JPH0294345A - 走査電子顕微鏡 - Google Patents
走査電子顕微鏡Info
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- JPH0294345A JPH0294345A JP63247093A JP24709388A JPH0294345A JP H0294345 A JPH0294345 A JP H0294345A JP 63247093 A JP63247093 A JP 63247093A JP 24709388 A JP24709388 A JP 24709388A JP H0294345 A JPH0294345 A JP H0294345A
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 23
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 20
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 8
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- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 20
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
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- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/22—Optical or photographic arrangements associated with the tube
- H01J37/222—Image processing arrangements associated with the tube
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は電界放射型電子銃より放射される電子線電流の
変動に基づく像の劣化を補償するための回路を備えた走
査電子顕微鏡に関する。
変動に基づく像の劣化を補償するための回路を備えた走
査電子顕微鏡に関する。
［従来の技術］
電界放射型電子銃を備えた走査電子顕微鏡においては、
エミッタ表面において頻繁にガス分子の吸着、脱離が行
われる。そのため、エミッタから放射される電子線にエ
ミッションノイズと呼ばれるノイズが混入する。その結
果、通常の走査速度における２次電子像等に水平走査方
向に明るさむらが現れる。又、ＴＶ走査像においては、
フリッカノイズとして画面の明るさの変動を起こす。
エミッタ表面において頻繁にガス分子の吸着、脱離が行
われる。そのため、エミッタから放射される電子線にエ
ミッションノイズと呼ばれるノイズが混入する。その結
果、通常の走査速度における２次電子像等に水平走査方
向に明るさむらが現れる。又、ＴＶ走査像においては、
フリッカノイズとして画面の明るさの変動を起こす。
この様なエミッションノイズに基づく像の劣化を押さえ
るため、電子銃より放射される電子線の一部を検出し、
この検出信号で２次電子検出器より得られる信号を除し
、この割算を受けた信号をＣＲＴに導いて試料像を表示
することが行われている。
るため、電子銃より放射される電子線の一部を検出し、
この検出信号で２次電子検出器より得られる信号を除し
、この割算を受けた信号をＣＲＴに導いて試料像を表示
することが行われている。
［発明が解決しようとする課題］
ところで、電界放出型電子銃の引出電極及びエミッタに
与える電圧を各々Ｖ１、Ｖ０とするとき、Ｖ０／Ｖ１の
値が変化すると、電子放出源の虚像位置も移動する。加
速電圧を広い範囲で移動できるようにした電界放射型電
子銃を備えた走査電子顕微鏡においては、加速電圧を大
きく切換えると前記Ｖ０／Ｖ１の値も大きく変化するこ
とから、前記虚像の移動量も大きなものとなる。このよ
うな虚像の大幅な移動に伴い、前記電子線電流検出用絞
りによって吸収される電子線電流の直流レベルも大きく
