JPH01116907A

JPH01116907A - 磁気ヘッド

Info

Publication number: JPH01116907A
Application number: JP27332287A
Authority: JP
Inventors: Noboru Ueno; 昇上野
Original assignee: Nidec Sankyo Corp
Current assignee: Nidec Sankyo Corp
Priority date: 1987-10-30
Filing date: 1987-10-30
Publication date: 1989-05-09

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は磁気ヘッドに関する。更に詳述すると、本発明
は、金属酸化物の基板と磁性薄膜とを組合せた磁気ヘッ
ドに関する。

（従来の技術）最近、磁気記録の高密度化に伴なって高磁束密度の磁気
ヘッドが要望されている。

このような磁気へ；ｙドとしては、従来、最大磁束密度
は小さいが高周波数での損失が少ない金属酸化物（例え
ばフェライト）と最大磁束密度は大きいが耐摩耗性に劣
り高周波数での損失が大きい金属磁性材料の薄膜とを組
合せた複合型の磁気ヘッドが提案されている０例えば、
第５図に示すように、酸化物基板１０１にトラック形成
溝１０２を設けて液溝１０２からギャップ対向面１０３
にかけて磁性ｌ１９１０４を形成し、該磁性ｒＰＡ１０
４同士を突合せるようにして構成される磁気ヘッドが公
知である（特開昭６２−８６５１１号）、この磁気ヘッ
ドは、ギャップ対向面１０３上の磁性ＷＡ１０４を平面
研磨して、ギャップｇを構成する部位の磁性膜の角部１
０５を直角化してトラック幅を明瞭なものとしている。

一方、通常のスパッタリングによると、磁性膜の角部が
丸くなるため、これらを突合せてギャップを構成する場
合、第６図に示すようにトラック幅が不明瞭となる。そ
こで、第５図に示すように、磁性１ｇ１１０４の研磨量
を多くして角部１０５の丸みを除去した後、突合せてギ
ャップｇを形成するようにしている。

（発明が解決しようとする問題点）しかしながら、磁性膜部分の研磨量を多くしなければな
らないため、磁性膜に割れ等が出易く、品質が劣化する
虞がある。また、研磨に備えて薄膜の量（スパヅタ時間
）を多くする必要があり、１ヶ当りの製造コスト及び時
間が多くかかる不利がある。

そこで、本発明は、磁性膜部の研磨量が少なくて済む磁
気ヘッドを提供することを目的とする。

（問題点を解決するための手段）かかる目的を達成するため、本発明者が種々検討した結
果、Ｖ　’Ｔ”　Ｒ等のトラックの書き込みは、第４図
に示すよ、うにへヅド１１の一方の側面例えば取付面１
０側を基準にして行なわれ、その反対側は回転してくる
次のヘッドにより重ね書きされるため（ハツチングで示
す部位）、ヘッドの取付は基準面１０の反対側は少々ギ
ャップがあいまいであっても問題とならないことを知見
した。

そこで、本発明の磁気ヘッドは、一方の端部がトラック
規制溝で画成され、他方の端部が成膜時の曲面部を残し
た磁性膜を対向させてギャップを構成するようにしてい
る。

（作用）したがって、書き込みの基準となる面側にトラック規制
溝によって画成されたギャップ端側を配置すれば、反対
側の曲面部で書き込まれる部分が次のヘッドのエツジが
明瞭なトラック規制溝側ギャップ端で重ね書きされる。

このため、ギャップの一端に成膜時の曲面部が残ってい
ても問題とならない。そこで、磁性膜の研磨を必要最小
限に止めることができる。

（実施例）以下、本発明の構成を図面に示す実施例に基づいて詳細
に説明する。

第１図（Ａ）に本発明の磁気ヘッドの一実施例をテープ
摺動面側から見た平面図で示す。この磁気ヘッドは、ト
ラック形成溝２からギャップ対向面３にかけて磁性膜４
をあらかじめ膜付けした一対の基板１を、磁性Ｍ４同士
が向い合うように突合せて溶融ガラス７で接合し、ギャ
ップｇを構成するようにしたものである。ギャップｇの
一端はトラック規制溝６の直線部分６ａによって区画さ
れ、その角部が直角化されている。このトラック規制溝
６は、本実縮開の場合、ギャップｇに対して直交する直
線部分６ａと、この直線部分の両端でギャップｇに対し
て傾斜し磁気ヘッドの側面に達する斜面６ｂとから成る
台形状を成しているが、これに限定されるものではなく
、その溝形状、大きさ、深さ等は一切問わないし、また
ギャップｇの他端側のトラック形成溝２の形状等も問わ
ない。

