JPH09208347A - 陶磁器の施釉方法 - Google Patents

陶磁器の施釉方法

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JPH09208347A JP8044229A JP4422996A JPH09208347A JP H09208347 A JPH09208347 A JP H09208347A JP 8044229 A JP8044229 A JP 8044229A JP 4422996 A JP4422996 A JP 4422996A JP H09208347 A JPH09208347 A JP H09208347A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】従来の陶磁器の製造方法ないし施釉方法では、
美しい外観のレリーフ模様を有する陶磁器、即ち、十分
な厚さで施釉した陶磁器であってレリーフ模様の凹凸部
分が明瞭なものを得ることは極めて困難であった。 【解決手段】レリーフ面１Ｒの凹所が残存する厚さで素
地１のレリーフ面１Ｒに釉薄層２を形成し、さらに前記
釉薄層２の表面に釉泥漿を弾く撥釉層４を形成して被覆
素地を得て、この被覆素地に釉泥漿を付着させて釉泥漿
層５を形成して施釉する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、食器、タイル等の
各種の用途に用いることのできる陶磁器の施釉方法、こ
の施釉方法を含む陶磁器の製造方法及び施釉陶磁器に関
する。
【０００２】
【従来の技術】陶磁器は、一般に、素焼素地の全面を釉
泥漿で被覆し、前記釉泥漿を乾燥し焼成して製造する。
【０００３】また、陶磁器の従来の施釉方法として、特
公昭５１ー３７６５８号公報、特公昭５７ー２７０６１号
公報、特開平５−２６２５８２号公報及び特開平５−３
１０４８５号公報に記載の各方法が知られている。
【０００４】特公昭５１ー３７６５８号公報は、無機質
顔料を含有する撥水剤を陶磁器表面に塗布し焼成して前
記顔料を定着させる旨の陶磁器の装飾技法に関するもの
である。その実施例として、下絵付用の陶磁器顔料を含
んだ撥水剤を陶磁器表面にスクリーン印刷法で施して撥
水面を設け、さらに暗緑色の透明釉薬を施し焼成するこ
とにより、前記撥水面には前記釉薬が付着しないと共に
焼成により前記撥水面が顔料で着色された彩色面になる
旨が記載されている。
【０００５】特公昭５７ー２７０６１号公報は、シリ
コーンオイルを混在させた油性顔料で素地表面に輪郭模
様を形成して前記輪郭模様内に釉薬と顔料と水溶性シ
リコーン撥水剤との混和物を塗り込み、乾燥後表面に
通常の下絵具を刷毛塗りし施釉し焼成する陶磁器の絵付
方法に関するものであり、前記油性顔料は撥水性に富む
ため前記混和物は弾かれて輪郭模様内に盛上がった状態
に塗り込まれる旨が記載されている。
【０００６】特開平５−２６２５８２号公報は、施釉工
程に先立ち施釉時の吸水速度を遅らせる吸水速度調整剤
を基材表面に部分的に塗布し、前記基材表面に施釉して
釉薬層を形成し焼成する窯業製品の製造方法に関するも
のである。この公報には、前記吸水速度調整剤を塗布し
ない部分では、塗布される釉薬の水分が基材に吸収され
釉薬が付着し易いのに対し、前記吸水速度調整剤を塗布
した部分は、塗布される釉薬の水分が吸収されにくいた
め釉薬が付着し難く薄くなり、全体として凹凸状の釉薬
層が形成される旨が記載されている。
【０００７】前記公報には吸水速度調整剤の例として、
トリエタノールアミン、ポリビニルアルコール、カルボ
キシメチルセルロース、エチルアルコール、エチレング
リコール等が記載されている。
【０００８】特開平５−３１０４８５号公報には、撥水
性樹脂によるパターン状の印刷模様や焼成顔料を含有す
る焼成前のパターン状の印刷模様が水性釉薬の弾き作用
を奏することを利用し、これらのパターン状の印刷模様
に相当する部分が柄抜き状態にされている釉薬層を得る
ことにより、繊細な凹凸のセラミック模様を形成する旨
が記載されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の陶磁器
の製造方法ないし施釉方法では、以下に説明するよう
に、美しい外観のレリーフ模様を有する陶磁器、即ち、
十分な厚さで施釉した陶磁器であってレリーフ模様の凹
凸部分が明瞭なものを得ることは極めて困難であった。
【００１０】陶磁器の製造過程においては、素地に対す
る液体や気体の透過の防止、光沢、色彩等の美しい外観
の付与、素地の機械的強度の増加等の目的で、成形した
素地に前記目的を達成できる程度の所定の厚さで施釉し
ている。一般的には、焼成後における焼成釉層の厚さ
は、少なくともおよそ０．３〜０．４ｍｍ程度である。
【００１１】ところが、より一層美しい外観を陶磁器に
与えるべく、素地にレリーフ模様を形成した場合におい
て、素地にレリーフ模様がない場合と同様に施釉する
と、レリーフ面の凹所に他の部分より余計に多量の釉泥
漿が溜まり凹所を埋めてレリーフ面が平坦化してしま
う。
【００１２】そのため、レリーフ面のレリーフ模様はぼ
けてしまい、焼成後に表面に十分に彫りの深い鮮明なレ
リーフ模様を残した陶磁器を得ることが極めて困難であ
った。
【００１３】特に、より一層美しい美観を与えるべくレ
リーフ面がより一層微細に加工されている場合は、レリ
ーフ面の凹所が埋まって平坦化しまう傾向がより強いの
で、焼成後に微細なレリーフ面を有する陶磁器を得るこ
とはより一層極めて困難である。
【００１４】また、素地にレリーフ模様がない場合と同
様に施釉すると、レリーフ面と平坦な非レリーフ面との
境界付近に不良が発生しやすい。例えば、ピンホール等
の無釉部、釉泥漿のだれ等の外観的不良が発生しやす
い。
【００１５】なお、レリーフ面の凹所を埋めてしまわな
い程度の厚みで釉泥漿を素地全面に被覆すると、レリー
フ模様を形成していない素地部分の釉泥漿の厚さが薄く
なり過ぎ、上述の施釉する目的を達成することができな
