JPH0294653A - 樹脂封止型半導体装置 - Google Patents
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、表面実装型半導体装置に係わり、特にリード
フレームにマウントした半導体素子などを樹脂封止する
型に好適する。
フレームにマウントした半導体素子などを樹脂封止する
型に好適する。
(従来の技術)
個別半導体素子あるいは集積回路素子の中、いわゆる表
面実装型半導体装置は、一般に実用化されて市販されて
おり、その構造は、いわゆるリードフレームを利用した
樹脂封止型が一般的である。
面実装型半導体装置は、一般に実用化されて市販されて
おり、その構造は、いわゆるリードフレームを利用した
樹脂封止型が一般的である。
このような樹脂封止型半導体装置は、公知のトランスフ
ァーモールド法により樹脂封止工程が行われる。
ァーモールド法により樹脂封止工程が行われる。
樹脂封止型半導体装置に利用されるリードフレームには
、STP用、 DIP用もしくは両者の混合型用が知ら
れており、夫々の用途に応じて取捨選択され、集積度の
大きい多ピン素子には、通常DIP用または混合型用の
リードフレームが利用されている。
、STP用、 DIP用もしくは両者の混合型用が知ら
れており、夫々の用途に応じて取捨選択され、集積度の
大きい多ピン素子には、通常DIP用または混合型用の
リードフレームが利用されている。
この両方の型では、周りを構成する金属製枠体を多数個
連続して形成し、その個数により長尺リードフレームが
短尺リードフレームに区別している。しかも、この枠体
からは、先端を遊端とし。
連続して形成し、その個数により長尺リードフレームが
短尺リードフレームに区別している。しかも、この枠体
からは、先端を遊端とし。
中心に向かって延長したリボン状のリードを設置する。
更に、この枠体の中心には、半導体素子をマウントする
金属製ベッド部を配置し、その両端をリボン状リードの
一部により枠体と接続固定する。
金属製ベッド部を配置し、その両端をリボン状リードの
一部により枠体と接続固定する。
リボン状のリード面は、一定として、後述する熱圧着法
または、超音波熱圧着法で固着する金属線線長のバラツ
キを押えて歩留りを上げているが。
または、超音波熱圧着法で固着する金属線線長のバラツ
キを押えて歩留りを上げているが。
リードフレームの中には、ベッド部を各リード面よりず
らしたいわゆるデプレッション(Depresion)
型構造も利用されている。
らしたいわゆるデプレッション(Depresion)
型構造も利用されている。
このリードフレームを第4図a、bを利用して説明する
と、リードフレームに形成するリードの一部分は、封止
樹脂から露出した形状となりいわゆる外部リードとして
機能する。
と、リードフレームに形成するリードの一部分は、封止
樹脂から露出した形状となりいわゆる外部リードとして
機能する。
ところで、第4図すに示すように、このリードフレーム
50のヘッド部51にマウントされる半導体素子52で
は、パッド(Pad) 53と外部リード54間を熱圧
着法または、超音波熱圧着法により固着する金属細線5
5により電気的に接続後、エージング工程を含む樹脂封
止工程により一体として、外部雰囲気などにより半導体
素子が汚染されるのを防御している。
50のヘッド部51にマウントされる半導体素子52で
は、パッド(Pad) 53と外部リード54間を熱圧
着法または、超音波熱圧着法により固着する金属細線5
5により電気的に接続後、エージング工程を含む樹脂封
止工程により一体として、外部雰囲気などにより半導体
素子が汚染されるのを防御している。
樹脂封止工程は、専用装置により施され、マルチポット
(Multi r’ot)方式及びタブレフ (Tab
let)状樹脂が利用されている。各ポットで溶融され
た樹脂層は、カルを経て被処理半導体素子を配置した金
型に運び、ここに形成したキャビティのゲートを通って
所定の樹脂封止が行われた後、エージング工程を経て完
全に固定する。
(Multi r’ot)方式及びタブレフ (Tab
let)状樹脂が利用されている。各ポットで溶融され
た樹脂層は、カルを経て被処理半導体素子を配置した金
型に運び、ここに形成したキャビティのゲートを通って
