JPH0288623A - エポキシ化合物と組成物及びそれらの用途 - Google Patents
エポキシ化合物と組成物及びそれらの用途Info
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- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/032—Organic insulating material consisting of one material
- H05K1/0326—Organic insulating material consisting of one material containing O
Landscapes
- Organic Insulating Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の利用分野〕
本発明は、耐熱性、機械強度、光学特性に優れた硬化物
を提供可能な、新規なエポキシ化合物及びその組成物と
、それらの用途に関する。
を提供可能な、新規なエポキシ化合物及びその組成物と
、それらの用途に関する。
〔従来の技術]
エポキシ樹脂組成物は、フオーミュレーションの多様性
において、他の熱硬化性組成物より格段に唆れている。
において、他の熱硬化性組成物より格段に唆れている。
このため、電気機器、電子部品を始めとして、極めて広
範な分野で実用されている。
範な分野で実用されている。
ところが、近年、適用製品の小型軽量化、高性能化、高
信頼度化のすう勢が、−段と加速する状態の下で、エポ
キシ樹脂組成物にも、更に高性能化(特開昭62−96
484号)の付与が求められる状況にある。
信頼度化のすう勢が、−段と加速する状態の下で、エポ
キシ樹脂組成物にも、更に高性能化(特開昭62−96
484号)の付与が求められる状況にある。
〔発明が解決しようとする課題]
上記の状況に対処する手段として、イミド糸化合物、シ
ロキサン系化合物などの耐熱性素材をエポキシ化合物と
併用することが検討されてきた。
ロキサン系化合物などの耐熱性素材をエポキシ化合物と
併用することが検討されてきた。
しかし、この方法では、必要特性が多機能に渡る現状で
は、そのバランス化の達成がむずかしくなっている。こ
れは、従来公知素材の単なる組合せによる特性改良をね
らったものであ)、素材そのものの新規性は、全くない
のが実状であった。
は、そのバランス化の達成がむずかしくなっている。こ
れは、従来公知素材の単なる組合せによる特性改良をね
らったものであ)、素材そのものの新規性は、全くない
のが実状であった。
本発明の目的は、高性能の新規エポキシ化合物をペース
とする耐熱性、機械強度、耐湿性、光学特性などに優れ
た硬化物を提供可能な、エポキシ化合物及びその組成物
と、それらの用途を提供することにある。
とする耐熱性、機械強度、耐湿性、光学特性などに優れ
た硬化物を提供可能な、エポキシ化合物及びその組成物
と、それらの用途を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明を概説すれば、本発明の第1の発明はエポキシ化
合物に関する発明であって、下記一般式%式%] 基、ムrは1個以上の芳香族核を持つ2価の有機基を示
す)で表さnることを特徴とする。
合物に関する発明であって、下記一般式%式%] 基、ムrは1個以上の芳香族核を持つ2価の有機基を示
す)で表さnることを特徴とする。
また、本発明の第2の発明は硬化体に関する発明であっ
て、第1の発明のエポキシ化合物を硬化させてなること
を特徴とする。
て、第1の発明のエポキシ化合物を硬化させてなること
を特徴とする。
更に、本発明の第3の発明d組成物に関する発明であっ
て、第1の発明のエポキシ化合物を含有することを特徴
とする。
て、第1の発明のエポキシ化合物を含有することを特徴
とする。
そして、本発明の第4の発明は硬化体に関する発明であ
って、第3の発明の組成−4IlJを硬化させてなるこ
とを特徴とする。
って、第3の発明の組成−4IlJを硬化させてなるこ
とを特徴とする。
本発明のエポキシ化合物、組成物の用途としては積層体
、塗料、半導体装置が挙げられる。
、塗料、半導体装置が挙げられる。
本発明の前記一般式Iで表されるシッフ結合を持つエポ
キシ化合物は、ガえば、次の反応によシ得ることができ
る。
キシ化合物は、ガえば、次の反応によシ得ることができ
る。
本発明の前記一般式lで表される化合物としては、例え
ば、 具体的な例を次に示す。
ば、 具体的な例を次に示す。
OH。
OF。
C式中、R1−R1は水素、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、塩素又は臭素を示し、互いに同じであっても
異なっていてもよいo R1及びR6は、水素、メチル
基、エチル基、トリフルオロメチル基又はトリクロロメ
チル基を示す) また、本発明の樹脂組成物には、従来公知の液晶性エポ
キシ化合物、例えば、 などを併用することができる。
コキシ基、塩素又は臭素を示し、互いに同じであっても
異なっていてもよいo R1及びR6は、水素、メチル
基、エチル基、トリフルオロメチル基又はトリクロロメ
チル基を示す) また、本発明の樹脂組成物には、従来公知の液晶性エポ
キシ化合物、例えば、 などを併用することができる。
また、本発明の樹脂組成物には、従来公知のエポキシ化
合物を併用することができる。このような化合物の列と
しては、例えばビスフェノールAの/’Jシジルエーテ
ル、ブタジエンジエボキシド、44−エポキシシクロヘ
キシルメチル−(へ4−エポキシ)シクロヘキサンカル
ボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド、4.
4’−シ(1,2−エポキシエテル)ジフェニルエーテ
ル、4.4′−(1,2−エポキシエチル)ビフェニル
、2.2−ビス(44−エポキシシクロヘキシル)プロ
パン、レゾルシンのジグリシジルエーテル、70口グル
シンのジグリシジルエーテル、メチルフロログルシンの
ジグリシジルエーテル、ビス−(243−エポキシシク
ロペンチル)エーテル、2−(5,4−エポキシ)シク
ロヘキサン−5,5−スピロ(へ4−エポキシ)シクロ
ヘキサン−m−ジオキサン、ビス−(瓜4−エポキシ−
6−メチルシクロヘキシル)アジペート、H9ll’−
m−7二二レンビス(4,5−エポキシ−1,2−シク
ロヘキサンジカルボキシイミドなどの2官能のエポキシ
化合物、)(う(ビスグリシジル)アミノフェノールの
グリシジルエーテル、ポリ了りルグリシジルエーテル、
1、 & 5− トリ(1,2−エポキシエチル)ベン
ゼン、2、2.’ 4. a’−テトラグリシドキシベ
ンゾフェノン、テトラグリシドキシテトラフェニルエタ
ン、フェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂のポリ
グリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエー
テル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテ
ルなどの3官能以上のエポキシ化合物などが挙げられ、
特に限定されるものではない。
合物を併用することができる。このような化合物の列と
しては、例えばビスフェノールAの/’Jシジルエーテ
ル、ブタジエンジエボキシド、44−エポキシシクロヘ
キシルメチル−(へ4−エポキシ)シクロヘキサンカル
ボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド、4.
