JPH0296168A - 感光性重合体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規な感光性耐熱重合体及びその製造法等に関
する。更に詳しくは保存安定性に優れ、高感度である新
規な感光性ポリ（アミド）イミド前駆体、その製造法、
それを含む感光性１合体組成物及びそれを用い念パター
ン化されたポリ（アミド）イミド膜の形成法に関する。

（従来の技術〕 耐熱性感光材料として感光性ポリイミドは半導体の絶縁
膜あるいけパッシベーション膜等ニ広く使用されている
。例えば特開昭５４−１４５７９４号公報では二重結合
とアミン基又はその４級化塩を含む化合物をポリアミド
酸に混合する方法が提案されている。さらに特開昭５５
−４５７４６号公報及び特開昭６０−１００１４３号公
報では各々ポリアミド酸のカルボキシル基に不飽和エポ
キシ化合物又は二重結合を有するインシアネート化合物
全反応させる方法が提案されている。また特公昭５５−
４１４２２号公報ではポリアミド酸のエステル側鎖に二
重結合などの活性官能基金導入したポリマーが提案され
ている。そして特開昭６０−６０２９号公報ではあらか
じめ二重結合を有するジアミンを合成しておきこれらを
用いてポリイミドを合成する等の方法がそれぞれ提案さ
れている。

〔発明が解決しようとする課題〕

前記の特開昭５４−１４５７９４号公報では不安定なポ
リアミド酸溶液に多量のアミノ基又５５−４５７４６号
公報及び特開昭６０−１００１４３号公報ではポリアミ
ド酸のカルボキシル基に感光性不飽和基含有化合物を反
応させる際にポリアミド酸の一部が分解する等して溶液
の粘度が変化する欠点を有している。また特公昭５５−
４１４２２号公報及び特開昭６０−６０２９号公報では
感光性官能基を導入するための工程が複雑であシ多くの
費用を要する。

このように従来の技術には種々の問題があり、この様な
点を解決した感光性材料の開発が要望されていた。

本発明の目的は、保存安定性に優れ、不純物含量が少な
く、かつ感度良好な新規な感光性ポリ（アミド）イミド
前駆体、その容易な製造法、それを含む感光性重合体組
成物及びそれを用いたパターン化されたポリ（アミド）
イミド膜の形成法全提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明者等は前記の課題を解決すべく鋭意研究を行なっ
た結果、本発明に到達した。

すなわち本発明は下記一般式（Ｉ）で表わされる反復単
位を含み、溶媒中、温度３０±０．０１℃、濃度０．５
９／ｄｌで測定された対数粘度数が０，１〜５ｄｌ／ｇ
である感光性重合体である。

（式（Ｉ）に於いてＲ１はそれぞれが独立に、３価又は
４価の炭素環式芳香族基または複素環式基、Ｒ２はそれ
ぞれが独立に、少なくとも２個の炭素原子を有する脂肪
族基、脂環式基、芳香脂肪族基、炭素環式芳香族基もし
くは複素環式基またはポリシロキサン基、Ｒ８は感光性
の不飽和基を有する一価の有機基であり、Ｒ４は一価の
有機基であり、ｍは１又は２、ｎは０又は１であり、１
≦ｍ　十ｎ≦２の値をとる。）。

この感光性重合体（１）は、）記−船人（′Ｉ）で表わ
される反復単位、一般式（Ｉ）で表わされる反復単位又
はこの両者を含むポリ（アミド）イソイミドと一般式（
５）で表わされる感光性不飽和基含有二級アミンを温度
θ〜１００　’Ｃで反応を行なうことにより製造するこ
とができる。

（ただしここにＲ１、Ｒ２、ＲＭ、Ｒ４及びｎは前述の
意味を表わす。） この感光性重合体（１）は下記（イ）、（ロ）、（ハ）
、に）及び溶媒からなる感光性重合体組成物としての用
途を有する。

（イ）上記一般式（Ｉ）で表わされる反復単位を含む感
光性１合体 （０１前記感光性重合体に対してθ〜２Ｏｆｉ量％の光
重合開始剤及び増感剤 （ハ）前記感光性重合体に対してθ〜５０重量％のジア
ジド化合物 に）前記感光性重合体に対して０〜１０重量％の炭素−
炭素二１（結合を有する化合物さらにこの感光性重合体
組成物を使用してパターニングするには、この組成物を
基板上に塗布し、３０〜１５０°Ｃの温度でプリベーク
を行なった後、マスクを介して化学線を照射し、現像し
、所望により更にリンス又は乾燥の順に処理した後、２
００〜５００°Ｃの温度でボストベーク全行うことによ
りパターン化されたポリ（アミド）イミド膜を形成する
ことができる。

前記−船人（Ｉ）で表わされる本発明の感光性重合体は
ｍ＝１、ｎ−０の場合には感光性ポリアミドイミド前駆
体であり、ｍ＝ｎ５ｃｌの場合及びｍ−２、ｎ−０の場
合にはどちらも感光性ポリイミド前駆体である。

これらの感光性重合体を製造する方法を以下に詳述する
。

ポリ（アミド）インイ、ミドは、テトラカルボン酸二無
水物、トリカルボン酸無水物（その誘導体を含む。以下
同じ。）又はこの両者とジアミンの反応生成物ｔ−Ｐｒ
ｏｃｅｅｄｉｎｇｓ　ｏｆ　５ｅｃｏｎｄＩｎｔｅｒｎ
ａｔｉｏｎａｌ　Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ　ｏｎ　Ｐｏｌ
ｙｉｍｉｄｅｓ（１９８５）ｐ６３１に記載されている
方法により反応させることにより容易に製造することが
できる。

