JPH0376749A - 樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、透明な樹脂組成物に関する。

例えばレンズ、光ディスク等の光学材料や透明エンジニ
アリングプラスチックとして好適である。

［従来の技術］ 近年、光学材料、透明エンジニアリングプラスチックと
して、透明でかつ充分な機械的特性、高耐熱性を有する
樹脂組成物が望まれている。

耐熱性に優れる樹脂組成物として、ビスフェノール化合
物と芳香族ジカルボン酸から得られる芳香族ポリエステ
ルとビニル芳香族系モノマもしくはビニル芳香族系ポリ
マをブレンドしてなる樹脂組成物が、特開昭４６−２９
４５号公報、特開昭４８−５１０４９号公報などに開示
されている。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、かかる特開昭４６−２９４５号公報など
に示されている樹脂組成物は不透明であるといった問題
点を有している。

本発明は、かかる従来技術の欠点を解消しようとするも
のであり、透明でかつ高い耐熱性を有する樹脂組成物を
提供することを目的とする。

［課題を解決するための手段］ 本発明は、上記目的を達成するために、下記の構成を有
する。

「下記一般式（１） （式中、ｎは重合度を表わす） で表わされる芳香族ポリエステルと、ビニル芳香族系重
合体とを主成分としてなる樹脂組成物。」本発明におい
て、上記一般式（Ｉ）で示される芳香族ポリエステルは
、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）
メタンを主成分としてなるジオール成分と、イソフタル
酸、テレフタル酸、フタル酸及びそれらの誘導体を主成
分としてなるジカルボン酸成分とを重合してなる。また
、ｎは重合度を表わし、任意の整数をとることができる
が、中でも、ｎ＝２０〜２００の範囲であることが好ま
しい。２０未満である場合、耐熱性、機械的特性が不充
分となる場合があり、また、２００を越えるとビニル芳
香族系重合体との相溶性が低下する傾向がある。

本発明においては、かかる芳香族ポリエステルのジオー
ル成分として、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチ
ルフェニル）メタンを用いることにより、すなわち、フ
ェニル基の３位と５位にメチル基を有することにより、
樹脂への透明性付与を可能にした点を特徴とする。

本発明において、上記ジオール成分と、ジカルボン酸成
分との重合方法としては、従来公知の重縮合法を用いる
ことができ、例えば水と相溶性のない有機溶剤に溶解せ
しめた芳香族ジカルボン酸クロライドとアルカリ水溶液
に溶解せしめたビスフェノール化合物とを混合反応せし
める界面重合法（特公昭４０−１９５９号公報等参照）
、芳香族ジカルボン酸クロライドとビスフェノール化合
物とを有機溶媒中で反応せしめる溶液重合法（特公昭３
７−５５９９号公報等参照）、芳香族ジカルボン酸フェ
ニルエステルとビスフェノール化合物を溶融状態で重合
せしめる方法（特公昭３８−１１５２４７号公報、同４
３−２８１１９号等公報参照）、芳香族ジカルボン酸と
ビスフェノール化合物のアセテートとを溶融状態で重合
せしめる方法［１ｎｄｕｓｔｔｉａｌ　ｓａｄＥｎｇｉ
ｎｅｅｒｉｎｇ　Ｃｈｅｎ＋１ｓｔｒ７　Ｙｏｌ　５１
　Ｐ、４７　（１９５９）等参照コなどの方法を挙げる
ことができる。これらの方法を用いる際、通常の触媒、
亜リン酸、リン酸またはこれらの誘導体、フェノール誘
導体などの安定剤などを必要に応じて使用してもよい。

本発明においては、ジオール成分として、ビス（４−ヒ
ドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）メタンを全ジオ
ール成分の７０モル％以上の範囲で含有していることが
好ましいが、その他のジオール化合物も用いることがで
き、中でも、下記一般式（ｎ）で表わされるビスフェノ
ール化合物を、共重合成分として用いることが、機械的
特性向上の点で好ましい。

（但し、Ｘは、Ｏ，Ｓ、、ＳＯ２、Ｃｏ、アルキレン基
およびアルキリデン基よりなる群から選ばれ、Ｙは、Ｏ
Ｈおよびその反応性誘導体基から選ばれる。ＡＩ、Ａ２
は、ハロゲンおよび炭化水素基からなる群から選ばれる
。ｍ、ｎは、０〜４の整数を示す。） ここで好ましいハロゲンとしては、塩素、臭素、などが
挙げられ、また、好ましい炭化水素基の例としては、メ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基などの低級アルキル
基が挙げられる。又、ＹはＯＨおよびその反応性誘導体
基から選ばれるが、反応性基としては、ＣＨ３ＣＯ２基
などが挙げられる。