要はギャップｇの一方の端部を明瞭なものとする渦形状
、深さであれば十分である。

また、トラック規制溝６は、本実施例の場合、第４図に
示すように、ヘッドチップ１１のＶ　”ｆ’　Ｒヘッド
ドラム１４への取付は基準面１０側に形成しているが、
ヘッドチップ１１を直接ヘッドドラム１４へ取付けるよ
うな場合には、反対側のギャップ端部に形成される。こ
のトラック規制溝６には、通常、非磁性材料例えばガラ
ス７等が充填され、磁性膜４の端部の保護と基板１同士
の接合が図られている。

一方、ギャップｇの他端側には、トラック形成溝２から
ギャップ対向面３にかけて形成された磁性膜４がほとん
ど成膜時のままの状態で残されている。即ち、ギャップ
ｇの他端は、磁性膜４が角部１３において丸み・曲面形
状をとり、ギャップ端部を不明瞭なものとしている。こ
のトラック形成溝２には、通常、非磁性材料例えばガラ
ス８等が充填され、磁性膜４の保護と基板１同士の接合
が図られている。

また、第１図（Ｂ）に他の実施例を示す。この磁気ヘッ
ドは、ギャップｇを構成する部位の基板１の角部のみを
取除くように矩形状のトラック規制溝６を設けたもので
ある。したがって、トラック形成溝２に形成された磁性
膜４は一部残っている。

また、第１図（Ｃ）に他の実施例を示すにの磁気ヘッド
は、ギヤ・ツブｇを構成する部位の基板ｌの角部のみを
取除くように三角形のトラック規制溝６を設けたもので
ある。

更に、第１図（Ｄ　）　Ａ実施例を示す。この磁気ヘッ
ドは、磁性膜４を基板の幅方向全域に形成し、ギャップ
ｇの一方の端部はヘッド側面によって直角に画成されて
いる。この場合、研磨されるヘッド側面がトラック規制
溝６に相当する。

前記磁性ＷＡ４は、第２図（Ａ）に示すように、磁性膜
４だけで磁路を構成するように、ギャップ対向面３から
巻線溝にかけて全面に形成することも、あるいは第２図
（Ｂ）に示すようにギヤツブｇ部分にのみ形成して基板
１によって磁路を構成するようにしても良い、また、第
２図（Ｃ）及び第２図（Ｄ）に示すように構成すること
もある。

第２図（Ｃ）の磁気ヘッドは、仮想線で示すように、ギ
ャップ対向面３対して傾斜する斜面１５に磁性膜４を形
成したブロック半休を突合せ接合してＭ形のブロックを
形成した後、テープ摺動面５を研磨して図示の如き形状
とする。゛第２図（Ｄ）の磁気ヘッドは、巻線溝９から
ギャップ対向面３にかけて磁性膜４を形成した仮想線の
形状のブロック半休を形成し、Ａ矢視線に沿って磁性膜
４を表面研磨してから一対の基板を突合せ接合し、その
後テープ摺動面を研磨して図示の如き形状とする。この
とき、第２図（Ｃ）及び（Ｄ）の磁気ヘッドは必ずしも
一端に曲面部１３を残す必要はない。

尚、基板１としては、フェライト等の磁性金属酸化物で
も、あるいは非磁性酸化物でも、いずれでも使用できる
。また、磁性膜４とは、本明細書にあっては、一般的な
センダスト合金、パーマロイ等の強磁性金属の薄膜は勿
論のこと、アモルファス合金等の磁気回路を構成するに
好適なその他の材料で構成された薄膜全般を意味する。

符号５はテープ摺動面である。

尚、上述の実施例は本発明の好適な実施例の一つではあ
るが、これに限定されるもではなく、本発明の要旨を逸
脱しない範囲において種々変形実°施可能である９例え
ば、本実施例では、スパッタリングによって磁性膜４が
形成されるＶ　Ｔ　Ｒ用磁気ヘッドについて言及してい
るが、これに限定されるものではなく、磁性ｒ！Ａ４の
角部が丸くなるものであれば他の薄膜形成手段、方法で
あっても適用可能であるし、２重書き込みをするもので
あればＶＴＲ以外の用途の磁気ヘッドにも適用できるこ
とは言うまでもない。

