JPH05310485A - 凹凸を有するセラミック模様の形成方法 - Google Patents
凹凸を有するセラミック模様の形成方法Info
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- JPH05310485A JPH05310485A JP14224592A JP14224592A JPH05310485A JP H05310485 A JPH05310485 A JP H05310485A JP 14224592 A JP14224592 A JP 14224592A JP 14224592 A JP14224592 A JP 14224592A JP H05310485 A JPH05310485 A JP H05310485A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 基体の表面に、釉薬層の有，無に基づく
繊細な凹凸のパターンによるセラミック模様を、容易か
つ確実に形成する方法を提供する。 【構成】 基体の表面に撥水性樹脂によるパターン状
の印刷模様または焼成顔料を含有するパターン状の印刷
模様を形成した後、該パターン状の印刷模様が形成され
ている全面に水性釉薬を施し、次いで、焼成することに
より、前記パターン状の印刷模様に相当する部分が柄抜
きされている釉薬層を得ることからなるセラミック模様
の形成方法。
繊細な凹凸のパターンによるセラミック模様を、容易か
つ確実に形成する方法を提供する。 【構成】 基体の表面に撥水性樹脂によるパターン状
の印刷模様または焼成顔料を含有するパターン状の印刷
模様を形成した後、該パターン状の印刷模様が形成され
ている全面に水性釉薬を施し、次いで、焼成することに
より、前記パターン状の印刷模様に相当する部分が柄抜
きされている釉薬層を得ることからなるセラミック模様
の形成方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、パターン状をなす釉薬
層の有，無に基づく凹凸が表面に現出されているセラミ
ック模様の形成方法に関する。
層の有，無に基づく凹凸が表面に現出されているセラミ
ック模様の形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】陶磁器製品や金属製品等への施釉は、陶
磁器製品や金属製品の全表面に均一に行なうか、あるい
は、シルクスクリーン印刷等によって部分的に行なうか
している。
磁器製品や金属製品の全表面に均一に行なうか、あるい
は、シルクスクリーン印刷等によって部分的に行なうか
している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前述の陶磁器製品や金
属製品等の全表面に均一に行なわれる施釉は、釉薬層が
全面均一な平滑表面として形成されるため、パターン状
の釉薬層に基づく意匠特性が得られなく、また、シルク
スクリーン印刷等による部分的な施釉方法では、釉薬層
の有，無による細かい凹凸のパターンを形成することが
不可能である。
属製品等の全表面に均一に行なわれる施釉は、釉薬層が
全面均一な平滑表面として形成されるため、パターン状
の釉薬層に基づく意匠特性が得られなく、また、シルク
スクリーン印刷等による部分的な施釉方法では、釉薬層
の有，無による細かい凹凸のパターンを形成することが
不可能である。
【０００４】これに対して本発明は、陶磁器製品や金属
製品等の表面に、撥水性樹脂によるパターン状の印刷模
様や焼成顔料を含有するパターン状の印刷模様を形成
し、これらの印刷模様によって奏される水性釉薬の弾き
作用を利用することにより、釉薬層の有，無に基づく凹
凸を有するセラミック模様の形成方法を提供する。
製品等の表面に、撥水性樹脂によるパターン状の印刷模
様や焼成顔料を含有するパターン状の印刷模様を形成
し、これらの印刷模様によって奏される水性釉薬の弾き
作用を利用することにより、釉薬層の有，無に基づく凹
凸を有するセラミック模様の形成方法を提供する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の凹凸を有するセ
ラミック模様の形成方法においては、撥水性樹脂による
パターン状の印刷模様や焼成顔料を含有する焼成前のパ
ターン状の印刷模様が水性釉薬の弾き作用を奏すること
を利用し、これらのパターン状の印刷模様に相当する部
分が柄抜き状態にされている釉薬層を得ることにより、
繊細な凹凸のセラミック模様を形成することからなる。
ラミック模様の形成方法においては、撥水性樹脂による
パターン状の印刷模様や焼成顔料を含有する焼成前のパ
ターン状の印刷模様が水性釉薬の弾き作用を奏すること
を利用し、これらのパターン状の印刷模様に相当する部
分が柄抜き状態にされている釉薬層を得ることにより、
繊細な凹凸のセラミック模様を形成することからなる。
