JPH031275B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH031275B2
JPH031275B2 JP62023176A JP2317687A JPH031275B2 JP H031275 B2 JPH031275 B2 JP H031275B2 JP 62023176 A JP62023176 A JP 62023176A JP 2317687 A JP2317687 A JP 2317687A JP H031275 B2 JPH031275 B2 JP H031275B2
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JP
Japan
Prior art keywords
glaze
powder
slurry
powder glaze
raw material
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP62023176A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS63190783A (ja
Inventor
Hideki Ishida
Kenichi Yamazaki
Akira Ishii
Masahiro Takeuchi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Inax Corp
Original Assignee
Inax Corp
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Publication date
Application filed by Inax Corp filed Critical Inax Corp
Priority to JP2317687A priority Critical patent/JPS63190783A/ja
Publication of JPS63190783A publication Critical patent/JPS63190783A/ja
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  • Laminated Bodies (AREA)
  • Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は乾式及び湿式方式による施釉方法に係
り、特に大型薄板状の生素地に施釉する場合に好
適な施釉方法に関する。
[従来の技術] 大型の陶板の生素地などを成形する方法とし
て、近年、電気泳動法を採用した方法が公知とさ
れた(特公昭55−50761号)。
このような大型陶板に施釉する場合、泥漿釉を
成形された生素地(乾燥前の素地)に掛けること
が行なわれている。
[発明が解決しようとする問題点] 生素地上へ泥漿釉を施釉すると、素地が泥漿釉
中の水分を吸収して膨潤し、該素地が変形、破壊
するおそれがある。ことに、この生素地が電気泳
動方式の成形法等によつて製造される例えば厚さ
が約3mm前後の大型薄物である場合にはこの傾向
が著しい。
また、陶器に高級感を具備させたり、特有の意
匠性を付与させるために厚く釉掛けを行なうこと
が必要になる場合があるが、このような吸水、膨
潤による変形、破壊現象のために、薄物生素地に
は厚い施釉ができず、意匠創作上制約が加えられ
るという問題もあつた。
[問題点を解決するための手段] 本発明の乾式及び湿式方式による施釉方法は、
大型薄板状の生素地上に粉粒釉を掛けた後、泥漿
釉を掛ける乾式及び湿式方式による施釉方法であ
つて、前記粉粒釉として吸水性の粉粒釉を用い、
泥漿釉の水分を該粉粒釉に吸収させて生素地の変
形を防止するものである。
[作用] かかる本発明方法によれば、泥漿釉中の水分の
うち相当量が、先に生素地上に掛けられた吸水性
の粉粒釉に吸収されるため、生素地に吸収される
水分量が少なくなり、該生素地の吸水による変
形、破壊が防止される。
[実施例] 以下図面を参照して実施例について説明する。
第1〜3図は実施例方法を示す概略的な断面図
であり、まず例えば電気泳動方式を採用した成形
法によつて成形された大型薄板状の生素地2上に
吸水性の粉粒釉4がノズル6から空気噴射されて
掛けられる(第1図)。
次に、この生素地2上の粉粒釉4の上にノズル
8から泥漿釉10が空気噴射されて掛けられる
(第2図)。この際、泥漿釉中の水分の相当量が吸
水性の粉粒釉4に吸収され、第3図の如く、生素
地2上に施釉層12が形成される。泥漿釉10中
の水分のうち粉粒釉4に吸収されなかつた水分は
生素地2に吸収されるが、この量は少量であり、
生素地2に変形、破壊をもたらすことはない。
本発明において、用いる粉粒釉の粒度構成やそ
の組成は特に限定されるものでなく、各種のもの
とし得る。この粉粒釉は乾燥しているのが好まし
いが、さらに吸水できる範囲であれば湿つていて
も差支えない。また、泥漿釉中の釉の粒度やその
組成あるいは釉中の水分等にも限定はないが、水
分については固形釉成分が30〜60重量%とりわけ
40〜50重量%程度の濃度となるようにするのが好
適である。
粉粒釉と泥漿釉との組み合わせ例を第4〜7図
を参照して次に説明するが、本発明は下記以外の
組み合わせとしても良い。なお、第4〜7図は焼
成した後の表面部分の模式的な断面図である。
第4図は、泥漿釉の釉と粉粒釉とを同一組成と
