に生
じたねじれを、ラッピングテープ等により修正するのに
はあまりにも多大な時間を要しすぎるという問題があっ
た。また、第9図に示すように磁気ギャップgと側面1
ay2aとが平行であり、゛このコアチップ18及び該
コアチップ18と逆アジマスのコアチップ18′を、ヘ
ッドベース(図示省略)上に近接配置して貼着すると、
第11図に示すようにコアチップ18,181の内側面
2a、12aが磁気ギャップgに対して平行状態で、而
も上記コアチップ18.18’の内側面2a、12a間
にアジマス角度のテーバ状の微小隙間Gが形成されてい
る。そのため、上記コアチップ18.18″の頂端面1
9.19”をテープが摺動すると、テープの隣接トラッ
クの記録信号を不都合なことに不要再生してクロストー
ク現象が生じ、その結果VTR装置の再生画質が大幅に
劣化するという問題点があった。
スヘッドのコアチップ18.18’のテープ摺接部に生
じたねじれを、ラッピングテープ等により修正するのに
はあまりにも多大な時間を要しすぎるという問題があっ
た。また、第9図に示すように磁気ギャップgと側面1
ay2aとが平行であり、゛このコアチップ18及び該
コアチップ18と逆アジマスのコアチップ18′を、ヘ
ッドベース(図示省略)上に近接配置して貼着すると、
第11図に示すようにコアチップ18,181の内側面
2a、12aが磁気ギャップgに対して平行状態で、而
も上記コアチップ18.18’の内側面2a、12a間
にアジマス角度のテーバ状の微小隙間Gが形成されてい
る。そのため、上記コアチップ18.18″の頂端面1
9.19”をテープが摺動すると、テープの隣接トラッ
クの記録信号を不都合なことに不要再生してクロストー
ク現象が生じ、その結果VTR装置の再生画質が大幅に
劣化するという問題点があった。
1の
本発明は、上記問題点に鑑みて提案されたもので、直方
体形状の第1.第2ブロツクの内側面にその長手方向に
沿って、ひとつの斜辺が所望のトラック幅より大きく、
スライスピッチと等しくなるように所定のアジマス角を
設けた鋸歯状の切削加工を施す工程と、ギャップ形成溶
着後、2組のコアブロック同士を所望のギャップ間隔と
なるように、非磁性層を介して接合一体化したヘッドブ
ロックを得、さらに該ヘッドブロック状態でテープ走行
方向に対して均一な曲面を形成することを特徴としてい
る。
体形状の第1.第2ブロツクの内側面にその長手方向に
沿って、ひとつの斜辺が所望のトラック幅より大きく、
スライスピッチと等しくなるように所定のアジマス角を
設けた鋸歯状の切削加工を施す工程と、ギャップ形成溶
着後、2組のコアブロック同士を所望のギャップ間隔と
なるように、非磁性層を介して接合一体化したヘッドブ
ロックを得、さらに該ヘッドブロック状態でテープ走行
方向に対して均一な曲面を形成することを特徴としてい
る。
在且
本発明方法により製造されたヘッドブロックの内側面、
すなわちダブルアジマスコアチップの相対向する接合箇
所であるフェライトエッヂ部と、頂端面に形成されたそ
れぞれの磁気ギャップのアジマス角度とは、非平行状態
に設定されるため、疑似ギャップとして作用することが
なくなり、結果として隣接トラックなどの記録信号の不
要再生によるクロストーク現象の阻止が図れる。
すなわちダブルアジマスコアチップの相対向する接合箇
所であるフェライトエッヂ部と、頂端面に形成されたそ
れぞれの磁気ギャップのアジマス角度とは、非平行状態
に設定されるため、疑似ギャップとして作用することが
なくなり、結果として隣接トラックなどの記録信号の不
要再生によるクロストーク現象の阻止が図れる。
また、テープ摺動部の曲面形成も両コアブロック同時に
行えるため、R面頂点にズレを生じたり、テープの入口
側と出口側とでねじれを生じることもなく、均一な曲面
が形成できるため、ヘッドとテープとの接触も良好な状
態となり、いわゆるスペーシングによる特性の劣化など
も完全に防ぐことができる。
行えるため、R面頂点にズレを生じたり、テープの入口
側と出口側とでねじれを生じることもなく、均一な曲面
が形成できるため、ヘッドとテープとの接触も良好な状
態となり、いわゆるスペーシングによる特性の劣化など
も完全に防ぐことができる。
尖胤涯
本発明に係るダブルアジマスヘッドのコアチップ製造方
