JPH0262545A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 30
- 239000000539 dimer Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 20
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 17
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- YDIYEOMDOWUDTJ-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)benzoic acid Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 YDIYEOMDOWUDTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- -1 alkyl oxime esters Chemical class 0.000 description 34
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 17
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 16
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 14
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 14
- 238000011161 development Methods 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 10
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 8
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 8
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 8
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 8
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 8
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 7
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 5
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 5
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 1-heptanol Chemical compound CCCCCCCO BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 1-penten-3-one Chemical compound CCC(=O)C=C JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N Leucocrystal Violet Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N octadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCO GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000013112 stability test Methods 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 2
- HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N tetrabromomethane Chemical compound BrC(Br)(Br)Br HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromoethane Chemical compound BrCCBr PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJQFWAQRPATHTR-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1Cl BJQFWAQRPATHTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical group CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXZFFTJAHVMMLF-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-3-methylbutane Chemical compound CC(C)CCBr YXZFFTJAHVMMLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZWKKMVJZFACSU-UHFFFAOYSA-N 1-bromopentane Chemical compound CCCCCBr YZWKKMVJZFACSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1 JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHFHDVDXYKOSKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=C(C=C)C=C1 WHFHDVDXYKOSKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCNAQVGAHQVWIN-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-hexylbenzene Chemical compound CCCCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 LCNAQVGAHQVWIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLRQDIVVLOCZPH-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-octylbenzene Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 HLRQDIVVLOCZPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCSKFKICHQAKEZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylindole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C=CC2=C1 RCSKFKICHQAKEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTUGGGLMQBJCBN-UHFFFAOYSA-N 1-iodo-2-methylpropane Chemical compound CC(C)CI BTUGGGLMQBJCBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLXSFCHWMBESKV-UHFFFAOYSA-N 1-iodopentane Chemical compound