【０００６】本第１の発明の凹凸を有するセラミック模
様の形成方法は、陶磁器製品や金属製品等の基体の表面
に撥水性樹脂によるパターン状の印刷模様を形成する工
程と、該撥水性樹脂によるパターン状の印刷模様が形成
されている全面に水性釉薬を施す工程と、基体に適用し
た水性釉薬を焼成する工程とにより、前記撥水性樹脂に
よるパターン状の印刷模様に相当する部分が柄抜きされ
ている釉薬層を得ることからなる。
様の形成方法は、陶磁器製品や金属製品等の基体の表面
に撥水性樹脂によるパターン状の印刷模様を形成する工
程と、該撥水性樹脂によるパターン状の印刷模様が形成
されている全面に水性釉薬を施す工程と、基体に適用し
た水性釉薬を焼成する工程とにより、前記撥水性樹脂に
よるパターン状の印刷模様に相当する部分が柄抜きされ
ている釉薬層を得ることからなる。
【０００７】本第２の発明の凹凸を有するセラミック模
様の形成方法は、陶磁器製品や金属製品等の基体の表面
に焼成顔料を含有するパターン状の印刷模様を形成する
工程と、該焼成顔料を含有するパターン状の印刷模様を
焼成させることなくこの印刷模様が形成されている全面
に水性釉薬を施す工程と、基体に適用した水性釉薬を焼
成すると同時に焼成顔料を含有するパターン状の印刷模
様をも焼成することにより、前記焼成顔料を含有するパ
ターン状の印刷模様に相当する部分が柄抜きされている
釉薬層を得ることからなる。
様の形成方法は、陶磁器製品や金属製品等の基体の表面
に焼成顔料を含有するパターン状の印刷模様を形成する
工程と、該焼成顔料を含有するパターン状の印刷模様を
焼成させることなくこの印刷模様が形成されている全面
に水性釉薬を施す工程と、基体に適用した水性釉薬を焼
成すると同時に焼成顔料を含有するパターン状の印刷模
様をも焼成することにより、前記焼成顔料を含有するパ
ターン状の印刷模様に相当する部分が柄抜きされている
釉薬層を得ることからなる。
【０００８】本第３の発明の凹凸を有するセラミック模
様の形成方法は、陶磁器製品や金属製品等の基体の表面
に、撥水性樹脂によるパターン状の印刷模様と、焼成顔
料を含有するパターン状の印刷模様とを、少なくとも基
体の１部が露出するようにして形成する工程と、焼成顔
料を含有するパターン状の印刷模様を焼成させることな
く、これらのパターン状の印刷模様が形成されている全
面に水性釉薬を施す工程と、基体に適用した水性釉薬を
焼成すると同時に焼成顔料を含有するパターン状の印刷
模様をも焼成することにより、前記撥水性樹脂によるパ
ターン状の印刷模様及び焼成顔料を含有するパターン状
の印刷模様に相当する部分が柄抜きされている釉薬層を
得ることからなる。
様の形成方法は、陶磁器製品や金属製品等の基体の表面
に、撥水性樹脂によるパターン状の印刷模様と、焼成顔
料を含有するパターン状の印刷模様とを、少なくとも基
体の１部が露出するようにして形成する工程と、焼成顔
料を含有するパターン状の印刷模様を焼成させることな
く、これらのパターン状の印刷模様が形成されている全
面に水性釉薬を施す工程と、基体に適用した水性釉薬を
焼成すると同時に焼成顔料を含有するパターン状の印刷
模様をも焼成することにより、前記撥水性樹脂によるパ
ターン状の印刷模様及び焼成顔料を含有するパターン状
の印刷模様に相当する部分が柄抜きされている釉薬層を
得ることからなる。
【０００９】本第４の発明の凹凸を有するセラミック模
様の形成方法は、陶磁器製品や金属製品等の基体の表面
に焼成顔料を含有するパターン状の印刷模様を形成する
工程と、該焼成顔料を含有するパターン状の印刷模様を
焼成する工程と、撥水性樹脂によるパターン状の印刷模
様を形成する工程と、該撥水性樹脂によるパターン状の
印刷模様が形成されている全面に水性釉薬を施す工程
と、基体に適用した水性釉薬を焼成する工程とにより、
前記撥水性樹脂によるパターン状の印刷模様に相当する
部分が柄抜きされている釉薬層を得ることからなる。
様の形成方法は、陶磁器製品や金属製品等の基体の表面
に焼成顔料を含有するパターン状の印刷模様を形成する
工程と、該焼成顔料を含有するパターン状の印刷模様を
焼成する工程と、撥水性樹脂によるパターン状の印刷模
様を形成する工程と、該撥水性樹脂によるパターン状の
印刷模様が形成されている全面に水性釉薬を施す工程
と、基体に適用した水性釉薬を焼成する工程とにより、
前記撥水性樹脂によるパターン状の印刷模様に相当する
部分が柄抜きされている釉薬層を得ることからなる。
【００１０】前記構成による本発明の凹凸を有するセラ
ミック模様の形成方法において、該セラミック模様の形
成面となる基体には、例えば、素焼き陶板や金属板等が
利用されるが、一般的には、セラミック模様の形成工程
中の焼成段階で劣化することのない耐熱性を具備するも
のであれば特に限定されるものではない。
ミック模様の形成方法において、該セラミック模様の形