所定の樹脂封止が行われた後、エージング工程を経て完
全に固定する。
この一連の工程を終えた被処理半導体素子52・・・は
、金型の下型に設置したエジェクタピンの突上げにより
金型から遊離状態となる。従って、封止樹脂層56の一
定の位置即ちほぼ中心には、第4図aの樹脂封止型半導
体装置の斜視図に示されるような四部57が形成される
。
、金型の下型に設置したエジェクタピンの突上げにより
金型から遊離状態となる。従って、封止樹脂層56の一
定の位置即ちほぼ中心には、第4図aの樹脂封止型半導
体装置の斜視図に示されるような四部57が形成される
。
このように5封止樹脂層56には、ベッド部51にマウ
ントされた半導体素子52と、この半導体素子に形成し
たパッド53と外部リード54間を電気的に接続する金
属細線55などを埋込んでおり、上記のようにエジェク
タピンにより形成する凹部57は、半導体素子52と向
合った形状となり、半導体素子52の寸法が凹部57よ
り大きいことが多い。
ントされた半導体素子52と、この半導体素子に形成し
たパッド53と外部リード54間を電気的に接続する金
属細線55などを埋込んでおり、上記のようにエジェク
タピンにより形成する凹部57は、半導体素子52と向
合った形状となり、半導体素子52の寸法が凹部57よ
り大きいことが多い。
このような構造を持つ樹脂封止型半導体装置を表面実装
するには、図示していないが、@4脂封止型半導体装置
の四部57に設置した接着剤層によりプリント基板など
の実装基板に仮固定してから、外部リードを実装基板に
ハンダ付けする方式が採られている。
するには、図示していないが、@4脂封止型半導体装置
の四部57に設置した接着剤層によりプリント基板など
の実装基板に仮固定してから、外部リードを実装基板に
ハンダ付けする方式が採られている。
(発明が解決しようとする課題)
表面実装型半導体装置では、樹脂封止後の樹脂層の厚さ
を最低1.On*a程度に維持するのが一般的である。
を最低1.On*a程度に維持するのが一般的である。
一方、半導体素子を適用する機器では、よりコンバク1
〜(Compact)な高密度実装が進められており、
これに伴って封止樹脂層により形成された半導体素子パ
ッケージ(Package)でも外部リードピッチの精
度向上、上記薄型指向に更に拍車が掛かりベアーチップ
(Bare Chip)に限りなく近いものが要求され
ている。
〜(Compact)な高密度実装が進められており、
これに伴って封止樹脂層により形成された半導体素子パ
ッケージ(Package)でも外部リードピッチの精
度向上、上記薄型指向に更に拍車が掛かりベアーチップ
(Bare Chip)に限りなく近いものが要求され
ている。
このような背景にあって、樹脂封止型半導体装置の封止
樹脂層に形成される凹部の深さについては、信頼性を含
めて確固たる規定がない。その上、超薄型半導体素子パ
ッケージの封止樹脂層では。
樹脂層に形成される凹部の深さについては、信頼性を含
めて確固たる規定がない。その上、超薄型半導体素子パ
ッケージの封止樹脂層では。
半田などによるアセンブリ(Assaa+bly)時に
発生する熱ストレスによりクラックが誘発され、致命的
な不良が起こる。この内容は、(1)実装後、使用する
悪環境からクラックを介して封止樹脂層が吸湿し、この
水分により半導体基板もしくは形成した部品が腐蝕され
る現象 (2)実装時に半田付工程の熱負荷により、凹部付近に
クラック部が膨潤し、時には、仮固定の状態を阻害し、
極端な場合にはベッド部から外れる状態となる。
発生する熱ストレスによりクラックが誘発され、致命的
な不良が起こる。この内容は、(1)実装後、使用する
悪環境からクラックを介して封止樹脂層が吸湿し、この
水分により半導体基板もしくは形成した部品が腐蝕され
る現象 (2)実装時に半田付工程の熱負荷により、凹部付近に
クラック部が膨潤し、時には、仮固定の状態を阻害し、
極端な場合にはベッド部から外れる状態となる。
この発明は、このような事情から成されたもので、特に
熱負荷による封止樹脂層のクラシックの発生を防止する
ことを目的とするものである。
熱負荷による封止樹脂層のクラシックの発生を防止する
ことを目的とするものである。
(課題を解決するための手段)
本発明は、金属製リードフレームに形成するベッドにマ
ウントする半導体素子と、この素子に形成する電極と前
