JPS5825983A - 陶磁器のイングレ−ズ絵付用転写紙とその絵付法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、釉の焼成（以下釉焼という）と同時に絵付焼
成が可能な、陶磁器等の装飾のためのイングレーズ絵付
用転写紙とその絵付法（二関し、特に、高温釉焼用のイ
ングレーズ絵付用転写紙に関する。

従来一般に慣用される陶磁器の高温釉焼絵付法（二は下
絵付酸いはイングレーズ絵付と呼ばれる方法がある。下
絵性とは、素焼又は締焼素地の上に絵付用絵具Ｃ二より
絵柄を施し、その上に釉薬（二より施釉しで釉焼を行な
う方法である。この方法は、釉焼と絵付焼成とが同時に
出来るという長所はあるが、絵付の方法が直接に素地（
二対して施す部類に属し、繊細な絵柄を大量生産に適し
た方法で絵付することがいずれも困難である。即ち、例
えば素描きは繊細な絵柄の絵付はできるが、多大の時間
と高度の熟練とを要し、大量生産が難しく、非常にコス
ト高となる。銅版転絵付或いはいわゆるタコ印刷と俗称
される絵付法は、大量生産は可能であるが、繊細な絵柄
の絵付は不可能で粗雑な絵柄しか絵付が出来ないという
欠点がある。

また、いわゆる従来のイングレーズ絵付（二は、一度釉
焼された素地表面に、スクリーン印刷、オフセット印刷
、凹版印刷等の公知の印刷手法（二より絵柄が印刷され
た転写紙を用いて絵付し、釉薬の表面に絵付を施す生釉
上絵付法がある。この生釉上絵付法はストーンウェア等
の絵付に用いられるが、未釉焼の施釉面上にスタンプ、
筆描き等（二より、絵柄を施し下地を成す釉薬層の釉焼
と同時。絵付焼成する方法である。前者の釉焼面上への
絵付によるイングレーズ絵付の場合には繊細な絵柄の絵
付が可能であるが、釉焼と絵付焼成という２度の高温焼
成のためコスト高となる欠点がある。後者の生釉上絵付
の場合には釉焼と絵付焼成とは同時に行いうるが、一般
に粗雑なしかも単純な絵柄しか絵付出来ないという欠点
を有している。

また、施釉層と絵柄層とを一体化した熱間圧着用転写紙
が特開昭５４−１３９６１６号に開示されてし）るが、
この転写紙は下層から順次、アクリル樹脂等から成る熱
間圧着性の接着層、絵柄インキ層（必要（二より保護層
）、シート基材がら成る絵柄シートと、バルブを含み抄
紙法により成形した釉薬シートとから成り、絵柄シート
と釉薬シートとを接着剤Ｃ二よって貼合わせて形成され
る。この転写紙は、熱間圧着のため素地を２００℃近（
に予熱することが必要なこと、また圧着のため曲面その
他複雑形状のものには適用困難であること、釉薬層が釉
薬シートの貼合わせにより形成されるため、絵柄の表面
にのみ釉薬層を形成することが困難なこと、圧着のため
に未焼成素地或いは未釉焼面には適用困難であること等
の欠点があり、陶磁器類等に一般的に使用し難いという
問題がある。

タイルのような平面で形状の簡単なものにはよいが、一
般陶磁器は湾曲面が多く形状が一様でないから、絵付作
業≦二難渋するこの釉薬シートにはバルブをかなり含有
（実施例では約１０４１しているからバルブが焼成過程
で還元作用を誘発して絵具の発色を妨げる。

本発明は上述の従来法の欠点を解消し、従来の転写技法
として最も一般的なスライド転写可能であってかつ繊細
な絵柄の絵付可能なイングレーズ絵付用転写紙及びその
絵付法を提供することを目的とする。

本発明者らは、鋭意研究の結果、釉絵と絵付焼成を同時
に行い燃料の節約をはかると共に絵柄に適した最も適当
な印刷法で印刷された繊細な絵柄の転写紙を用いて繊細
な絵柄を絵付する事が出来、しかも低コストで大量生産
を可能にするすぐれた効果をもつ技法を見出した。即ち
、本発明は、再湿潤性糊料を施した転写用台紙の糊料面
にセラミック絵付用絵具から成る絵柄を印刷し、該絵柄
を釉焼成温度（二おいてガラス化ないし磁器化するカラ
スフラックスを５０重量％以上含むガラスフラックス層
により被覆し、その表面【ニカバーコ−１・を施して成
る釉焼成と同時に絵付焼成が可能な陶磁器のイングレー
ズ絵付用転写紙を提供する。