することにより、陶磁器16の表面に均一な組成
の釉掛層14を形成するようにしたものである。
この第4図の如くすれば、厚さ及び組成ともに均
一な釉掛層14を厚く形成することができる。
第5図は粉粒釉として着色顔料釉を採用し、泥
漿釉として透明又は半乳色のものを採用した場合
を示す。第6図は第5図において粉粒釉4として
反応性の高い着色顔料釉を採用した場合を示す。
第5,6図によれば任意の色調、色彩の釉掛層1
4を形成することができる。特に第6図において
粉粒釉として粒径の大きな釉を用いると、釉粒子
14aの界面がぼかされた釉掛層となる。
第7図は粉粒釉として耐火度の高いものもしく
は反応性の極めて乏しいものを用い、かつパター
ンマスクにより粉粒釉分布に疎密をつけて粉粒釉
をパターン掛けしたものである。
この第7図によれば、粉粒釉を密に掛けた部分
が盛り上がり、粉粒釉を疎に掛けたかもしくは全
く掛けなかつた部分では平坦となる凹凸付の釉掛
層14が形成される。
上記実施例では粉粒釉をノズル6を用いて噴射
することにより生素地2の表面に該粉粒釉を掛け
ているが、その他の方法によつて粉粒釉を掛けて
も良い。第8,9図は粉粒釉を生素地表面に掛け
る別の方法を示す斜視図である。
第8図の実施例では、網篩18を用いて粉粒釉
を生素地表面に掛けている。この場合、粉粒釉4
は該網篩18上に所定量ずつ注ぎ込む如く供給す
るのが好適であるが、第1図に示したノズルを用
いても良い。このようにノズルと網篩とを併用す
る場合には、ノズルから噴射された粉粒釉の速度
を減速し、粉粒が生素地表面に食い込むことが防
止される。なお、この網篩18にはバイブレータ
を取設しても良い。
第9図の実施例は、パターンマスク20付のス
クリーン22を有する網篩18を用いて粉粒釉4
をパターン掛けする場合を示す。この実施例によ
れば花柄模様のパターン掛けが行なわれるが、こ
の図柄は任意である。なお、本実施例でも網篩1
8にバイブレータを取設しても良い。
本発明では、粉粒釉の釉掛け方法としては、静
電吹付や電子プリントなど他の各種の方法を採用
できる。また、上記実施例では粉粒釉及び泥漿釉
をそれぞれ1層のみ掛けているが、多層掛けとし
ても良い。
[効果] 以上の通り、本発明方法によれば、大型薄板状
の生素地についても変形、破壊を生じさせること
なく釉掛けを行なうことができる。また釉を多層
に掛けたり、厚く掛けることも可能であり、種々
のパターンに従つた釉掛けも可能である。本発明
は、種々の大型薄板状の生素地の釉掛け法として
適用できるが、特に電気泳動方式の成形法によつ
て成形された大型薄素地の釉掛け法として極めて
好適である。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図及び第3図は本発明の実施例に
係る施釉方法を示す断面図、第4図、第5図、第
6図及び第7図は焼成品の表面部分を示す断面図
である。第8図及び第9図は異なる実施例方法を
説明するための要部斜視図である。 2……生素地、4……粉粒釉、6……ノズル、
10……泥漿釉、18……網篩。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 大型薄板状の生素地上に粉粒釉を掛けた後、
    泥漿釉を掛ける乾式及び湿式方式による施釉方法
    であつて、前記粉粒釉として吸水性の粉粒釉を用
    い、泥漿釉の水分を該粉粒釉に吸収させて生素地
    の変形を防止するようにしたことを特徴とする乾
    式及び湿式方式による施釉方法。
JP2317687A 1987-02-03 1987-02-03 乾式及び湿式方式による施釉方法 Granted JPS63190783A (ja)

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JP2317687A JPS63190783A (ja) 1987-02-03 1987-02-03 乾式及び湿式方式による施釉方法

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JPS63190783A JPS63190783A (ja) 1988-08-08
JPH031275B2 true JPH031275B2 (ja) 1991-01-10

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JP2317687A Granted JPS63190783A (ja) 1987-02-03 1987-02-03 乾式及び湿式方式による施釉方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0714838B2 (ja) * 1989-01-12 1995-02-22 株式会社イナックス タイルの釉掛け方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5532738A (en) * 1978-08-26 1980-03-07 Tanto Kk Tile glazing method

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JPS5532738A (en) * 1978-08-26 1980-03-07 Tanto Kk Tile glazing method

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