JPH031276B2 - - Google Patents

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JPH031276B2
JPH031276B2 JP62023177A JP2317787A JPH031276B2 JP H031276 B2 JPH031276 B2 JP H031276B2 JP 62023177 A JP62023177 A JP 62023177A JP 2317787 A JP2317787 A JP 2317787A JP H031276 B2 JPH031276 B2 JP H031276B2
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JP
Japan
Prior art keywords
glaze
slurry
powder
water
raw material
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP62023177A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS63190784A (ja
Inventor
Hideki Ishida
Kenichi Yamazaki
Akira Ishii
Masahiro Takeuchi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Inax Corp
Original Assignee
Inax Corp
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Publication date
Application filed by Inax Corp filed Critical Inax Corp
Priority to JP2317787A priority Critical patent/JPS63190784A/ja
Publication of JPS63190784A publication Critical patent/JPS63190784A/ja
Publication of JPH031276B2 publication Critical patent/JPH031276B2/ja
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  • Drying Of Solid Materials (AREA)
  • Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は湿式及び乾式方式による施釉方法に係
り、特に大型薄板状の生素地に施釉する場合に好
適な施釉方法に関する。
[従来の技術] 大型の陶板の生素地などを成形する方法とし
て、近年、電気泳動法を採用した方法が公知とさ
れた(特公昭55−50761号)。
このような大型陶板に施釉する場合、泥漿釉を
成形された生素地(乾燥前の素地)に掛けること
が行なわれている。
[発明が解決しようとする問題点] 生素地上へ泥漿釉を施釉すると、素地が泥漿釉
中の水分を吸収して膨潤し、該素地が変形、破壊
するおそれがある。ことに、この生素地が電気泳
動方式の成形法等によつて製造される例えば厚さ
が約3mm前後の大型薄物である場合にはこの傾向
が著しい。
また、陶器に高級感を具備させたり、特有の意
匠性を付与させるために厚く釉掛けを行なうこと
が必要になる場合があるが、このような吸水、膨
潤による変形、破壊現象のために、薄物生素地に
は厚い施釉ができず、意匠創作上制約が加えられ
るという問題もあつた。
[問題点を解決するための手段] 本発明の湿式及び乾式方式による施釉方法は、
大型薄板状の生素地上に泥漿釉を掛けた後、直ち
に該泥漿釉上に吸水性の粉粒釉を掛けることによ
り、前記泥漿釉の水分を該粉粒釉に吸収させて生
素地の変形を防止するものである。
[作用] かかる本発明方法によれば、泥漿釉中の水分の
うち相当量は、生素地内に吸い込まれるよりも早
く、該泥漿釉上に掛けられる吸水性の粉粒釉に吸
収される。そのため、生素地に吸収される水分量
が少なくなり、該生素地の吸水による変形、破壊
が防止さされる。
[実施例] 以下図面を参照して実施例について説明する。
第1〜3図は実施例方法を示す概略的な断面図
であり、まず例えば電気泳動方式を採用した成形
法によつて成形された大型薄板状の生素地2上に
泥漿釉4(例えば白釉)が幕掛け装置6から掛け
られる(第1図)。
次に、直ちにこの生素地2上の泥漿釉4の上に
篩掛け装置8(なお、この構成は後述の第9図に
示すものである。)から吸水性の粉粒釉10が掛
けられる(第2図)。これにより泥漿釉4中の水
分の相当量が吸水性の粉粒釉10に吸収され、第
3図の如く、生素地2上に施釉層12が形成され
る。泥漿釉4中の水分のうち粉粒釉10に吸収さ
れなかつた水分は生素地2に吸収されるが、この
量は少量であり、生素地2に変形、破壊をもたら
すことはない。
本発明において、用いる粉粒釉の粒度構成やそ
の組成は特に限定されるものでなく、各種のもの
とし得る。この粉粒釉は乾燥しているのが好まし
いが、さらに吸水できる範囲であれば湿つていて
も差支えない。また、泥漿釉中の釉の粒度やその
組成あるいは釉中の水分等にも特に限定はない
が、水分については固形釉成分が30〜60重量%と
りわけ40〜50重量%程度の濃度となるようにする
のが好適である。
粉粒釉と泥漿釉との組み合わせ例を第4〜7図
を参照して次に説明するが、本発明は下記以外の