い。
【００１６】本発明は、上記従来技術の問題点を解決す
る陶磁器の施釉方法、陶磁器の製造方法及び陶磁器を提
供することを目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】本発明にしたがい、レリ
ーフ面の凹所が残存する厚さで素地のレリーフ面に釉薄
層を形成し、この釉薄層の表面に釉泥漿を弾く撥釉層を
予め形成しておけば、当該素地をレリーフ面のない素地
と同様に施釉しても、レリーフ模様の凹凸部分が明瞭な
ものを得ることができる。
【００１８】即ち、以下に示す本発明の陶磁器の施釉方
法、陶磁器の製造方法及び陶磁器により前記目的を達成
することができる。
【００１９】被覆層で被覆した素地に釉泥漿を付着さ
せる釉泥漿付着工程を含む施釉方法であって、前記素地
として、レリーフ面と、前記レリーフ面の凹所が残存す
る厚さで前記レリーフ面を被覆する釉薄層と、前記釉薄
層を被覆すると共に釉泥漿を弾く撥釉層を有する素地を
用いる陶磁器の施釉方法（請求項１）。
【００２０】この施釉方法においては、好ましくは、加
湿したレリーフ面に釉泥漿を施して前記釉薄層を形成す
る（請求項２）。
【００２１】この施釉方法においては、好ましくは、着
色剤を含有する釉泥漿を用いて前記釉薄層を形成する
（請求項３）。
【００２２】この施釉方法においては、好ましくは、希
釈した釉泥漿を用いて前記釉薄層を形成する（請求項
４）。
【００２３】この施釉方法においては、好ましくは、前
記釉薄層で被覆していない前記素地の露出面又は前記釉
薄層の露出面に付着させようとする釉泥漿よりも釉薬の
濃度が薄い釉泥漿を用いて前記釉薄層を形成する（請求
項５）。
【００２４】この施釉方法においては、好ましくは、増
粘剤を含有する釉泥漿を用いて前記釉薄層を形成する
（請求項６）。
【００２５】この施釉方法においては、好ましくは、固
体パラフィンで前記撥釉層を形成する（請求項７）。
【００２６】この施釉方法においては、好ましくは、前
記素地の撥釉層非形成面に釉泥漿層を形成する（請求項
８）。
【００２７】前記陶磁器の施釉方法により施釉する工
程を含む陶磁器の製造方法（請求項９）。
【００２８】レリーフ面を有する焼成素地と、前記レ
リーフ面の凹所が残存する厚さで前記レリーフ面を被覆
する焼成レリーフ面釉層と、前記レリーフ面以外の前記
焼成素地の表面を被覆し前記焼成レリーフ面釉層より厚
さの厚い焼成釉層を有する陶磁器（請求項１０）。
【００２９】
【作用】撥釉層は、釉泥漿を弾くので、撥釉層を有する
素地の全体に釉泥漿を付着させても、釉泥漿を選択的に
素地に付着させることができる。即ち、釉泥漿は撥釉層
によって弾かれ撥釉層の表面への釉泥漿の付着を防止で
きると共に、撥釉層を有さない素地部分（釉薄層で被覆
していない素地の露出面、あるいは釉薄層の露出面）に
は所望の厚さで釉泥漿を付着させることができる。
【００３０】付着した釉薄層泥漿は、通常の場合は、そ
のまま放置するだけで自然に乾燥する。前記釉泥漿が乾
燥すると、レリーフ面の凹所が残存する厚さでレリーフ
面に釉（釉薄層）を被覆した素地であって、当該レリー
フ面以外の素地表面に所望の厚さで釉を被覆した素地を
得ることができる。
【００３１】かかる素地を焼成することにより、レリー
フ面の凹所が残存する厚さでレリーフ面を被覆する焼成
レリーフ面釉層と、前記レリーフ面以外の焼成素地表面
を被覆し前記焼成レリーフ面釉層より厚さの厚い焼成釉
層を有する陶磁器を得ることができる。
【００３２】なお、本発明者は、以下のような各方法を
試みたが、いずれも以下に示すような問題があった。
【００３３】（１）釉泥漿を素地に付着する前に、各種
油、シール剤（例えば、睦化学製ムツミシール）、陶画
糊等のような素地の吸水性を抑える吸水性抑制剤を素地
のレリーフ面に予め染み込ませることによって、レリー
フ面への釉泥漿付着量を減らそうとした。
【００３４】しかし、この方法では、釉泥漿の付着厚さ
の正確な制御が極めて困難である。よって、レリーフ面
を釉泥漿で薄く均一に被覆しようと試みても当該レリー
フ面に釉泥漿を均一な厚さで付着させることは極めて困
難である。従って、美しいレリーフ面の形成は困難であ
る。
【００３５】（２）釉泥漿に撥水剤を混合したものを予
めレリーフ面に対して塗布し乾燥させて釉泥漿付着防止
層として形成しておき、その後再度釉泥漿を付着させる
方法を試みた。しかしこの方法には次のような問題点が
ある。
【００３６】２時間程度の短時間しか撥水効果のピー
クが持続しないので、作業時間に制約がある。エッジ
が鋭い釉泥漿付着防止層を形成できないので、釉泥漿付
着防止層とこの層を形成しない素地表面との境界部の塗
り分けが困難であるから、釉むら等の外観不良が発生し
やすい。釉泥漿付着防止層の撥釉効果がピークの時に
おいてさえも、釉泥漿付着防止層に釉泥漿が少なからず
付着してしまう。撥水剤を含有する釉泥漿は常温で乾
燥しにくいので、釉泥漿付着防止層は加熱乾燥装置によ
る乾燥が必要になるから、連続作業を容易に行うことが
困難である。撥水剤を除去する工程が必要になる。
【００３７】（３）釉泥漿を素地に付着する前に、パラ
フィン類あるいは市販撥釉剤（例えば、新昭和コート製
ＣＰ−Ｓ）を予めレリーフ面に塗布することによって、
レリーフ面に釉泥漿が付着することを完全に防止する方
法を試みた。
【００３８】しかし、この方法は、レリーフ部に釉泥漿
を付着させることができないので、焼成後の素地表面に
ざらつきが残るばかりでなく、汚れが付きやすいという
欠点があり、商品としての実用性にかなり問題がある。
【００３９】本発明によれば、以上のような問題点をも
解決することができる。
【００４０】
【発明の実施の形態】
〔施釉方法〕釉泥漿を付着させる素地として、レリーフ
面と、このレリーフ面に被覆層である前記特定の釉薄層
と前記特定の撥釉層を順次有する素地を用いる。まず初
めに、かかる被覆層を有する被覆素地について、素地の
製造、レリーフ面の形成、被覆層の形成の順に説明す
る。