成面となる基体には、例えば、素焼き陶板や金属板等が
利用されるが、一般的には、セラミック模様の形成工程
中の焼成段階で劣化することのない耐熱性を具備するも
のであれば特に限定されるものではない。
【００１１】基体の表面に形成される撥水性樹脂による
パターン状の印刷模様は、釉薬の焼成段階で昇華する性
質を有する撥水性樹脂、例えば、アクリル酸エステル系
樹脂，メタクリル酸系樹脂，これらの共重合樹脂，ブチ
ラール樹脂，セルロース系樹脂，アルキッド樹脂，ポリ
エチレンオキサイド樹脂，フェノール樹脂，ユリア樹
脂，メラミン樹脂，ポリエステル樹脂，メラミン−アル
キッド樹脂，ビニル系樹脂，マレイン酸樹脂等による熱
融着型樹脂や、アクリル系樹脂，アクリル系樹脂を主体
とする混合樹脂等からなる粘着型樹脂等により、厚さ１
〜１０μ程度に形成される。
パターン状の印刷模様は、釉薬の焼成段階で昇華する性
質を有する撥水性樹脂、例えば、アクリル酸エステル系
樹脂，メタクリル酸系樹脂，これらの共重合樹脂，ブチ
ラール樹脂，セルロース系樹脂，アルキッド樹脂，ポリ
エチレンオキサイド樹脂，フェノール樹脂，ユリア樹
脂，メラミン樹脂，ポリエステル樹脂，メラミン−アル
キッド樹脂，ビニル系樹脂，マレイン酸樹脂等による熱
融着型樹脂や、アクリル系樹脂，アクリル系樹脂を主体
とする混合樹脂等からなる粘着型樹脂等により、厚さ１
〜１０μ程度に形成される。
【００１２】また、基体の表面における焼成顔料を含有
するパターン状の印刷模様は、焼成によって昇華するベ
ヒクルとインキの粘度調整用の溶剤と焼成顔料とを含有
するインキによって形成される。
するパターン状の印刷模様は、焼成によって昇華するベ
ヒクルとインキの粘度調整用の溶剤と焼成顔料とを含有
するインキによって形成される。
【００１３】焼成によって昇華するベヒクルは、例え
ば、アクリル酸エステル系樹脂，メタクリル酸系樹脂，
これらの共重合樹脂，ブチラール樹脂，セルロース系樹
脂，アルキッド系樹脂，ポリエチレンオキサイド樹脂，
フェノール樹脂，ユリア樹脂，メラミン樹脂，ポリエス
テル樹脂，メラミン・アルキッド樹脂，ビニル系樹脂，
マレイン酸系樹脂等が利用される。また、インキの粘度
調整用の溶剤には、例えば、ペンタン，ヘキサン，ヘプ
タン，オクタン，あるいはこららの混合液であるガソリ
ン，石油，ベンジン，ミネラルスピリット，石油ナフサ
等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン，トルエン，キシレ
ン，シクロヘキサン，エチルベンゼン等の芳香族炭化水
素類、トリクロロエチレン，パークロロエチレン，クロ
ロホルム，四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類，メチ
ルアルコール，エチルアルコール，プロピルアルコー
ル，ブチルアルコール，アミルアルコール，ベンジルア
ルコール，ジアセトンアルコール等の一価のアルコール
類、エチレングリコール，プロピレングリコール，グリ
セリン等の多価アルコール類，アセトン，メチルエチル
ケトン，メチルイソブチルケトン，シクロヘキサノン，
メチルシクロヘキサノン，イソホロン等のケトン類、エ
チルエーテル，イソプロピルエーテル，エチレングリコ
ール・モノ・メチルエーテル，エチレングリコール・モ
ノ・エチルエーテル，ジエチレングリコール・モノ・メ
チルエーテル，ジエチレングリコール・モノ・エチルエ
ーテル，ジエチレングリコール・モノ・ブチルエーテ
ル，ジエチレングリコール・ジ・ブチルエーテル等のエ
ーテル類、エチレングリコール・モノ・メチルエーテル
・アセテート，エチレングリコール・モノ・エチルエー
テル・アセテート，ジエチレングリコール・モノ・メチ
ルアセテート，ジエチレングリコール・モノ・エチルエ
ーテル・アセテート，ジエチレングリコール・モノ・ブ
チルエーテル・アセテート等の酢酸エステル類、酪酸エ
ステル等のエステル類、ニトロ炭化水素類、ニトリル
類、アミン類、その他アセタール類、酸類、フラン類等
の単独あるいは混合溶剤等が利用される。さらに、焼成
顔料としては、例えば、 Ｆｅ，Ｃｒ，Ｚｎの酸化物・・・・・・・・褐色 Ｚｎ，Ｃｏ，Ａｌ，Ｓｉの酸化物・・・・・・・・青色 Ｔｉ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｒの酸化物・・・・・・・・緑色 Ｔｉ，Ｂａ，Ｎｉ，Ｐｂ，Ｓｂの酸化物・・・・・・・・黄色 Ｃｄ，Ｓｅ，Ｓの酸化物・・・・・・・・赤色 Ｆｅ，Ｃｕ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｃｏの酸化物・・・・・・・・黒色 等をはじめ、ＣｄＳ，ＣａＯ等の顔料が利用される。特
に高温度焼成用としては、青（Ｃｏ）、緑（Ｃｒ）、茶
（Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｃｏ，Ｓｂ）、黄（Ｔｉ，Ｓ