4’−シ(1,2−エポキシエテル)ジフェニルエーテ
ル、4.4′−(1,2−エポキシエチル)ビフェニル
、2.2−ビス(44−エポキシシクロヘキシル)プロ
パン、レゾルシンのジグリシジルエーテル、70口グル
シンのジグリシジルエーテル、メチルフロログルシンの
ジグリシジルエーテル、ビス−(243−エポキシシク
ロペンチル)エーテル、2−(5,4−エポキシ)シク
ロヘキサン−5,5−スピロ(へ4−エポキシ)シクロ
ヘキサン−m−ジオキサン、ビス−(瓜4−エポキシ−
6−メチルシクロヘキシル)アジペート、H9ll’−
m−7二二レンビス(4,5−エポキシ−1,2−シク
ロヘキサンジカルボキシイミドなどの2官能のエポキシ
化合物、)(う(ビスグリシジル)アミノフェノールの
グリシジルエーテル、ポリ了りルグリシジルエーテル、
1、 & 5− トリ(1,2−エポキシエチル)ベン
ゼン、2、2.’ 4. a’−テトラグリシドキシベ
ンゾフェノン、テトラグリシドキシテトラフェニルエタ
ン、フェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂のポリ
グリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエー
テル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテ
ルなどの3官能以上のエポキシ化合物などが挙げられ、
特に限定されるものではない。
i九、脂環型エポキシ化合物を併用することによシ、組
成物の低粘性化、光硬化性の向上、耐候性の向上を達成
できる。
成物の低粘性化、光硬化性の向上、耐候性の向上を達成
できる。
NJ 、t ハ、ビニルシクロヘキセンモノオキシド、
H あるいは、 (式中、m、nは1〜50で、50 ) m +n :
) 1である。)で表される重合体などがある。
H あるいは、 (式中、m、nは1〜50で、50 ) m +n :
) 1である。)で表される重合体などがある。
本発明のエポキシ樹脂組成物には従来公知の硬化剤を併
用することもできる。それらは、垣内弘著:エボキシ樹
脂(昭和45年9月、昭晃堂発行)第109〜149頁
、リー、ネビル(Lee 、 Be −ville )
著:エポキシ レジンス(Epoxy fteai−n
日)ニューヨーク市、マッグロウ−ヒル ブック カン
パニー インコーホレーテッド(MeGrhv−Hll
l Book Company工pc)(1957年発
行)第63〜141頁、P、jli、プルニス(P、I
li、Er −unis ) 著’エポキシ レジン
ス テクノロジー(ICpozy Re5ins Te
chnology ) = ニーヨーク市、インターサ
イエンス パブリツシャース(Into−rscien
ce Publishers ) (1968年発行)
第45〜111頁などに記載の化合物であ句、例えば脂
肪族ポリアミン、芳香族ポリアミン、為2及び第3級ア
ミンを含むアミン類、カルボン酸類、カルボン酸無水物
類、インシアネート系化合物、脂肪族及び芳香族ポリ了
ミドオリゴマー及びポリマー類、三7ツ化ホウ素−アミ
ンコンプレックス類、フェノール樹脂、メラミン樹脂、
ウレア樹脂、ウレタン樹脂などの合成樹脂初期縮合物類
、その他、ジシアンジアミド、カルボン酸ヒドラジド、
ポリアミノマレイミド類などがある。
用することもできる。それらは、垣内弘著:エボキシ樹
脂(昭和45年9月、昭晃堂発行)第109〜149頁
、リー、ネビル(Lee 、 Be −ville )
著:エポキシ レジンス(Epoxy fteai−n
日)ニューヨーク市、マッグロウ−ヒル ブック カン
パニー インコーホレーテッド(MeGrhv−Hll
l Book Company工pc)(1957年発
行)第63〜141頁、P、jli、プルニス(P、I
li、Er −unis ) 著’エポキシ レジン
ス テクノロジー(ICpozy Re5ins Te
chnology ) = ニーヨーク市、インターサ
イエンス パブリツシャース(Into−rscien
ce Publishers ) (1968年発行)
第45〜111頁などに記載の化合物であ句、例えば脂
肪族ポリアミン、芳香族ポリアミン、為2及び第3級ア
ミンを含むアミン類、カルボン酸類、カルボン酸無水物
類、インシアネート系化合物、脂肪族及び芳香族ポリ了
ミドオリゴマー及びポリマー類、三7ツ化ホウ素−アミ
ンコンプレックス類、フェノール樹脂、メラミン樹脂、
ウレア樹脂、ウレタン樹脂などの合成樹脂初期縮合物類
、その他、ジシアンジアミド、カルボン酸ヒドラジド、
ポリアミノマレイミド類などがある。
上記硬化剤は、用途、目的に応じて1ai以上使用する
ことができる。
ことができる。
本発明の樹脂組成物には、エポキシ化合物の硬化反応を
促進する触媒を使用することができる。
促進する触媒を使用することができる。
この触媒としては、例えば、トリエタノールアミン、テ
トラメチルブタンジアミン、テトラメチルペンタンジア
ミン、テトラメチルヘキサンジアミン、トリエチレンジ
アミン及びジメチルアニリンなとの第3級アミン、ジメ
チルアミンエタノール及びジメチルアミノペンタノール
などのオキシアルキルアミンやトリメ(ジメチル了ミノ
メチル)フェノール、鯉−メチルモルホリン、N−エチ
ルモルホリンなどのアミン類がある。
トラメチルブタンジアミン、テトラメチルペンタンジア
ミン、テトラメチルヘキサンジアミン、トリエチレンジ
アミン及びジメチルアニリンなとの第3級アミン、ジメ
チルアミンエタノール及びジメチルアミノペンタノール
などのオキシアルキルアミンやトリメ(ジメチル了ミノ
メチル)フェノール、鯉−メチルモルホリン、N−エチ
ルモルホリンなどのアミン類がある。
また、セチルトリメチルアンモニウムブロマイド、セチ
ルトリメチルアンモニウムクロライド、ドデシルトリメ
チルアンモニウムアイオダイド、トリメチルドデシルア
ンモニウムクロライド、ベンジルジメチルテトラデシル
アンモニウムクロライド、ペンジルジメチルパルミチル
アンモニウムクロライド、(アリルドデシル)トリメチ
ルアンモニウムブロマイド、ベンジルジメチルステアリ
ルアンモニウムブロマイド、ステアリルトリメチルアン
モニウムクロライド及びベンジルジメチルテトラデシル
アンモニウムアセテートなどの第4級アンモニウム塩が
ある。
ルトリメチルアンモニウムクロライド、ドデシルトリメ
チルアンモニウムアイオダイド、トリメチルドデシルア
ンモニウムクロライド、ベンジルジメチルテトラデシル
アンモニウムクロライド、ペンジルジメチルパルミチル
アンモニウムクロライド、(アリルドデシル)トリメチ
ルアンモニウムブロマイド、ベンジルジメチルステアリ
ルアンモニウムブロマイド、ステアリルトリメチルアン
モニウムクロライド及びベンジルジメチルテトラデシル
アンモニウムアセテートなどの第4級アンモニウム塩が
ある。
また、2−エチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダ
ゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−メチル−
4−エチルイミダゾール、1−ブチルイミダゾール、1