【００４１】（素地の製造）素地は、施釉に十分な吸水
性と施釉するための作業に必要な強度を有するものであ
れば良く、例えば、成形しただけで素焼き等の熱処理を
行っていない生のものであっても良い。好ましくは、素
焼又は素焼と同程度の吸水性と強度を有する素地にす
る。典型的には素焼きの素地で良い。
【００４２】また、素地は、組成が均一な素地ばかりで
はなく、組成が相違する素地を組み合わせて一体化させ
た素地でもよい。例えば、組成が同一又は相違する２以
上の組成の素地を多層状に組み合わせて一体化した素地
を用いることができる。あるいは、コーヒーカップ本体
部と取っ手部を結合させたコーヒーカップ用の素地のよ
うに、２以上の構成部分を結合して一体化させたものを
素地として用いることができる。
【００４３】素地の成形手段は、素地の材料に応じて適
宜手段を選択して行うことができる。例えば、粘土の場
合はろくろを用いて成形することができ、泥漿は鋳込み
成形法により成形することができ、乾粉は加圧成形法に
より成形することができる。
【００４４】（レリーフ面の形成）素地のレリーフ面と
は、素地表面の凹凸により模様を浮き上がらせた面をい
う。
【００４５】素地のレリーフ面は、各種の方法で形成で
き、例えば、手彫り、鋳込み、プレス、ローラーヘッド
・マシン等を用いて形成できる。また、砂等のレリーフ
面形成物を素地に押しつけることによっても形成でき
る。
【００４６】レリーフ面は、素地を成形した後に形成す
るばかりではなく、素地の成形と同時に形成することが
できる。例えば、鋳込み成形法で使用する石膏型面、あ
るいは加圧成形法で使用する金型面に模様を彫り込むこ
とにより、成形素地側にレリーフ面を形成することがで
きる。
【００４７】レリーフ面を形成された成形素地は、施釉
時に要求される吸水性と機械的強度を付与するために、
好ましくは、乾燥後、８００〜９００℃の任意の値で酸
化焼成する。
【００４８】（被覆層の形成）釉泥漿を付着させる素地
は、釉薄層と撥釉層の被覆層を有する。
【００４９】釉薄層は、レリーフ面を被覆するものであ
り、レリーフ面上に形成する。その厚さは、レリーフ面
の凹所が残存する厚さにする。この厚さは、レリーフ面
の凹所の寸法に応じて、当該凹所が埋まらないように適
宜設定する。レリーフ面の凹所の寸法（深さ及び幅）が
０．２〜１．０ｍｍの場合、好ましくは０．０３〜０．
２０ｍｍ程度の適宜の値にする。
【００５０】釉薄層は、通常は、レリーフ面の全面を被
覆するように当該レリーフ面とほぼ同じ面積で設ける
が、必要に応じてレリーフ面の一部のみを被覆するよう
に、あるいはまた、レリーフ面の一部ないし全部と非レ
リーフ面の一部ないし全部を被覆するように設けること
ができる。必要であれば、素地の全面に渡って被覆する
ことができる。
【００５１】なお、釉薄層は、例えば、素地のレリーフ
面が不連続に存在する場合等のように必要に応じて不連
続に設けることができる。不連続なレリーフ面に応じて
釉薄層を不連続に形成することができるが、このような
場合であっても釉薄層を連続して形成することができ
る。
【００５２】撥釉層は、釉泥漿を弾く層であり、前記釉
薄層を被覆する。撥釉層は、凹所を残存させようとする
レリーフ面に、釉薄層を介して設ける。凹所が残存する
厚さでレリーフ面を被覆する領域における釉薄層の一部
ないし全部に撥釉層を設けることができる。
【００５３】また撥釉層は、必要に応じて、釉薄層の存
在する領域を越えて設けることができる。即ち、撥釉層
の一部分は、素地のレリーフ面又は非レリーフ面に直接
接触しても良い。撥釉層は、好ましくは、素地の焼成に
より消失する材料で形成する。
【００５４】（１）釉薄層の形成 釉薄層は、好ましくは釉泥漿を素地に付着させて形成す
る。釉泥漿は、通常は、素地に付着させればそのまま放
置することにより常温で乾燥して釉薄層になる。
【００５５】釉泥漿としては、好ましくは、通常の釉泥
漿（釉薄層で被覆していない素地の露出面、あるいは、
釉薄層の露出面に付着させる釉泥漿）よりも釉薬の濃度
が薄い塗布層を相対的に形成する薄い釉泥漿や、前記通
常の釉泥漿に対して相対的に付着量が少ない釉泥漿層を
形成する釉泥漿等のように前記通常の釉泥漿を希釈した
釉泥漿を用いて形成する。
【００５６】釉薄層を形成するための釉泥漿に使用する
釉薬は、好ましくは、レリーフ面以外の素地の表面に通
常の厚さで付着させようとする釉泥漿に使用する釉薬と
同じものにする。
【００５７】好ましくは、焼成後の厚さが０．２ｍｍ〜
０．１ｍｍの任意の値、好ましくは０．１５ｍｍ〜０．
１ｍｍ程度の任意の値にし、必要によっては０．１ｍｍ
以下の任意の値になるように、素地に釉泥漿を付着して
釉薄層を形成する。
【００５８】少量の釉泥漿でも容易に付着させることが
できるように、好ましくは、釉泥漿を付着させようとす
るレリーフ面を加湿する。
【００５９】レリーフ面を加湿する加湿剤としては、釉
泥漿となじみが良いものであれば良く、例えば水、水溶
性の溶媒又はこれらの混合物にすることができる。かか
る加湿剤は、例えばスプレー、刷毛、筆等の塗布具又は
これらを２つ以上組合せて素地のレリーフ面に付着させ
ることができ、好ましくは、むらなく均一に塗布する。
【００６０】素地には加湿剤を、好ましくは２回塗布す
る。皿等の平物の形状の素地には、ろくろを用いて加湿
することができる。ろくろによれば、加湿剤を容易に２
回塗布することができる。つぼ等の袋物の形状の素地に
も好ましくは加湿剤を２回塗布する。
【００６１】釉薄層を形成するための手段としては、例
えば、釉の濃度を低くした釉泥漿をレリーフ面の凹所に
刷毛等により塗布することを挙げることができる。刷毛
による塗布方法によれば、形状に依存することなく各種
形状の素地に塗布することができ、例えば楕円形の皿の
ような非回転体に対しても塗布することができる。な
お、前記凹所に釉泥漿が溜まってしまった場合には、当
該凹所から釉泥漿を除去する。
【００６２】また、レリーフ面にのみ釉泥漿を選択的に