上記一般式（ｎ）で表わされるビスフェノールの具体例
としては、４．４’−ジヒドロキシ−ジフェニルエーテ
ル、ビス（４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−エ
ーテル、ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）
−エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）−サルフ
ァイド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）−スルホン、
ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ケトン、ビス（４−
ヒドロキシフェニル）−メタン、ビス（４−ヒドロキシ
−３−メチルフェニル）−メタン、ビス（４−ヒドロキ
シ−３，５−ジクロロフェニル）−メタン、ビス（４−
ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）−メタン、ビ
ス（４−ヒドロキシ−３，５−ジフルオロフェニル）−
メタン、１．１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−エ
タン、２．２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェ
ニル）−プロパン、２．２−ビス（４−ヒドロキシ−３
−クロロフェニル）−プロパン、２．２−ビス（４−ヒ
ドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）−プロパン、１
．１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｎ−２タン、
２．２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェ
ニル）−プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
フェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ジ
フェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル−４１
−メチルフェニル）−メタン、１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−２２，２−トリクロロエタン、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−４′−クロロフェニルメ
タン、ｌ、１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シク
ロヘキサン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロ
ヘキシルメタン、２．２−ビス（４−ヒドロキシナフチ
ル）−プロパンなどが上げられるが、もっとも一般的に
製造される代表的なものとしては、２．２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパンすなわちビスフェノール
Ａが挙げられる。これらのビスフェノール類は２種類以
上の混合物として用いてもよく、又、アセチル化などに
よる誘導体として用いてもよい。

また、その他のジオール成分としては、２価の化合物、
例えば２．６−ジヒドロキシナフタレンのごときジヒド
ロキシナフタレン、ヒドロキノン、レゾルシノール、２
．６−シヒドロキシトルエン、２．６−シヒドロキシク
ロロベンゼン、３．６−シヒドロキシトルエンなどを使
用することができる。

本発明でいうビニル芳香族系重合体とは、ビニル芳香族
系化合物の非品性の重合体、あるいはビニル芳香族化合
物を主成分とし、ビニル芳香族化合物と共重合し得る他
のビニル化合物との非品性の共重合体をいう。共重合体
の場合は、他のビニル化合物を、共重合体中５０重量％
以下の割合で含んでもよい。他のビニル化合物の割合が
５０重量％を超えるとブレンドして得られる本発明の樹
脂組成物の透明性が低下する。ビニル芳香族化合物とし
ては、例えばスチレン、α−メチルスチレン、Ｐ−メチ
ルスチレン、ｔ−ブチルスチレンやビニルナフタレン等
が挙げられる。これらは１種のみを用いても、または２
種以上の混合物であってもよい。また、ビニル芳香族化
合物と共重合し得る他のビニル化合物としては、例えば
ブタジェン、イソプレン等のジエン系化合物、メチルメ
タクリレート、シクロヘキシルメタクリレート等のメタ
クリル酸エステル類、メチルアクリレート、ブチルアク
リレート等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸、ア
クリル酸、イタコン酸またはアクリロニトリル等が挙げ
られる。これらは１種のみを用いても、または２種以上
の混合物であってもよい。

ビニル芳香族系重合体の製造法としては、特に制限を受
けることなく種々の方法が採用でき、上記ビニル芳香族
化合物を原料とし、例えば、ラジカル重合触媒またはア
ニオン重合触媒を用い、塊状、溶液、懸濁、乳化等の従
来公知の重合方法により製造することができる。

本発明においては、前記芳香族ポリエステルとビニル芳
香族系重合体とをブレンドすることにより、樹脂組成物
とする。そのブレンド割合は、任意に選択することがで
き、とくに限定されるものではないが、本発明において
は、芳香族ポリエステルと、ビニル芳香族系重合体をブ
レンドすることにより、それぞれのポリマ自体の有する
光学歪みを互いに打ち消すことができ、従ってブレンド
樹脂組成物の光学歪みが小さくなるという特徴を有し、
その特徴が特に顕著に現れるという点で、芳香族ポリエ
ステルを４０〜６０重量部の範囲で、ビニル芳香族系重
合体を６０〜４０重量部の範囲でブレンドすることが、
特に好ましい。

また、ブレンド方法としては、押出機を用いたり、ロー
ル、バンバリーミキサ−を用いるなど、慣用の方法を用
いることができる。

また、本発明の樹脂組成物は、溶液キャスト法などを用
いることにより、フィルム状物に酸形することができる
。

本発明の樹脂組成物には、透明性を損うことのない範囲
で、離型剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤な
どの無機および有機化合物の添加剤を必要に応じて使用
することができる。