記金属製リードフレームに形成するリード間を電気的に
結ぶ金属細線と、この半導体素子と金属細線を封止する
樹脂層と、前記封止樹脂層の中心部表面から内部に形成
する凹部と、この四部底部と前記封止樹脂層表面までの
距離を制御することに特徴がある。
ウントする半導体素子と、この素子に形成する電極と前
記金属製リードフレームに形成するリード間を電気的に
結ぶ金属細線と、この半導体素子と金属細線を封止する
樹脂層と、前記封止樹脂層の中心部表面から内部に形成
する凹部と、この四部底部と前記封止樹脂層表面までの
距離を制御することに特徴がある。
(作 用)
半導体素子の樹脂封止工程では、上記のように被処理半
導体装置夫々を突上げて凹部を形成するエジェクタピン
は、金型の下型底部より多少突出して設置されており、
その寸法は、装置メーカの設計によっているのが実状で
ある。
導体装置夫々を突上げて凹部を形成するエジェクタピン
は、金型の下型底部より多少突出して設置されており、
その寸法は、装置メーカの設計によっているのが実状で
ある。
と言うのは、このエジェクタビン頂部に刻印したエジェ
クタピン丸などの製造上の記号は、突上げ時に被処理半
導体素子に転写する役割も果たしているが、装置メーカ
の設計により突出寸法が決められているので、被処理半
導体素子に形成される四部の寸法も決まっていた。しか
し、表面実装型半導体素子としては、コンパクトな薄型
形状が要求されており、これに伴って、集積度が増大し
た半導体素子用外囲器でも、リードピッチの精度向上や
ベアーチップに限り無く近づけることが要求されている
のは、上記の通りである。
クタピン丸などの製造上の記号は、突上げ時に被処理半
導体素子に転写する役割も果たしているが、装置メーカ
の設計により突出寸法が決められているので、被処理半
導体素子に形成される四部の寸法も決まっていた。しか
し、表面実装型半導体素子としては、コンパクトな薄型
形状が要求されており、これに伴って、集積度が増大し
た半導体素子用外囲器でも、リードピッチの精度向上や
ベアーチップに限り無く近づけることが要求されている
のは、上記の通りである。
ところで、半導体素子をマウントしたベッド部表面と反
対側に付着した水滴は、表面実装工程における熱負荷に
より気化すると同時に、封止樹脂M3にクラックを誘発
し、更に、その蒸気圧により、接着剤6が膨潤するため
に盛上がって(第1図参照)接着効果が薄れる事実が確
認された。
対側に付着した水滴は、表面実装工程における熱負荷に
より気化すると同時に、封止樹脂M3にクラックを誘発
し、更に、その蒸気圧により、接着剤6が膨潤するため
に盛上がって(第1図参照)接着効果が薄れる事実が確
認された。
更に、第1図に示すように、リードフレーム1のベッド
部2に固着しかつ、封止樹脂層3を被覆した半導体素子
4を表面実装するには、凹部5の付近に塗布した接着剤
6によりプリント基板7に仮止めし、更に半田付けによ
り固着する。しかし。
部2に固着しかつ、封止樹脂層3を被覆した半導体素子
4を表面実装するには、凹部5の付近に塗布した接着剤
6によりプリント基板7に仮止めし、更に半田付けによ
り固着する。しかし。
上記距離を60μm以下に制御すると接着剤層6の盛上
がりが抑制され、封止樹脂層3にクラックが発生しない
現象が確認された。
がりが抑制され、封止樹脂層3にクラックが発生しない
現象が確認された。
従って、本願では、上記距離を制御する方式を採用して
、薄型表面実装の要求に応えた樹脂封止型半導体素子を
提供するものである。なお、この素子のほぼ中心に凹部
5が配置されるのは、従来技術と同様である。
、薄型表面実装の要求に応えた樹脂封止型半導体素子を
提供するものである。なお、この素子のほぼ中心に凹部
5が配置されるのは、従来技術と同様である。
距離としては、上記のように60μm以下が適当である
が、ここで第3図を提出する。この表は、横軸に樹脂封
止型半導体素子の動作に伴う封止樹脂層3の表面温度を
、縦軸に、樹脂のせん断強度(kg / aJ封止樹脂
層の厚さで決まる値)と封止樹脂の飽和蒸気圧(kg/
cd)を採って、封止樹脂層3からなる外囲器の強度を
示している。
が、ここで第3図を提出する。この表は、横軸に樹脂封
止型半導体素子の動作に伴う封止樹脂層3の表面温度を