ｂ）、黒（Ｆｅ，Ｍｎ）等が利用される。さらに、所望
に応じて焼成顔料に添加されるガラス質としては、例え
ば、ＰｂＯ・・・・７８％，ＳｉＯ2 ・・・・１０％，Ｂ2 Ｏ3
・・・・１２％からなる低融点ガラスや、ＰｂＯ−Ｓ2 Ｏ3
系、ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系、ＰｂＯ−ＺｎＯ−
Ｂ2 Ｏ3 系、ＳｎＯ2 −ＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 −ＰｂＯ−
ＣｄＯ系等による粒径２〜３０μ程度のものが利用され
る。なお、焼成顔料を含有するパターン状の印刷模様の
形成に利用される焼成顔料は、焼成によって得られた顔
料という意味では無く、焼成工程を受けることによって
基体の表面に定着し、目的の色彩に呈色する作用を有す
る顔料のことである。
ば、アクリル酸エステル系樹脂，メタクリル酸系樹脂，
これらの共重合樹脂，ブチラール樹脂，セルロース系樹
脂，アルキッド系樹脂，ポリエチレンオキサイド樹脂，
フェノール樹脂，ユリア樹脂，メラミン樹脂，ポリエス
テル樹脂，メラミン・アルキッド樹脂，ビニル系樹脂，
マレイン酸系樹脂等が利用される。また、インキの粘度
調整用の溶剤には、例えば、ペンタン，ヘキサン，ヘプ
タン，オクタン，あるいはこららの混合液であるガソリ
ン，石油，ベンジン，ミネラルスピリット，石油ナフサ
等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン，トルエン，キシレ
ン，シクロヘキサン，エチルベンゼン等の芳香族炭化水
素類、トリクロロエチレン，パークロロエチレン，クロ
ロホルム，四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類，メチ
ルアルコール，エチルアルコール，プロピルアルコー
ル，ブチルアルコール，アミルアルコール，ベンジルア
ルコール，ジアセトンアルコール等の一価のアルコール
類、エチレングリコール，プロピレングリコール，グリ
セリン等の多価アルコール類，アセトン，メチルエチル
ケトン，メチルイソブチルケトン，シクロヘキサノン，
メチルシクロヘキサノン，イソホロン等のケトン類、エ
チルエーテル，イソプロピルエーテル，エチレングリコ
ール・モノ・メチルエーテル，エチレングリコール・モ
ノ・エチルエーテル，ジエチレングリコール・モノ・メ
チルエーテル，ジエチレングリコール・モノ・エチルエ
ーテル，ジエチレングリコール・モノ・ブチルエーテ
ル，ジエチレングリコール・ジ・ブチルエーテル等のエ
ーテル類、エチレングリコール・モノ・メチルエーテル
・アセテート，エチレングリコール・モノ・エチルエー
テル・アセテート，ジエチレングリコール・モノ・メチ
ルアセテート，ジエチレングリコール・モノ・エチルエ
ーテル・アセテート，ジエチレングリコール・モノ・ブ
チルエーテル・アセテート等の酢酸エステル類、酪酸エ
ステル等のエステル類、ニトロ炭化水素類、ニトリル
類、アミン類、その他アセタール類、酸類、フラン類等
の単独あるいは混合溶剤等が利用される。さらに、焼成
顔料としては、例えば、 Ｆｅ，Ｃｒ，Ｚｎの酸化物・・・・・・・・褐色 Ｚｎ，Ｃｏ，Ａｌ，Ｓｉの酸化物・・・・・・・・青色 Ｔｉ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｒの酸化物・・・・・・・・緑色 Ｔｉ，Ｂａ，Ｎｉ，Ｐｂ，Ｓｂの酸化物・・・・・・・・黄色 Ｃｄ，Ｓｅ，Ｓの酸化物・・・・・・・・赤色 Ｆｅ，Ｃｕ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｃｏの酸化物・・・・・・・・黒色 等をはじめ、ＣｄＳ，ＣａＯ等の顔料が利用される。特
に高温度焼成用としては、青（Ｃｏ）、緑（Ｃｒ）、茶
（Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｃｏ，Ｓｂ）、黄（Ｔｉ，Ｓ
ｂ）、黒（Ｆｅ，Ｍｎ）等が利用される。さらに、所望
に応じて焼成顔料に添加されるガラス質としては、例え
ば、ＰｂＯ・・・・７８％，ＳｉＯ2 ・・・・１０％，Ｂ2 Ｏ3
・・・・１２％からなる低融点ガラスや、ＰｂＯ−Ｓ2 Ｏ3
系、ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系、ＰｂＯ−ＺｎＯ−
Ｂ2 Ｏ3 系、ＳｎＯ2 −ＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 −ＰｂＯ−
ＣｄＯ系等による粒径２〜３０μ程度のものが利用され
る。なお、焼成顔料を含有するパターン状の印刷模様の
形成に利用される焼成顔料は、焼成によって得られた顔
料という意味では無く、焼成工程を受けることによって