付着させるには、釉泥漿を付着したくない箇所にマスク
を設けた場合は、スプレー塗布法や、ろくろで回転させ
ている被覆素地に刷毛で塗布する方法によっても可能で
ある。かかる方法によれば熟練作業者でなくとも、レリ
ーフ面に釉泥漿を選択的に塗布することができる。な
お、レリーフ面の凹所に釉泥漿が溜まってしまった場合
には、当該凹所から釉泥漿を除去する。つぼ等の回転体
をした被覆素地の外周方向にレリーフ面が連続して形成
されている場合には、レリーフ面に隣接した非レリーフ
面に必ずしもマスクを設ける必要はない。
【００６３】釉薄層を釉泥漿の塗布により形成する場合
において、常温（１０〜３０℃）で放置することにより
釉泥漿が自然に乾燥するときは、加熱による強制的な乾
燥工程を要しないが、必要に応じて所定の温度、湿度及
び雰囲気等の乾燥条件を設定して乾燥を行うことができ
る。
【００６４】釉薄層を形成するための釉泥漿は、例え
ば、比重１．２８〜１．３０の任意の値、粘度（６０ｒ
ｐｍ）５０〜７０ｃｐｓの任意の値のものを用いること
ができる。かかる釉泥漿は、例えば、乾燥粉体状の釉５
００重量部、増粘剤であるカルボキシメチルセルロース
（５％水溶液）１００重量部、着色剤であるローダミン
０．５重量部及び水２９９．５重量部をポットミル等の
攪拌機で３０分〜６０分の任意の値で攪拌して得ること
ができる。
【００６５】増粘剤は、通常使用する濃度よりうすい釉
泥漿を刷毛等により塗布しやすくすることができる。か
かる増粘剤は、釉薄層の酸化焼成過程で焼失させること
ができるものを、例えば水溶性高分子有機化合物から適
宜選択して用いる。なお、増粘剤は、釉薄層で被覆した
素地の撥釉層非形成面に付着させる釉泥漿には通常は含
有させる必要はないが、必要であれば含有させることが
できる。
【００６６】上述のように釉泥漿に着色剤を含有するこ
とにより、釉薄層の形成範囲を明確にすることができる
ので、釉薄層形成領域とこの層を形成していない領域と
の境界を確実に確認することができる。また、長時間に
わたり釉泥漿を使用していると釉泥漿の濃度が変化する
場合があるが、釉泥漿に着色剤を含有することにより釉
泥漿の濃度変化を感知することができる。さらに、釉泥
漿付着工程で使用する釉の色と異なる色の着色剤を含有
させることにより、素地や陶磁器の表面に色分け模様を
付すことができる。
【００６７】ろくろ及び刷毛を用いて釉泥漿を素地に塗
布する場合は、刷毛には釉泥漿を十分含ませて、釉泥漿
がレリーフ面の凹所に溜まらないように、ろくろを回転
させながらレリーフ面の中央から刷毛を下ろして塗布す
る。好ましくは、２回塗布する。長時間にわたって塗布
する場合は、好ましくは、釉泥漿を常時刷毛で攪拌す
る。なお、長時間の塗布により釉泥漿の粘度が高くなっ
た場合は、釉泥漿を新たなものと交換する。
【００６８】レリーフ面にピンホールがあれば、釉泥漿
で当該ピンホールを埋める。
【００６９】（２）撥釉層の形成 撥釉層を形成するための材料としては、釉薄層の被覆が
可能であると共に釉泥漿を弾く性質を有するものであれ
ば油性でも水性でもよく、好ましくは、かかる性質に加
えて釉薄層を被覆する際に当該釉薄層に密着させること
ができるもの（少なくとも流動性を有さないもの）に
し、より好ましくは前記性質に加えて釉薄層を被覆する
際に固体状になるものにする。
【００７０】かかる材料としては、例えば、シリコーン
等の撥水性を有する有機化合物を含有する撥水剤があ
り、好ましくは固形パラフィンや樹脂類にする。なお、
シリコーン油を水等の水性溶媒に分散したエマルション
も用いることができる。常温で液状のものは、好ましく
は、釉薄層に塗布し乾燥させるが、常温で短時間に乾燥
するものは必ずしも特別な乾燥工程を設ける必要はな
い。
【００７１】撥釉層を形成する場合には、好ましくは、
液状の撥釉層材料を釉薄層に塗布する。固体パラフィン
のように撥釉層材料が常温で固体の場合は、例えば加熱
により溶解して液状にしたものを塗布する。固体パラフ
ィンを加熱して溶解したものは、塗布作業を行いやす
い。固体パラフィンは、１５０〜１６０℃の任意の値に
加熱した場合において液状であるものを用いることがで
き、好ましくは融点が１３０℃以上、より好ましくは１
３５℃以上のものを用いる。固体パラフィンは、釉薄層
に付着させた場合に融点が高いものほど迅速に流動性を
失い迅速に固体化するので、釉薄層へのにじみが少ない
シャープなエッジを形成することができる。
【００７２】液状化した固体パラフィン等のような液状
化した撥釉層形成用材料をレリーフ面に塗布することに
より撥釉層をレリーフ面に形成する場合、レリーフ面の
内側と外側の境界部に液状化した撥釉層形成用材料を最
初に塗布して（必要であれば冷却、乾燥する。）環状の
撥釉層を形成し、最後に環状の撥釉層の内部に液状化し
た撥釉層形成用材料を塗布して（必要であれば冷却、乾
燥する。）全体の撥釉層を形成する。
【００７３】環状の撥釉層の内部に液状化した撥釉層形
成用材料を塗布する場合には、好ましくは、前記環状の
撥釉層の外側に液状化した撥釉層形成用材料がはみ出さ
ないようにする。
【００７４】液状化した撥釉層形成用材料として、固体
パラフィンを加熱して液状化させたものを用いる場合、
加熱温度が低いときは撥釉効果が若干低下することがあ
るので、好ましくは、当該固体パラフィンの融点より１
０〜１５℃の任意の値以上（好ましくは２０℃以上の任
意の値）の高温で、かつ、発火点ないし温度劣化点以下
の温度にして使用することができる。例えば、熔融点１
３５℃の固体パラフィンは、１３５℃程度の液状体にし
て使用することができるが、好ましくは、１５０〜１６
０℃の任意の値まで加熱した液状体を使用することがで
きる。
【００７５】撥釉層の厚さは、ピンホール等の欠陥部分
が存在しない程度の厚さであれば良く、好ましくは０．
１０ｍｍ以上にし、より好ましくは０．１２〜０．１５
ｍｍ程度にする。
【００７６】なお、固体パラフィンが付着した手で素地
の釉薄層に触れると、触れた釉薄層の部分がはげる場合