これらのテトラカルボン酸二無水物、トリカルボン酸無
水物及びジアミンを各々−船人（Ｖ）、（Ｖり及び（至
）で表わしこれらについて以下詳述する。

金環（これらの環は、直接または橋かけ基を通して互い
に結合する）を有する多環式芳香族基である。

上記の橋かけ基としては、例えば、次の基が適尚である
。

−０−−ＣＨ２−ＣＨｔ−−ＣＨｔ−ＣＨ寓ＣＨ−−Ｃ
Ｈ−−Ｃ−−０３Ｆ、−−８−８−−８Ｏ−Ｑ　１　　
　ｃａｌ −８Ｏｔ−ＳＯ！Ｎ−−ＣＯ−−〇−０−（ただしＹは
Ｈ又はＣｔである。） ＮＨｔ　Ｒ２−ＮＨｔ　　　・・・（至）Ｒ１が炭素環
式芳香族基である場合、この基は好ましくは、少なくと
も一個の六員環を有する。Ｒ１は、特に、単環式芳香族
基、縮合多環式芳香族基、または数個の縮合環もしくは
非線−Ｎ工Ｎ−−Ｎ＝Ｎ−−ＮＱ”−Ｃ−Ｑ’−Ｃ−Ｎ
Ｑ”−又は−〇−８ｔ　−０− 上記式中、Ｑｌは、場合によってはハロゲン原子（好ま
しくはフッ素原子）−個もしくはそれ以上で置換された
、炭素原子数１ないし６、好ましくは１ないし４のアル
キル基もしくはアルキレン基を表わすか、あるいはシク
ロアルキル基、アリール基またはアリーレン基金表わし
、Ｑ２は、水素原子、シクロアルキル基またはアリール
基を表わすか、あるいは場合によってはハロゲン原子−
個もしくはそれ以上で置換された炭素原子数１ないし４
のアルキル基を表わす。

また、Ｑｌ及びＱ２は、上記の基が互いに、二個の橋か
け基、例えば二個の一３Ｏｔ−基を通して結合してなる
基でもよい。

Ｒ１が検素環式基を表わす場合、それらの例として特に
挙げられるのは、酸素、窒素及び（またはイオウを含む
）五員環もしくは六員環の複素環式芳香族基、またはそ
れらとベンゼン核との縮金環弐基である。

Ｒ１が表わす炭素環式芳香族基もしくは複素環式基は、
また、例えばニトロ基、炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基、トリフルオルメチル基、ハロゲン原子（特にフッ
素原子）、シリル基またはスルファモイル基などの一個
以上で置換されたものであってもよい。

Ｒ１が表わす基は、非置換でも、あるいは例えばハロゲ
ン原子（例えば、フッ素、塩素または臭素）、または炭
素原子数１ないし４のアルキル基もしくはアルコキシ基
などの一個以上で置換されたものでもよい。

Ｒ２が炭素環式芳香族基である場合、好ましいそれらの
例としては、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、ま
たは非縮合二環式芳香族基が挙げられる。この非縮合二
環式基の場合は、芳香環が互いに橋かけ基を通して結合
している。

この場合、可能な橋かけ基は、Ｒ１の説明のところで挙
げた基と同じものである。

Ｒ２が複素環式基である場合、それは、特に、０、Ｎ及
び（！！、たけ）Ｓを含む五員環もしくは六員環の複素
環式芳香族基である。

また、Ｒ２が脂肪族基である場合には、特に、炭素原子
数２ないし１２のアルキレン基、またはそれらのアルキ
レン鎖中にベテロ原子、例えばＯ，ＳまたはＮ原子が介
在したアルキレン基がそれらの例として挙げられる。

Ｒ２が脂環式入幕である場合の例として挙げられるもの
は、シクロヘキシル基またはジシクロヘキシルメタン基
などであり、一方、芳香脂肪族基である場合の例として
特に挙げられるものは、１・３−１・４−もしくは２・
４−ビス−アルキレンベンゼンの基、４・４′−とスー
アルキレンージフェニル基、及び４・４′−ヒス−アル
キレン−ジフェニルエーテル基でアル。

Ｒ１については、それぞれのＲ１が互いに独立に、非置
換単環式芳香族基、非置換縮合多環式芳香族基、または
非置換非縮合二環式芳香族基を表わすのが好ましい。上
記最後の基は、芳香環が互いに、−〇−または−ＣＯ−
の橋かけ基を通して結合してなる基である。

一方、Ｒ”については、それぞれのＲ２が互いに独立に
、場合によってはハロゲン原子または炭素原子数１ない
し４のアルキル基もしくはアルコキシ基の一個以上を置
換基として有する、単環式芳香族基もしくは非縮合二環
式芳香族基であるか、あるいは非置換単環式芳香脂肪族
基または炭素原子数２ないし１０の非置換脂肪族基であ
るのが好ましい。

Ｒ２がポリシロキサン基である場合次式面で表わされる
。

Ｒａ　　　Ｒ６ Ｒａ　　　　　Ｒｅ ここにＲ５は独立に−（ＣＨ，）−１ −（ＣＨ２）ｓ−Ｑ、−（、ＣＨ，＞、−ｏ−ｑまたは
−６であシ（ただしＳは１〜４の整数を示す。）、Ｒ６
は独立に炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基または
炭素数７〜１２個のアルキル置換フェニル基金表わし、
ｔはｌ≦ｔ≦１００の値をとる。

前記式（Ｖ）で表わされるテトラカルボン酸二無水物の
例としては、以下のものが挙げられる。

ピロメリット酸二無水物、 ３・３′・４・４′−ベンゾフェノン−テトラカルボン
酸二無水物、 ２・３・３′・４′−ベンゾフェノン−テトラカルボン
酸二無水物、 ２・２′・３・３′−ベンゾフェノン−テトラカルボン
酸二無水物、 ３・３′・４・４′−ジフェニル−テトラカルボン酸二
無水物、 ２・２′・３・３′−ジフェニル−テトラカルボン酸二
無水物、 ビス（２・３−ジカルボキシフェニル）−メタンニ無水
物、 ビス（３・４−ジカルボキシフェニル）−メタンニ無水
物、 ２・２−ビス（２・３−ジカルボキシフェニル）−プロ
パンニ無水物、 ビス（３・４−ジカルボキシフェニル）−ニーテルニ無
水物、 ビス（３・４−ジカルボキシフェニル）−スルホンニ無
水物、 Ｎ−Ｎ−（３・４−ジカルボキシフェニル）−Ｎ−メチ
ルアミンニ無水物、 ３・３′・４・４′−テトラカルボキシペンゾイルオキ
シベンゼンニ無水物、 ２・３・６・７−ナフタリン−テトラカルボン酸二無水
物、 １・２・５・６−ナフタリン−テトラカルボン酸二無水
物、 チオフェン−２・３・４・５−テトラカルボン酸二無水
物、 ピラジン−２・３・５・６−テトラカルボン酸二無水物
、 ピリジン−２・３・５・６−テトラカルボン酸二無水物
、 ２・３・３′・４′−ビフェニルテトラカルボン　ｍ 酸二無水物、 ２・２−ビス（３・４−ジカルボキシフェニル）へキサ
フロロプロパン。