変化し、従って前記電流電圧変換回路の出力信号の直流
レベルも大きく変化する。そのため、従来においては加
速電圧を大きく変えた場合に、前記電流電圧変換回路の
出力信号の直流レベルも大きく変化するが、割算回路に
供給されるこの信号の直流レベルが一定の範囲から外れ
ると割算回路の出力が飽和したり周波数特性が低下し正
確なノイズ補正ができない。
与える電圧を各々Ｖ１、Ｖ０とするとき、Ｖ０／Ｖ１の
値が変化すると、電子放出源の虚像位置も移動する。加
速電圧を広い範囲で移動できるようにした電界放射型電
子銃を備えた走査電子顕微鏡においては、加速電圧を大
きく切換えると前記Ｖ０／Ｖ１の値も大きく変化するこ
とから、前記虚像の移動量も大きなものとなる。このよ
うな虚像の大幅な移動に伴い、前記電子線電流検出用絞
りによって吸収される電子線電流の直流レベルも大きく
変化し、従って前記電流電圧変換回路の出力信号の直流
レベルも大きく変化する。そのため、従来においては加
速電圧を大きく変えた場合に、前記電流電圧変換回路の
出力信号の直流レベルも大きく変化するが、割算回路に
供給されるこの信号の直流レベルが一定の範囲から外れ
ると割算回路の出力が飽和したり周波数特性が低下し正
確なノイズ補正ができない。
本発明はこのような従来の問題点を解決し、前記Ｖ０／
Ｖ１の値が大きく変化した場合にも、割算回路に供給さ
れる電子線照射電流検出信号の直流レベルを、割算回路
の良好な動作に必要な一定の範囲内の信号にすることの
できる走査電子顕微鏡を提供することを目的としている
。
Ｖ１の値が大きく変化した場合にも、割算回路に供給さ
れる電子線照射電流検出信号の直流レベルを、割算回路
の良好な動作に必要な一定の範囲内の信号にすることの
できる走査電子顕微鏡を提供することを目的としている
。
［課題を解決するための手段］
そのため本発明は、エミッターから電子を引出すための
引出電極及び該引出された電子を加速するための加速電
極を備えた電界放射型電子銃と、該電界放射型電子銃よ
りの電子線を集束すると共に走査しながら試料に照射す
るための電子光学系と、該電子線の走査に伴って得られ
る試料よりの情報信号が供給される割算回路と、前記電
子光学系における電子線の通路に配置された照射電流検
出用絞りと、波絞りによって吸収された電流を電圧信号
に変換して前記割算回路に供給するための回路を備えた
走査電子顕微鏡における照射電流検出装置において、前
記引出電極及びエミッターに与える電圧を各々ｖｔ、ｖ
ｏとするとき、これらＶｌ、、ＶＯの値を表す信号に基
づきＶＯ／Ｖ、１の値の変化にかかわらず前記割算回路
に供給される前記電圧信号の直流レベルが略一定となる
ように前記割算回路に供給される該信号を変換するため
の手段を備えたことを特徴としている。
引出電極及び該引出された電子を加速するための加速電
極を備えた電界放射型電子銃と、該電界放射型電子銃よ
りの電子線を集束すると共に走査しながら試料に照射す
るための電子光学系と、該電子線の走査に伴って得られ
る試料よりの情報信号が供給される割算回路と、前記電
子光学系における電子線の通路に配置された照射電流検
出用絞りと、波絞りによって吸収された電流を電圧信号
に変換して前記割算回路に供給するための回路を備えた
走査電子顕微鏡における照射電流検出装置において、前
記引出電極及びエミッターに与える電圧を各々ｖｔ、ｖ
ｏとするとき、これらＶｌ、、ＶＯの値を表す信号に基
づきＶＯ／Ｖ、１の値の変化にかかわらず前記割算回路
に供給される前記電圧信号の直流レベルが略一定となる
ように前記割算回路に供給される該信号を変換するため
の手段を備えたことを特徴としている。
［実施例］
以下、図面に基づき本発明の実施例を詳述する。
第１図は本発明の一実施例を示すためのもので、図中１
は電界放射型電子銃のチップ、２は引出電極、３は接地
された加速電極であり、チップ］２には加速電源４より
ｖＯなる加速電圧が印加されている。引出電極２には引
出電源５よりＶｌなる引出電圧が印加されている。６は
制御回路であり、制御回路６より前記加速電源４にその
出力電圧ＶＯを指示する信号が送られると共に、制御回
路６より引出電源５にその出力電圧ｖ１を指示する信号
が送られる。７は試料１０に照射される電子線電流を検