さらＣ二また、本発明はこの転写紙を用いて、予め目止
処理を施した施釉層上Ｃ二該転写紙をスライド転写し、
釉焼成と同時Ｃ二絵付焼成を行うイングレーズ絵付法を
提供する。

以下、本発明（二おいて、イングレーズ絵付トハ、釉焼
ないし絵付焼成の後において絵具層が釉薬層中（二沈み
あたかも絵具表面が、釉薬で覆われたよう（二なる絵付
法を称し、従来のいわゆる下絵絵付とは別の概念として
用いる。また素地とは、素焼、締焼、未焼成粘土質成形
乾燥品等を称する。

以下、本発明（二ついて、詳述する。

本発明の転写紙は再湿潤性糊料を塗布した転写用台紙上
にイングレーズ用絵具の高温焼成に耐え得る絵具を用い
て適当な印刷法（二より繊細な絵柄を印刷し、その上（
１更にもう一層印刷法（二て釉焼温度でガラス化あるい
は磁器化する組成を５０重量％以上含有したガラスフラ
ックス層をもうけ、その上から絵付時に担体の役目をは
だす密着被覆したカバーコートをもうけた構成を有する
。この転写紙は、素地表面（二直接施すこともできるが
、一般には施釉未焼成釉薬層（施釉層）上にスライド転
写法により施される。スライド転写法は、絵柄の位置極
めが容易でありかつ圧着を必要としないので絵柄の切断
、しわの発生、転写の浮き等の諸欠点を生じることなく
、被施工面Ｃ二正確に施すことができ、曲面にも容易に
施すことができる。

転写の際≦１施釉面はそのままでは過度の吸水性（二よ
りスライド転写が困難になるので、公知のいわゆる目止
剤（水を遮断する性質、即ち一定の耐水性のある有機焼
失性の、塗剤）を施釉面の絵付部分Ｃ１予め施して乾燥
させ、前述の転写紙を水の中ｌ二浸漬し台紙から転写紙
をはがしつつ口止剤を被覆した部分Ｃニスライド転写す
る。その後必要に応じ乾燥の後、釉焼と絵付焼成とを同
時に行ってイングレーズ絵付とする。この際焼成は、絵
具等の性質に応じ酸化炎、還元炎等の所定雰囲気下ｃ二
おいて行う。

目止剤としては、ポリビニルアルコール水溶液、酢酸ビ
ニルエマルジョン、メタアクリル酸樹脂或は、ポリスチ
レン樹脂のエマルジョン等の被膜形成可能な有機質粘結
剤が好ましいが、光硬化性樹脂アクリル系樹脂ポリウレ
タン系樹脂、酢酸ヒニール系樹脂その他の公知の施釉層
保護剤を適宜用いることもできる。

以下本発明の実施例を添付図面にもとづいて説明する。

第１図は転写紙である吸水性のある台紙１の表面にデキ
ストリン等の水性糊料２を塗布した層上にスクリーン印
刷、オフセット印刷、石版印刷、グラビア印刷等絵柄を
表現するのに最も適した印刷法にて繊細な絵柄３を印刷
する。これに用いられる絵具は、通常陶磁器絵付に用い
−ら）Ｌる下絵用絵具、あるいはいわゆるイングレーズ
用絵具の如き釉焼温度にて発色を阻害されない絵具を用
いる。それはおよそ次のような組成を有している。発色
体としてＣ６０＋　Ｃｒ２０Ｂ＋　Ｆｅ２０ｇ、　Ｍｎ
Ｏ２＋　ＺｒＯ２等の金属酸化物は、あるいはＣｏ−Ａ
Ａ’、　Ｃｏ−５ｉ、　Ｚｒ−５ｉ−Ｖ、　５ｎ−Ｖ、
　Ａｌ−Ｍｎ＋　Ｚｎ−Ａ７−Ｆｅ−Ｃｒ、　５ｎ−Ｃ
ａ−８ｉ−Ｃｒ−Ｚｎ−Ｆｅ−ＡＪ等のスティンと呼ば
れる通常の陶磁器着色剤と、融着剤あるいは希釈剤とし
てガラスフラックスあるいは釉薬のような生原料からな
っている。このガラスフラックスは後掲の絵柄層上のガ
ラスフラックス層４に用いるものと基本的に同じもので
よい。