前記式（Ｖ′）で表わされるトリカルボン酸無水物とし
ては、トリメリット酸無水物、トリメリット酸無水物ク
ロライドが特に好ましい。

前記式（至）で表わされるジアミン類としては、公知の
化合物が用いられる。

炭素環式芳香族ジアミン類の例としては特に次の化合物
が挙げられる。

ｏ−ｌｍ−及びｌ）−フェニレンジアミン、ジアミノト
ルエン類（例えば、２・４−ジアミノトルエン）、１・
４−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、２・５−ジアミ
ノキシレン類、１・３−ジアミノ−４−クロルベンゼン
、１・４−ジアミノ−２・５−ジクロルベンゼン、１・
４−ジアミノ−２−ブロムベンゼン、１・３−ジアミノ
−４−イソプロピルベンゼン、Ｎ−Ｎ’−ジフェニル−
１・４−フェニレンジアミン、４・４′−ジアミノジフ
ェニル−２・２−プロパン、４・４′−ジアミノジフェ
ニルメタン、２・２′−ジアミノスチルベン、４・４′
−ジアミノスチルベン、４・４′−ジアミノジフェニル
−エーテル、４・４′−ジアミノジフェニル−チオエー
テル、４・４′−ジアミノジフェニルスルホン、３・３
′−ジアミノジフェニルスルホン、４・４′−ジアミノ
安息香酸フェニルエステル、２・２′−ジアミノベンゾ
フェノン、４・４−ジアミノベンゾフェノン、４・４′
−ジアミノベンジル、４−（４′−アミノンエニルカル
バモイル）−アニリン、ビス（４−アミノフェニル）−
ホスフィンオキシト、ビス（４−アミノフェニル）−メ
チル−ホスフィンオキシト、ビス（３−アミノフェニル
）−メチルスルフィンオキシド、ビス（４−アミノフェ
ニル）−フェニルホスフィンオキシト、ビス（４−アミ
ノフェニル）−シクロヘキシルホスフィンオキシト、Ｎ
−Ｎ−ビス（４−アミノフェニル）−Ｎ−フェニルアミ
ン、Ｎ−Ｎ−ビス（４−アミノフェニル）−Ｎ−メチル
アミン、４・４′−ジアミノジフェニル尿素、１・８−
ジアミノナフタリン、１・５−ジアミノナフタリン、１
・５−ジアミノアントラキノン、ジアミノフルオランテ
ン、ビス（４−アミノフェニル）−ジエチルシラン、ビ
ス（４−アミノフェニル）−ジメチルシラン、ビス（４
−アミノフェニル）−テトラメチルジシロキサン、３・
４’−−）アミノジフェニルエーテル、ベンジジン、２
・２’−ジメチルベンジジン、２・２−ビス（４−（４
−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン、ビス（４−
（４−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、４・４
／　＋＋　ヒス（４−７ミノフエノキシ）ビフェニル、
２・２−ビス（４−（４−アミノフェノキシ）フェニル
〕へキサフロロプロパン、１・４−ビス（４−アミノフ
ェノキシ）ベンゼン、１・３−ビス（４−７ミノフエノ
キシ）ベンゼン。

複素環式ジアミン類は、例えば次の化合物である。

２・６−ジアミノベンジル、２・４−ジアミノピリミジ
ン、２・４−ジアミノ−５−）リアジン、２・７−リア
ミツージベンゾフラン、２・７−リアミツカルバゾール
、３・７−リアミツフエノチアジン、２・５−ジアミノ
−１・３・４−チアジアゾール、２・４−ジアミノ−６
−フェニル−５−）リアジン。

また、脂肪族ジアミンの例として挙げられるのは、次の
化合物である。

ジメチルジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチ
レンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレ
ンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレン
ジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミ
ン、２・２−ジメチルプロピレンジアミン、２・５−ジ
メチルへキサメチレンジアミン、２・５−ジメチルへブ
タメチレンジアミン、４・４−ジメチルへブタメチレン
ジアミン、３−メチルへブタメチレンジアミン、３−メ
トキシへブタメチレンジアミン、５−メチルノナメチレ
ンジアミン、２・１１−ジアミノドデカン、１・１２−
ジアミノオクタデカン、１・２−ビス（３−アミノ−汐
　− プロポキシ）−エタン、Ｎ−Ｎ’−ジメチル−エチレン
ジアミン、Ｎ−Ｎ’−ジエチル−１・３−ジアミツプロ
パン、Ｎ−Ｎ’−ジメチル−１・６−ジアミツヘキサン
、式： ％式％ ジアミン、式：　ＨｔＮ　（ＣＨｔ　）ｓＮＨ＊で表わ
されるジアミン。

さらに、脂環式ジアミンとして適当な化合物は、１・４
−ジアミノシクロヘキサン及び４・４′−ジアミノ−ジ
シクロヘキシルメタンであり、芳香脂肪族ジアミンとし
ては１・４−ビス（２−メチル−４−アミノペンチル）
−ベンゼン、１・４−ビス（１・１−ジメチル−５−ア
ミノペンチル）−ベンゼン、１・３−ビス（アミノメチ
ル）−ベンゼン及び１・４−ビス（アミノメチル）−ベ
ンゼンが適当である。