基体の表面に定着し、目的の色彩に呈色する作用を有す
る顔料のことである。
【００１４】陶磁器製品や金属製品等の基体の表面に撥
水性樹脂によるパターン状の印刷模様や焼成顔料を含有
するパターン状の印刷模様を形成する際に、これらのパ
ターン状の印刷模様の付着性を良好にするために、基体
の表面に予め吸水性や多孔質性の接着剤層を形成してお
くことが好ましい。特に接着剤層が親水性でない場合に
は、その後に施される釉薬が該接着剤層によって弾かれ
るため、非親水性の接着剤層は、点状あるいは霧吹き状
等に形成するのが好ましい。
水性樹脂によるパターン状の印刷模様や焼成顔料を含有
するパターン状の印刷模様を形成する際に、これらのパ
ターン状の印刷模様の付着性を良好にするために、基体
の表面に予め吸水性や多孔質性の接着剤層を形成してお
くことが好ましい。特に接着剤層が親水性でない場合に
は、その後に施される釉薬が該接着剤層によって弾かれ
るため、非親水性の接着剤層は、点状あるいは霧吹き状
等に形成するのが好ましい。
【００１５】撥水性樹脂によるパターン状の印刷模様や
焼成顔料を含有するパターン状の印刷模様は、例えばオ
フセット等の諸種の印刷手法により、あるいは、転写用
シートを利用する転写方法等によって形成される。
焼成顔料を含有するパターン状の印刷模様は、例えばオ
フセット等の諸種の印刷手法により、あるいは、転写用
シートを利用する転写方法等によって形成される。
【００１６】基体の表面に形成されている撥水性樹脂に
よるパターン状の印刷模様や焼成顔料を含有するパター
ン状の印刷模様の上に施される水性釉薬は、焼成によっ
てガラス化すると同時に融着し、ガラス層を形成する性
質のもので、Ｚｎ系，Ｂａ系，ガラスフリット系，還元
系等のものが利用され、溶融にて成分の大部分をフリッ
トとなし、これにカオリンなどのコロイド性の生原料を
加えて粉砕し、さらに水を加えた懸濁液の状態で適用さ
れる。なお、釉薬の適用後の焼成工程は、通常の釉薬処
理の場合と同様にして行ない、例えば、利用した釉薬の
屈伏点よりもさらに１５０℃程度高い加熱温度で行な
う。
よるパターン状の印刷模様や焼成顔料を含有するパター
ン状の印刷模様の上に施される水性釉薬は、焼成によっ
てガラス化すると同時に融着し、ガラス層を形成する性
質のもので、Ｚｎ系，Ｂａ系，ガラスフリット系，還元
系等のものが利用され、溶融にて成分の大部分をフリッ
トとなし、これにカオリンなどのコロイド性の生原料を
加えて粉砕し、さらに水を加えた懸濁液の状態で適用さ
れる。なお、釉薬の適用後の焼成工程は、通常の釉薬処
理の場合と同様にして行ない、例えば、利用した釉薬の
屈伏点よりもさらに１５０℃程度高い加熱温度で行な
う。
【００１７】
【作用】本発明は、基体の表面に、撥水性樹脂によるパ
ターン状の印刷模様や、焼成顔料を含有するパターン状
の印刷模様等を形成した後に、該パターン状の印刷模様
が形成されている全面に水性釉薬を施すことにより、撥
水性樹脂によるパターン状の印刷模様面や、焼成顔料を
含有するパターン状の印刷模様面に適用された水性釉薬
を弾き、次いで、焼成することにより、撥水性樹脂によ
るパターン状の印刷模様や前記焼成顔料を含有するパタ
ーン状の印刷模様に相当する部分が柄抜きされている釉
薬層を形成することからなる。なお、撥水性樹脂による
パターン状の印刷模様は釉薬の焼成工程で昇華する。
ターン状の印刷模様や、焼成顔料を含有するパターン状
の印刷模様等を形成した後に、該パターン状の印刷模様
が形成されている全面に水性釉薬を施すことにより、撥
水性樹脂によるパターン状の印刷模様面や、焼成顔料を
含有するパターン状の印刷模様面に適用された水性釉薬
を弾き、次いで、焼成することにより、撥水性樹脂によ
るパターン状の印刷模様や前記焼成顔料を含有するパタ
ーン状の印刷模様に相当する部分が柄抜きされている釉
薬層を形成することからなる。なお、撥水性樹脂による
パターン状の印刷模様は釉薬の焼成工程で昇華する。
【００１８】したがって、本第１の発明の凹凸を有する
セラミック模様の形成方法においては、撥水性樹脂によ
るパターン状の印刷模様に相当する部分に基体の表面が
露出する凹凸によるセラミック模様が得られる。
セラミック模様の形成方法においては、撥水性樹脂によ
るパターン状の印刷模様に相当する部分に基体の表面が
露出する凹凸によるセラミック模様が得られる。
【００１９】また、本第２の発明の凹凸を有するセラミ
ック模様の形成方法においては、焼成顔料を含有するパ
ターン状の印刷模様以外の部分に釉薬層が形成され、表
面が、焼成顔料によるパターン状の印刷模様と釉薬層と
の組み合わせからなるセラミック模様が得られる。
ック模様の形成方法においては、焼成顔料を含有するパ
ターン状の印刷模様以外の部分に釉薬層が形成され、表
面が、焼成顔料によるパターン状の印刷模様と釉薬層と
の組み合わせからなるセラミック模様が得られる。