−プロピル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−
2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチ
ルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイ
ミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイ1fl
−ル、1−アジン−2−メチルイミダゾール、1−アジ
ン−2−ウンデシルイミダゾールなどのイミダゾール類
、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレート、テ
トラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、ト
リエチルアミンテトラフェニルボレート、N−メチルモ
ルホリンテトラフェニルボレート、2−エチル−4−メ
チルイミダゾールf ト5 フェニルボレー)、2−工
fルー 1.4−ジメチルイミダゾールテトラフェニル
ボレートなどのテトラフェニルボロン塩などがある。
ゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−メチル−
4−エチルイミダゾール、1−ブチルイミダゾール、1
−プロピル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−
2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチ
ルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイ
ミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイ1fl
−ル、1−アジン−2−メチルイミダゾール、1−アジ
ン−2−ウンデシルイミダゾールなどのイミダゾール類
、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレート、テ
トラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、ト
リエチルアミンテトラフェニルボレート、N−メチルモ
ルホリンテトラフェニルボレート、2−エチル−4−メ
チルイミダゾールf ト5 フェニルボレー)、2−工
fルー 1.4−ジメチルイミダゾールテトラフェニル
ボレートなどのテトラフェニルボロン塩などがある。
また、1.5−ジアザ−ビシクロ(4,2,0)オクテ
ン−5,1,8−ジアザ−ビシクロ(7,2,0)ウン
デセン−8,1,4−ジアザ−ビシクロ(五五〇)オク
テン−4,3−メチル−1,4−ジアザビシクロ(五五
〇)オクテン−4,3,&7.7−チトラメテルー1,
4−ジアザ−ビシクロ(XXO)オクテン−4、t5−
ジアザ−ビシクロ(A40)ノネン−5,1,8−ジア
ザ−ビシクロ(Z五〇)ドデセン−8,1,7−ジ了ザ
ビシクロ(4,!LO)ノネン−6,1,5−ジアザビ
シクロ(4,40)デセン−5,1,8−ジアザビシク
ロ(zto)t−リゾセン−8,1,8−ジアザビシク
ロ(5,五〇)デセン−7,9−メチル−1,8−ジア
ザビシクロ(5,五〇)デセン−7,1,8−ジアザビ
シクロ(a4.0)ウンデセン−7,1,6−ジアザビ
シクロ(a5.0)ドブ七/−6,1,7−ジアザビシ
クロ(&aO)トリデセン−7,1,8−ジアザビシク
ロ(7,5,0)テトラデセン−13,1,10−ジア
ザビシクロ(7゜五〇)ドデセン−9,1,10−ジア
ザビシクロ(7,4,0) )リゾセン−9、i、14
−ジアザビシクロ(11,五〇)へキサデセン−15,
1,14−ジアザビシクロ(11,40)へブタデセン
−13などのジアザ−ビシクロ−アルケン類も有用であ
る。上記化合物は、目的と用途に応じて2種類以上併用
することもできる。
ン−5,1,8−ジアザ−ビシクロ(7,2,0)ウン
デセン−8,1,4−ジアザ−ビシクロ(五五〇)オク
テン−4,3−メチル−1,4−ジアザビシクロ(五五
〇)オクテン−4,3,&7.7−チトラメテルー1,
4−ジアザ−ビシクロ(XXO)オクテン−4、t5−
ジアザ−ビシクロ(A40)ノネン−5,1,8−ジア
ザ−ビシクロ(Z五〇)ドデセン−8,1,7−ジ了ザ
ビシクロ(4,!LO)ノネン−6,1,5−ジアザビ
シクロ(4,40)デセン−5,1,8−ジアザビシク
ロ(zto)t−リゾセン−8,1,8−ジアザビシク
ロ(5,五〇)デセン−7,9−メチル−1,8−ジア
ザビシクロ(5,五〇)デセン−7,1,8−ジアザビ
シクロ(a4.0)ウンデセン−7,1,6−ジアザビ
シクロ(a5.0)ドブ七/−6,1,7−ジアザビシ
クロ(&aO)トリデセン−7,1,8−ジアザビシク
ロ(7,5,0)テトラデセン−13,1,10−ジア
ザビシクロ(7゜五〇)ドデセン−9,1,10−ジア
ザビシクロ(7,4,0) )リゾセン−9、i、14
−ジアザビシクロ(11,五〇)へキサデセン−15,
1,14−ジアザビシクロ(11,40)へブタデセン
−13などのジアザ−ビシクロ−アルケン類も有用であ
る。上記化合物は、目的と用途に応じて2種類以上併用
することもできる。
本発明のエポキシ樹脂組成物には、次の一般式:
%式%
ド、あるいは、一般式■:
c式中、Xはアルキレン基、アリーレン基又はそれらの
置換された2価の有機基を示す〕で表されルm*w’−
rl換ビスマレイミド系化合物を添加することによシ、
耐熱性の向上を計ることができる。
置換された2価の有機基を示す〕で表されルm*w’−
rl換ビスマレイミド系化合物を添加することによシ、
耐熱性の向上を計ることができる。
この化合物としては、例えば、kl、N’−エチレンヒ
スマレイミド、N、N′−ヘキサメチレンビスマレイミ
ド、N、M’−ドデカメチレンビスマレイミド、N、1
1’−m−フェニレンビスマレイミド、ml、kl’−
4,4′−ジフェニルエーテルビスマレ’(ミ)’、M
IN’−(式中、R1−R6は前記のとおりであ如、D
はエチレン性不飽和二重結合を持つジカルボン酸残基を
示す)で表されるエーテル不飽和イミド系化合物、例え
ば2.2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フ
ェニル]フロzくン、2.2−ビス〔3−メチル−4−
(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕フロパン、2
.2−ビス[3−/ロロー4−(4−マレイミドフェノ
キシ)フェニル]フロパン、2.2−ビス〔5−ブロモ
−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロz
くン、2.2−ビス〔5−エチル−4−(マレイミドフ
ェノキシ)フェニル〕フロパン、2.2−ビス(5−プ
ロピル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]
プロパン、2.2−ビス[3−−(シクロピル−4−(
4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2.