があるので、触れないようにする。
【００７７】（釉泥漿付着工程）釉泥漿付着工程は、前
記特定の釉薄層及び前記特定の撥釉層の２層の被覆層を
有する素地（以下、被覆素地という。）に釉泥漿を付着
させる工程である。
【００７８】釉泥漿は、撥釉層非形成面（撥釉層で被覆
されていない素地の露出面及び釉薄層の露出面）の所望
の位置に所望の厚さで層状に付着させることにより釉泥
漿層にすることができる。
【００７９】被覆素地に釉泥漿を付着させる手段として
は、例えば、釉泥漿に被覆素地を浸漬する方法や、スプ
レーを用いて釉泥漿を被覆素地に噴霧する方法がある。
撥釉層は釉泥漿を弾くので、撥釉層で被覆した被覆素地
を釉泥漿に浸漬すれば、前記撥釉層非形成面の全面にの
み容易に釉泥漿を付着させて釉泥漿層を形成することが
できる。
【００８０】釉泥漿に被覆素地を浸漬する場合、好まし
くは、（飽和重量−乾燥重量）／乾燥重量×１００％で
算出される吸水率を２０〜２４％の任意の値にするが、
スプレーを用いて行う場合は前記吸水率の範囲のみなら
ず０〜２０％未満の任意の値でも良い。ここで、飽和重
量とは、釉薄層と撥釉層を有して成る被覆素地が水を飽
和状態で吸収した場合の被覆素地と当該被覆素地が吸収
した水の全重量をいう。また、乾燥重量とは、釉薄層と
撥釉層を有して成る被覆素地の乾燥重量をいう。
【００８１】撥釉層非形成面に釉泥漿を付着させる厚さ
は、焼成後において、焼成素地に対する液体や気体の透
過の防止、光沢、色彩等の美しい外観の付与、素地の機
械的強度の増加等の目的に応じて当該目的のうちの少な
くとも一つを達成できる程度の厚さにすることができ
る。例えば、焼成後の厚さが０．３〜０．４ｍｍの任意
の値になるような厚さで釉泥漿を塗布することができ
る。
【００８２】釉泥漿の水分の含有率は、一般的な釉の場
合、好ましくは４０〜４５％の任意の値にする。
【００８３】所望の撥釉層非形成面に釉泥漿を付着させ
釉泥漿層を形成して、被覆素地に乾燥釉層を形成した後
に、撥釉層を除去する。撥釉層を有機物で形成した場合
は、後述の焼成工程で焼失除去することができるので、
撥釉層除去工程を設ける必要がないから好ましい。
【００８４】釉薄層を形成するためレリーフ面に塗布す
る前記釉泥漿の釉薬と非レリーフ面に塗布する釉泥漿の
釉薬は、同一組成のものでよいが、透明釉とマット釉あ
るいは色釉とを適宜組合せることにより、装飾性を高め
ることができる。
【００８５】例えば、長石（４０重量％）、珪石（３５
重量％）、石灰石（１０重量％）、焼カオリン（１５重
量％）から成る透明釉と、長石（３３重量％）、珪石
（２５重量％）、石灰石（１２重量％）、焼タルク（１
５重量％）、焼カオリン（１５重量％）から成るマット
釉とを、組合わせることができる。
【００８６】なお、色釉とする場合は、上記各釉に、発
色剤として金属酸化物を加える。例えば、還元焼成用に
酸化コバルトを０．５〜１．５重量％加えると淡い青味
を発色させることができ、また酸化焼成では酸化第２鉄
を３〜５重量％加えて黄茶色を発色させることができ
る。
【００８７】〔陶磁器の製造方法〕本発明の陶磁器の製
造方法は、上述の陶磁器の施釉方法により施釉する工程
を含み、この工程の後には乾燥工程と焼成工程を設ける
ことができる。
【００８８】（乾燥工程）被覆素地に付着させた釉泥漿
は、通常は、常温（１０〜３０℃の任意の値）で放置す
ることにより自然に乾燥する。よって、加熱による強制
的な乾燥工程は必ずしも必要ではないが、必要に応じて
所定の温度、湿度及び雰囲気等の乾燥条件を設定して被
覆素地ないし釉層の乾燥を行うことができる。
【００８９】（焼成工程）釉層と撥釉層を有する素地
は、焼成工程により高温で本焼成して磁器化する。
【００９０】焼成温度は、好ましくは１２５０〜１３５
０℃の任意の値、より好ましくは１２８０〜１３２０℃
の任意の値にする。
【００９１】酸化焼成用の釉薬の場合、酸化雰囲気にお
いて、好ましくは１２２０〜１２６０℃の最高温度範囲
内の任意の値で保持する。かかる酸化焼成を経ることに
より、撥釉層あるいは釉層に有機物が存在している場合
でも、当該有機物は燃焼除去される。
【００９２】還元焼成用の釉薬の場合、還元雰囲気にお
いて、好ましくは１２８０〜１３２０℃程度の最高温度
範囲内の任意の値で保持する。好ましくは、前記最高温
度範囲で保持する前の段階として１０００〜１１００℃
程度の任意の値の酸化雰囲気の予備焼成帯を設け、撥釉
層あるいは釉層に存在する有機物を燃焼して除去する。
【００９３】〔陶磁器〕焼成素地は、レリーフ面を有す
る。焼成レリーフ面釉層は、前記レリーフ面の凹所が残
存する厚さで前記レリーフ面を被覆する。焼成レリーフ
面釉層は、レリーフ面の一部を被覆するようにレリーフ
面内に設けることができる。また、焼成レリーフ面釉層
は、その一部がレリーフ面の一部ないし全部を被覆する
と共に残りの部分がレリーフ面を越えて非レリーフ面を
被覆するように連続して設けることができる。
【００９４】焼成釉層は、前記レリーフ面以外の前記焼
成素地の表面を被覆するものであり、焼成レリーフ面釉
層の厚さより厚くして設ける。焼成釉層は、その一部分
がレリーフ面を被覆すると共に、残りの部分が非レリー
フ面を被覆するように設けることができる。なお、焼成
釉層は、連続してあるいは不連続に設けることができ
る。
【００９５】焼成レリーフ面釉層の厚さは、焼成素地の
レリーフ面の凹所が残存する厚さであり、前記凹所の寸
法に依存するが、例えば０．２ｍｍ以下の適宜の値、さ
らには０．０５〜０．１５ｍｍの適宜の値にすることが
できる。還元焼成用の釉薬を原料として得た釉薄層を還
元焼成した場合においても、例えば０．１５ｍｍ程度あ
るいはこれ以下の適宜の厚さの焼成レリーフ面釉層にす
ることができる。
【００９６】焼成レリーフ面以外の焼成素地を被覆する
焼成釉層の厚さは、焼成レリーフ面釉層の厚さより厚く
し、例えば０．３ｍｍ以上の適宜の値にすることができ
る。
【００９７】焼成レリーフ面釉層の厚さと焼成釉層の厚