、縦軸に、樹脂のせん断強度(kg / aJ封止樹脂
層の厚さで決まる値)と封止樹脂の飽和蒸気圧(kg/
cd)を採って、封止樹脂層3からなる外囲器の強度を
示している。
この曲線から明らかなように、封止樹脂の飽和蒸気圧が
ぜん断強度より大きくなるとクラックが発生量るので1
両曲線の交点である封止樹脂の動作温度が268℃程度
より低温度ならば封止樹脂層3が外囲器として稼働する
ことが明らかである。
ぜん断強度より大きくなるとクラックが発生量るので1
両曲線の交点である封止樹脂の動作温度が268℃程度
より低温度ならば封止樹脂層3が外囲器として稼働する
ことが明らかである。
一方、外囲器である封止樹脂層3は、1.0μI11程
度が必要であり、厚さを増すと、当然四部5の深さも変
わるが、最大60μmは保持して、外囲器としての機能
を最大限に発揮させる。また、上記した封止樹脂層3の
表面温度は、このような条件下で生ずる値であることを
付記する。
度が必要であり、厚さを増すと、当然四部5の深さも変
わるが、最大60μmは保持して、外囲器としての機能
を最大限に発揮させる。また、上記した封止樹脂層3の
表面温度は、このような条件下で生ずる値であることを
付記する。
(実施例)
図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
即ち、第2図に示すように、DIP用もしくはSIP用
との混合型用のリードフレーム1を準備し、その各ベッ
ド部2には、集積度の大きい例えばBi−C/MO5ま
たはD−RAM等の被処理半導体素子4を導電性接着剤
や金シリコン共晶などを利用する常法によりマウントす
る。
との混合型用のリードフレーム1を準備し、その各ベッ
ド部2には、集積度の大きい例えばBi−C/MO5ま
たはD−RAM等の被処理半導体素子4を導電性接着剤
や金シリコン共晶などを利用する常法によりマウントす
る。
次に、被処理半導体素子4に形成するパッド部(図示せ
ず)とリードフレーム1の各リード間に金属細線8を熱
圧着法により固着後、各リードフレームト・・などは、
樹脂封止工程に移行する。
ず)とリードフレーム1の各リード間に金属細線8を熱
圧着法により固着後、各リードフレームト・・などは、
樹脂封止工程に移行する。
この樹脂封止工程は、例えばマルチポット方式とタブレ
ット状の樹脂を利用したエージング工程を含む公知のト
ランスファーモールド法により、機種にもよるが厚さが
約1.0μm以上の封止樹脂層3を形成する。
ット状の樹脂を利用したエージング工程を含む公知のト
ランスファーモールド法により、機種にもよるが厚さが
約1.0μm以上の封止樹脂層3を形成する。
上記のように、この樹脂封止工程を行う装置に装着され
る金型の下型のキャビティには、従来例と同様に収容す
る各被処理半導体素子4を突上げるエジェクタピンを設
置する。
る金型の下型のキャビティには、従来例と同様に収容す
る各被処理半導体素子4を突上げるエジェクタピンを設
置する。
ところで、ポット−カル−ゲート−キャビティを経て致
達した溶融樹脂により封止された各被処理半導体装置4
は、エジェクタピンの突上げにより金型から遊離するが
、完全に固化していない封止樹脂M3には、凹部5が形
成される。
達した溶融樹脂により封止された各被処理半導体装置4
は、エジェクタピンの突上げにより金型から遊離するが
、完全に固化していない封止樹脂M3には、凹部5が形
成される。
この凹部5の底部と封止樹脂H!3表面までの距離を6
0μm以内に制御するためには、金型の下型に形成する
キャビティ内に突出して形成するエジェクタピンの寸法
を被処理半導体装置の機種即ち封止樹脂層3の厚さに応
じて調整する。凹部5を形成した封止樹脂層3を備えた
樹脂封止型半導体装置の概観斜視図は、従来例に示した
第3図すと同様である。
0μm以内に制御するためには、金型の下型に形成する
キャビティ内に突出して形成するエジェクタピンの寸法
を被処理半導体装置の機種即ち封止樹脂層3の厚さに応
じて調整する。凹部5を形成した封止樹脂層3を備えた
樹脂封止型半導体装置の概観斜視図は、従来例に示した
第3図すと同様である。
封止樹脂層3内に埋設する被処理半導体素子4は、D−
RAMやDi−C/MO3などの多ピン品種であるが。
RAMやDi−C/MO3などの多ピン品種であるが。