組み合わせとしても良い。なお、第4〜7図は焼
成した後の表面部分の模式的な断面図である。
第4図は、泥漿釉の釉と粉粒釉とを同一組成と
することにより、陶磁器16の表面に均一な組成
の釉掛層14を形成するようにしたものである。
この第4図の如くすれば、厚さ及び組成ともに均
一な釉掛層14を厚く形成することができる。
第5図は粉粒釉として着色顔料釉を採用し、泥
漿釉として透明又は半乳色のものを採用した場合
を示す。第6図は第5図において粉粒釉4として
反応性の高い着色顔料釉を採用した場合を示す。
第5,6図によれば任意の色調、色彩の釉掛層1
4を形成することができる。特に第6図において
粉粒釉として粒径の大きな釉を用いると、釉粒子
14aの界面がぼかされた釉掛層となる。なお、
泥漿釉として、着色されていない粉粒釉を含むも
のを用いても良い。
第7図は粉粒釉を多量に、かつパターンマスク
により粉粒釉分布に疎密をつけてパターン掛けし
たものである。
この第7図によれば、粉粒釉を密に掛けた部分
が盛り上がり、粉粒釉を疎に掛けた部分では平坦
となる凹凸付の釉掛層14が形成される。
第8,9図は粉粒釉を生素地上の泥漿釉表面に
掛ける方法を示す斜視図である。
第8図の実施例では、網篩18を用いて粉粒釉
を泥漿釉表面に掛けている。この場合、粉粒釉1
0は該網篩18上に所定量ずつ注ぎ込む如く供給
するのが好適であるが、エア噴射方式のノズルを
用いても良い。このようにノズルと網篩とを併用
する場合には、ノズルから噴射された粉粒釉の速
度を減速することができる。なお、この網篩18
にはバイブレータを取設しても良い。
第9図は、パターンマスク20付のスクリーン
22を有する網篩18を用いて粉粒釉4をパター
ン掛けする場合を示す。この実施例によれば花柄
模様のパターン掛けが行なわれるが、この図柄は
任意である。なお、第2図ではこのスクリーン2
2上にはブラシ24が掃引され粉粒釉10を落下
させているが、このブラシ24の代わりに、もし
くはブラシ24と併用して網篩18にバイブレー
タを取設しても良い。
上記実施例では粉粒釉及び泥漿釉をそれぞれ1
層のみ掛けているが、多層掛けとしても良い。
[効果] 以上の通り、本発明方法によれば、大型薄板状
の生素地についても変形、破壊を生じさせること
なく釉掛けを行なうことができる。また釉を多層
に掛けたり、厚く掛けることも可能であり、種々
のパターンに従つた釉掛けも可能である。本発明
は、種々の大型薄板状の生素地の釉掛け法として
適用できるが、特に電気泳動方式の成形法によつ
て成形された大型薄素地の釉掛け法として極めて
好適である。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図及び第3図は本発明の実施例に
係る施釉方法を示す断面図、第4図、第5図、第
6図及び第7図は焼成品の表面部分を示す断面図
である。第8図及び第9図は粉粒釉を掛ける方法
を説明するための要部斜視図である。 2……生素地、4……泥漿釉、6……ノズル、
10……粉粒釉、18……網篩。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 大型薄板状の生素地上に泥漿釉を掛けた後、
    直ちに該泥漿釉上に吸水性の粉粒釉を掛けること
    により、前記泥漿釉中の水分を該粉粒釉に吸収さ
    せて生素地の変形を防止することを特徴とする湿
    式及び乾式方式による施釉方法。
JP2317787A 1987-02-03 1987-02-03 湿式及び乾式方式による施釉方法 Granted JPS63190784A (ja)

Priority Applications (1)

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JP2317787A JPS63190784A (ja) 1987-02-03 1987-02-03 湿式及び乾式方式による施釉方法

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JP2317787A JPS63190784A (ja) 1987-02-03 1987-02-03 湿式及び乾式方式による施釉方法

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JPS63190784A JPS63190784A (ja) 1988-08-08
JPH031276B2 true JPH031276B2 (ja) 1991-01-10

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06128057A (ja) * 1992-10-16 1994-05-10 Inax Corp タイル表面の乾式印刷方法
JP3608429B2 (ja) * 1999-04-19 2005-01-12 東陶機器株式会社 衛生陶器の製造方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5722187A (en) * 1980-07-12 1982-02-05 Matsushita Electric Works Ltd Manufacture of ceramic product with spot pattern
JPS60235776A (ja) * 1984-05-02 1985-11-22 株式会社イナックス 斑点模様を有する焼物体及びその製造方法

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