さの組合せ例としては、レリーフ面の凹部の寸法にもよ
るが、焼成レリーフ面釉層の厚さを０．０５〜０．２ｍ
ｍ程度の適宜の値（例えば０．１０ｍｍ）にし、焼成釉
層の厚さを０．３〜０．４ｍｍ程度の適宜の値（例えば
０．３ｍｍ）にすることができる。
【００９８】
【実施例】
（実施例１）本発明の施釉方法の一実施例を図面に基づ
いて説明する。
【００９９】図１は、レリーフ面と、前記レリーフ面の
凹所が残存する厚さで前記レリーフ面を被覆する釉薄層
を有する素地の、前記釉薄層の厚さ方向の断面図であ
る。素地１は、レリーフ面１Ｒと平坦面（非レリーフ
面）１Ｓを有する。釉薄層は、レリーフ面１Ｒの凹所３
が残存する厚さでレリーフ面１Ｒを被覆するように設け
ている。
【０１００】釉薄層で被覆した図１の素地に撥釉層を形
成した後の被覆素地を図２に示す。図２は、図１の素地
の釉薄層を被覆するように撥釉層を設けた被覆素地の、
前記釉薄層の厚さ方向の断面図である。固体パラフィン
から成る撥釉層４は、釉薄層２の大部分を被覆するよう
に設けている。なお、図２では、レリーフ面の凹所３が
なくなるほど撥釉層４を充填しているが、レリーフ面１
Ｒの凹所３が残存する厚さでレリーフ面１Ｒを被覆する
ように撥釉層４を設けることができる。
【０１０１】釉薄層及び撥釉層で被覆した図２の素地を
釉泥漿に浸漬して釉泥漿を付着させて釉泥漿層を形成し
た後の被覆素地を図３に示す。撥釉層４は釉泥漿を弾く
ので、釉泥漿層５は、素地１の平坦面（非レリーフ面）
１Ｓの表面のみに選択的に形成されており、撥釉層４の
表面には形成されていない。かかる釉泥漿層は、常温で
放置した場合でも乾燥し、乾燥釉層になる。
【０１０２】乾燥釉層を形成した被覆素地を焼成する
と、撥釉層４は固体パラフィンから成るので、焼成中に
焼失し、図４に示される陶磁器が得られる。図４は、焼
成レリーフ面釉層を有する陶磁器の、当該焼成レリーフ
面釉層の厚さ方向の断面図である。図４の陶磁器は、レ
リーフ面１Ｒ’を有する焼成素地１’と、レリーフ面１
Ｒ’の凹所３’が残存する厚さでレリーフ面１Ｒ’を被
覆する焼成レリーフ面釉層２’と、焼成素地１’の平坦
面（非レリーフ面）１Ｓ’の表面を被覆し前記焼成レリ
ーフ面釉層２’より厚さの厚い焼成釉層５’を有して成
る。
【０１０３】なお、レリーフ面を有する素焼素地の一例
を図５に示す。また、レリーフ面に釉薄層及び撥釉層を
設けることなく、従来技術に従ってレリーフ面を有する
素焼素地にそのまま施釉し焼成して得られた陶磁器の表
面の一例を図６に示す。さらに、本願発明の施釉方法に
従って施釉し焼成して得られた陶磁器の表面の一例を図
７に示す。
【０１０４】釉薄層の形成に使用した釉泥漿の還元焼成
用釉薬の一例としては、長石３０重量％、珪石４０重量
％、ドロマイト８重量％、石灰石４重量％、焼タルク８
重量％及び焼カオリン１０重量％のものを挙げることが
できる。前記釉薬の焼カオリンの一部は、アルミナで置
き換えることができる。
【０１０５】また、酸化焼成用釉薬の一例としては、長
石４０重量％、珪石２０重量％、ドロマイト５重量％、
石灰石２０重量％及び焼カオリン１５重量％のものを挙
げることができる。前記釉薬のドロマイトと石灰石の一
部は、酸化亜鉛で置き換えることができる。
【０１０６】（実施例２）図８は、食器用磁器を製造す
る代表的なフローシートであり、本件発明の一実施例を
これにそって詳細に説明する。
【０１０７】素地を製造するために、出発原料としてま
ず石物である長石２５重量部、石英２０重量部を秤量
し、これに適量の水と玉石とを加えポットミルで湿式粉
砕を行う。
【０１０８】粉砕が進んだなら、次にカオリンなどの粘
土質物質を５５重量部加え粉砕と混合を続ける。
【０１０９】勿論、粉砕の順序は、すでに予め粉砕がな
されている場合或いは、陶石等を使用する時は適宜変更
できる。
【０１１０】上記調合の素地の化学組成は、ＳｉＯ
2（６２．９重量％）、Ａｌ2Ｏ3（２３．８重量％）、
Ｆｅ2Ｏ3（０．６重量％）、ＣａＯとＭｇＯ（併せて
０．７重量％）、Ｋ2Ｏ （３．１重量％）、Ｎａ2Ｏ
（１．７重量％）、Ｉｇ．Ｌｏｓｓ（灼熱減量）（７．
１重量％）であった。
【０１１１】このような微粉砕スラリー状（泥漿状）の
調合物は、＃１５０〜＃２００メッシュ程度のフルイに
通され、粗粒分を除去し、次いで脱鉄器に通されて鉄分
が除去される。泥漿の微砕度としては、平均粒径８μ以
下の粒子が５０％以上であることが望ましい。
【０１１２】次にこの泥漿は、フィルタープレスによっ
て脱水されプレスケーキとして次工程に回されるか、こ
のまましばらくこの形で保管される。
【０１１３】レリーフ（面）を有する成形素地は、ロク
ロ成形又は鋳込成形のいづれでも製作できるが、本実施
例ではロクロ成形により以下のようにして素地を成形す
る。
【０１１４】上記のプレスケーキは、真空土練機に投入
され棒状（円柱状）の坏土として押し出され、押出口直
後に設置された切断機にて円盤状に切断される。
【０１１５】この坏土をロクロ成形機にかけ所望の形状
に成形する。ロクロ成形機はロクロ軸上に置かれた石膏
型があり、この中に坏土を投入し、上から金属製のコテ
が下降し、坏土を押さえて延伸させ、石膏型になじませ
る。石膏型に所定の形状のレリーフがあれば坏土に転写
されレリーフを有する皿やコップが成形される。
【０１１６】表面にレリーフを有する生素地は続いて十
分に乾燥され、窯に入れられ、大気雰囲気にて８００〜
９００℃で加熱され適度の吸水性と強度を有する素焼素
地がつくられる。
【０１１７】次に施釉作業について説明する。
【０１１８】レリーフを有する素焼素地に刷毛等に水を
十分に含ませてレリーフ部を軽くふき、この部分を適度
に湿らせておく。
【０１１９】次にこの素地に適する釉薬の一例としてゼ
ーゲル式で（０．３Ｋ2Ｏ＋０．７ＣａＯ）０．８Ａｌ2
Ｏ3・８ＳｉＯ2であらわされる組成の釉薬微粉に水と少
量の粘着剤（カルボキシメチルセルロース）と赤色着色
剤（ローダミン）を加えて通常の釉泥漿に比して釉薬濃
度がやや薄い水分約４４重量％、粘度６０ＣＰＳ程度の