凹部5より大きい表面部を備えており、この素子とリー
ドフレームの外部リード端部間には、僅かな距離を保っ
ている。
ドフレームの外部リード端部間には、僅かな距離を保っ
ている。
このような樹脂封止工程を終えた樹脂封止型半導体素子
4は、第1図に示すように、表面実装が必要な機器に取
付けられる。このように、外部リード9の成形などを経
てから、樹脂封止型半導体素子4は、上記のように凹部
5付近に塗布した接着剤層6により実装基板7に仮固定
してから、外部リード9の折曲端部10を実装基体7に
半田付けにより固着する。この半田付は工程は、プリン
ト基板などからなる実装基板7に、封止樹脂層3から導
出する外部リード9の一部を折曲げて形成した端部10
を半田と共に接触させて、半田槽やりフロー炉などの熱
源中を通過させて、実装基板7に固着する。
4は、第1図に示すように、表面実装が必要な機器に取
付けられる。このように、外部リード9の成形などを経
てから、樹脂封止型半導体素子4は、上記のように凹部
5付近に塗布した接着剤層6により実装基板7に仮固定
してから、外部リード9の折曲端部10を実装基体7に
半田付けにより固着する。この半田付は工程は、プリン
ト基板などからなる実装基板7に、封止樹脂層3から導
出する外部リード9の一部を折曲げて形成した端部10
を半田と共に接触させて、半田槽やりフロー炉などの熱
源中を通過させて、実装基板7に固着する。
このように、実装工程における熱源により樹脂封止型半
導体素子に発生する実装不能、耐湿性劣化による半導体
基板機能の不回復などを防止できる。
導体素子に発生する実装不能、耐湿性劣化による半導体
基板機能の不回復などを防止できる。
従って、超薄型表面実装半導体装置が実現でき。
機器の小型薄型化され、超高密度実装が実現して、付加
価値の高い機器が得られる。
価値の高い機器が得られる。
第1図は、本発明に係わる半導体装置の実装工程を示す
断面図、第2図は、本発明実施例を示す断面図、第3図
は、本発明に係わる樹脂封止型半導体素子の特性を示す
曲線図、第4図aは、従来の樹脂封止型半導体素子の概
観を示す斜視図1、第4図すは、第4図aの樹脂封止型
半導体素子の断面図である。 1:リードフレーム 2:ベッド 3:封止樹脂 4:半導体素子5:四部
6:接着剤 7:プリント基板 8:金属細線9:外部リード
lO:折曲端部l:リードフし−4 3:至:r1本!1月装 、5:ry:U飾 第 2: ヘッド 4:千4体素子 6− :■融き百;、;謬131 1 囚 代理人 弁理士 大 胡 典 夫 第 2 図
断面図、第2図は、本発明実施例を示す断面図、第3図
は、本発明に係わる樹脂封止型半導体素子の特性を示す
曲線図、第4図aは、従来の樹脂封止型半導体素子の概
観を示す斜視図1、第4図すは、第4図aの樹脂封止型
半導体素子の断面図である。 1:リードフレーム 2:ベッド 3:封止樹脂 4:半導体素子5:四部
6:接着剤 7:プリント基板 8:金属細線9:外部リード
lO:折曲端部l:リードフし−4 3:至:r1本!1月装 、5:ry:U飾 第 2: ヘッド 4:千4体素子 6− :■融き百;、;謬131 1 囚 代理人 弁理士 大 胡 典 夫 第 2 図
Claims (1)
- 金属製リードフレームに形成するベッドにマウントす
る半導体素子と、この素子に形成する電極と前記金属製
リードフレームに形成するリード間を電気的に結ぶ金属
細線と、この半導体素子と金属細線を封止する樹脂層と
、前記封止樹脂層の中心部表面から内部に形成する凹部
と、この凹部底部と前記封止樹脂層表面までの距離を制
御することを特徴とする樹脂封止型半導体装置。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63247191A JP2677632B2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 超薄型表面実装樹脂封止半導体装置 |
MYPI89001249A MY105031A (en) | 1988-09-30 | 1989-09-13 | Resin-sealed type semiconductor device and method for manufacturing the same. |