以上のように構成された磁気ヘッドは、第３図に示すよ
うにして製作される０例えば、第１図（Ａ）に示す磁気
ヘッドの製造方法について以下説明する。

まず、磁性あるいは非磁性の酸化物基板１のギャップ対
向面３に五角形のトラック形成溝２を一定ピッチで研削
する［第３図（Ａ）参照］。

次いで、この基板１のギャップ対向面３上に真空薄膜形
成技術例えば支バッタリングによって強磁性金属例えば
センダスト合金を膜付けし、所望厚さの磁性膜４を形成
する［第３図（Ｂ）参照］。

その後、トラック形成溝２に非磁性材例えばガラス８を
必要に応じて充填し、磁性膜４を保護する［第３図（Ｃ
）参照］、このとき、ガラス８がギャップ対向面３上の
磁性ＷＡ４より上に盛り上がるので、角部１３の曲面部
分を削り取らない程度に磁性膜４を研磨してガラスを取
除くことが必要となる。勿論、ガラス８を充填しないと
きには、上述の研磨は必要ないが、研磨を全く否定する
ものではない、。

次に所定間隔をあけてトラック形成溝２に沿って・平行
にトラック規制溝６を研削し、磁性膜４を切断する［第
３図（Ｄ）参照］、ここで、所定間隔とは、一般にトラ
ック幅Ｗに相当する。また、トラック規制溝６の形状は
第３図（Ａ）のトラック形成溝２と同一形状である。そ
して、一方の基板１には巻線溝９が研削によって穿溝さ
れている［第３図（Ｄ）参照］。

次いで、一対の基板１．１を、磁性膜４同士及びトラッ
ク規制溝６同せて、トラック規制溝６及び巻線溝９の上部に低融点ガ
ラス７を充填し、接合する［第３図（Ｅ）参照］。

次に、テープ摺動面加工やディブス加工等の所定の加工
を施してからスライスラインＳ−８に沿って基板１を切
断し、へ°ラドチップ１１を切り出ず［第３図（Ｅ）、
（Ｆ）参照］。

その後、ヘッドチップの側面、特に取付は基準面１０側
を研磨し、ギャップｇの一方の端部を取付は基準面１０
から一定位置に調整した後ヘツドサポート１２に接着す
る［第３図（Ｇ）参照］。

その後、巻線する。

（発明の効果）以上の説明より明らかなように、本発明の磁気ヘッドは
、一方の端部がトラック規制溝で画成され、他方の端部
が成膜時の曲面部を残した磁性膜を対向させてギャップ
を構成するようにしているので、はとんど成膜時のまま
の状態を残してヘッドを形成することができる。即ち、
本発明のヘッドは、磁性膜の研磨を必要最小限に止める
ことができ、磁性膜の損傷が少なく歩留りが向上すると
共に生産性を高め得る。

また、本発明の磁気ヘッドは、成膜時に生ずる角部の丸
み（曲面部）をほとんどそのままの状態で残すことがで
きるので、磁性膜の丸みを取除いて直角に加工するなめ
に膜を研磨する場合に比して膜厚を薄くでき、製造コス
ト及び時間を大幅に低減できる。

【図面の簡単な説明】

第１図（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）は本発明の磁気
ヘッドの各実施例をテープ摺動面側から見た平面図、第
２図（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）。（Ｄ）は磁気ヘッドの各実施例の側面図、第３図（Ａ）
〜（Ｇ）は第１図（Ａ）の磁気ヘッドの製造工程を説明
する加工フロー図、第４図はＶＴＲ用磁気テープと回転
ヘッドとの関係を磁性面側から見た展開図、第５図は従
来の磁気ヘッドを構成するヘッド半休ブロックの磁性膜
の端部を示す説明図、第６図は同ヘッド半休ブロックを
突合せて形成されるギャップ部分の拡大図である。１・・・基板、２・・・トラック形成溝、３・・・ギャ
ップ対向面、４・・・磁性膜、６・・・トラック規制溝
、１０・・・取付は基準面、１３・・・曲面部（丸み）
、ｇ・・・ギャップ。第２図（Ｃ）（Ｄ）第４図第５図　　　　　第６図

Claims

【特許請求の範囲】

突出したギャップ対向面に磁性材からなる薄膜を形成し
てなる一対の基板を突合せてギャップを構成する磁気ヘ
ッドにおいて、前記ギャップの一方の端部はトラック規
制溝が加工された薄膜を対向させ、他方の端部は薄膜形
成時の曲面部を残した薄膜を対向させたことを特徴とす
る磁気ヘッド。