着色釉薬泥漿を予め準備した。
【０１２０】この泥漿に刷毛や筆を浸漬して泥漿を含ま
せ、ロクロ台上に加湿された素焼素地をのせ回転しなが
らレリーフ部にあてレリーフ部のみに釉泥漿を塗布す
る。これを乾燥した後１５０〜１６０℃に加熱溶融した
パラフィンを刷毛や筆にてこの施釉済レリーフ部に塗布
し、撥釉層を形成する。
【０１２１】このレリーフ部をパラフィン処理した素焼
素地を前より粘度および濃度が若干高い同一組成の釉泥
漿にて全面施釉する。
【０１２２】施釉方法に特に限定はないが通常の釉泥漿
中に上記素焼素地を完全に浸漬し、数秒後に取り出す手
法でも良い。
【０１２３】レリーフ部はすでにパラフインにて撥釉処
理がなされているため、釉の付着はなく、又、若干の釉
の溜りがあれば後ほど簡単に除去できる。
【０１２４】このように全面施釉された素焼素地は耐火
性のサヤに１個１個入れられトンネル炉にて最高ＳＫ１
３番の温度にて還元焼成される。ＳＫ１３番の温度と
は、ＪＩＳ Ｒ ８１０１で規定されたゼーゲルコーン
によりＳＫ１３番のコーンが焼成により熔倒する焼度
（１３００℃）のことである。
【０１２５】表１に本発明にて使用した各種釉薬の化学
組成を示すが、これらは素地とのマッチングにより使い
分けられる。
【０１２６】
【表１】
【０１２７】又、本実施例ではレリーフ部の釉薬とこれ
以外の非レリーフ部の釉薬が同一のものを使用したが発
明の趣旨を逸脱しない限り異なる組成の釉を使用でき
る。
【０１２８】（実施例３）素地を製造するために、出発
原料として長石２５重量部、石英２０重量部に適量の水
と玉石とを加えポットミルで湿式粉砕を行う。このよう
にして得られる粉砕物にカオリンを５５重量部加えさら
に粉砕と混合を続ける。
【０１２９】上記調合の素地の化学組成は、ＳｉＯ
2（６２．９重量％）、Ａｌ2Ｏ3（２３．８重量％）、
Ｆｅ2Ｏ3（０．６重量％）、ＣａＯとＭｇＯ（併せて
０．７重量％）、Ｋ2Ｏ （３．１重量％）、Ｎａ2Ｏ
（１．７重量％）、Ｉｇ．Ｌｏｓｓ（灼熱減量）（７．
１重量％）であった。
【０１３０】このような微粉砕スラリー状（泥漿状）の
調合物を、＃１５０〜＃２００メッシュ程度のフルイに
通して粗粒分を除去し、次いで脱鉄器により鉄分を除去
する。このようにして、泥漿における粒子の微砕度を、
平均粒径８μ以下の粒子が５０％以上にする。
【０１３１】次にこの泥漿は、フィルタープレスによっ
て脱水されプレスケーキとする。
【０１３２】レリーフ（面）を有する成形素地は、以下
のようにしてロクロ成形する。
【０１３３】上記のプレスケーキを、真空土練機に投入
し棒状（円柱状）の坏土として押し出し、押出口直後に
設置した切断機にて円盤状に切断する。
【０１３４】この坏土をロクロ成形機によって皿の形状
に成形する。なお、ロクロ成形機にはロクロ軸上に置か
れた石膏型があり、この石膏型にはレリーフを形成でき
る所定の形状の凹凸を設るので、レリーフを有する皿の
形状の素地が成形される。
【０１３５】表面にレリーフを有する生素地は、続いて
十分に乾燥され、窯に入れられ、大気雰囲気にて８００
〜９００℃で加熱され適度の吸水性と強度を有する素焼
素地がつくられる。
【０１３６】次に、以下のようにして前記素焼素地に施
釉作業をする。
【０１３７】刷毛に水を十分に含ませて前記レリーフを
有する素焼素地のレリーフ部を軽くふき、この部分を適
度に湿らせておく。
【０１３８】次にこの素地に適する釉薬としてゼーゲル
式で（０．３Ｋ2Ｏ＋０．７ＣａＯ）０．８Ａｌ2Ｏ3・
８ＳｉＯ2であらわされる組成の釉薬微粉に水と少量の
粘着剤（カルボキシメチルセルロース）と赤色着色剤
（ローダミン）を加えて通常の釉泥漿に比して釉薬濃度
がやや薄い水分約４４重量％、粘度６０ＣＰＳ程度の着
色釉薬泥漿を予め準備した。
【０１３９】加湿された素焼素地をロクロ台上にのせ回
転させながらレリーフ部のみに前記釉薬泥漿を刷毛で塗
布する。これを乾燥した後１５０〜１６０℃に加熱溶融
したパラフィンを刷毛や筆にてこの施釉済レリーフ部に
塗布し、撥釉層を形成する。
【０１４０】レリーフ部を上述のようにパラフィン処理
した素焼素地を、前記着色釉薬泥漿より粘度および釉薬
濃度が若干高い同一組成の着色釉薬泥漿（水分４３重量
％、粘度１００ＣＰＳ）で全面施釉する。
【０１４１】このように全面施釉された素焼素地は、耐
火性のサヤに１個１個入れトンネル炉にてＳＫ１３番の
温度（１３００℃）にて還元焼成し、皿の形状をした陶
磁器を得る。
【０１４２】
【発明の効果】請求項１〜８の陶磁器の施釉方法は、被
覆層で被覆した素地に釉泥漿を付着させる釉泥漿付着工
程を含む施釉方法であって、前記素地として、レリーフ
面と、前記レリーフ面の凹所が残存する厚さで前記レリ
ーフ面を被覆する釉薄層と、前記釉薄層を被覆すると共
に釉泥漿を弾く撥釉層を有する素地を用いるので、美し
い外観のレリーフ模様を有し品格の高い陶磁器を得るこ
とができる。
【０１４３】即ち、十分な厚さで施釉した陶磁器であっ
てレリーフ模様の凹凸部分が明瞭なもの、特に、レリー
フ面に均一な釉薄層を形成したものを得ることができ
る。また、ピンホール等の無釉部や釉泥漿だれ等に起因
する外観不良の発生を防止して施釉することができる。
【０１４４】請求項２の陶磁器の施釉方法は、加湿した
レリーフ面に釉泥漿を施して前記釉薄層を形成するの
で、当該釉薄層を容易に形成することができる。即ち、
加湿したレリーフ面には、少量の釉泥漿であっても容易
に付着させることができるので、釉薄層を容易に形成す
ることができる。
【０１４５】請求項３の陶磁器の施釉方法は、着色剤を
含有する釉泥漿を用いて前記釉薄層を形成するので、釉
薄層を形成した範囲を明確にすることができるから、釉
薄層を形成した領域とこの層を形成していない領域との
境界を肉眼で確実にかつ容易に識別することができる。
また、長時間にわたり釉泥漿を使用していると水分の蒸
発等により釉泥漿の濃度が変化する場合があるが、釉泥
漿が着色剤を含有するので釉泥漿の濃度変化を感知する