EP19890117316 EP0361283B1 (en) | 1988-09-30 | 1989-09-19 | Resin-sealed type semiconductor device and method for manufacturing the same |
DE68914927T DE68914927T2 (de) | 1988-09-30 | 1989-09-19 | Halbleiteranordnung vom mit Plastik umhüllten Typ und Verfahren zur Herstellung derselben. |
KR1019890014041A KR920008250B1 (ko) | 1988-09-30 | 1989-09-29 | 수지밀봉형 반도체장치 |
US07/944,366 US5314842A (en) | 1988-09-30 | 1992-09-14 | Resin-sealed type semiconductor device and method for manufacturing the same |
HK106694A HK106694A (en) | 1988-09-30 | 1994-10-06 | Resin-sealed type semiconductor device and method for manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63247191A JP2677632B2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 超薄型表面実装樹脂封止半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0294653A true JPH0294653A (ja) | 1990-04-05 |
JP2677632B2 JP2677632B2 (ja) | 1997-11-17 |
Family
ID=17159797
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63247191A Expired - Lifetime JP2677632B2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 超薄型表面実装樹脂封止半導体装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5314842A (ja) |
EP (1) | EP0361283B1 (ja) |
JP (1) | JP2677632B2 (ja) |
KR (1) | KR920008250B1 (ja) |
DE (1) | DE68914927T2 (ja) |
HK (1) | HK106694A (ja) |
MY (1) | MY105031A (ja) |
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Families Citing this family (11)
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JPH08111478A (ja) * | 1994-10-06 | 1996-04-30 | Toshiba Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
SE514116C2 (sv) | 1994-10-19 | 2001-01-08 | Ericsson Telefon Ab L M | Förfarande för framställning av en kapslad optokomponent, gjutform för kapsling av en optokomponent och tryckanordning för gjutform |
JPH09260550A (ja) * | 1996-03-22 | 1997-10-03 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
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