さらに、ジアミノポリシロキサンとして次の化合物を挙
げることができる。

ＣＨ３ ＣＨ３ ＣＨ。

ＣＨｔ ＣＨ３ ＣＨｔ ＣＨｔ 　Ｈｓ Ｈ８ ＯＨ。

ＣＨｔ Ｈｊ ＣＨ。

ＣＨｔ −公一 一　ムー Ｃ＊Ｈｓ　　　ＣｔＨｓ 前記−船人（ト）で表わされる感光性不飽和基含有二級
アミンについて説明する。

１３０例を以下に示す。

−（ＣＨｔ　）　ｓ　−ＣＨ＝ＣＨｔ、（Ｊｌａ　　　
　　　Ｏ −ＣＨｚ−ＣＣＨｔ　　０−Ｃ−ＣＨ＝ＣＨｔ　０ＣＨ
。

（ただしここにＳは１．２又は３の値をとる。）Ｒ４は
Ｒ３又は炭素数１〜１０の脂肪族基、脂環式基、芳香族
基又は芳香脂肪族基を表わす。

−船人面で表わされる二級アミンについて次の化合物を
例示することができる。

Ｈｇ 加　− ｏ　　ＣＨ。

本発明の感光性重合体を製造する際の好ましい溶媒（以
下反応溶媒と言うことがある。）として次のものを挙げ
ることができる。

Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−Ｎ−ジメチルアセト
アミド、Ｎ−Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスル
ホン、ヘキサメチルホスホルアミド、メチルホルムアミ
ド、Ｎ−アセチル−２−ピロリドン、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、エチレンクリコールモノエチル
エーテル、エチレングリコールモツプチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、シクロペンタノン、シクロ
ヘキサノン、クレゾール、γ−ブチロラクトン、Ｎ−Ｎ
−ジエチルアセトアミド、Ｎ−Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ−Ｎ−ジメチルメトキシアセトアミド、テトラヒ
ドロフラン、Ｎ−アセチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチ
ル−ε−カプロラクタム、テトラヒドロチオフェンジオ
キシド〔スルホラン（５ｕｌｐｈｏｌａｎｅ　）　）　
。

捷た、この反応は、上記した如き有機溶媒を混合して得
られる混合溶媒中でも行うことができる。さらに、上記
の如き好ましい有機溶媒を、他の非プロトン性（中性）
有機溶媒、例えば芳香族、脂環式もしくは脂肪族炭化水
素またはそれらの塩素化誘導体（例えば、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン類、シクロヘキサン、ペンタン、ヘキ
サン、石油エーテル、塩化メチレンなど）、またはジオ
キサンで希釈したものを用いることもできる。

上記した溶媒の存在下公知の方法により上記酸無水物及
びジアミンからポリ（アミド）アミド酸を合成すること
ができる。

この場合基板に対する接着性を向上することを目的にポ
リマー末端に下記式（■）で表わされるアミノシランを
導入することができる。

ＮＨ２−Ｒ’　−Ｓ　ｉ　Ｒ８８ｋ　Ｘｋ　　　・・・
（■）（ここにＲ７は−（ＣＨ２）ｓ−−＜ｃＨｔ＞８
−＠”、−ＣＣＨ２＞８−ｏ−＠またはにオであり、（
ただし、ここに８は１〜４の整数を表わす。）、Ｒ６は
独立に炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基または炭
素数７〜１２のアルキル置換フェニル基を表わし、Ｘは
独立に加水分解性のアルコキシ基、アセトキシ基または
ハロゲンを表わし、ｋは１≦に≦３の値をとる。）。

次に弐〇柑）で表わされるアミノシランとしては次の化
合物を挙げることができる。

アミノメチル−ジ−ｎ−プロポキシ−メチルシラン、（
β−アミノエチル）−ジ−ｎ−プロポキシ−メチルシラ
ン、（β−アミノエチル）−ジェトキシ−フェニルシラ
ン、（β−アミノｘａｆ−ｐ、　）　−）　リ−ｎ−フ
ェニルシラン、（β−アミノエチル）−ジメトキシ−メ
チルシラン、（γ−アミノプロピル）−ジ−ｎ−プロポ
キシ−メチルシラン、（γ−アミノプロピル）−ジ−ｎ
−ブトキシ−メチルシラン、（γ−アミノプロピル）−
トリメトキシシラン、（γ−アミノプロピル）−トリエ
トキシシラン、（γ−アミノプロピル）−ジ−ｎ−ペン
トキシ−フェニルシラン、（γ−アミノプロピル）−メ
トキシ−加　− −ｎ−グロボキシーメチルシラン、（δ−アミノブチル
）−ジメトキシ−メチルシラン、（３−アミノフェニル
）−ジ−ｎ−プロポキシ−メチルシラン、（４−アミノ
フェニル）　−）　ＩＪ　−ｎ−プロポキシシラン、（
β−（４−７ミノフエニル）−エチルツージェトキシ−
メチルシラン、〔β−（３−７ミノフエニル）−エチル
〕−シーｎ−７’ロボキシーフェニルシラン、（ｒ−（
４−アミノフェニル）−プロピル）−シーｎ−プロポキ
シ−メチルシラン、〔γ−（４−アミノフェノキシ）−
プロピルツージ−ｎ−プロポキシ−メチルシラン、（γ
−（３−アミノフェノキシ）−プロピルツージ−ｎ−ブ
トキシ−メチルシラン、（γ−アミノプロピル）−メチ
ル−ジメトキシシラン、（γ−アミノプロピル）−メチ
ル−ジェトキシシラン、（γ−アミノプロピル）−エチ
ル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、４−アミノフェニル−
トリメトキシシラン、３−アミノフェニルトリメトキシ
シラン、４−アミノフェニル−メチル−ジ−メトキシシ
ラン、３−アミノフェニル−ジ−メチル−メトキシシラ
ン、４−アミノフェニル−トリーエトキシシラン。

それ以外にもポリ（アミド）アミド酸の分子量會コント
ロールすることを目的に一官能性の酸無水物又はアミン
を添加して反応を行なうこともできる。その様な化合物
の例として以下の化合物を例示できる。

無水フタル酸、無水マレイン酸、アニリン、モノアリル
アミン等。

このようにして合成されたポリアト酸は前記Ｐｒｏｃｅ
ｅｄｉｎｇ　ｏｆ　５ｅｃｏｎｄ　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉ
ｏｎａｌ　Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅｏｎ　Ｐｏｌｙｉｍｉ
ｄｅｉに記載されている方法により例、ｔばＮ−Ｎ’−
ジシクロへキシルカルボジイミドあるいはトリフロロ無
水酢酸等の脱水剤により容易にポリイソイミドに変換さ
れる。この場合反応条件により一部イミド基が形成され
る場合もある。