発色体／融着剤あるいは希釈剤褥４−−−―−−の比は
１０Ｏ−Ｉｌｏ−９９の範囲を有し、色の濃度、所望す
る絵柄の表現可能な範囲で適当に決定される。

４は絵柄層３と同様の適当な印刷法Ｃ二より絵柄層上（
二もうけられたガラスフラックス層で５μ〜３００μの
印刷厚みを有する。この厚みは絵柄表現、色及び濃度に
より決定される。ここで用いられるガラスフラックスと
は釉焼温度でガラス化あるいは磁器化する成分を無機セ
ラミック成分中５０％以上含有していなければならない
。本発明は、特に約１０００℃以上の高温釉焼を行うた
めのものであるが、例えば、釉焼温度が１０００℃の場
合高融点ガラスフラックスとして少くとも９００℃以上
でガラス化するものを用いる事が出来、釉焼温度が１２
００　’Ｃ以上の場合少くとも１０００℃以上でガラス
化するガラスフラックスを用いることが出来、施釉に用
いられた同一の釉薬粉はこの目的を達成するのに望まし
い材料の一つである。

上記の事項を満たす外、陶磁器釉薬として一般（二要求
される種々の特性を有するガラスフラックスを、その都
度素地及び施釉の釉薬粉との適合性を考慮して定める。

このためのガラスフラックスは例えば実施例に掲載した
ものの他第３表の組成範囲のものを任意【１用いること
ができる。ガラスフラックス層は上述のガラスフラック
スの他に残部として顔料、及び無機質増量材、乳濁剤等
公知のものを含む。

５はガラスフラックス層（二密着したカバーコートで一
般陶磁器用転写紙に用いられるアクリル酸エステル、例
えばメチルセルローズ、エチルセルローズ、ニトロセル
ローズ等の繊ゑ１素等を主成分としたいわゆるラッカー
フィルム等の有機或いは合成樹脂フィルムでこの樹脂の
選択は絵柄、あるいはガラスフラックス層の印刷に用い
られる材料と焼成時Ｃ二おいて悪影響を及ぼさない組合
せのものを選ぶ必要がある。このカバーコートとしては
その他ブチラール樹脂、塩化ビニル等のビニル系樹脂等
が使用でき、アクリル酸エステル系のものとしてはメタ
アクリル酸エステル（メチル、エチル、ブチル等）の互
い（二相溶性のない２種の溶液重合物を組合せたもの、
メタアクリル酸エチルアクリル酸エチルコポリマーとブ
チルラクテートとの混合物Ｃ１可塑剤を適量配合したも
の、等を目的Ｃ１応じ用いることができる。第２図は施
釉された素地に目止剤を施した図である。素地６は素焼
品あるいは締焼品いずれでもよ（施釉層７を適当な方法
で設けた上（ニスプレー、ハケ塗、浸漬、流し掛は等の
方法にて絵付部分に均一に目止→剤を被覆した層８をも
うけて釉薬あるいは素地の吸水を止める処置（目止めと
称する）を施こす。目止剤にはＰＶＡ、ＣＭＣ，酢酸ビ
ニル、アクリル酸エイステル等の単体あるいは二成分以
上を含む溶液又は懸濁液を用いる事が出来る。

この目止剤は、スライド転写の際に素地及び／又は施釉
層への吸水を防止することを目的とし、一定の耐水性被
膜を形成しうる粘結性浴液であって、釉焼時に有害な作
用を及ぼさないものを用いる。上述の他変性ポリスチレ
ンエマルション、ビニルニトリル共重合体のゴム、ラテ
ックス、ポリアミドエマルション、ｆｌビニルエマルシ
ョン。

アクリル酸エステルエマルション、メタアクリル酸エス
テルエマルション等を用いることができ東。

但し完全な非透水性フィルムとすることは水性糊料によ
るスライド転写を行う場合には好ましくないが、再湿潤
性糊料の溶剤（媒）に応じて用いることは可能である。

なお、釉焼された素地面に直接本発明の転写を施す場合
には、この目止剤の塗布形成は不要である。

−−、 しつつ均一（：被覆された目止層上に気泡等が入らない
よう密着して施される（いわゆるスライド転写を施され
る）。然る後釉薬のガラス化或いは磁器化に適した釉焼
条件（：て釉焼を行ない同時（二絵付焼成も完遂される
。