【００２０】本第３の発明の凹凸を有するセラミック模
様の形成方法においては、表面が、撥水性樹脂によるパ
ターン状の印刷模様に起因して形成される基体の表面の
露出部分と、焼成顔料によるパターン状の印刷模様と、
釉薬層との組み合わせからなるセラミック模様が得られ
る。
様の形成方法においては、表面が、撥水性樹脂によるパ
ターン状の印刷模様に起因して形成される基体の表面の
露出部分と、焼成顔料によるパターン状の印刷模様と、
釉薬層との組み合わせからなるセラミック模様が得られ
る。
【００２１】本第４の発明の凹凸を有するセラミック模
様の形成方法においては、表面が、焼成顔料によるパタ
ーン状の印刷模様と、撥水性樹脂によるパターン状の印
刷模様に相当する部分が柄抜きの状態に形成されている
釉薬層との組み合わせからなるセラミック模様が得られ
る。
様の形成方法においては、表面が、焼成顔料によるパタ
ーン状の印刷模様と、撥水性樹脂によるパターン状の印
刷模様に相当する部分が柄抜きの状態に形成されている
釉薬層との組み合わせからなるセラミック模様が得られ
る。
【００２２】
【実施例】以下、本発明の凹凸を有するセラミック模様
の形成方法の具体的な構成を実施例を以って説明する。
の形成方法の具体的な構成を実施例を以って説明する。
【００２３】「実施例１」厚さ４．０ｍｍの素焼陶板の
表面にアクリルエマルジョン系の水性接着剤「昭和イン
ク (株) ：アクリルエマルジョンＡＱ−２」を全面に均
一に塗布することにより、表面に乾燥状態での厚さ０．
２ｍｍの接着剤層を形成した。
表面にアクリルエマルジョン系の水性接着剤「昭和イン
ク (株) ：アクリルエマルジョンＡＱ−２」を全面に均
一に塗布することにより、表面に乾燥状態での厚さ０．
２ｍｍの接着剤層を形成した。
【００２４】続いて、２軸延伸ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムの表面にアクリル系インキによるグラビア
印刷模様を有する転写用シートを、該転写用シートにお
けるグラビア印刷模様面を先の素焼陶板の接着剤層面に
接当し、該接着剤層面にアクリル系インキによるグラビ
ア印刷模様を転写した。
ートフィルムの表面にアクリル系インキによるグラビア
印刷模様を有する転写用シートを、該転写用シートにお
けるグラビア印刷模様面を先の素焼陶板の接着剤層面に
接当し、該接着剤層面にアクリル系インキによるグラビ
ア印刷模様を転写した。
【００２５】然る後に、素焼陶板に振動を与えながら、
その表面にＺｎ系釉薬を１００ｇ（ｄｒｙ）／ｍ2 の割
合で塗布し、さらに、１０７０℃で１時間の焼成を行な
うことにより、釉薬層が存在しない部分が凹部をなす、
すなわち、凹凸を有するセラミック模様を得た。
その表面にＺｎ系釉薬を１００ｇ（ｄｒｙ）／ｍ2 の割
合で塗布し、さらに、１０７０℃で１時間の焼成を行な
うことにより、釉薬層が存在しない部分が凹部をなす、
すなわち、凹凸を有するセラミック模様を得た。
【００２６】「実施例２」厚さ４．０ｍｍの素焼陶板の
表面にアクリルエマルジョン系の水性接着剤「昭和イン
ク (株) ：アクリルエマルジョンＡＱ−２」を全面に均
一に塗布することにより、表面に乾燥状態での厚さ０．
２ｍｍの接着剤層を形成した。
表面にアクリルエマルジョン系の水性接着剤「昭和イン
ク (株) ：アクリルエマルジョンＡＱ−２」を全面に均
一に塗布することにより、表面に乾燥状態での厚さ０．
２ｍｍの接着剤層を形成した。
【００２７】続いて、２軸延伸ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムの表面に焼成顔料を含有しているアクリル
系インキ「昭和インク (株) ：ＳＬＭ−Ｃ」によるグラ
ビア印刷模様を有する転写用シートを、該転写用シート
におけるグラビア印刷模様面を先の素焼陶板の接着剤層
面に接当し、該接着剤層面に転写用シートのグラビア印
刷模様を転写した。
ートフィルムの表面に焼成顔料を含有しているアクリル
系インキ「昭和インク (株) ：ＳＬＭ−Ｃ」によるグラ
ビア印刷模様を有する転写用シートを、該転写用シート
におけるグラビア印刷模様面を先の素焼陶板の接着剤層
面に接当し、該接着剤層面に転写用シートのグラビア印
刷模様を転写した。
【００２８】然る後に、素焼陶板に振動を与えながら、
その表面にＺｎ系釉薬を１００ｇ（ｄｒｙ）／ｍ2 の割
合で塗布し、さらに、１０７０℃で１時間の焼成を行な
うことにより、釉薬層が弾かれた部分が凹部をなす、す
なわち、凹凸を有するセラミック模様を得た。
その表面にＺｎ系釉薬を１００ｇ（ｄｒｙ）／ｍ2 の割
合で塗布し、さらに、１０７０℃で１時間の焼成を行な
うことにより、釉薬層が弾かれた部分が凹部をなす、す
なわち、凹凸を有するセラミック模様を得た。
【００２９】「実施例３」厚さ４．０ｍｍの素焼陶板の
表面にアクリルエマルジョン系の水性接着剤「昭和イン