出するための絞り、８は対物レンズ、９は電子線ＥＢを
試料上において２次元的に走査するだめの偏向器である
。絞り７によって吸収された電流を表す信号は電流電圧
変換回路１１に送られる。電流電圧変換回路１１の出力
信号はＤＡ変換器１２の基準信号入力端に供給されてい
る。このＤＡ変換器１２はアッテネータとして使われて
いる。制御回路６よりの前記加速電圧ｖＯ及び引出電圧
ｖ１を指示する信号は演算回路１３に送られる。演算回
路１３の出力信号は変換回路１４を介してＤＡ変換器１
２に送られている。１５は２次電子検出器であり、２次
電子検出器の出力信号は映像増幅器１６を介して割算回
路１７に送られている。１８はＣＲＴ２０に表示される
走査電子顕微鏡像の輝度レベルを調整するための可変直
流信号発生回路であり、１９は加算回路である。尚、図
示していないが、偏向器９とＣＲＴ２０には電子線を同
期して２次元走査するための走査信号が送られている。
は電界放射型電子銃のチップ、２は引出電極、３は接地
された加速電極であり、チップ］２には加速電源４より
ｖＯなる加速電圧が印加されている。引出電極２には引
出電源５よりＶｌなる引出電圧が印加されている。６は
制御回路であり、制御回路６より前記加速電源４にその
出力電圧ＶＯを指示する信号が送られると共に、制御回
路６より引出電源５にその出力電圧ｖ１を指示する信号
が送られる。７は試料１０に照射される電子線電流を検
出するための絞り、８は対物レンズ、９は電子線ＥＢを
試料上において２次元的に走査するだめの偏向器である
。絞り７によって吸収された電流を表す信号は電流電圧
変換回路１１に送られる。電流電圧変換回路１１の出力
信号はＤＡ変換器１２の基準信号入力端に供給されてい
る。このＤＡ変換器１２はアッテネータとして使われて
いる。制御回路６よりの前記加速電圧ｖＯ及び引出電圧
ｖ１を指示する信号は演算回路１３に送られる。演算回
路１３の出力信号は変換回路１４を介してＤＡ変換器１
２に送られている。１５は２次電子検出器であり、２次
電子検出器の出力信号は映像増幅器１６を介して割算回
路１７に送られている。１８はＣＲＴ２０に表示される
走査電子顕微鏡像の輝度レベルを調整するための可変直
流信号発生回路であり、１９は加算回路である。尚、図
示していないが、偏向器９とＣＲＴ２０には電子線を同
期して２次元走査するための走査信号が送られている。
さて、前記絞り７によって吸収される電子線電流の直流
成分がＶＯ／ＶＬの値の変化による電子線放射源の虚像
Ｆの移動に伴ってどのように変化するかを測定すると、
第２図に示すようになった。
成分がＶＯ／ＶＬの値の変化による電子線放射源の虚像
Ｆの移動に伴ってどのように変化するかを測定すると、
第２図に示すようになった。
Ｖ０／Ｖ１をＶで表し、この吸収電流の直流成分を電流
電圧変換回路によって電圧信号に変換した関数をＥ （
ｖ）で表すものとする。いま、Ｅ （ｖ）にある関数Ｇ
（ｖ）を掛けた場合に常に一定値Ｃになるとすると、
このようなＧ （ｖ）は以下のように表される。
電圧変換回路によって電圧信号に変換した関数をＥ （
ｖ）で表すものとする。いま、Ｅ （ｖ）にある関数Ｇ
（ｖ）を掛けた場合に常に一定値Ｃになるとすると、
このようなＧ （ｖ）は以下のように表される。
Ｇ （ｖ）−Ｃ／Ｅ （ｖ）
前述した演算回路１３は上記のＶに対応したデジタル信
号を発生させるためのものであり、変換回路１４は演算
回路１３よりの信号を上述したＧ（Ｖ）に対応したデジ
タル信号に変換するための回路である。
号を発生させるためのものであり、変換回路１４は演算
回路１３よりの信号を上述したＧ（Ｖ）に対応したデジ
タル信号に変換するための回路である。
このような構成において、制御回路６より加速電圧をｖ
Ｏ、引出電圧をＶｌ −にするための指示信号を発生さ
せて各々加速電源４及び引出電源５に供給する。その結
果、加速電圧及び引出電圧はこの指示された値に設定さ
れる。このような条件でエミッタ１より発生した電子線
は対物レンズ８により集束され、偏向器９によって試料
１０上を２次元的に走査される。この走査に伴って試料
１０より発生した２次電子は検出器１５に検出され、そ
の検出信号は映像増幅器１６を介して割り算回路１７に