2−ビス〔3−n−ブチル−4−(4−マL/−(ミド
フェノキシ〕フェニル〕プロパン、2.2−ビス(3−
5ea−ブチル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フ
ェニル〕プロパン、2.2−ビス〔3−メトキシ−4−
(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、1
.1−ビス(4−(4−マレイミトフエノキシ)フェニ
ル〕エタン、1゜1−ビス〔3−メチル−4−(4−マ
レイミドフェノキシ]フェニル〕エタン、1,1−ビス
〔5−クロロ−4−(4−マレイミドフェノキシ〕フェ
ニル]エタン、1,1−ビス〔3−ブロモ−4−(4−
マレイミドフェノキシ)フェニル〕エタン、ビス(4−
(4−マレイミドフェノキシ)フェニルコメタン、ビス
〔3−メチル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェ
ニルコメタン、ビス〔3−クロロ−4−(4−マレイミ
ドフェノキシ)フエニル〕メタン、ビス〔3−ブロー1
ニーa−(a−マレイミドフェノキシ〕フェニル]メタ
ン、1,1゜1、 A 5.3−へキサフルオロ−2,
2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル
]プロパン、1、1.1.3.3.3−ヘキサクロロ−
2,2−ビス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェ
ニル]プロパン、3.3−ビス(4−(4−マレイミド
フェノキシ)フェニル〕ペンタン、1,1−ビス(4−
(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、1
、1.1. A 3.5−へキサフルオロ−2,2−ビ
ス[へ5−ジブロモ−4−(4−マレイミドフェノキシ
〕フェニル〕プロパン、1.tl、5,3.3−ヘキサ
フルオロ−2,2−ビス〔3−メチル−4−(4−マレ
イミドフェノキシ)フェニル〕プロパンなどがある。
スマレイミド、N、N′−ヘキサメチレンビスマレイミ
ド、N、M’−ドデカメチレンビスマレイミド、N、1
1’−m−フェニレンビスマレイミド、ml、kl’−
4,4′−ジフェニルエーテルビスマレ’(ミ)’、M
IN’−(式中、R1−R6は前記のとおりであ如、D
はエチレン性不飽和二重結合を持つジカルボン酸残基を
示す)で表されるエーテル不飽和イミド系化合物、例え
ば2.2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フ
ェニル]フロzくン、2.2−ビス〔3−メチル−4−
(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕フロパン、2
.2−ビス[3−/ロロー4−(4−マレイミドフェノ
キシ)フェニル]フロパン、2.2−ビス〔5−ブロモ
−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロz
くン、2.2−ビス〔5−エチル−4−(マレイミドフ
ェノキシ)フェニル〕フロパン、2.2−ビス(5−プ
ロピル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]
プロパン、2.2−ビス[3−−(シクロピル−4−(
4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2.
2−ビス〔3−n−ブチル−4−(4−マL/−(ミド
フェノキシ〕フェニル〕プロパン、2.2−ビス(3−
5ea−ブチル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フ
ェニル〕プロパン、2.2−ビス〔3−メトキシ−4−
(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、1
.1−ビス(4−(4−マレイミトフエノキシ)フェニ
ル〕エタン、1゜1−ビス〔3−メチル−4−(4−マ
レイミドフェノキシ]フェニル〕エタン、1,1−ビス
〔5−クロロ−4−(4−マレイミドフェノキシ〕フェ
ニル]エタン、1,1−ビス〔3−ブロモ−4−(4−
マレイミドフェノキシ)フェニル〕エタン、ビス(4−
(4−マレイミドフェノキシ)フェニルコメタン、ビス
〔3−メチル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェ
ニルコメタン、ビス〔3−クロロ−4−(4−マレイミ
ドフェノキシ)フエニル〕メタン、ビス〔3−ブロー1
ニーa−(a−マレイミドフェノキシ〕フェニル]メタ
ン、1,1゜1、 A 5.3−へキサフルオロ−2,
2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル
]プロパン、1、1.1.3.3.3−ヘキサクロロ−
2,2−ビス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェ
ニル]プロパン、3.3−ビス(4−(4−マレイミド
フェノキシ)フェニル〕ペンタン、1,1−ビス(4−
(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、1
、1.1. A 3.5−へキサフルオロ−2,2−ビ
ス[へ5−ジブロモ−4−(4−マレイミドフェノキシ
〕フェニル〕プロパン、1.tl、5,3.3−ヘキサ
フルオロ−2,2−ビス〔3−メチル−4−(4−マレ
イミドフェノキシ)フェニル〕プロパンなどがある。
ま九、以下の化合物を併用することも有益である。
4.4−ビスマレイミ
ドシンナムアニリ
ド
本発明の樹脂組成物には、短時間の加熱によシその硬化
を完了させる目的で、重合開始剤を添加することが望ま
しい。このような重合開始剤としテハ、ヘンソイルパー
オキシド、p−クロロベンゾイルパーオキシド、2.4
−ジクロロベンゾイルパーオキシド、カブリリルパーオ
キシド、ラウロイルパーオキシド、アセチルパーオキシ
ド、メチルエチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノ
ンパーオキシド、ビス(1−ヒドロキシシクロへ中シル
バーオキシド)、ヒドロキシヘプチルパーオ〔26) キシド、亀3級ブチルヒドロパーオキシド、X)−メン
タンヒドロパーオキシド、第3Mブチルパーベンゾエー
ト、m3級ブチルパーアセテート、第3級ブチルパーオ
クトエート、m3級ブチルバーオキシインブチレート及
びジー第3級ブチルシバ−フタレート等の有機過酸化物
が有用であり、その1種又は2種以上を用いることがで
きる。
を完了させる目的で、重合開始剤を添加することが望ま