CCCCCI BLXSFCHWMBESKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C=C)C=C1 QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical class C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 2,4-di(propan-2-yl)thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C3SC2=C1 BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC(C)=C3SC2=C1 LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOC(C)=O JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKZLOJXUDPQIL-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-4-ethylphenol Chemical compound CCCCC1=CC(CC)=CC=C1O DAKZLOJXUDPQIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJQMXVDKXSQCDI-UHFFFAOYSA-N 2-ethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3SC2=C1 YJQMXVDKXSQCDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMLGFOAKCYHXCQ-UHFFFAOYSA-N 4-(diethylamino)benzonitrile Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(C#N)C=C1 KMLGFOAKCYHXCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNYTUARMNSFFBE-UHFFFAOYSA-N 4-(diethylazaniumyl)benzoate Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 LNYTUARMNSFFBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYMNQRQQBJIMCV-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)benzonitrile Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C#N)C=C1 JYMNQRQQBJIMCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWXVEXLYWWGQPK-UHFFFAOYSA-N 4-[di(propan-2-yl)amino]benzoic acid Chemical compound CC(C)N(C(C)C)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 SWXVEXLYWWGQPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWFWUDXARNEXLJ-UHFFFAOYSA-N 4-[di(propan-2-yl)amino]benzonitrile Chemical compound CC(C)N(C(C)C)C1=CC=C(C#N)C=C1 TWFWUDXARNEXLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZKXBGJNNCGHIC-UHFFFAOYSA-N Leucomalachite green Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=CC=C1 WZKXBGJNNCGHIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N auramine O free base Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=N)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N bis(4-aminophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N)C=C1 ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNBFNNNWANBMTI-UHFFFAOYSA-M brilliant green Chemical compound OS([O-])(=O)=O.C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 NNBFNNNWANBMTI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OQROAIRCEOBYJA-UHFFFAOYSA-N bromodiphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(Br)C1=CC=CC=C1 OQROAIRCEOBYJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INLLPKCGLOXCIV-UHFFFAOYSA-N bromoethene Chemical compound BrC=C INLLPKCGLOXCIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 1
- FJBFPHVGVWTDIP-UHFFFAOYSA-N dibromomethane Chemical compound BrCBr FJBFPHVGVWTDIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005594 diketone group Chemical group 0.000 description 1
- DWNAQMUDCDVSLT-UHFFFAOYSA-N diphenyl phthalate Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)OC=2C=CC=CC=2)C=1C(=O)OC1=CC=CC=C1 DWNAQMUDCDVSLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical compound FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- PBZROIMXDZTJDF-UHFFFAOYSA-N hepta-1,6-dien-4-one Chemical compound C=CCC(=O)CC=C PBZROIMXDZTJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHHHONWQHHHLTI-UHFFFAOYSA-N hexachloroethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C(Cl)(Cl)Cl VHHHONWQHHHLTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWJZTPWDQYFQPQ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-chloroprop-2-enoate Chemical compound