なお、この手法は実施例のみに制限されるものではな（
素地の材質も含め、釉焼条件ζ１合わせて転写紙の絵具
及び絵柄上のガラスフラックス層の成分を選択すること
により全ての陶磁器において釉焼と絵付焼成とを同時（
二行うことが可能である。

本発明による転写紙の絵具とガラスフラックスの組成Ｃ
ついて青系統絵具（二ついては第１表、第２表の通りで
ある。

第１表　　　第２表 Ｃυガラスフラックスｘの２点１０００℃　Ｆ点１１５
０’ＣガラスフラックスＹのＰ点　７６０℃　Ｆ点１０
５０　℃Ｐ点　軟化開始温度 Ｆ点　流動点 絵具に組成Ａ、およびＢを用いガラスフラックスに組成
Ｘを用いた場合は焼成温度は１３００′Ｃが適し、ガラ
スフラックス≦二組成Ｙを用いた場合は焼成温度１２０
０℃が良好である。

また、本発明（二相いる高融点ガラスフリットの組成は
、例えば第３表の通りのものを用いることができ、これ
を用いた場合釉焼温度は凡そ１０００〜１４５０℃で可
能であり１０２０℃（軟釉）から１４５０℃（硬釉）ま
でに対応できる。

第３表 高融点ガラス調合 ５ｉ０２　　　　　　　　　４０〜７５！’Ｊ２０ｓ　
　　　　　　　　　５〜２５ＣａＯ（１−２５ 備考 釉焼温度が高い場合はに２０１　Ｎａ２Ｏ＋　ｐｂｏ。

Ｂ２Ｏ３分はすくない。

本発明に用いる絵具は前述の通り、顔料としての金属酸
化物若しくはいわゆるスティンを用いるが、例えば第４
表に示す通りの絵具を用いることができる。

第　　４　表 絵具調合　　　　　　　　　　　　（重量％）金属酸化
物又はスティン　　　　１００〜　ｌＳｉＯ２０〜６５ Ａ１２０３　　　　　　　　　　　　　０〜２０Ｃａ０
　　　　　　　　　　　　　０〜１５備考 （１）　　ガラスフラックス層を設ける為特に濃い色を
望む場合金属酸化物又はスティンは１００％でもよい。

（２）金属酸化物が多ければ濃い色となり少くなれば淡
い色となる。

（３）　　Ｎａ２Ｏ，に２０．　Ｐ　ｂｏ、　Ｂ２Ｏ３
は−オ重又は２種以上の混合物で多くなれば釉焼温度は
低い絵具となり釉焼温度が高くなれば含んでいなくても
よい。

実施例１゜ デキストリンから成る糊料膜をその一面に予形成した市
販の単紙転写用台紙の糊料面Ｃ第１表（二示す絵具組成
ＡとＢの調合物に夫々陶磁器転写印刷用ビヒクルでねり
合わせた絵具ペーストを用いて、スクリーン法により最
初Ｂ絵具ペーストで厚さ約２０μ（二て円形の絵柄を印
刷し乾燥後Ａ調合物をＢペーストと同質のビヒクルにて
ねり合わせたＡペーストをスクリーン法により厚さ約２
０μｆ二てＢ絵具上に重なるように十字形及びＢ絵具ペ
ーストによる該円形絵柄の繊細な線から成る輪郭から成
る絵柄を印刷した。絵具層の乾燥後第１表のガラスフラ
ックス組成Ｘを有するガラスフラックスを　Ｂ及びＡペ
ースト（：用いた同一のビヒクルを用いてガラスペース
トとしてスクリーン印刷法により厚さ５０μで絵柄を被
覆するように形成した。その上（二、陶磁器転写用カバ
ーコートを形０．７　Ｃａ０ ０．３　ＫＮａＯ’　”８Ｍ２０８・７．Ｏ５ｉｎ２（
ゼーゲル式）鰭の厚さく二なるようＣ二軸薬層を被覆形
成した８皿の表面の絵柄を施す対象範囲に、７１ケ塗り
Ｃ二重り目止処理を施した。風乾後、前記の転写紙を水
（二浸し、スライド転写法（二て、転写絵柄部分（二転
写し風乾した。このものを５Ｋ−１１（溶鋼温度１３２
０℃）で２４時間還元炎雰囲気下（二て保持焼成し、炉
冷後取出してイングレーズされた磁器製品を得た。

