JPH0299556A

JPH0299556A - ポリアリレート系樹脂組成物

Info

Publication number: JPH0299556A
Application number: JP25346188A
Authority: JP
Inventors: Takumi Tanaka; 巧田中
Original assignee: Unitika Ltd
Current assignee: Unitika Ltd
Priority date: 1988-10-06
Filing date: 1988-10-06
Publication date: 1990-04-11

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、ポリアリレート系樹脂組成物に関し。

特に複屈折が小さく、透明性、耐熱性に優れた光学機器
用の素材として好適なポリアリレート系樹脂組成物に関
する。

（従来の技術）一般に、透明性に優れ、光学機器用素材に向いているポ
リアリレート系樹脂は、耐熱性１機械的強度にも優れた
性質を有している。しかし、射出成形等の熱成形加工の
際に応力歪みが発生するため、得られた製品は複屈折を
生ずる。したがって。

最終製品が光デイスク基板または光カード保護膜の場合
には、複屈折によって読み取りエラーまたはシグナルに
対するノイズの比（Ｓ／Ｎ比）が増大し、ノイズの原因
となり、また、最終製品が光ファイバーの場合には、複
屈折によって伝送損失が大きくなる等の問題点がある。

（発明が解決しようとする課題）本発明は、上記の問題点を解決し、複屈折が小さく、透
明性、耐熱性に優れたポリアリレート系樹脂組成物を提
供することを目的とする。

（課題を解決するための手段）本発明者は、上記目的を達成すべ（鋭意研究を重ねた結
果、ポリアリレートに特定のポリスチレン系コポリマー
を所定量配合したポリアリレート系樹脂組成物は、透明
性、耐熱性に優れ、かつ複屈折が小さくなることを見出
し１本発明を完成するに至った。

すなわち２本発明は、下記の一般式（１）で示される繰
り返し単位からなるポリアリレート５０〜９５重量％と
、下記の式（ＩＩ）で示される単位と下記の（ＩＩＩ）
式で示される単位からなり２式（ＩＩ）で示される単位
のモル比が９９．９〜０モル％１式（ＩＩＩ）で示され
る単位のモル比が０．１〜１００モル％テするコポリマ
ー（以下、ポリスチレンコポリマーという）５０〜５重
量％とからなることを特徴とするポリアリレート系樹脂
組成物を要旨とする。

Ｒ。

（ただし１式中Ｒ１Ｒ４は、水素原子、炭素数５個以下
のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基。

炭素数７〜１２のアラルキル基、メトキシ基、エトキシ
基、フェノキシ基またはハロゲン原子であり。

ＲＺ、Ｒ：ｌは炭素数５個以下のアルキル基、炭素数６
〜工２のアリール基または炭素数７〜１２のアラルキル
基を表す。また、ｎは重合度を示す。）Ｈ（ただし１式中ＸＩ、ｘ２は、トリクロロメチル基また
はトリフルオロメチル基である。）以下１本発明の詳細
な説明する。

本発明のポリアリレート系樹脂組成物の一方の構成成分
である一般式（Ｔ）で示されるポリアリレートの２塩基
酸成分は、テレフタル酸とイソフタル酸であり、そのモ
ル比はポリアリレートが非品性になるものであればよ＜
、ｔ：９〜９：１が好ましく、特に好ましくはほぼ１対
１である。

また、２価のフェノール成分としては、ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）エタン、２．２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン、２．２−ビス（３−メチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロパン。

２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン。

４．４−ヒフ！、（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサン
４．４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）へブタン２．
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン２、２−
　（３，５，３’、　５’−テトラブロモ−４，４′−
ジヒドロキシジフェニル）プロパン、　　（３，３’−
シ／ｙｏロー４．４’−ジヒドロキシジフェニル）メタ
ン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フ
ェニルエタン、１１１−ビス（４−ヒドロキシフェニル
）−１−フェニルメタン、■、１−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−１−（４−エチルフェニル）メタン、ｌ
、１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ベンジルーメ
タン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−
（４−メチルフェニル）メタン。

２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−
メチルフェニル）エタン、２．２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−２−（４−メトキシフェニル）エタン、
２，２−ビス（４〜ヒドロキシフエニル）−２−（４−
クロロフェニル）エタン、２゜２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）７２−　（４−ブロモフェニル）エタン、
２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−
フェノキシフェニル）エタン、２，２−ビス（３−メチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−メトキシフ
ェニル）エタン、２．２−ビス（３，５−ジクロロ−４
ヒドロキシフエニル）−２−（４−メチルフェニル）エ
タン、２．２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキ
シフェニル”）−２−（４−メチルフェニル）エタン等
が挙げられる。