法の一実施例を第1図乃至第3図を参照しながら説明す
る。第5図乃至第11図と同一部分には同一参照符号を
付してその説明は省略する。まず、酸化物磁性材料であ
るMn−Zn単結晶フェライトの第1.第2ブロック2
1.22を一対準備し、第3図(a)に示すように巻線
係止溝39巻線挿通兼閉磁路形成用の溝4.接着ガラス
溜め溝7を切削形成しておく。つぎに第3図(b)に示
すように、第1.第2ブロツク21゜22それぞれの突
き合わせ面に、その長手方向に沿って、ひとつの斜辺の
長さが所望のトラック幅Twより大きく、スライスピッ
チと等しくなるよウニ所定のアジマス角θ1例えばプラ
スアジマス+θを設けた鋸歯状の切削加工を施し、さら
にその後第3図(C)に示すように、前記ブロック21
.22の突き合わせ面に所定のピッチでトラック幅Tw
を残してトラック溝8.8・・・加工を行う。尚、アジ
マス加工とトラック溝加工は、上記とは逆の順序に行っ
てもよい。また上記スライスピッチとは、所望のコアチ
ップの厚みにスライスワイヤの太さを加えた寸法と略同
−に設定される。次に突き合わせをする2つのブロック
21゜22の少なくとも一方にギャップ規制膜(例えば
5tOa膜)をスパッタリング形成し、トラック溝目合
わせを行いガラス5,8.6・・・にょす溶着すること
により、第3図(d)に示すようなプラスアジマス+θ
^ギャップgを有するコアブロック17を形成する。ま
た、マイナスアジマス−θギャップg″を有するコアブ
ロック17′においても、同様にマイナスアジマス−〇
を設けた鋸歯状の切削加工を施すことにより形成するこ
と力fできる。他の工程は上記方法と同一なので説明は
省略する。この後、上記方法にて得られたそれぞれのコ
アブロック17.17’の対向する接合内側面、すなわ
ち両コアブロックの第2ブロツク22を第3図(d)(
e)に点線で示すように、その長手方向に沿って切削除
去して、所望のギャップ間距離Gwが保持できるように
する。さらに第2図に示すように両コアブロック17.
17’を所望のギャップ間距離Gwを保つための非磁性
層2例えば結晶化ガラス10などをスペーサとしてくみ
つけ、低融点ガラスもしくは有機系接着材などにて接合
一体化を行いヘッドブロック16を得る。。
法の一実施例を第1図乃至第3図を参照しながら説明す
る。第5図乃至第11図と同一部分には同一参照符号を
付してその説明は省略する。まず、酸化物磁性材料であ
るMn−Zn単結晶フェライトの第1.第2ブロック2
1.22を一対準備し、第3図(a)に示すように巻線
係止溝39巻線挿通兼閉磁路形成用の溝4.接着ガラス
溜め溝7を切削形成しておく。つぎに第3図(b)に示
すように、第1.第2ブロツク21゜22それぞれの突
き合わせ面に、その長手方向に沿って、ひとつの斜辺の
長さが所望のトラック幅Twより大きく、スライスピッ
チと等しくなるよウニ所定のアジマス角θ1例えばプラ
スアジマス+θを設けた鋸歯状の切削加工を施し、さら
にその後第3図(C)に示すように、前記ブロック21
.22の突き合わせ面に所定のピッチでトラック幅Tw
を残してトラック溝8.8・・・加工を行う。尚、アジ
マス加工とトラック溝加工は、上記とは逆の順序に行っ
てもよい。また上記スライスピッチとは、所望のコアチ
ップの厚みにスライスワイヤの太さを加えた寸法と略同
−に設定される。次に突き合わせをする2つのブロック
21゜22の少なくとも一方にギャップ規制膜(例えば
5tOa膜)をスパッタリング形成し、トラック溝目合
わせを行いガラス5,8.6・・・にょす溶着すること
により、第3図(d)に示すようなプラスアジマス+θ
^ギャップgを有するコアブロック17を形成する。ま
た、マイナスアジマス−θギャップg″を有するコアブ
ロック17′においても、同様にマイナスアジマス−〇
を設けた鋸歯状の切削加工を施すことにより形成するこ
と力fできる。他の工程は上記方法と同一なので説明は
省略する。この後、上記方法にて得られたそれぞれのコ
アブロック17.17’の対向する接合内側面、すなわ
ち両コアブロックの第2ブロツク22を第3図(d)(
e)に点線で示すように、その長手方向に沿って切削除
去して、所望のギャップ間距離Gwが保持できるように
する。さらに第2図に示すように両コアブロック17.