脱水剤としてＮ　−Ｎ’−ジシクロへキシルカルボジイ
ミドを使用し、ポリアミド酸との反応例を上に示したが
、必ずしも全てのアミド酸をイソイミドに変換する必要
はない。しかしながらポリマー中に於けるイソイミドの
割合が減少すると、付加する感光性基の割合も減少する
ため感度が低下する。従って可能な限りイソイミドに変
換しておくのが好ましい。

次にこのポリ（アミ、ド）イソイミドに弐■で表わされ
る二級アミンを添加して反応溶媒の存在下に反応を行な
う。添加する二級アミンはイソイミドに対して当モル以
上でも又は以下でも一羽　− 良いが大体当モル近辺が好ましい。反応温度は０〜１０
０℃、好ましくは１０〜３０℃位である。反応時間は０
．２〜３０時間が好ましく、より好ましくは１〜１０時
間位である。

この様にして一般式（Ｉ）で表わされる本発明の感光性
１合体が得られる。この重合体の対数粘度数は０．１〜
５ｄｌ／ｇの範囲が成膜性の点から好ましい。ここで対
数粘度数とは次式で表わされるηｉｎｈである。

（ことでηはウベローデ粘度計を使用し、溶媒中テ温度
３０＋０．０１℃、濃度０．５９／ｄｌで測定した値で
あり、η０は同粘度計を使用し、同温度における同溶媒
の測定値であり、Ｃは濃度０．５９／ｄｉである。） 本発明の感光性重合体は溶液のまま保存することもでき
るが、この溶液を多量の非溶媒中に添加し、ポリマーを
析出させた後、ろ別乾燥して得られる粉末状あるいは塊
状の固体としても一讃　− 保存することができる。

本発明の感光性重合体組成物は前記（イ）、（ロ）、（
ハ）、に）及び溶媒より構成される。

（イ）に記載された感光性重合体は前記一般式（１）で
表わされる反復単位を含むが、必ずしもこの反復単位が
１００％である必要はない。しかし実用的にはこの反復
単位が全反復単位の３０モル％以上存在する方が好まし
い。一般式（１）で表わされる反復単位以外の反復単位
としてはｆＰＫ規定する必要線ないが、下記に示される
反復単位の１種又は数種から構成されるのが実際的であ
る。

感光性重合体組成物中の感光性重合体の濃度は２〜５０
重景％、好ましくは１０〜３０重量％が好ましい。

（ロ）に記載された光重合開始剤及び増感剤としては下
記の化合物を例示することができ、これらの一種又は数
種を混合して使用することができる。

ベンゾイン、ベンゾインエーテル、ベンゾフェノン、ｐ
−ｐ’−ジメチルベンゾフェノン、４・４′−ビス（ジ
エチルアミノベンゾフェノン）、ミヒラーズケトン、２
−ニトロフルオレン、５−ニトロアセナフテン、４−ニ
トロ−１−ナフチルアミン、アントロン、１・９−ベン
ズアントロン、ジペンザルアセトン、アントラキノン、
２−メチルアントラキノン、１−ニトロピレン、１・８
−ジニトロピレン、ピレン−ドローキノン、シアノアク
リジン、ベンゾキノン、１・２−ナフトキノン、１・４
−ナフトキノン、１・２−ベンズアントラキノン１゜ 光重合開始剤及び増感剤の添加量は感光性重合体の０〜
２０重量％、好ましくは０〜１０重量５である。

（ハ）に記載されたジアジド化合物としては下記の化合
物を例示することができ、これらの一種又は二種以上を
混合して使用することができる。

２・６−ジ（ｐ−アジドベンザル）−４−メチルシクロ
ヘキサノン、２・６−ジ（ｐ−アジドヘンザル）シクロ
ヘキサノン、４・４′−ジアジドカルコン、４・４′−
ジアジドベンザルアセトン、４・４′−ジアジドスチル
ベン、４・４′−ジアジドベンゾフェノン、４・４′−
ジアジドジフェニルメタン、４・４′−ジアジドジフェ
ニルアミン。

ジアジド化合物の添加量は感光性重合体に対して０〜５
０重葉％、好ましくは０〜２０重量％である。

に）に記載された炭素−炭素二重結合を有する化合物と
しては下記の化合物を例示することができ、これらの一
種又は数１１ヲ混合して使用することができる。

ブチルアクリラート、シクロヘキシルアクリシート、ジ
メチルアミノエチルメタクリラート、ベンジルアクリラ
ート、カルビトールアクリラ−）、２−エチルへキシル
アクリラート、２−エチルへキシルメタクリラート、ラ
ウリルメタクリラート、２−ヒドロキシエチルアクリラ
ート、２−ヒドロキシエチルメタクリラート、２−ヒド
ロキシプロピルアクリラート、２−ヒドロキシプロピル
メタクリラート、グリシジルメタクリラート、Ｎ−メチ
ロールアクリルアミド、Ｎ−ジアセトンアクリルアミド
、Ｎ　−Ｎ’−メチレンビスアクリルアミド、Ｎ−ビニ
ルピロリドン、エチレングリコールシアクリラード、ジ
エチレングリコールジアクリラート、トリエチレングリ
コールジアクリラート、ブチレングリコールシアクリラ
ード、ブチレングリコールジメタクリラード、ネオペン
チルグリコールシアクリラード、ネオペンチルグリコー
ルジメタクリ−あ　− ラード、１・４−ブタンジオールシアクリラード、１・
６−ヘキサンシオールジアクリラート、１・６−ヘキサ
ンシオールジメタクリラート、ペンタエリスリトールジ
アクリラート、ペンタエリスリトールトリアクリラート
、トリメチロールプロパントリアクリラート、トリメチ
ロールプロパントリメタアクリラート。

炭素−炭素二重結合を有する化合物の添加量は感光性重
合体に対して０〜１０重量％、好ましくは０〜５重量％
である。

その他に架橋助剤として感光性重合体に対して１０ｇ量
％以下のペンタエリスリトールテトラ（３−メルカプト
プロピオネート）又はペンタエリスリトールテトラ（メ
ルカプトアセテート等の公知の多価チオール類、染料、
顔料等の副素材を添加することもできる。