本発明のポリアリレートの製造方法としては。

ビスフェノールＡのような２価フェノールとテレフタル
酸とイソフタル酸からポリアリレートを製造する際に用
いられている公知の方法２例えば。

２価のフェノールのナトリウム塩と２塩基酸ジクロライ
ドとの溶液界面重合法、あるいは２価フェノールのアセ
チル化物と２塩基酸とから脱酢酸による溶融重合法等を
採用することができる。

一方１本発明のポリスチレンコポリマーの製造方法とし
ては２例えば、市販のポリスチレンを二硫化炭素中に溶
解し、触媒として無水塩化アルミニウムを少量添加し１
反応部度Ｏ〜５℃でヘキサフルオロアセトンまたはへキ
サクロロアセトンを攪拌しながら、ゆっくりと滴下して
、最終反応物を得る方法、あるいはｐ−クロロスチレン
を出発物質として、金属マグネシウムの存在下でヘキサ
フルオロアセトンを反応させて、ｐ−（ヘキサフルオロ
−２−ヒドロキシル−プロピル）スチレンモノマーを合
成し、この七ツマ−とスチレンモノマーとをアゾビスイ
ソブチロニトリルを重合開始剤とする公知の方法でラジ
カル付加重合する方法等が採用される。ここで、上記ポ
リスチレンコポリマーに０．１モル％以上のへキサフル
オロ−２ヒドロキシル−プロピル基等の上記（ＩＩＩ）
式で示される単位が存在すると、上記ポリアリレートに
対するポリスチレンコポリマーとのの相容性を有し、か
つ複屈折を低くする作用を示すが、　（■）式で示され
る単位は５〜１００モル％であることが好ましい。

また、ポリスチレンコポリマーは、ランダムコポリマー
でも、ブロックコポリマーでもよく、さらに（ｎ）式で
示される単位と（ＩＩＩ）式で示される単位との結合関
係は、ヘッドーテイル等いずれの結合関係にあってもよ
い。

上記のポリアリレートの還元粘度〔ηｓｐ／ｃ）は０．
３　ｄｌ／　ｇ以上のものが好ましい。

ここで、還元粘度〔ηｓｐ／ｃ）は塩化メチレンを溶媒
とする０、５ｇ／ｄｌ？ａ度の溶液を温度２０℃におい
て測定したものである。

一方、ポリスチレンコポリマーは９周知の方法。

例えば、光散乱法により測定される重合度が５００以上
が好ましい。その上限は特に制限はないが。

通常４０００程度が適当である。

ポリアリレートの還元粘度が０．３４１／　ｇ未満。

ポリスチレンコポリマーの重合度が５００未満のときは
、特に機械的強度が低下する傾向があり、最終製品とし
て成形したときに、望まれる物性が得られないことがあ
る。

本発明において、ポリアリレートとポリスチレンコポリ
マーの混合割合は、ポリアリレート５０〜９５重量％、
ポリスチレンコポリマー５０〜５重量％とする。上記の
混合割合以外の混合割合の場合には、複屈折を小さくす
ることは困難である。複屈折を十分に小さくシ、かつポ
リアリレートが有する耐熱性を十分に発揮させるために
は、ポリアリレートを６０〜８０重景％と重量ことが好
ましい。

（実施例）以下１本発明を実施例によって具体的に説明する。

以下の実施例において、複屈折の測定には、セナルモン
型コンペンセータを備えた日本光学！４３１製のＮｌＸ
０Ｎ　０ＰＴＩＰＨＯＴＯ−ＰＯＬ偏光顕微鏡を用いた
。

実施例１イソフタル酸クロリドとテレフタル酸クロリドの等モル
混合物０．１５モルを塩化メチレスに対して濃度６重量
％となるように溶解した。

一方、４Ｎの水酸化ナトリウム溶液に０．１５モルの２
，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンを濃度
６重量％となるように溶解し、これに１）　　ｔｅｒｔ
−ブチルフェノール０．４ｇとトリメチルベンジルアン
モニウムクロリド０．１７ｇを滴下した。

この水酸化ナトリウム溶液を約Ｏ℃に保ち、ホモミキサ
ーで攪拌しながら、先に調製した酸クロリドの塩化メチ
レン溶液を一度に添加し、約θ〜１０℃に保ちながら５
時間反応させた。反応後、溶液を酢酸水溶液で中和し、
油相だけを分離して、アセトンを添加してポリアリレー
トを沈澱させた。