17’を所望のギャップ間距離Gwを保つための非磁性
層2例えば結晶化ガラス10などをスペーサとしてくみ
つけ、低融点ガラスもしくは有機系接着材などにて接合
一体化を行いヘッドブロック16を得る。。
この後、第2図に一点鎖線23で示すように、テープ摺
動面19をギャップ突き合わせ面と直角方向に回転運動
もしくは首振り運動を与えて研摩することにより、均一
な曲率半径Rの曲面を形成する。さらに、スライスライ
ン7.7 ・・・にてスライスすることにより、第1
図に示したようなダブルアジマスコアチップ15を得る
。
動面19をギャップ突き合わせ面と直角方向に回転運動
もしくは首振り運動を与えて研摩することにより、均一
な曲率半径Rの曲面を形成する。さらに、スライスライ
ン7.7 ・・・にてスライスすることにより、第1
図に示したようなダブルアジマスコアチップ15を得る
。
上記ダブルアジマスコアチップ15は、この後従来と同
様にヘッドベース(図示省略)に取り付けられて巻線作
業などが施され、更にこのヘッドベースをVTR装置の
回転ドラムに実装することにより、ダブルアジマスタイ
プの磁気ヘッドが提供される。
様にヘッドベース(図示省略)に取り付けられて巻線作
業などが施され、更にこのヘッドベースをVTR装置の
回転ドラムに実装することにより、ダブルアジマスタイ
プの磁気ヘッドが提供される。
上記実施例においては、プラスアジマス+θ溝加工とマ
イナスアジマス−θ溝加工とを別々に行うように示した
が、本発明はこれに限定されることなく、例えば第4図
に示すように第1.第2ブロック21.22を並べて溝
加工を施し、さらに図の※印部同士が合うように突き合
わせることにより、1度のアジマス溝加工でプラス、マ
イナス両アジマス溝加工を施すことができ、またトラッ
ク溝加工も同時に行えるため、溝加工に要する時間を大
幅に短縮することもできる。
イナスアジマス−θ溝加工とを別々に行うように示した
が、本発明はこれに限定されることなく、例えば第4図
に示すように第1.第2ブロック21.22を並べて溝
加工を施し、さらに図の※印部同士が合うように突き合
わせることにより、1度のアジマス溝加工でプラス、マ
イナス両アジマス溝加工を施すことができ、またトラッ
ク溝加工も同時に行えるため、溝加工に要する時間を大
幅に短縮することもできる。
見版空熱夏
本発明方法によれば、ダブルアジマスヘッドのコアチッ
プの接合内側面フェライトエッヂ部が、その頂端面に形
成された磁気ギャップのアジマス角度と非平行に形成さ
れることから、上記コアチップをダブルアジマスヘッド
として使用するに際して、記録再生時での不都合なりロ
ストークを阻止することができ、再生画質が鮮明となる
信頼性の高い良品質のダブルアジマスヘッドを提供する
ことが実現容易となる。また、ヘッドの摺動面がテープ
走行方向にねじれのない均一な曲面に形成されて、磁気
テープとの接触に良好な形状となり、スペーシングによ
る特性劣化がほとんど生じない、より信頼性の高いダブ
ルアジマスタイプの磁気ヘッドを提供することが可能と
なる。
プの接合内側面フェライトエッヂ部が、その頂端面に形
成された磁気ギャップのアジマス角度と非平行に形成さ
れることから、上記コアチップをダブルアジマスヘッド
として使用するに際して、記録再生時での不都合なりロ
ストークを阻止することができ、再生画質が鮮明となる
信頼性の高い良品質のダブルアジマスヘッドを提供する
ことが実現容易となる。また、ヘッドの摺動面がテープ
走行方向にねじれのない均一な曲面に形成されて、磁気
テープとの接触に良好な形状となり、スペーシングによ
る特性劣化がほとんど生じない、より信頼性の高いダブ
ルアジマスタイプの磁気ヘッドを提供することが可能と
なる。
第1図乃至第3図は本発明方法の一実施例を説明するた
めのもので、第1図は本発明方法によるダブルアジマス
へラドコアチップを示す斜視図、第2図は本発明方法に
よるコアブロックを示す斜視図、第3図(a)〜(e)
は本発明方法によるコアチップ製造方法を示す各工程図
である。 第4図は他の実施例による簡易型溝加工方法を示す平面
図である。 第5図(a)〜(d)及び第8図はコアチップ製造方法