送られる。又、制御回路６よりの加速電圧をＶＯ′、引
出電圧をｖｌ ”に指示するための信号は演算回路１３
に送られているため、演算回路１３よりＶＯ−／Ｖｌ
−−ｖ−の値に対応する出力信号が発生する。この信号
は変換回路１４に送られるため、変換回路１４よりＧ（
ｖ＝）に対応する出力信号が発生し、この信号はＤＡ変
換器１２に送られる。一方、絞り７よりこのときの放射
電子線量に対応した吸収電流Ｉが検出され、この吸収電
流信号は電流電圧変換回路１１によって吸収電流に比例
した電圧信号α■ （但しαは比例定数）に変換されて
ＤＡ変換器１２の基準信号入力端に送られる。ところで
、ＤＡ変換器１２にはＧ （ｖ−） ＝Ｃ／Ｅ （ｖ−
） −Ｃ／ （αＩ）なる値を表すデジタル信号が供給
されているため、ＤＡ変換器１２より β・αＩ−Ｃ／（αＩ）−β・Ｃ（但しβは比例定数）
なる一定な直流レベルを中心にして放射電子線電流の変
動に応じて変動するアナログ信号が割算回路１７に送ら
れる。割算回路１７には前述したように映像増幅器１６
よりの映像信号が供給されているが、この映像信号は割
算回路１７によってＤＡ変換器１２よりの電子線電流に
応じて変動する信号により割算されるため、加算回路１
９には電子線電流の変動を補償した信号が送られ、ＣＲ
Ｔ２０には上記変動に基づくノイズの除かれた像が表示
されるが、ＤＡ変換器１２より割算回路１７に送られる
信号の直流成分は、加速電圧ＶＯと引出電圧Ｖ１との比
が変化しても一定となるため、割算回路１７を常に良好
な特性のもとで稼動させて良質の像を表示させることが
できる。
Ｏ、引出電圧をＶｌ −にするための指示信号を発生さ
せて各々加速電源４及び引出電源５に供給する。その結
果、加速電圧及び引出電圧はこの指示された値に設定さ
れる。このような条件でエミッタ１より発生した電子線
は対物レンズ８により集束され、偏向器９によって試料
１０上を２次元的に走査される。この走査に伴って試料
１０より発生した２次電子は検出器１５に検出され、そ
の検出信号は映像増幅器１６を介して割り算回路１７に
送られる。又、制御回路６よりの加速電圧をＶＯ′、引
出電圧をｖｌ ”に指示するための信号は演算回路１３
に送られているため、演算回路１３よりＶＯ−／Ｖｌ
−−ｖ−の値に対応する出力信号が発生する。この信号
は変換回路１４に送られるため、変換回路１４よりＧ（
ｖ＝）に対応する出力信号が発生し、この信号はＤＡ変
換器１２に送られる。一方、絞り７よりこのときの放射
電子線量に対応した吸収電流Ｉが検出され、この吸収電
流信号は電流電圧変換回路１１によって吸収電流に比例
した電圧信号α■ （但しαは比例定数）に変換されて
ＤＡ変換器１２の基準信号入力端に送られる。ところで
、ＤＡ変換器１２にはＧ （ｖ−） ＝Ｃ／Ｅ （ｖ−
） −Ｃ／ （αＩ）なる値を表すデジタル信号が供給
されているため、ＤＡ変換器１２より β・αＩ−Ｃ／（αＩ）−β・Ｃ（但しβは比例定数）
なる一定な直流レベルを中心にして放射電子線電流の変
動に応じて変動するアナログ信号が割算回路１７に送ら
れる。割算回路１７には前述したように映像増幅器１６
よりの映像信号が供給されているが、この映像信号は割
算回路１７によってＤＡ変換器１２よりの電子線電流に
応じて変動する信号により割算されるため、加算回路１
９には電子線電流の変動を補償した信号が送られ、ＣＲ
Ｔ２０には上記変動に基づくノイズの除かれた像が表示
されるが、ＤＡ変換器１２より割算回路１７に送られる
信号の直流成分は、加速電圧ＶＯと引出電圧Ｖ１との比
が変化しても一定となるため、割算回路１７を常に良好
な特性のもとで稼動させて良質の像を表示させることが
できる。
上述した実施例は本発明の一実施例に過ぎず、本発明は
変形して実施することができる。
変形して実施することができる。
例えば、Ｖｏ／Ｖｌの値の範囲が広すぎるため、全ての
Ｖｏ／Ｖｌの値がＤＡ変換器１２の基準信号入力範囲に
入りきらない場合、第３図に示す発展させた実施例に基
づいて実施すれば良い。 第３図において、２１は電流
電圧変換回路であるが、この回路２１には抵抗値の異な
った帰還抵抗２２ａ、２２ｂが備えられている。これら
帰還抵抗は、以下の点を考慮して回路２１の電流−電圧