ク (株) ：アクリルエマルジョンＡＱ−２」を全面に均
一に塗布することにより、表面に乾燥状態での厚さ０．
２ｍｍの接着剤層を形成した。
表面にアクリルエマルジョン系の水性接着剤「昭和イン
ク (株) ：アクリルエマルジョンＡＱ−２」を全面に均
一に塗布することにより、表面に乾燥状態での厚さ０．
２ｍｍの接着剤層を形成した。
【００３０】続いて、２軸延伸ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムの表面に焼成顔料を含有しているアクリル
系インキ「昭和インク (株) ：ＳＬＭ−Ｃ」によるグラ
ビア印刷模様を行ない、さらに、このグラビア印刷模様
と重ならないようにして、しかも、２軸延伸ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムの表面の少なくとも１部が露
出するようにして、固形成分がインキビヒクルのみによ
る柄印刷を施した転写用シートを、該転写用シートにお
ける印刷模様面を先の素焼陶板の接着剤層面に接当し、
該接着剤層面に転写用シートの印刷模様を転写した。
ートフィルムの表面に焼成顔料を含有しているアクリル
系インキ「昭和インク (株) ：ＳＬＭ−Ｃ」によるグラ
ビア印刷模様を行ない、さらに、このグラビア印刷模様
と重ならないようにして、しかも、２軸延伸ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムの表面の少なくとも１部が露
出するようにして、固形成分がインキビヒクルのみによ
る柄印刷を施した転写用シートを、該転写用シートにお
ける印刷模様面を先の素焼陶板の接着剤層面に接当し、
該接着剤層面に転写用シートの印刷模様を転写した。
【００３１】然る後に、素焼陶板に振動を与えながら、
その表面にＺｎ系釉薬を１００ｇ（ｄｒｙ）／ｍ2 の割
合で塗布し、さらに、１０７０℃で１時間の焼成を行な
うことにより、釉薬層が弾かれた部分が凹部をなす、す
なわち、凹凸を有するセラミック模様を得た。
その表面にＺｎ系釉薬を１００ｇ（ｄｒｙ）／ｍ2 の割
合で塗布し、さらに、１０７０℃で１時間の焼成を行な
うことにより、釉薬層が弾かれた部分が凹部をなす、す
なわち、凹凸を有するセラミック模様を得た。
【００３２】「実施例４」厚さ４．０ｍｍの素焼陶板の
表面にアクリルエマルジョン系の水性接着剤「昭和イン
ク (株) ：アクリルエマルジョンＡＱ−２」を全面に均
一に塗布することにより、表面に乾燥状態での厚さ０．
２ｍｍの接着剤層を形成した。
表面にアクリルエマルジョン系の水性接着剤「昭和イン
ク (株) ：アクリルエマルジョンＡＱ−２」を全面に均
一に塗布することにより、表面に乾燥状態での厚さ０．
２ｍｍの接着剤層を形成した。
【００３３】続いて、２軸延伸ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムの表面に、固形成分がアクリル系インキ
「昭和インク (株) ：ＳＬＭ−Ｃ」のビヒクルのみによ
るグラビア印刷模様を形成し、さらに、該グラビア印刷
模様面に、アクリル系インキ「昭和インク (株) ：ＳＬ
Ｍ−Ｃ」に親水性樹脂「ＰＥＧＭＡ（ポリエチレングリ
コールメタクリレート）」２０重量％を混合したインキ
によってグラビア印刷を付した転写用シートを、該転写
用シートにおける印刷模様面を先の素焼陶板の接着剤層
面に接当し、該接着剤層面に転写用シートのグラビア印
刷模様を転写した。
ートフィルムの表面に、固形成分がアクリル系インキ
「昭和インク (株) ：ＳＬＭ−Ｃ」のビヒクルのみによ
るグラビア印刷模様を形成し、さらに、該グラビア印刷
模様面に、アクリル系インキ「昭和インク (株) ：ＳＬ
Ｍ−Ｃ」に親水性樹脂「ＰＥＧＭＡ（ポリエチレングリ
コールメタクリレート）」２０重量％を混合したインキ
によってグラビア印刷を付した転写用シートを、該転写
用シートにおける印刷模様面を先の素焼陶板の接着剤層
面に接当し、該接着剤層面に転写用シートのグラビア印
刷模様を転写した。
【００３４】然る後に、素焼陶板に振動を与えながら、
その表面にＺｎ系釉薬を１００ｇ（ｄｒｙ）／ｍ2 の割
合で塗布し、さらに、１０７０℃で１時間の焼成を行な
うことにより、釉薬層が弾かれた部分が凹部をなす、す
なわち、凹凸を有するセラミック模様を得た。
その表面にＺｎ系釉薬を１００ｇ（ｄｒｙ）／ｍ2 の割
合で塗布し、さらに、１０７０℃で１時間の焼成を行な
うことにより、釉薬層が弾かれた部分が凹部をなす、す
なわち、凹凸を有するセラミック模様を得た。
【００３５】
【効果】本発明の凹凸を有するセラミック模様の形成方
法は、釉薬層の有，無に基づく凹凸が表面に現出されて
いるセラミック模様を得るものであり、釉薬層が例えば
グラビア印刷によって形成されるものであることから、
繊細な凹凸のパターンによるセラミック模様が、容易か
つ確実に得られる。