しい。このような重合開始剤としテハ、ヘンソイルパー
オキシド、p−クロロベンゾイルパーオキシド、2.4
−ジクロロベンゾイルパーオキシド、カブリリルパーオ
キシド、ラウロイルパーオキシド、アセチルパーオキシ
ド、メチルエチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノ
ンパーオキシド、ビス(1−ヒドロキシシクロへ中シル
バーオキシド)、ヒドロキシヘプチルパーオ〔26) キシド、亀3級ブチルヒドロパーオキシド、X)−メン
タンヒドロパーオキシド、第3Mブチルパーベンゾエー
ト、m3級ブチルパーアセテート、第3級ブチルパーオ
クトエート、m3級ブチルバーオキシインブチレート及
びジー第3級ブチルシバ−フタレート等の有機過酸化物
が有用であり、その1種又は2種以上を用いることがで
きる。
本発明においては、上述の重合触媒に、例えばメルカプ
タン類、サルファイド類、β−ジケトン類、金属キレー
ト類、金属石けん等の既知の促進剤を併用することも可
能である。また、樹脂組成物の室温における貯蔵安定性
を良好にするために、例えばp−ベンゾキノン、ナフト
キノン、フエナントラキノン等のキノン類、ヒドロキノ
ン、P−第3級−ブチルカテコール及び2.5−ジー第
3級ブチルヒドロキノン等のフェノール類及びニトロ化
合物及び金属塩類等の既知の重合防止剤を、所望に応じ
て使用できる。
タン類、サルファイド類、β−ジケトン類、金属キレー
ト類、金属石けん等の既知の促進剤を併用することも可
能である。また、樹脂組成物の室温における貯蔵安定性
を良好にするために、例えばp−ベンゾキノン、ナフト
キノン、フエナントラキノン等のキノン類、ヒドロキノ
ン、P−第3級−ブチルカテコール及び2.5−ジー第
3級ブチルヒドロキノン等のフェノール類及びニトロ化
合物及び金属塩類等の既知の重合防止剤を、所望に応じ
て使用できる。
更に、本発明の樹脂組成物には、その用途に応じて種々
の素材が配合される。すなわち、例えば成形材料として
の用途には、酸化ジルコン、シリカ、アルミナ、水酸化
アルミニウム、チタニア、亜鉛華、炭酸カルシウム、マ
クネサイト、クレーカオリン、タルク、ケイ砂、ガラス
、溶融石英ガラス、アスベスト、マイカ、各種ウィスカ
ー、カーボンブラック、黒鉛及び二硫化モリフ”テン等
ノような無機質光てん剤、高級脂肪酸及びワックス類等
のような離型剤、エポキシシラン、ビニルシラン、ボラ
ン及びアルコキシチタネート系化合物等のようなカップ
リング剤が配合される。また、必要に従って、含ノーロ
ゲ/化合物、酸化アンチモン及びリン化合物などの難燃
性付与剤等を用いることができる。
の素材が配合される。すなわち、例えば成形材料として
の用途には、酸化ジルコン、シリカ、アルミナ、水酸化
アルミニウム、チタニア、亜鉛華、炭酸カルシウム、マ
クネサイト、クレーカオリン、タルク、ケイ砂、ガラス
、溶融石英ガラス、アスベスト、マイカ、各種ウィスカ
ー、カーボンブラック、黒鉛及び二硫化モリフ”テン等
ノような無機質光てん剤、高級脂肪酸及びワックス類等
のような離型剤、エポキシシラン、ビニルシラン、ボラ
ン及びアルコキシチタネート系化合物等のようなカップ
リング剤が配合される。また、必要に従って、含ノーロ
ゲ/化合物、酸化アンチモン及びリン化合物などの難燃
性付与剤等を用いることができる。
また、各種のポリマー 例えばポリスチレン、ポリエチ
レン、ポリブタジェン、ポリメチルメタクリレート、ポ
リアクリル酸エステル、アクリル酸エステル−メタクリ
ル酸エステル共重合体、フェノール樹脂、エポキシ樹脂
、メラミン樹脂あるいは尿素樹脂等の既知の樹脂改質剤
を用いることができる。
レン、ポリブタジェン、ポリメチルメタクリレート、ポ
リアクリル酸エステル、アクリル酸エステル−メタクリ
ル酸エステル共重合体、フェノール樹脂、エポキシ樹脂
、メラミン樹脂あるいは尿素樹脂等の既知の樹脂改質剤
を用いることができる。
また、フェス等のように、溶液として使用することもで
きる。その際用いられる溶剤としては、N−メチル−2
−ピロリドン、N、N−ジメチルアセトアミド、N、l
j−ジメチルホルムアミド、jl、PI−ジエチルホル
ムアミド、道−メチルホルム了ミド、ジメチルスルホキ
シド、la、N−ジエチルアセトアミド、la、31−
ジメチルメトキシアセトアミド、ヘキサメチルホスホル
アミド、ピリジン、ジメチルスルホン、テトラメチルス
ルホン及びジメチルテトラメチレンスルホン等があり、
また、フェノール系溶剤群としては、フェノール、クレ
ゾール及びキシレノール等がある。
きる。その際用いられる溶剤としては、N−メチル−2
−ピロリドン、N、N−ジメチルアセトアミド、N、l
j−ジメチルホルムアミド、jl、PI−ジエチルホル
ムアミド、道−メチルホルム了ミド、ジメチルスルホキ
シド、la、N−ジエチルアセトアミド、la、31−
ジメチルメトキシアセトアミド、ヘキサメチルホスホル
アミド、ピリジン、ジメチルスルホン、テトラメチルス
ルホン及びジメチルテトラメチレンスルホン等があり、
また、フェノール系溶剤群としては、フェノール、クレ
ゾール及びキシレノール等がある。
以上のものについては、単独又ri2穫以上を混合して
使用される。
使用される。
本発明の樹脂組成物を硬化させる手段としては、上記の
加熱方式以外に、イオン化放射線や光(紫外線)による
硬化法を用いることができる。
加熱方式以外に、イオン化放射線や光(紫外線)による
硬化法を用いることができる。
イオン化放射線としては、各種加速機からの電子線やコ
バルト−60等のアイソトープからのガンマ線等を用い
ることができる。
バルト−60等のアイソトープからのガンマ線等を用い
ることができる。
また、光硬化の際の光源としては、太陽光線、タングス
テン灯、アーク灯、キセノン灯、ノ・ロゲンランプ、低
圧あるいは高圧の水銀灯が使用される。
テン灯、アーク灯、キセノン灯、ノ・ロゲンランプ、低
圧あるいは高圧の水銀灯が使用される。
光硬化の際には、光増感剤の使用を制限するものではな
い。このようなものとしては例えば、ベンシイ/、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ペ
ンゾインイソグロビルエーテル、ベンズアンスロン、β
−メチルアントラキノン、ベンゾフェノン、9.10−
フェナントレンキノン、アントラキノン、5−ニトロア
セナフテン、1−ニトロナフタレン、ミヒラーケトンあ
るいは、エオシン、エリスロシン、アクリジンなどかあ
シ、1種以上を併用できる。
い。このようなものとしては例えば、ベンシイ/、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ペ
ンゾインイソグロビルエーテル、ベンズアンスロン、β