変換比を切換えるために一方が選択されて使用される。
Ｖｏ／Ｖｌの値がＤＡ変換器１２の基準信号入力範囲に
入りきらない場合、第３図に示す発展させた実施例に基
づいて実施すれば良い。 第３図において、２１は電流
電圧変換回路であるが、この回路２１には抵抗値の異な
った帰還抵抗２２ａ、２２ｂが備えられている。これら
帰還抵抗は、以下の点を考慮して回路２１の電流−電圧
変換比を切換えるために一方が選択されて使用される。
即ち、回路２１の出力電圧の直流成分は第２図における
吸収電流の直流成分に比例したものとなるが、第２図か
ら明らかなようにＶ０／Ｖ１がＶｓ以上の部分は直線で
近似でき、又、Ｖ０／Ｖ１がＶｓより小さい部分におい
ては、吸収電流の直流成分の値は同図において点線Ａで
示す直線で良く近似できる。従って、Ｖｏ／ＶｌがＶｓ
より小さい領域の変換比率をそれ以外の領域よりに倍高
くすることにより、ｖｏ／ｖ１がＶｓより小さい領域に
おける回路２１の出力電圧を、第２図における直線Ａ′
に対応したものにできる。Ｖｏ／ＶｌがＶＣより小さい
領域を制御可能領域に含めないこととすれば、ＤＡ変換
器１２へ供給される基準信号の範囲を第２図における領
域Ｂで示すものにできる。選択回路２３は、そのために
前述した帰還抵抗２２ａ、２２ｂを切換えるためのもの
である。２４は選択回路２３における選択を切換えるた
めの信号を発生する切換信号発生回路である。
吸収電流の直流成分に比例したものとなるが、第２図か
ら明らかなようにＶ０／Ｖ１がＶｓ以上の部分は直線で
近似でき、又、Ｖ０／Ｖ１がＶｓより小さい部分におい
ては、吸収電流の直流成分の値は同図において点線Ａで
示す直線で良く近似できる。従って、Ｖｏ／ＶｌがＶｓ
より小さい領域の変換比率をそれ以外の領域よりに倍高
くすることにより、ｖｏ／ｖ１がＶｓより小さい領域に
おける回路２１の出力電圧を、第２図における直線Ａ′
に対応したものにできる。Ｖｏ／ＶｌがＶＣより小さい
領域を制御可能領域に含めないこととすれば、ＤＡ変換
器１２へ供給される基準信号の範囲を第２図における領
域Ｂで示すものにできる。選択回路２３は、そのために
前述した帰還抵抗２２ａ、２２ｂを切換えるためのもの
である。２４は選択回路２３における選択を切換えるた
めの信号を発生する切換信号発生回路である。
切換信号発生回路２４には演算回路１３よりＶ。
／Ｖｌを表す信号が送られている。又、この実施例にお
いては、変換回路１４′は演算回路１３より送られるＶ
ｏ／Ｖｌの値を表す信号を監視し、その値がＶｓより小
さい場合には最初の実施例における変換回路の出力信号
の１／にの信号にして出力するように構成されている。
いては、変換回路１４′は演算回路１３より送られるＶ
ｏ／Ｖｌの値を表す信号を監視し、その値がＶｓより小
さい場合には最初の実施例における変換回路の出力信号
の１／にの信号にして出力するように構成されている。
このような構成において、演算回路１３よりの出力信号
がＶｓより大きい場合には、切換信号発生回路２４より
ローレベル信号が発生して選択回路２３により帰還抵抗
２２ｂが選択されるため、電流電圧変換回路２１の出力
電圧は最初の実施例と同様になる。しかしながら、演算
回路１３よりの出力信号がＶＳより小さい場合には、切
換信号発生回路２４よりハイレベル信号が発生して帰還
抵抗２２ａが選択されるため、電流電圧変換回路２１の
出力信号は最初の実施例の場合のに倍の信号となってＤ
Ａ変換器１２に送られる。この場合、変換回路１４′か
らＤＡ変換器１２に送られる信号は最初の実施例の場合
の１／にとなっているため、この実施例の場合にも最初
の実施例と同様の効果を達成することができるが、この
実施例においては、ＡＤ変換器１２に供給される電流電
圧変換回路の出力信号をより狭い範囲にできるため、割
算回路を用いた補償可能領域を広げることができる。
がＶｓより大きい場合には、切換信号発生回路２４より
ローレベル信号が発生して選択回路２３により帰還抵抗
２２ｂが選択されるため、電流電圧変換回路２１の出力
電圧は最初の実施例と同様になる。しかしながら、演算
回路１３よりの出力信号がＶＳより小さい場合には、切
換信号発生回路２４よりハイレベル信号が発生して帰還
抵抗２２ａが選択されるため、電流電圧変換回路２１の