本発明の樹脂組成物は、耐熱性、および透明性に優れる
ため、例えばレンズ、光ディスク等の光学材料や透明エ
ンジニアリングプラスチックとして好適に用いることが
できる。

［実施例］ 以下、実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明は実
施例のみに限定されるものではない。

実施例中の熱変形温度はＡＳＴＭ　　Ｄ−８４８法によ
って測定し、透明性（光線透過率）はＡｓＴＭ　　Ｄ＝
１００３法によって測定した。また、衝撃強度は１開ｘ
　ｌ　ＯｍｍＸ　１５ｍＩ！＋の試験片を用いたダイン
スタット衝撃強度による値で示した。複屈折（光学歪み
）はエリプソメーターによって測定した。

実施例１ ２５６ｇ　（１，０モル）のビス（４−ヒドロキシ−３
，５−ジメチルフェニル）−メタンと、９２ｇの水酸化
ナトリウムおよび２．５ｇのトリエチルベンジルアンモ
ニウムクロライドを８１の水で溶解した。

一方、１０１．５ｇ　（０，５モル）のテレフタル酸ク
ロライドと、１０１．５ｇ　（０，５モル）のイソフタ
ル酸クロライドを５１の塩化メチレンに溶解して滴下ロ
ートに仕込んだ。

前記ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル
）−メタンの水酸化ナトリウム水溶液を１０℃に冷却し
、ホモミキサーで激しく撹拌しながら、その溶液中に、
前記酸クロライドの塩化メチレン溶液を１０分間かけて
滴下した。反応混合物を２５℃でさらに１時間撹拌した
。上部水層を除き、下部塩化メチレン層を強く撹拌しな
がら、１５１の水で５回洗浄し、その後塩化メチレン３
１で希釈し濾過した。この溶液をメタノール中に注入し
てポリマを単離し、１２０℃で１２時間真空乾燥した。

次にこの芳香族ポリエステル５０部と、スチレン樹脂（
旭化或■製“スタイロン”６７９）５０部を押出機中で
ブレンドして常法によりチップ化した。このチップを用
いて２８０℃で射出成形した。

得られた成形品は、透明で強度に優れた。熱変形温度、
光線透過率、衝撃強度を表１に示す。

実施例２ 実施例１において、芳香族ポリエステルとスチレン樹脂
との混合割合を、芳香族ポリエステル６０部、スチレン
樹脂４０部とし、また、その射出成形温度を２８０℃と
した以外は実施例１と同様にして成形品を得た。

この成形品は高強度かつ透明であった。熱変形温度、光
線透過率、衝撃強度を表１に示す。またこの成形品にお
いては、光学歪は２７部ｍと極めて小さくなることがわ
かった。

実施例３ 実施例１において、スチレン樹脂を、アクリロニトリル
−スチレン共重合樹脂（東しく株）“ＡＳ−１１００”
、スチレン７６重量％、アクリロニトリル２４重量％）
に変更した以外は、実施例１と同様にして成形品を得た
。

この成形品は高強度かつ透明であった。熱変形温度、光
線透過率、衝撃強度を表１に示す。

実施例４ 実施例１において、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
メチルフェニル）−メタン２５６．０ｇ　（１゜０モル
）を２０４．８ｇ　（０，８モル）に変更して、４５．
６ｇ　（０，２モル）の２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）−プロパンを共重合成分としすることにより
得られた芳香族ポリエステルを用いた以外は、実施例１
と同様にして成形品を得た。

この成形品は高強度かつ透明であった。熱変形温度、光
線透過率、衝撃強度を表１に示す。

比較例１ 実施例１において、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
メチルフェニル）−メタンを２，２−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）−プロパン２２８．０ｇ　（１゜０モル
）に変更した以外は、実施例１と同様にして成形品を得
た。

この成形品は均一な乳白色で不透明であった。

また、衝撃強度、熱変形温度を表１に示した。

この比較例１に対して、実施例１〜４で得られる本発明
の樹脂組成物は、いずれも高強度で透明性に優れ、熱変
形温度も高く、高耐熱性を有していた。

表１ ［発明の効果］ 本発明の樹脂組成物は、優れた透明性を有し、かつ、耐
熱性などの種々の機械的特性にも優れる。

また、芳香族ポリエステルのみの樹脂と比べると、その
射出成形温度が低く、加工性に優れる。

そのため、特に、光学材料や透明エンジニアリングプラ
スチックとして好適に使用できる。

また、芳香族ポリエステルとビニル芳香族系重合体の割
合を調整することにより、光学歪の極めて小さな成形品
を得ることも可能である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）下記一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、ｎは重合度を表わす） で表わされる芳香族ポリエステルと、ビニル芳香族系重
   合体とを主成分としてなる樹脂組成物。