−メチルアントラキノン、ベンゾフェノン、9.10−
フェナントレンキノン、アントラキノン、5−ニトロア
セナフテン、1−ニトロナフタレン、ミヒラーケトンあ
るいは、エオシン、エリスロシン、アクリジンなどかあ
シ、1種以上を併用できる。
本発明の一般式Iで表されるエポキシ化合物を少なくと
も含む感光性溶液を調整することによシ、次のようなレ
リーフパターンを形成できる。
も含む感光性溶液を調整することによシ、次のようなレ
リーフパターンを形成できる。
上記の゛感光性溶液を基板に塗布し、150℃以下、好
ましくは100℃以下で乾燥して有機溶剤を除去する。
ましくは100℃以下で乾燥して有機溶剤を除去する。
乾燥後、塗布膜にネガ型のフオトマスフチャートを置き
、紫外線、可視光線、電子線、X線などの活性光線を照
射する。次いで未露光の部分を現像液で洗い流すことに
よシ、エポキシ化合物の重合体より形成されるレリーフ
パターンを得る。
、紫外線、可視光線、電子線、X線などの活性光線を照
射する。次いで未露光の部分を現像液で洗い流すことに
よシ、エポキシ化合物の重合体より形成されるレリーフ
パターンを得る。
上記の現像液としては、M、N−ジメチルホルムアミド
、N、N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシ
ド、N−メチル−2−ピロリドン、ヘキサメチルホスホ
アミド、アセトン、メチルエチ△ ルケトン、メチルセロソルブ、エテルセロンルブ、イン
ブチロセロンルブ、ベンゼン、トルエン、メタノール、
エタノール、イングロビルアルコールなどの単独又は併
用混合系を用いることができる。
、N、N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシ
ド、N−メチル−2−ピロリドン、ヘキサメチルホスホ
アミド、アセトン、メチルエチ△ ルケトン、メチルセロソルブ、エテルセロンルブ、イン
ブチロセロンルブ、ベンゼン、トルエン、メタノール、
エタノール、イングロビルアルコールなどの単独又は併
用混合系を用いることができる。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、耐熱性に優れ、また金
属との接着性が良好であるため、半導体装置用の封止剤
として有用であり、素子やリード線を被覆封止するのに
用いられる。
属との接着性が良好であるため、半導体装置用の封止剤
として有用であり、素子やリード線を被覆封止するのに
用いられる。
本発明組成物を半導体装置を刺止するために用いる場合
、方法は特に限定されず、注型、トランスファ成形など
の公知の方法が適用できる。
、方法は特に限定されず、注型、トランスファ成形など
の公知の方法が適用できる。
以下、本発明を実m例によシ更に具体的に説明するが、
本発明はこれら実施列に限定されない。
本発明はこれら実施列に限定されない。
実施列1〜8、比較例1
本発明の必須成分であるシック結合を持つエポキシ化合
物として、下記: OH。
物として、下記: OH。
05種類を採ル上げた。これらに更に、ビスフェノール
ム型エポキシDIR552(ダウ・ケミカル社製)、オ
ルトジアリルビスフェノールF、2.2−ビス(4−(
4−マレイミドフェノキシ)フェニル]へキサフルオロ
プロパン(略して、DAPP−PM工)、トリアリルイ
ンシアヌレート(Tム工O)を、それぞれ別個に第1表
に示した所定量(重量部)を配合して、8種類の配合物
を作った。これらの配合物には、それぞれ硬化促進剤と
して、ジシアンジアミド、ペンゾグアナミ/及びジクミ
ルノく−オキシド(DOPO)を、また、カップリング
剤としてエポキシシランKEM 403 (信越化学社
製)を所定量添加した。
ム型エポキシDIR552(ダウ・ケミカル社製)、オ
ルトジアリルビスフェノールF、2.2−ビス(4−(
4−マレイミドフェノキシ)フェニル]へキサフルオロ
プロパン(略して、DAPP−PM工)、トリアリルイ
ンシアヌレート(Tム工O)を、それぞれ別個に第1表
に示した所定量(重量部)を配合して、8種類の配合物
を作った。これらの配合物には、それぞれ硬化促進剤と
して、ジシアンジアミド、ペンゾグアナミ/及びジクミ
ルノく−オキシド(DOPO)を、また、カップリング
剤としてエポキシシランKEM 403 (信越化学社
製)を所定量添加した。
次いで、これらの配合組成物は、N−メチ/L/ −2
−ピロリドン(IIMP)とメチルエチルケトン(Mm
x)の等量混合液に溶解して、45〜48重菫係の固形
分を含むワニスとした。
−ピロリドン(IIMP)とメチルエチルケトン(Mm
x)の等量混合液に溶解して、45〜48重菫係の固形
分を含むワニスとした。
該ワニス溶液を用いて、ガラス布(日東紡社製WEt−
116P BY−54)に、樹脂含浸塗布し、160℃
、15分間乾燥させ、樹脂含有波45〜48重量係の塗
工布を作成した。
116P BY−54)に、樹脂含浸塗布し、160℃
、15分間乾燥させ、樹脂含有波45〜48重量係の塗
工布を作成した。
次いで、該塗工布8枚を用い、その上下に35μm厚の
TAI処理鋼箔(古河室ニーcpc社製)を重ね、17
0〜185℃、40ゆ・f/−の条件下で80分積層接
着し、厚さ約1.6−の両面鋼張り積層板を作成した。
TAI処理鋼箔(古河室ニーcpc社製)を重ね、17
0〜185℃、40ゆ・f/−の条件下で80分積層接
着し、厚さ約1.6−の両面鋼張り積層板を作成した。
上記の銅張多積層板を、更に200℃、4時間、後硬化
を行った。得られた鋼張)積層板8種類の緒特性を比較
列1と共に第1表に示した。
を行った。得られた鋼張)積層板8種類の緒特性を比較
列1と共に第1表に示した。
なお、各特性の測定方法は次の通シである。
(a)銅箔用はがし強度
銅張シ積層板より25mX100−の大きさに試験片を
切り取った後、中央部に幅10wK銅箔を残し、他の銅
箔はエツチング除去した。次に、中央部の銅箔を垂直方
向に5■/ minの速度で引はがし、その強度を測定
した。
切り取った後、中央部に幅10wK銅箔を残し、他の銅
箔はエツチング除去した。次に、中央部の銅箔を垂直方
向に5■/ minの速度で引はがし、その強度を測定
した。
(1)3半田耐熱性
銅張シ積層板よシ25■角に切9取ったものを試験片と
し友。上記試験片を300℃に加熱した半田浴に浮かべ
、フクレなどの異常の発生する時間を測定した。
し友。上記試験片を300℃に加熱した半田浴に浮かべ
、フクレなどの異常の発生する時間を測定した。
(0)消炎性
UL−94垂直法に従って測定した。上記の銅張シ積層
板から幅12■、長さ125mに切シ取シ、鋼箔をエツ
チングしたものを試験片とし友。
板から幅12■、長さ125mに切シ取シ、鋼箔をエツ
チングしたものを試験片とし友。