COC(=O)C(Cl)=C AWJZTPWDQYFQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N n-heptadecyl alcohol Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCO GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- HDBWAWNLGGMZRQ-UHFFFAOYSA-N p-Vinylbiphenyl Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1C1=CC=CC=C1 HDBWAWNLGGMZRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYNDHICBIRRPFP-UHFFFAOYSA-N pacific blue Chemical compound FC1=C(O)C(F)=C2OC(=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 VYNDHICBIRRPFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical class C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYMDGNCVAMGZFE-UHFFFAOYSA-N phenylbutazonum Chemical compound O=C1C(CCCC)C(=O)N(C=2C=CC=CC=2)N1C1=CC=CC=C1 VYMDGNCVAMGZFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- 229920006027 ternary co-polymer Polymers 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWWMSEANWMWMCB-UHFFFAOYSA-N tribromomethylsulfonylbenzene Chemical compound BrC(Br)(Br)S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 DWWMSEANWMWMCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N vinyl methyl ketone Natural products CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は新規な感光性樹脂組成物に関するものである。
さらに詳しくいえば、本発明は、硬化速度が極めて速く
、かつ良好な保存安定性を有する上に、テンティング性
や解像度に優れるなどの特徴を有し、特に印刷回路板作
成に適したレジスト材料として好適な感光性樹脂組成物
に関するものである。
、かつ良好な保存安定性を有する上に、テンティング性
や解像度に優れるなどの特徴を有し、特に印刷回路板作
成に適したレジスト材料として好適な感光性樹脂組成物
に関するものである。
従来の技術
近年、プリント配線板の製造やレリーフ版の製造には、
感光性樹脂を用いた7オトレジスト法が用いられている
。このフォトレジスト法においては、例えば、まず透明
なフィルムなどの支持体上に、感光性樹脂組成物を塗布
して感光性樹脂層を形成したのち、この感光性樹脂層を
所望の画像を設けようとする基板表面に接するように積
層し、次いで該感光樹脂層に、原画を介して活性光を照
射して露光させたのち、未露光部分を溶剤又はアルカリ
水溶液による現像処理により除去して、該原画に対応す
る画像を形成させる方法が、通常とられている。
感光性樹脂を用いた7オトレジスト法が用いられている
。このフォトレジスト法においては、例えば、まず透明
なフィルムなどの支持体上に、感光性樹脂組成物を塗布
して感光性樹脂層を形成したのち、この感光性樹脂層を
所望の画像を設けようとする基板表面に接するように積
層し、次いで該感光樹脂層に、原画を介して活性光を照
射して露光させたのち、未露光部分を溶剤又はアルカリ
水溶液による現像処理により除去して、該原画に対応す
る画像を形成させる方法が、通常とられている。
このような用途に用いられる感光樹脂組成物に用いられ
る光重合開始剤としては、従来、ベンゾイン類、ケトン
類、キノン類、ジケトン類、アルキルオキシムエステル
類など、あるいはそれらの併用系、例えばベンゾフェノ
ン/ミヒラーズブトン、チオキサントン/芳香族アミン
、2.4.5−)リアリールイミダゾリルニ量体/ミヒ
ラーズケトンなどが知られている。
る光重合開始剤としては、従来、ベンゾイン類、ケトン
類、キノン類、ジケトン類、アルキルオキシムエステル
類など、あるいはそれらの併用系、例えばベンゾフェノ
ン/ミヒラーズブトン、チオキサントン/芳香族アミン
、2.4.5−)リアリールイミダゾリルニ量体/ミヒ
ラーズケトンなどが知られている。
しかしながら、これらの光重合開始剤においては、一般
に硬化速度が十分ではなく、また、硬化速度と保存安定
性を同時に満足するものは得られていない。さらに、ミ
ヒラーズケトンは、360nm近傍に大きな吸収をもつ
ため、紫外線照射により硬化させた場合、感光性樹脂層
下部の硬化が十分ではなく、硬化後のラインが流れやす
く、微細パターン作成には不適当である上、硬化膜強度
が十分でないために、テンティング性に劣るなどの欠点
がある。
に硬化速度が十分ではなく、また、硬化速度と保存安定
性を同時に満足するものは得られていない。さらに、ミ
ヒラーズケトンは、360nm近傍に大きな吸収をもつ
ため、紫外線照射により硬化させた場合、感光性樹脂層
下部の硬化が十分ではなく、硬化後のラインが流れやす
く、微細パターン作成には不適当である上、硬化膜強度
が十分でないために、テンティング性に劣るなどの欠点
がある。
例えば、2,4.54リアリ一ルメタイミダゾリル二量
体とp−アミノフェニルケトンとの併用系(特公昭48
−38403号公報)では硬化速度が十分でないし、ま
たチオキサントン又はそのアルキル若しくはハロゲン化
誘導体とp−ジアルキルアミノ安息香酸又はそのエステ
ル化物と2.4.5− トリアリールイミダゾリルニ量
体との3成分系(特開昭61−188533号公報)や
チオキサントン又はその誘導体と2−メチル−1−[4
−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパ
ン−1−オンと2.4.5−1−リアリールイミダゾリ
ルニ量体との3成分系(特開昭61−188534号公
報)は、硬化速度が十分でない上、レジスト材料として
用いた場合、その保存安定性、特にレジストを基板に密
着させた状態で保存した場合の安定性に劣り、大幅な感
度低下を免れないなどの欠点を有している。
体とp−アミノフェニルケトンとの併用系(特公昭48
−38403号公報)では硬化速度が十分でないし、ま
たチオキサントン又はそのアルキル若しくはハロゲン化
誘導体とp−ジアルキルアミノ安息香酸又はそのエステ
ル化物と2.4.5− トリアリールイミダゾリルニ量
体との3成分系(特開昭61−188533号公報)や
チオキサントン又はその誘導体と2−メチル−1−[4
−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパ
ン−1−オンと2.4.5−1−リアリールイミダゾリ
ルニ量体との3成分系(特開昭61−188534号公
報)は、硬化速度が十分でない上、レジスト材料として
用いた場合、その保存安定性、特にレジストを基板に密
着させた状態で保存した場合の安定性に劣り、大幅な感
度低下を免れないなどの欠点を有している。
発明が解決しようとする課題
本発明は、このような従来の感光性樹脂組成物が有する
欠点を克服し、硬化速度が極めて速く、かつ良好な保存
安定性を有する上、テンティング性や解像度に優れるな
どの特徴を有する感光性樹脂組成物を提供することを目
的としてなされたものである。