（イ）、（ロ）、（ハ）及びに）に記載される化合物を
前記反応溶媒に上述した混合比で溶解させるととＫより
本発明の感光性重合体組成物が得られる。

次に本発明の重合体組成物を用いたパターン化されたポ
リ（アミド）イミド膜の形成法について説明する。本発
明の重合体組成物はスピンコード、浸漬又は噴霧印刷等
の公知の方法によりシリコンウェハー、金属板、プラス
チック板、あるいはガオス板等の基板上に塗布すること
が可能である。塗膜は電気炉あるいはホットプレート等
の加熱手段音用い３０〜１５０°Ｃの温度で数分〜数十
分プリベークを行なうことにより塗膜中の大部分の溶媒
の除去を行なう。この塗膜にネガマスクを置き、化学線
を照射する。化学線としてはＸ線、電子線、紫外線、遠
紫外線あるいは可視光線などが例として挙げられるが、
紫外線又は遠紫外線が特に好適である。ついで未露光部
を現像液で溶解除去するととＫよりレリーフ・パターン
をうる。現像液は反応溶媒中より選択することができる
がこれと本発明の感光性重合体の非溶媒であるメタノー
ル、エタノールあるいはプロパツール等の低級アルコー
ルとの混合液を使用することもできる。所望により上記
非溶媒中でリンスし、さらに所望により１５０°Ｃ以下
の温度で乾燥を行ないレリーフ・パターンの安定化を行
なうことができる。またプリベーク後のいずれかの時点
で基板からフィルムをはがし、単独のフィルムとして使
用することもできる。現像によ多形成されたレリーフ・
パターンのポリマーは前駆体の形であるため、これを上
記加熱手段により２００〜５００℃、好ましくは３００
〜４００℃の温度で数十分〜数時間加熱するととにより
パターン化されたポリ（アミド）イミド膜が形成される
。この場合の化学反応は下記に示す通りである。感光成
分は熱分解により揮散してポリ（アミド）イミドが形成
される。

↓ この様にして本発明の感光性重合体からノ（ターン化さ
れた耐熱性のポリ（アミド）イミド膜を得ることができ
る。

本発明の感光性重合体は電子材料用途、特に半導体のパ
ッシベーション膜、プリント回路等に適用可能である。

（実施例〕 以下に実施例によって本発明を更に具体的に説明するが
、本発明はこれらの実施例によってなんら限定されるも
のではない。

最初に各実施例において使用するポリ（アミド）イソイ
ミドの製造例を参考例として述べる。

参考例１ かくはん装置、滴下ロート、温度計、コンデンサーおよ
び窒素置換装置を付した１１の７ラ−稔　− スコを恒温槽中に固定した。このフラスコに脱水精製し
た５００ｆのＮ−メチル−２−ピロリドン（以下ＮＭＰ
と略記する。）６０．３９Ｆ（０，３０２モル）の４・
４′−ジアミノジ７工二ルエーテル（以下ＤＤＥと略記
する。）及び１４６ｆ（０，０４３１モル）のモノアリ
ルアミンを投入し、かくはんを続は溶解させた。この溶
液に１０４．１３Ｆ（０，３２３モル）の３・３′・４
・４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物（以
下ＢＴＤＡと略記する。）を添加し２０〜３０℃で１０
時間反応を行ない、末端にモノアリルアミンが付加した
ポリアミド酸を得た。この溶液に１３８．２７Ｆ（０，
６４６モル）のＮ　−Ｎ’−ジシクロへキシルカルボジ
イミド（以下ＤＣＣと略記する。）を添加し、この温度
でさらに１０時間反応を行なったところＮ・Ｎ′−ジシ
クロへキシルウレアの白色沈殿が析出した。この白色沈
殿をろ別し、ろ液を多量のアセトン中に滴下したところ
、ポリイソイミドが析出した。これをろ別し、５０℃で
一昼夜減圧乾燥することによりポリイソイミドを単離し
た。

参考例２ 参考例１と同様の装置及び方法で５００ｆのＮ　−Ｎ’
−ジメチルアセトアミド中に６４．８９Ｆ（０，１５０
モル）のビス（４−（４−アミノフェノキシ）フェニル
）スルホンを溶解させ、これに５８．７１１０．１６７
モル）のＢＴＤＡを添加して１５〜２０℃で８時間反応
を打力った後、６．４０ｆ（０，０３００モル）の４−
アミノフェニルトリメトキシシランを添加し、さらに３
時間反応を行なうことにより、末端にシランが付加した
ポリアミド酸を得た。この溶液に７０ｇ（０，３３９モ
ル）のＤＣＣを添加し、３０〜４０℃の温度で１０時間
反応を行なったところ、Ｎ−Ｎ’−ジシクロへキシルウ
レアの白色沈殿が析出した。この白色沈殿をろ別した後
、ろ液を参考例１と同様の処理を行なうことによυポリ
イソイミドを単離した。

参考例３ 参考例１と同様の装置及び方法で５００ｇのＮＭＰ中に
８８．８２Ｆ（０，３８８モル）の４・４′−ジアミノ
ジフェニルサルファイド金溶解させ、これに６７．６１
　ｆ　（０，３１０モル）のピロメリット醗二無水物を
添加して、１５〜２０℃で５時間反応を行なった後、１
５．２０ｆ（０，１５５モル）の無水マレイン酸を添加
して、さらに５時間反応を行なうことにより、末端に無
水マレイン酸が付加したポリアミド酸を得た。

この溶液に１２８．７８ｆ／（０，６００モル）のＤＣ
Ｃを添加し、２０〜３０℃の温度で１０時間反応を行な
ったととる、Ｎ　−Ｎ’−ジシクロへキシルウレアの白
色沈殿が析出した。この白色沈殿をろ別した後、ろ液を
参考例１と同様の処理を行なうことにより、ポリアミド
酸の一部をイソイミドに変換したポリイソイミドを単離
した。