試験片は各々10個ずつ測定し、平均消炎時間で表した
。
。
なお、平均消炎時間5秒以内、最長消炎時間10秒以内
がUL−94、v−o、平均消炎時間25秒以内、最長
消炎時間50秒以内がUL−94、V−1である。
がUL−94、v−o、平均消炎時間25秒以内、最長
消炎時間50秒以内がUL−94、V−1である。
実施例9
要滑部材の製造方法
厚さ1mmの帯鋼の表面に0u90〜5n10合金粉末
(32メツシュ通過)を散布し、還元性雰囲気中810
〜830℃で40分間焼結させ多孔質層を厚さ約650
μmに形成した。
(32メツシュ通過)を散布し、還元性雰囲気中810
〜830℃で40分間焼結させ多孔質層を厚さ約650
μmに形成した。
焼結後、常温まで冷却し死後、該多孔質層上にグラファ
イト35重量部、FTF315重量部、シッフエポキシ
FiSF−(e)系化合物50重量部よシなる混合粉末
をホッパよシ散布し、予備成形工程として、第1加圧ロ
ーラ、100 kg7cm”、第2加圧ローラ、200
ゆ/eR1”で160℃、1時間押圧し、更に本成形工
程として炉内温度230℃において、第3加圧ローラ、
300ゆ/cW1雪、第4加圧ローラ、400 kg7
cm”に押圧して硬化させ、厚さ約450μmの被膜を
形成した。
イト35重量部、FTF315重量部、シッフエポキシ
FiSF−(e)系化合物50重量部よシなる混合粉末
をホッパよシ散布し、予備成形工程として、第1加圧ロ
ーラ、100 kg7cm”、第2加圧ローラ、200
ゆ/eR1”で160℃、1時間押圧し、更に本成形工
程として炉内温度230℃において、第3加圧ローラ、
300ゆ/cW1雪、第4加圧ローラ、400 kg7
cm”に押圧して硬化させ、厚さ約450μmの被膜を
形成した。
このようにして得られた平板状の要滑部材を下記の試験
条件でスラスト耐荷重試験を行った結果高速度条件下に
おいて、低摩擦係数a05〜a[+3を示し、耐荷本性
にも優れていることが分った。
条件でスラスト耐荷重試験を行った結果高速度条件下に
おいて、低摩擦係数a05〜a[+3を示し、耐荷本性
にも優れていることが分った。
一試 験 条 件−
すベシ速度 v−=27 s m/min荷 重
P=10分ごとに10稽/12累積負荷を行い、4
50 kg7cm”終了 相手材料 B45C潤滑、完全無潤滑実施例10 シッフエポキシl 8 F −(e) t 0重量部を
、ジメチルホルムアミドに溶解して2重量%浴液を調整
した。次に、十分に洗浄した透電導電膜を有するポリエ
チレンテレフタレートフィルム上に、スピンナーを用い
て、5500rpmで均一に塗布後、120℃で15分
間乾燥してジメチルホルムアミドを蒸発させ、膜厚65
0ムの配向制御膜を形成した。このmkフェルトで一定
方向にラビングし、配向制御膜を有する基板フィルムを
作成した。
P=10分ごとに10稽/12累積負荷を行い、4
50 kg7cm”終了 相手材料 B45C潤滑、完全無潤滑実施例10 シッフエポキシl 8 F −(e) t 0重量部を
、ジメチルホルムアミドに溶解して2重量%浴液を調整
した。次に、十分に洗浄した透電導電膜を有するポリエ
チレンテレフタレートフィルム上に、スピンナーを用い
て、5500rpmで均一に塗布後、120℃で15分
間乾燥してジメチルホルムアミドを蒸発させ、膜厚65
0ムの配向制御膜を形成した。このmkフェルトで一定
方向にラビングし、配向制御膜を有する基板フィルムを
作成した。
このようにして作成した2枚のフィルムの配向制御膜を
対向させて配置し、これらのフィルムをポリエステル系
接漬剤よりなる封増剤で接着して液晶表示素子を作成し
た。この素子の配向制御膜(58] 間に、フェニルシクロヘキサン系の液晶(メルク社製、
ZLエニー132)を配置し、2枚の直交偏光板間で液
晶の配向性を調べた結果、良好な配向性を示した。
対向させて配置し、これらのフィルムをポリエステル系
接漬剤よりなる封増剤で接着して液晶表示素子を作成し
た。この素子の配向制御膜(58] 間に、フェニルシクロヘキサン系の液晶(メルク社製、
ZLエニー132)を配置し、2枚の直交偏光板間で液
晶の配向性を調べた結果、良好な配向性を示した。
実施例11
シッフエポキシB 8 F−(θ)50重11部ト、ヒ
スフェノールA型エポキシIHp1001(シェル社製
)20重量部、2.2−ビス(4−(a−マレイミドフ
ェノキシ)フェニル]へキサフルオロプロパン30重量
部、ジシアンジアミド8重を部、シリカエアロジル(L
5重量部を配合した後、混合粉砕によシ、125メツシ
ユパスに微粉砕して塗料を得た。該粉体塗料は、室温で
50日放置後もブロッキング現象は見らnず、170℃
、40分加熱して得られた塗膜は平滑性に唆れておJ)
、180℃、30日放置後も42−アロイとの接漬性が
保持された。
スフェノールA型エポキシIHp1001(シェル社製
)20重量部、2.2−ビス(4−(a−マレイミドフ
ェノキシ)フェニル]へキサフルオロプロパン30重量
部、ジシアンジアミド8重を部、シリカエアロジル(L
5重量部を配合した後、混合粉砕によシ、125メツシ
ユパスに微粉砕して塗料を得た。該粉体塗料は、室温で
50日放置後もブロッキング現象は見らnず、170℃
、40分加熱して得られた塗膜は平滑性に唆れておJ)
、180℃、30日放置後も42−アロイとの接漬性が
保持された。
実施例12
シックエポキシBSF−(c)80重鷺部ト、ヒスフェ
ノールA型エポキシF!p−1004(シェル社製)2
0重量部を100〜150℃に加熱して両者をあらかじ
め溶解させ、60〜80℃に保温する。
ノールA型エポキシF!p−1004(シェル社製)2
0重量部を100〜150℃に加熱して両者をあらかじ
め溶解させ、60〜80℃に保温する。
これにあらかじめ無水酸硬化剤ドデセニル無水コハク酸
(DD8ム)70重量部と、イミダゾール系2B4MZ
−OHCVM国化成社製)zn重量部とを50〜45℃
で、あらかじめ両者を溶解させたものを速かに混合溶解
させてワニスを調整した。
(DD8ム)70重量部と、イミダゾール系2B4MZ
−OHCVM国化成社製)zn重量部とを50〜45℃
で、あらかじめ両者を溶解させたものを速かに混合溶解
させてワニスを調整した。
このワニスを120〜b
処理して硬化させ友。この硬化樹脂板(厚さ5■)を用
いて、ショアA硬度(室温)を測定した結果、88であ
った。
いて、ショアA硬度(室温)を測定した結果、88であ
った。
次に、上述のワニスを用い、あらかじめ60〜80℃に
加熱しておいた厚さα05mのガラスクロスに塗り込み
、この上面に厚さalgIllの集成マイカを重ね合せ
て軽く圧潰させながらロールに巻きとった。
加熱しておいた厚さα05mのガラスクロスに塗り込み
、この上面に厚さalgIllの集成マイカを重ね合せ