出力信号は最初の実施例の場合のに倍の信号となってＤ
Ａ変換器１２に送られる。この場合、変換回路１４′か
らＤＡ変換器１２に送られる信号は最初の実施例の場合
の１／にとなっているため、この実施例の場合にも最初
の実施例と同様の効果を達成することができるが、この
実施例においては、ＡＤ変換器１２に供給される電流電
圧変換回路の出力信号をより狭い範囲にできるため、割
算回路を用いた補償可能領域を広げることができる。
【発明の効果コ
上述したように本発明においては、前記引出電極及びエ
ミッターに与える電圧を各々Ｖ１、Ｖ０とするとき、こ
れらＶ１、Ｖ０の値を表す信号に基づきＶ０／Ｖ１の値
の変化にかかわらず前記割算回路に供給される前記電圧
信号の直流レベルが略一定となるように該信号を変換す
るための手段を備えるようにしたため、加速電圧と引出
電圧をどのような値に設定しても、電子線電流量の変動
を表す割算回路に供給される信号の直流レベルを割算回
路の最適な動作に好ましい略一定な値にすることができ
る。従って、割算回路による放射電子線量の変動に基づ
くノイズ除去を良好に行うことができ、その結果、ノイ
ズの影響の無い良質な走査電子顕微鏡像を観察すること
ができる。
ミッターに与える電圧を各々Ｖ１、Ｖ０とするとき、こ
れらＶ１、Ｖ０の値を表す信号に基づきＶ０／Ｖ１の値
の変化にかかわらず前記割算回路に供給される前記電圧
信号の直流レベルが略一定となるように該信号を変換す
るための手段を備えるようにしたため、加速電圧と引出
電圧をどのような値に設定しても、電子線電流量の変動
を表す割算回路に供給される信号の直流レベルを割算回
路の最適な動作に好ましい略一定な値にすることができ
る。従って、割算回路による放射電子線量の変動に基づ
くノイズ除去を良好に行うことができ、その結果、ノイ
ズの影響の無い良質な走査電子顕微鏡像を観察すること
ができる。
第１図は本発明の一実施例を示すための図、第２図はＶ
Ｄ ／Ｖｌの値と絞りによって検出された電子線電流の
直流レベルとの関係を示す図、第３図は本発明の他の一
実施例を示すための図である。 １：エミッタ ２：引出電極 ３：加速電極 ４二引出電源 ５：加速電源 ６＝制御回路 ７：絞り ８：対物レンズ ９：偏向器 １０：試料 １１．２１：電流電圧変換回路 １２ ： ＤＡ変換器 １２：試料交換室蓋 １３：演算回路 １４．１４−二変換回路 １５；２次電子検出器 １６：映像増幅器 １７二割算回路 １８：可変直流信号発生回路 １９：加算回路 ２０ ： ＣＲＴ２２ａ、２２ｂ
：帰還抵抗
Ｄ ／Ｖｌの値と絞りによって検出された電子線電流の
直流レベルとの関係を示す図、第３図は本発明の他の一
実施例を示すための図である。 １：エミッタ ２：引出電極 ３：加速電極 ４二引出電源 ５：加速電源 ６＝制御回路 ７：絞り ８：対物レンズ ９：偏向器 １０：試料 １１．２１：電流電圧変換回路 １２ ： ＤＡ変換器 １２：試料交換室蓋 １３：演算回路 １４．１４−二変換回路 １５；２次電子検出器 １６：映像増幅器 １７二割算回路 １８：可変直流信号発生回路 １９：加算回路 ２０ ： ＣＲＴ２２ａ、２２ｂ
：帰還抵抗
Claims (1)
- エミッターから電子を引出すための引出電極及び該引出
された電子を加速するための加速電極を備えた電界放射
型電子銃と、該電界放射型電子銃よりの電子線を集束す
ると共に走査しながら試料に照射するための電子光学系
と、該電子線の走査に伴って得られる試料よりの情報信
号が供給される割算回路と、前記電子光学系における電
子線の通路に配置された照射電流検出用絞りと、該絞り
によって吸収された電流を電圧信号に変換して前記割算
回路に供給するための回路を備えた走査電子顕微鏡にお
ける照射電流検出装置において、前記引出電極及びエミ
ッターに与える電圧を各々Ｖ１、Ｖ０とするとき、これ
らＶ１、Ｖ０の値を表す信号に基づきＶ０／Ｖ１の値の
変化にかかわらず前記割算回路に供給される前記電圧信
号の直流レベルが略一定となるように前記割算回路に供
給される該信号を変換するための手段を備えたことを特
徴とする走査電子顕微鏡。
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