参考例４ 参考例１と同様の装置及び方法で５０ｏｆのＮＭＰ中に
６８．７９Ｆ（０，３１９モル）のＤＤＥを溶解させ、
これに６１．２１　ｆ　（０，３１９−柘　− モル）のトリメリット酸無水物を添加し、２０〜３０℃
で５時間反応を行ない両者の付加反応物を得た。これに
１３１．６２Ｆ（０，６３８モル）のＤＣＣ′ｔ−添加
し、さらに２０時間反応を行なうことにより、アミド酸
のイソイミドへの変換と末端アミン基とカルボキシル基
の縮合全同時に行なうことによりポリアミドイソイミド
を含む溶液を得喪。この溶液から、析出しているＮ・Ｎ
′−ジシクロへキシルウレアをろ別した後、ろ液を参考
例１と同様の処理全行なうことによりポリアミドイソイ
ミドを単離した。

参考例５ 参考例１と同様の装置及び方法で５０ｏｆのＮＭＰ中に
３８．３８ｙ（０，０８１３モル）の２・２−ビス（４
−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン及び３
９．２３ＦＩ（０，０８１３モル）の２・２−ビス（４
−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕へキサフロロプ
ロパンヲ溶解させ、これに５２．４０ｆ（０，１６３モ
ル）のＢＴＤＡを添加し１０〜１５°Ｃで１０時間反応
−荀　− を行なうことによりポリアミド酸を得た。この溶液に６
７．２５Ｆ（０，３２６モル）のＤＣＣを添加し、この
温度で１５時間反応を行なったところ、Ｎ　−Ｎ’−ジ
シクロへキシルウレアの白色沈殿が析出した５、この白
色沈殿をろ別した後、ろ液を参考例１と同様の処理を行
なうことにより、ポリイソイミドを単離した。

参考例６ 参考例１と同様の装置及び方法で５００ｆのＮＭＰ中に
５８．６４Ｆ（０，１８４モル）の１・３−ビス（４−
アミノフェノキシ）ベンゼン及び２．４０ｆ（０，００
９６６モル）の１・３−ビス（３−アミノプロピル）テ
トラメチルジシロキサンを溶解させ、これに６９．１５
１　（０，１９８モル）のジフェニルスルホン−３・３
′・４・４′−テトラカルボン酸二無水物を添加し、２
０〜３０″Ｃで１０時間反応を行なうことによりポリア
ミド酸を得た。この溶液に７９．６３Ｆ（０，３８６モ
ル）のＤＣＣを添加し、この温度で２０時間反応を行な
ったところ、Ｎ−Ｎ’−ジシクロヘキシルウレアの白色
沈殿が析出した。

この白色沈殿をろ別した後、ろ液を参考例１と同様の処
理を行なうことにより、ポリイソイミドを単離した。

実施例１ かくはん装置、滴下ロート、温度計、コンデンサーおよ
び窒素置換装置を付した２　００　ｍｌのフラスコを恒
温槽中に固定した。このフラスコに脱水精製した５０ｆ
のＮＭＰ、５０ｆのγ−ブチロラクトン及び２０ｆの参
考例１で合成したポリイソイミドを投入し、かくはんを
続は溶解させた。この溶液に８．１８Ｆ（０，０８４２
モル）のジアリルアミンを添加し４０〜５０℃で５時間
反応を行なった。反応液を多量のアセトン中に滴下した
ところ、本発明の感光性重合体が析出した。これをろ別
し、５０℃で一星夜減圧乾燥することにより単離した。

得られた本発明の重合体のＮＭＰ中での対数粘度数は１
．２１ｄｉ／ｇｌであった。この重合体の赤外線吸収ス
ペクトルを第１図に示す。

実施例２ 実施例１と同様の装置及び方法で１０ｏｆのＮＭＰ中に
２０ｆ／の参考例２で合成し九ポリイソイミドを投入し
、かくはんを続は溶解させた。

この溶液に５．６６Ｆ（０，０５８３モル）のジアリル
アミンを添加し、２０〜３０℃で１２時間反応を行なっ
た。反応液を実施例１の場合と同様に処理したところ本
発明の感光性重合体が単離された。この重合体のＮＭＰ
中での対数粘度数は０．５５４ｔ／Ｉであった。

実施例３ 実施例１と同様の装置及び方法で１００ｇのＮＭＰ中に
２Ｏｆの参考例３で合成したポリイソイミドを投入し、
かくはんを続は溶解させた。

この溶液に６．９１Ｆ（０，０７１２モル）のジアリル
アミンを添加し、１５〜２０°Ｃで２０時間反応を行な
った。反応液を実施例１の場合と同様に処理したところ
本発明の感光性重合体が単離された。この１合体のＮＭ
Ｐ中での対数粘度数は０．４２ｄｌ／９であった。

４９一 実施例４ 実施例１と同様の装置及び方法で１００ｆのＮ　Ｍ　Ｐ
中に２０９の参考例４で合成したポリイソイミドを投入
し、かくはん金続は溶解させた。

この溶液に５．４５Ｆ（０，０５６１モル）のジアリル
アミンを添加し、１０〜１５°Ｃで５時間さらに６０℃
に昇温しで２時間反応を行なった。

反応液を実施例１の場合と同様に処理したところ、本発
明の感光性重合体が単離された。この重合体のＮＭＰ中
の対数粘度数は０．３８ｄｌｌｆであった。

実施例５ 実施例１と同様の装置及び方法で１００ｆのＮＭＰ中に
２Ｏｆの参考例５で合成したポリイソイミドを投入し、
かくはんを続は溶解させ念。

この溶液に５．５６ｆ（０，０５７２モル）のジアリル
アミンを添加し、３０〜４０°Ｃで８時間反応を行なっ
た。反応液を実施例１の場合と同様に処理したところ、
本発明の感光性重合体が単離された。この重合体のＮＭ
Ｐ中の対数粘度数−美　− は１．８０ｄｌ／ｇであった。

実施例６ 実施例１と同様の装置及び方法で１０ｏｆのＮＭＰ中に
２０ｆの参考例６で合成したポリイソイミド舎投入し、
かくはんを続は溶解させた。

この溶液に６゜６０ｇ（０，０６７９モル）のジアリル
アミンを添加し、３０〜４０°Ｃで１０時間反応を行な
った。反応液を実施例１の場合と同様に処理したところ
、本発明の感光性重合体が単離された１、この重合体の
ＮＭＰ中の対数粘度数は０．９４ｄｌ／ｇであった。