得られたポリアリレートの還元粘度は０．７であった。

一方１重合度１８００のポリスチレン５０ｇを二硫化炭
素８００ｍｊ！に溶解し、約０℃に冷却した後、触媒と
して無水塩化アルミニウム１９．４　ｇを添加した。

この溶液を攪拌しながら、ヘキサフルオロアセトンをゆ
っ（り滴下した。約４０分後に滴下を停止し。

溶液を水で数回洗浄して二硫化炭素を流出させ。

塩化メチレンを加え、均一な溶液とした。これにアセト
ンを加えてポリマーを沈澱させた。このポリマーの重合
度は反応後も実質的に変化がなく。

１８００であった。

このポリマーを赤外線吸収法によって測定したところ、
ヒドロキシ基の検出から、ポリスチレンのモノマーユニ
ット２２．１モル％のベンゼン環のパラ位にヘキサフル
オロ−２−ヒドロキシル−プロピル基が付加したポリス
チレンコポリマーであることが確認された。

以上のようにして得られたポリアリレート８０重量部と
ポリスチレンコポリマー２０重量部をプラストミル混練
機にて２７０℃で混合し、得られた組成物を、塩化メチ
レンに溶解し、キャストフィルムを作成した。このフィ
ルムを２２０℃のオーブン中で２０％延伸した。得られ
たフィルムの複屈折を測定したところ、複屈折値は１．
７　Ｘｌ０−’であった。

実施例２実施例１と同様の方法で、イソフタル酸ジクロリドとテ
レフタル酸ジクロリドの等モル混合物と１．１−ビス（
４−ヒドロキシフェニル）−１−（４−メチルフェニル
）メタンとのポリアリレートを重合した。このポリアリ
レートの還元粘度は。

０．７１であった。

このポリアリレート８０重量部と実施例１と同様のポリ
スチレンコポリマー２０重量部とを、２８０℃でプラス
トミル混練機で混合して組成物を得た。

得られた組成物を塩化メチレンを溶媒としてキャストフ
ィルムを作成し、２７０℃のオーブン中で２０％延伸し
た。得られたフィルムの複屈折を測定したところ、複屈
折値は６．０５　Ｘ　１０−’であった。

実施例３実施例１で重合したポリアリレート８０重量部と。

実施例１の方法と同様の方法でヘキサクロロアセトンを
ポリスチレンに反応させて得られたヘキサクロロ−２−
ヒドロキシル−プロピル基が付加したポリスチレンコポ
リマー２０重量部とを、２７０℃でプラストミル混練機
で混合して組成物を得た。

得られた組成物を塩化メチレンを溶媒としてキャストフ
ィルムを作成し、２２０℃のオーブン中で２０％延伸し
た。このフィルムの複屈折を測定したところ、複屈折値
は２．１　Ｘｌ０−’であった。

比較例１実施例１で重合したポリアリレートを、塩化メチレンを
溶媒としてキャストフィルムを作成し。

２２０℃のオーブン中で２０％延伸した。このフィルム
の複屈折を測定したところ、複屈折値は２７．１Ｘ１０
−３であった。

比較例２実施例２で重合したポリアリレートを、塩化チチレンを
溶媒としてキ”ヤストフイルムを作成し２６０℃のオー
ブン中で２０％延伸した。このフィルムの複屈折を測定
したところ、複屈折値は２３．７Ｘ１０−３であった。

（発明の効果）本発明の樹脂組成物は、射出成形等によって成形品とし
たり、又はフィルム、繊維として延伸した後も、複屈折
が極めて小さいものであり、しかも透明性に優れる等の
光学的特性を有するものである。また、耐熱性にも優れ
るものである。

かかる樹脂組成物は、光デイスク基板材料、光カードの
保護膜光ファイバー等の光学機器用の素材として好適に利用される。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）下記の一般式（ I ）で示される繰り返し単位か
らなるポリアリレート５０〜９５重量％と、下記の式（
II）で示される単位と下記の（III）式で示される単位
からなり、式（II）で示される単位のモル比が９９．９
〜０モル％、式（III）で示される単位のモル比が０．
１〜１００モル％であるコポリマー５０〜５重量％とか
らなることを特徴とするポリアリレート系樹脂組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）（ただし、式中Ｒ＿１、Ｒ＿４は、水素原子、炭素数５
個以下のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭
素数７〜１２のアラルキル基、メトキシ基、エトキシ基
、フェノキシ基またはハロゲン原子であり、Ｒ＿２、Ｒ
＿３は炭素数５個以下のアルキル基、炭素数６〜１２の
アリール基または炭素数７〜１２のアラルキル基を表す
。また、ｎは重合度を示す。）▲数式、化学式、表等が
あります▼（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（III）（ただし、式中Ｘ＿１、Ｘ＿２は、トリクロロメチル基
またはトリフルオロメチル基である。）