絵柄の繊細な線部分も良好（二発色し輪郭等申し分のな
い製品であった。

実施例２゜ 転写用台紙上Ｃ；Ｂ調合及びＡ調合を実施例１．の如く
印刷し、ガラスフラックス ５ｉ０２　　　　５Ｑｗ％ ｋ１２０ｓ　　　　　５ ＣａＯ５ ＫＮａｏ　　　　　　　１５ Ｐｂ０　　　　２０ １００Ｗ％ 組成物を実施例１の如く印刷し、カバーコートを形成し
転写紙とした。吸収率Ｏ〜７％を有する締焼器素地上に の組成を有する釉薬スリップをスプレー法により０．３
聴の厚さに形成した一皿の表面の絵柄を施す対象範囲番
ニスプレー法により、目止め処理を属した。風乾後、前
記転写紙を転写し充分風乾したものを５Ｋ−１（溶鋼温
度１１００℃）×２４時間酸化酸化量気（空気中）にて
焼成し、所望するイングレーズ組付品を得た。

実施例３ 転写用台紙上に絵具組成Ａをオフセット印刷した上にＢ
組成をオフセット印刷した。更にその上にガラスフラッ
クス層成（Ｙｉをオフセット印刷にて印刷した。充分乾
燥後カバーコートを印刷し、風乾したものを転写紙とし
た。

素焼皿、及び素焼カップ素地（二 の組成を有する釉薬スリップを浸漬法にてＱ、　３　ａ
ｍの厚みに形成した。

施釉した平皿の表面に、流し掛は法（二て目止→処理を
ほどこした。施釉したカップの場合は浸漬法Ｃ二て目止
→処理を施した。風乾後、各々目止めされた表面に前記
転写紙を転写し、充分風乾したものを酸化焔雰囲気５Ｋ
−６（溶鋼温度１２００”Ｃ）にて焼成し、繊細、且つ
発色良好なインブレース製品を得た。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の転写紙の一実施例、 第２図は、転写を施すために目止処理した施釉素地、 第３図は、転写絵付を施した状態の夫々断面構成図を示
す。 １・・・台紙　　　　　　　２・・・糊料３・・・絵具
層　　　　　　４・・・ガラスフラックス層６・・・カ
バーコート　　　６・・・素地１・・・釉薬層　　　　
　　ト・・目止層特許出願人　　株式会社ノリタケカン
パニーリミテド 代理人　弁理士　加藤覇道 ４５０

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）再湿潤性糊料を施した転写用台紙の糊料面番二セ
   ラミック絵付用絵具から成る絵柄を印刷し、該絵柄を釉
   焼成温度においてガラス化ないし磁器化するガラスフラ
   ックスな５０重量％以上含むガラスフラックス層により
   被覆し、その表面にカバーコートを施して成る釉焼成と
   同時に絵付焼成が可能な陶磁器のイングレーズ絵付用転
   写紙。
2. （２）前記ガラスフラックス層は、印刷法により形成さ
   れる請求の範囲第１項記載の転写紙。
3. （３）施釉された陶磁器素地のガラスフラックス層に目
   止処理を施す工程と、該目止処理面にイングレーズ絵付
   用転写紙をスライド転写する工程、転写を施された該施
   釉陶磁器素地を釉焼成と同時に絵付焼成する工程とから
   成り、該イングレーズ絵付用転写紙は、再湿潤性糊料を
   施した転写用台紙の糊料面にセラミック絵付用絵具から
   成る絵柄を印刷し、該絵柄を釉焼成温度においてガラス
   化ないし磁器化するガラスフラックスを５０重量−以上
   含むガラスフラックス層（二より被覆し、その表面にカ
   バーコートを施して成ることを特徴とする陶磁器のイン
   グレーズ絵付法。
4. （４）前記転写紙のガラスフラックス層は、印刷法によ
   り形成される請求の範囲第３項記載の絵付法。