ことができる。
【０１４６】請求項４の陶磁器の施釉方法は、希釈した
釉泥漿を用いて前記釉薄層を形成するので、前記釉薄層
を容易に形成することができる。
【０１４７】請求項５の陶磁器の施釉方法は、前記釉薄
層で被覆していない前記素地の露出面又は前記釉薄層の
露出面に付着させようとする釉泥漿よりも釉薬の濃度が
薄い釉泥漿を用いて前記釉薄層を形成するので、前記釉
薄層を容易に形成することができる。
【０１４８】請求項６の陶磁器の施釉方法は、増粘剤を
含有する釉泥漿を用いて前記釉薄層を形成するので、刷
毛等の釉泥漿塗布具による釉泥漿の素地への塗布を容易
に行うことができる。
【０１４９】請求項７の陶磁器の施釉方法は、固体パラ
フィンで撥釉層を形成するので、釉薄層へのにじみが少
ない鋭いエッジの撥釉層として容易に形成することがで
きる。即ち、固体パラフィンを加熱して得られる液状パ
ラフィンは、釉薄層に付着させると流動性を失って迅速
に固体化するから、釉薄層へのにじみが少ない鋭いエッ
ジの撥釉層を容易に形成することができる。
【０１５０】請求項９の陶磁器の製造方法は、前記請求
項１〜８の一に記載の陶磁器の施釉方法により施釉する
工程を含むので、美しい外観のレリーフ模様を有し品格
の高い陶磁器を得ることができる。即ち、十分な厚さで
施釉した陶磁器であってレリーフ模様の凹凸部分が明瞭
なもの、特に、レリーフ面に均一な釉薄層を形成したも
のを得ることができる。
【０１５１】請求項１０の陶磁器は、レリーフ面を有す
る焼成素地と、前記レリーフ面の凹所が残存する厚さで
前記レリーフ面を被覆する焼成レリーフ面釉層と、前記
レリーフ面以外の前記焼成素地の表面を被覆し前記焼成
レリーフ面釉層より厚さの厚い焼成釉層を有するので、
美しい外観のレリーフ模様を有し品格が高い。即ち、レ
リーフ面の凹凸部分が明瞭なのでレリーフ模様が美しい
と共に、さらに非レリーフ面に十分な光沢を有するの
で、外観が美しい。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、レリーフ面と、前記レリーフ面の凹所
が残存する厚さで前記レリーフ面を被覆する釉薄層を有
する素地の、前記釉薄層の厚さ方向の断面図である。
【図２】図２は、図１の素地の釉薄層を被覆するように
撥釉層を設けた被覆素地の、前記釉薄層の厚さ方向の断
面図である。
【図３】図３は、図２の被覆素地に釉泥漿層を形成した
後の、前記釉薄層の厚さ方向の断面図である。
【図４】図４は、焼成レリーフ面釉層を有する陶磁器
の、当該焼成レリーフ面釉層の厚さ方向の断面図であ
る。
【図５】図５は、セラミック基板（素焼素地）上に形成
された微細なパターン（レリーフ模様）を示す写真であ
る。
【図６】図６は、従来技術により施釉し焼成して得られ
たセラミック基板（陶磁器基板）上に形成された微細な
パターン（レリーフ模様）を示す写真である。
【図７】図７は、本願発明の方法により施釉し焼成して
得られたセラミック基板（陶磁器基板）上に形成された
微細なパターン（レリーフ模様）を示す写真である。
【図８】図８は、食器用磁器を製造する代表的なフロー
シートである。
フロントページの続き (72)発明者 上田 光一 愛知県名古屋市西区則武新町三丁目１番36 号 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 内 (72)発明者 坂本 憲仁 愛知県名古屋市西区則武新町三丁目１番36 号 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 内

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】被覆層で被覆した素地に釉泥漿を付着させ
    る釉泥漿付着工程を含む施釉方法であって、 前記素地として、レリーフ面と、前記レリーフ面の凹所
    が残存する厚さで前記レリーフ面を被覆する釉薄層と、
    前記釉薄層を被覆すると共に釉泥漿を弾く撥釉層を有す
    る素地を用いることを特徴とする陶磁器の施釉方法。
  2. 【請求項２】加湿したレリーフ面に釉泥漿を施して前記
    釉薄層を形成することを特徴とする請求項１に記載の陶
    磁器の施釉方法。
  3. 【請求項３】着色剤を含有する釉泥漿を用いて前記釉薄
    層を形成することを特徴とする請求項１〜２の一に記載
    の陶磁器の施釉方法。
  4. 【請求項４】希釈した釉泥漿を用いて前記釉薄層を形成
    することを特徴とする請求項１〜３の一に記載の陶磁器
    の施釉方法。
  5. 【請求項５】前記釉薄層で被覆していない前記素地の露
    出面又は前記釉薄層の露出面に付着させようとする釉泥
    漿よりも釉薬の濃度が薄い釉泥漿を用いて前記釉薄層を
    形成することを特徴とする請求項１〜４の一に記載の陶
    磁器の施釉方法。
  6. 【請求項６】増粘剤を含有する釉泥漿を用いて前記釉薄
    層を形成することを特徴とする請求項１〜５の一に記載
    の陶磁器の施釉方法。
  7. 【請求項７】固体パラフィンで前記撥釉層を形成するこ
    とを特徴とする請求項１〜６の一に記載の陶磁器の施釉
    方法。
  8. 【請求項８】前記素地の撥釉層非形成面に釉泥漿層を形
    成することを特徴とする請求項１〜７の一に記載の陶磁
    器の施釉方法。
  9. 【請求項９】前記請求項１〜８の一に記載の陶磁器の施
    釉方法により施釉する工程を含むことを特徴とする陶磁
    器の製造方法。
  10. 【請求項１０】レリーフ面を有する焼成素地と、前記レ
    リーフ面の凹所が残存する厚さで前記レリーフ面を被覆
    する焼成レリーフ面釉層と、前記レリーフ面以外の前記
    焼成素地の表面を被覆し前記焼成レリーフ面釉層より厚
    さの厚い焼成釉層を有することを特徴とする陶磁器。
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