て軽く圧潰させながらロールに巻きとった。
次に、このものを60〜80℃の恒温槽中に1〜4日間
放置してプリプレグシートを得る。このシートは25℃
で6か月以上可とう性を有し、十分な貯蔵安定性を示す
。プリプレグのワニス含有量は43重量係である。
放置してプリプレグシートを得る。このシートは25℃
で6か月以上可とう性を有し、十分な貯蔵安定性を示す
。プリプレグのワニス含有量は43重量係である。
このプリプレグテープを銅板に巻回して絶縁層を施し、
120〜180℃で所定の時間で硬化した。この絶縁体
の室温時の曲げ強度を測定し曲げ強度が一定になった歪
み105m+時の値は200ゆ以上である。
120〜180℃で所定の時間で硬化した。この絶縁体
の室温時の曲げ強度を測定し曲げ強度が一定になった歪
み105m+時の値は200ゆ以上である。
また、せん断接着力は、初期値15 K97cut”で
、従来のエポキシ系材料を用いた場合の3〜8ψ−に比
べて格段に優れたものである。
、従来のエポキシ系材料を用いた場合の3〜8ψ−に比
べて格段に優れたものである。
本発明の樹脂組成物を加熱硬化して得られる硬化物は、
高温における機械強度に優れ、耐熱性の良好な特性を有
する。
高温における機械強度に優れ、耐熱性の良好な特性を有
する。
特許出願人 株式会社日立製作所
Claims (7)
- 1.下記一般式I: R−CH=N−Ar−N=CH−R・・・〔I〕(式中
Rは式▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、
化学式、表等があります▼で表され る基、Arは1個以上の芳香族核を持つ2価の有機基を
示す)で表されることを特徴とするシッフ結合を持つエ
ポキシ化合物。 - 2.請求項1記載のエポキシ化合物を硬化させてなるこ
とを特徴とする硬化体。 - 3.請求項1記載のエポキシ化合物を含有していること
を特徴とする組成物。 - 4.請求項3記載の組成物を硬化させてなることを特徴
とする硬化体。 - 5.請求項3記載の組成物を使用してなることを特徴と
する積層体。 - 6.請求項3記載の組成物を含有していることを特徴と
する塗料。 - 7.樹脂で被覆及び/又は封止された半導体装置におい
て、該樹脂材料が請求項1記載のエポキシ化合物又は請
求項5記載の組成物であることを特徴とする半導体装置
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23900288A JPH0288623A (ja) | 1988-09-26 | 1988-09-26 | エポキシ化合物と組成物及びそれらの用途 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23900288A JPH0288623A (ja) | 1988-09-26 | 1988-09-26 | エポキシ化合物と組成物及びそれらの用途 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0288623A true JPH0288623A (ja) | 1990-03-28 |
Family
ID=17038435
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23900288A Pending JPH0288623A (ja) | 1988-09-26 | 1988-09-26 | エポキシ化合物と組成物及びそれらの用途 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0288623A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101360551B1 (ko) * | 2011-12-16 | 2014-02-12 | 엘지이노텍 주식회사 | 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용한 방열회로기판 |
EP2731993A2 (en) * | 2011-07-12 | 2014-05-21 | LG Innotek Co., Ltd. | Epoxy resin compound and radiant heat circuit board using the same |
KR20150059130A (ko) * | 2013-11-21 | 2015-05-29 | 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 | 구아니딘 화합물 또는 그 염, 폴리에폭사이드 및 폴리할로겐의 반응 생성물 |
WO2016204178A1 (ja) * | 2015-06-16 | 2016-12-22 | 三菱化学株式会社 | 配向膜及び配向膜用組成物 |
-
1988
- 1988-09-26 JP JP23900288A patent/JPH0288623A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2731993A2 (en) * | 2011-07-12 | 2014-05-21 | LG Innotek Co., Ltd. | Epoxy resin compound and radiant heat circuit board using the same |
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KR101360551B1 (ko) * | 2011-12-16 | 2014-02-12 | 엘지이노텍 주식회사 | 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용한 방열회로기판 |
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JP2015147761A (ja) * | 2013-11-21 | 2015-08-20 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC | グアニジン化合物またはその塩、ポリエポキシドおよびポリハロゲンの反応生成物 |
WO2016204178A1 (ja) * | 2015-06-16 | 2016-12-22 | 三菱化学株式会社 | 配向膜及び配向膜用組成物 |
JPWO2016204178A1 (ja) * | 2015-06-16 | 2018-04-12 | 三菱ケミカル株式会社 | 配向膜及び配向膜用組成物 |
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