法は、釉薬層の有，無に基づく凹凸が表面に現出されて
いるセラミック模様を得るものであり、釉薬層が例えば
グラビア印刷によって形成されるものであることから、
繊細な凹凸のパターンによるセラミック模様が、容易か
つ確実に得られる。
Claims (4)
- 【請求項１】 基体の表面に撥水性樹脂によるパター
ン状の印刷模様を形成した後、該撥水性樹脂によるパタ
ーン状の印刷模様が形成されている全面に水性釉薬を施
し、次いで、焼成することにより、前記撥水性樹脂によ
るパターン状の印刷模様に相当する部分が柄抜きされて
いる釉薬層を得ることを特徴とする凹凸を有するセラミ
ック模様の形成方法。 - 【請求項２】 基体の表面に焼成顔料を含有するパタ
ーン状の印刷模様を形成した後、該焼成顔料を含有する
パターン状の印刷模様が形成されている全面に水性釉薬
を施し、次いで、焼成することにより、前記焼成顔料を
含有するパターン状の印刷模様に相当する部分が柄抜き
されている釉薬層を得ることを特徴とする凹凸を有する
セラミック模様の形成方法。 - 【請求項３】 基体の表面に撥水性樹脂によるパター
ン状の印刷模様と、焼成顔料を含有するパターン状の印
刷模様とを、少なくとも基体の１部が露出するようにし
て形成した後、これらのパターン状の印刷模様が形成さ
れている全面に水性釉薬を施し、次いで、焼成すること
により、前記撥水性樹脂によるパターン状の印刷模様と
焼成顔料を含有するパターン状の印刷模様とに相当する
部分が柄抜きされている釉薬層を得ることを特徴とする
凹凸を有するセラミック模様の形成方法。 - 【請求項４】 基体の表面に、焼成顔料を含有するパ
ターン状の印刷模様を形成し、続いて焼成した後、撥水
性樹脂によるパターン状の印刷模様を形成し、次いで、
該撥水性樹脂によるパターン状の印刷模様が形成されて
いる全面に水性釉薬を施し、さらに、焼成することによ
り、前記撥水性樹脂によるパターン状の印刷模様に相当
する部分が柄抜きされている釉薬層を得ることを特徴と
する凹凸を有するセラミック模様の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14224592A JPH05310485A (ja) | 1992-05-07 | 1992-05-07 | 凹凸を有するセラミック模様の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14224592A JPH05310485A (ja) | 1992-05-07 | 1992-05-07 | 凹凸を有するセラミック模様の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05310485A true JPH05310485A (ja) | 1993-11-22 |
Family
ID=15310822
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14224592A Pending JPH05310485A (ja) | 1992-05-07 | 1992-05-07 | 凹凸を有するセラミック模様の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05310485A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5928728A (en) * | 1996-02-06 | 1999-07-27 | Noritake Co., Limited | Method for glazing ceramics |
| CN102417373A (zh) * | 2011-09-06 | 2012-04-18 | 佛山市三水新明珠建陶工业有限公司 | 非水性油墨湿式釉下彩自锐抛光陶质釉面砖制造方法 |
-
1992
- 1992-05-07 JP JP14224592A patent/JPH05310485A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5928728A (en) * | 1996-02-06 | 1999-07-27 | Noritake Co., Limited | Method for glazing ceramics |
| US6165590A (en) * | 1996-02-06 | 2000-12-26 | Noritake Co., Limited | Method for glazing ceramics |
| CN102417373A (zh) * | 2011-09-06 | 2012-04-18 | 佛山市三水新明珠建陶工业有限公司 | 非水性油墨湿式釉下彩自锐抛光陶质釉面砖制造方法 |
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