実施例７ 実施例１〜６で合成した本発明の感光性重合体４．５ｇ
を２５．５ｇのＮＭＰに溶解させ、この溶液に第１表に
示す光重合開始剤、増感剤、ジアジド化合物及び／又は
炭素−炭素二重結合を有する化合物等を添加し本発明の
感光性重合体組成物を調製した。この組成物をシリコン
ウェハー上にスピンコードし、８０℃、１時間プリベー
クを行なうことによシ均一な膜を形成せしめた。次にマ
スクを通して超高圧水銀灯（２０ｍＷ／ｄ）で種々の照
射時間で露光し穴。これｔＮＭＰ４容、エチルアルコー
ル１容の混合液に浸漬することにより現像を行ない、エ
チルアルコール中でリンスし、乾燥した。このようにし
て鮮明なレリーフパターンを得た。塗布膜厚を残存膜厚
で規格した値で０．５ヲ与える霧光量を感度とし第１表
に示した。これを２００°Ｃで３０分間、さらに４００
°Ｃで１時間電気炉中で焼成を行なった結果、パターン
はくずれることはなかった。ポリマーの赤外線吸収スペ
クトルによるといづれの感光性重合体も焼成後はポリ（
アミド）イミドに変換されていた。実施例７−１のポリ
マー（焼成後）の赤外線吸収スペクトルを第２図に示す
。さらに本発明の感光性重合体の経時安定性を調べるた
めに、前記感光性重合体組成物について、調製直後及び
室温に１か月装置したときの各々の回転粘ｆ　）を測定
し、その経時変化を調べた。なお、本実施例の感光性組
成り及び測定結果の詳細全第１表に示す。

※）回転粘度とはＥ型粘度計（株式会社東京計器製ＶＩ
ＳＣＯＮＩＣＥＭＤ　（商標））ヲ使用して、温度２５
°Ｃで測定した粘度である。

比較例１ 実施例１と同様の装置及び方法で、１ｏｏｙのＮＭＰ、
ｔ２．３４ｆ（０，０３８３モル）のＢＴＤＡ及び７．
６６ｙ（０，０３８３モル）のＤＤＥより対数粘度数Ｉ
Ａｄｌ／ｇのポリアミド酸溶液を合成した。この溶液に
１４．１９Ｎ（０，０７６６モル）のジメチルアミノエ
チルメタクリレ−トラ混合し感光性重合体溶液とした。

この溶液ｓｏｙ’ｅとり第１表に示す添加剤を加えて感
光性重合体組成物とし、実施例７と同様にして感光性試
験及び感光性重合体の経時安定性の測定を行なった。そ
の結果を第１表に示す。

−団　− 【発明の効果〕 本発明の新規な感光性重合体は本発明の製造法により容
易に製造するととができ、また適切な添加剤を適量加え
溶剤にとかした溶液である本発明の感光性１合体組成物
は実用上十分な感度を有し、良好なパターンを形成する
ことができる。また本発明の感光性重合体組成物は保存
安定性にすぐれるため膜厚の経時的な変動が少ない。

【図面の簡単な説明】

第１図は実施例１で得られた本発明の感光性１合体の赤
外線吸収スペクトル、第２図は実施例７−１のポリマー
（焼成後）の赤外線吸収スペクトルである。 以上

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）下記一般式（ I ）で表わされる反復単位を含み
   、溶媒中、温度３０±０．０１℃、濃度０．５９／ｄｌ
   で測定された対数粘度数が０．１〜５ｄｌ／ｇである感
   光性重合体。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（ I ） （式（ I ）に於いてＲ＾１はそれぞれが独立に、３価
   又は４価の炭素環式芳香族基または複素環式基、Ｒ＾２
   はそれぞれが独立に、少なくとも２個の炭素原子を有す
   る脂肪族基、脂環式基、芳香脂肪族基、炭素環式芳香族
   基もしくは複素環式基またはポリシロキサン基、Ｒ＾３
   は感光性の不飽和基を有する一価の有機基であり、Ｒ＾
   ４は一価の有機基であり、ｍは１又は２、ｎは０又は１
   であり、１≦ｍ＋ｎ≦２の値をとる。）
2. （２）下記一般式（II）で表わされる反復単位、一般式
   （III）で表わされる反復単位又はこの両者を含むポリ
   （アミド）イソイミドと一般式（IV）で表わされる感光
   性不飽和基含有二級アミンを温度０〜１００℃で反応を
   行なうことを特徴とする一般式（ I ）で表わされる反
   復単位を含む感光性重合体の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（II） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（III） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（ I ） （ただしここにＲ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、ｍ及
   びｎは前述の意味を表わす。）
3. （３）下記（イ）、（ロ）、（ハ）、（ニ）及び溶媒か
   らなる感光性重合体組成物。 （イ）下記一般式（ I ）で表わされる反復単位を含む
   感光性重合体 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（ I ） （ただしここにＲ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、ｍ及
   びｎは前述の意味を表わす。） （ロ）前記感光性重合体に対して０〜２０重量％の光重
   合開始剤及び増感剤 （ハ）前記感光性重合体に対して０〜５０重量％のジア
   ジド化合物 （ニ）前記感光性重合体に対して０〜１０重量％の炭素
   −炭素二重結合を有する化合物
4. （４）下記（イ）、（ロ）、（ハ）、（ニ）及び溶媒か
   らなる感光性重合体組成物を基板上に塗布し、３０〜１
   ５０℃の温度でプリベークを行なった後、マスクを介し
   て化学線を照射し、現像し、所望により更にリンス又は
   乾燥の順に処理した後、２００〜５００℃の温度でポス
   トベークを行うことを特徴とするパターン化させたポリ
   （アミド）イミド膜の形成法。 （イ）下記一般式（ I ）で表わされる反復単位を含む
   感光性重合体 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（ I ） （ただしここにＲ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、ｍ及
   びｎは前述の意味を表わす。） （ロ）前記感光性重合体に対して０〜２０重量％の光重
   合開始剤及び増感剤 （ハ）前記感光性重合体に対して０〜５０重量％のジア
   ジド化合物 （ニ）前記感光性重合体に対して０〜１０重量％の炭素
   −炭素二重結合を有する化合物