の従来例を示す各工程図、第7図は従来例のコアチップ
を示す斜視図、第8図は第7図の正面図、第9図は第7
図の平面図、第10図は従来例のダブルアジマスヘッド
のへラドベース貼着状態を示す平面図、第11図は第1
0図の要部拡大正面図である。 21・・・・・・第1ブロツク、 22・・・・・・第2ブロツク、 3、4.7・・・・・・切削溝、 8・・・・・・トラック溝、 5.6・・・・・・低融点ガラス、 g、 g’・・・・・・磁気ギャップ、Tw・・・・
・・トラック幅、 17.17’・・・・・・コアブロック、16・・・・
・・ヘッドブロック、 15・・・・・・ダブルアジマスコアチップ。 第 ] 図 第 図 溝%θ勺 賊 報 睡 糎
めのもので、第1図は本発明方法によるダブルアジマス
へラドコアチップを示す斜視図、第2図は本発明方法に
よるコアブロックを示す斜視図、第3図(a)〜(e)
は本発明方法によるコアチップ製造方法を示す各工程図
である。 第4図は他の実施例による簡易型溝加工方法を示す平面
図である。 第5図(a)〜(d)及び第8図はコアチップ製造方法
の従来例を示す各工程図、第7図は従来例のコアチップ
を示す斜視図、第8図は第7図の正面図、第9図は第7
図の平面図、第10図は従来例のダブルアジマスヘッド
のへラドベース貼着状態を示す平面図、第11図は第1
0図の要部拡大正面図である。 21・・・・・・第1ブロツク、 22・・・・・・第2ブロツク、 3、4.7・・・・・・切削溝、 8・・・・・・トラック溝、 5.6・・・・・・低融点ガラス、 g、 g’・・・・・・磁気ギャップ、Tw・・・・
・・トラック幅、 17.17’・・・・・・コアブロック、16・・・・
・・ヘッドブロック、 15・・・・・・ダブルアジマスコアチップ。 第 ] 図 第 図 溝%θ勺 賊 報 睡 糎
Claims (1)
- 特定のアジマス角度のギャップを有するダブルアジマス
磁気ヘッドの多数個分を一体化したコアブロックを切断
して製造する方法において、2組のコアブロック半体の
それぞれの突き合わせ面にテープの走行方向に直角な面
に対してそれぞれ所定の角度をなした傾斜面を鋸歯状に
形成する加工と、所定のピッチでのトラック溝加工とを
施し、前記2組のコアブロック半体をそれぞれ傾斜面同
士を突き合わせ、2組のコアブロックを形成し、さらに
両コアブロックを所定厚の非磁性層を介して突き合わせ
、ガラスにて接合一体化してヘッドブロックをつくり、
該ヘッドブロックに所定の曲率半径の曲面を加工形成し
、この曲面の中心線と直角方向に前記ヘッドブロックを
切断することによって、ヘッドチップを形成することを
特徴とするダブルアジマス磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32758789A JPH03187009A (ja) | 1989-12-18 | 1989-12-18 | ダブルアジマス磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32758789A JPH03187009A (ja) | 1989-12-18 | 1989-12-18 | ダブルアジマス磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03187009A true JPH03187009A (ja) | 1991-08-15 |
Family
ID=18200721
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32758789A Pending JPH03187009A (ja) | 1989-12-18 | 1989-12-18 | ダブルアジマス磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03187009A (ja) |
-
1989
- 1989-12-18 JP JP32758789A patent/JPH03187009A/ja active Pending
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