欠点を克服し、硬化速度が極めて速く、かつ良好な保存
安定性を有する上、テンティング性や解像度に優れるな
どの特徴を有する感光性樹脂組成物を提供することを目
的としてなされたものである。
課題を解決するための手段
本発明者らは、前記の優れた特徴を有する感光性樹脂組
成物を開発するために鋭意研究を重ねた結果、光重合開
始剤として、ベンゾインジアルキルエーテル類と2.4
.5− トリアリールイミダゾリル二量体とを併用する
ことにより、十分な硬化速度をもち、しかも、硬化後の
ラインの密着性が良好で、かつ十分なテンティング性を
もつものが得られること、及びベンゾインジアルキルエ
ーテル類と2.4.5−トリアリールイミダゾリル二量
体とチオキサントン化合物とp−ジアルキルアミノ安息
香酸誘導体の4成分を併用することにより、感度が著し
く高い上に、保存安定性にも優れるものが得られること
を見い出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至
った。
成物を開発するために鋭意研究を重ねた結果、光重合開
始剤として、ベンゾインジアルキルエーテル類と2.4
.5− トリアリールイミダゾリル二量体とを併用する
ことにより、十分な硬化速度をもち、しかも、硬化後の
ラインの密着性が良好で、かつ十分なテンティング性を
もつものが得られること、及びベンゾインジアルキルエ
ーテル類と2.4.5−トリアリールイミダゾリル二量
体とチオキサントン化合物とp−ジアルキルアミノ安息
香酸誘導体の4成分を併用することにより、感度が著し
く高い上に、保存安定性にも優れるものが得られること
を見い出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至
った。
すなわち、本発明は、(A)α、β−不飽和エチレン系
単量体単位を有するバインダーポリマー、(B)光重合
性上ツマ−及び(C)光重合開始剤を含有して成る感光
性樹脂組成物において、該光重合開始剤として、(イ)
一般式 %式% (式中のR1及びR2は、それぞれ水素原子又はアルキ
ル基であり、それらは同一であってもよいし、たがいに
異なっていてもよい) で表わされる化合物の中から選ばれた少なくとも1種と
(ロ) 2,4.5− ドリアリールイミダゾリル二量
体の中から選ばれた少なくとも1種とを、又はこれらと
、さらに(ハ)一般式 (式中のR3及びR4は、それぞれ水素原子、ハロゲン
原子又はアルキル基であり、それらは同一であってもよ
いし、たがいに異なっていてもよい)で表わされる化合
物の中から選ばれた少なくとも1種と(ニ)一般式 (式中のR5及びR6は、それぞれアルキル基であり、
それらは同一であってもよいし、たがいに異なっていて
もよく、R7はカルボキシル基、アルコキンカルボニル
基又はニトリル基である)で表わされる化合物の中から
選ばれた少なくとも1種とを併用することを特徴とする
感光性樹脂組成物を提供するものである。
単量体単位を有するバインダーポリマー、(B)光重合
性上ツマ−及び(C)光重合開始剤を含有して成る感光
性樹脂組成物において、該光重合開始剤として、(イ)
一般式 %式% (式中のR1及びR2は、それぞれ水素原子又はアルキ
ル基であり、それらは同一であってもよいし、たがいに
異なっていてもよい) で表わされる化合物の中から選ばれた少なくとも1種と
(ロ) 2,4.5− ドリアリールイミダゾリル二量
体の中から選ばれた少なくとも1種とを、又はこれらと
、さらに(ハ)一般式 (式中のR3及びR4は、それぞれ水素原子、ハロゲン
原子又はアルキル基であり、それらは同一であってもよ
いし、たがいに異なっていてもよい)で表わされる化合
物の中から選ばれた少なくとも1種と(ニ)一般式 (式中のR5及びR6は、それぞれアルキル基であり、
それらは同一であってもよいし、たがいに異なっていて
もよく、R7はカルボキシル基、アルコキンカルボニル
基又はニトリル基である)で表わされる化合物の中から
選ばれた少なくとも1種とを併用することを特徴とする
感光性樹脂組成物を提供するものである。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明組成物における(A)成分のバインダーポリマー
としては、α、β−不飽和エチレン系単量体単位を有す
る高分子量重合体が用いられる。該α。
としては、α、β−不飽和エチレン系単量体単位を有す
る高分子量重合体が用いられる。該α。
β−不飽和エチレン系単量体単位を構成する単量体とし
ては、例えば、スチレン、0−メチルスチレン、m−メ
チルスチレン、p−メチルスチレン、αメチルスチレン
、p−エチルスチレン、2.4−ジメチルスチレンs
p−rl−ブチルスチレン、p−tert−ブチルスチ
レン、p−n−へキシルスチレン、p−1−オクチルス
チレン、p−メトキシスチレン、p−フェニルスチレン
、3.4−ジクロロスチレンなどのスチレン類、ビニル
ナフタレン類、エチレンやプロピレン、ブチレン%C3
〜C30及びそれ以上のσ−オレフィン類、塩化ビニル
、臭化ビニル、弗化ビニルなどのハロゲン化ビニル類、
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニノ呟酪酸ビニルなどのビ
ニルエステル類、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)
アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メ
タ)アクリル酸n−ブチノ呟(メタ)アクリル酸イソブ
チル、(メタ)アクリル酸n−オクチル、(メタ)アク
リル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシ
ル、(メタ)アクリル酸2−クロロエチル、(メタ)ア
クリル酸フェニル、α−クロロアクリル酸メチル、メタ
クリル酸ジメチルアミノエチルなどのα−メチレン脂肪
族モノカルボン酸エステル類、アクリロニ1−リル、メ
タクリロニトリル、アクリルアミドなどの(メタ)アク
リル酸誘導体、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエ
ーテルナトノビニルエーテル類、ビニルメチルケトン、
ビニルエチルケトンなどのビニルケトン類、N−ビニル
ビロール、N−ヒニルカルバゾール、N−ビニルインド
ールなどのN−ビニル化合物などが挙げられる。これら
の単量体は1種用いてもよいし、また2種以上を組み合
わせて用いてもよい。特に、アルカリ可溶性のバインダ
ーポリマーとするには、カルボキシル基を含む単量体、
例えば(メタ)アクリル酸、7マル酸、ケイ皮酸、クロ
トン酸、イタコン酸、マレイン酸無水物、マレイン酸半
エステルなどの中から選ばれた少なくとも1種が併用さ
れる。
ては、例えば、スチレン、0−メチルスチレン、m−メ
チルスチレン、p−メチルスチレン、αメチルスチレン
、p−エチルスチレン、2.4−ジメチルスチレンs
p−rl−ブチルスチレン、p−tert−ブチルスチ
レン、p−n−へキシルスチレン、p−1−オクチルス
チレン、p−メトキシスチレン、p−フェニルスチレン
、3.4−ジクロロスチレンなどのスチレン類、ビニル
ナフタレン類、エチレンやプロピレン、ブチレン%C3
〜C30及びそれ以上のσ−オレフィン類、塩化ビニル
、臭化ビニル、弗化ビニルなどのハロゲン化ビニル類、
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニノ呟酪酸ビニルなどのビ
ニルエステル類、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)
アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メ
タ)アクリル酸n−ブチノ呟(メタ)アクリル酸イソブ
チル、(メタ)アクリル酸n−オクチル、(メタ)アク
リル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシ
ル、(メタ)アクリル酸2−クロロエチル、(メタ)ア
クリル酸フェニル、α−クロロアクリル酸メチル、メタ
クリル酸ジメチルアミノエチルなどのα−メチレン脂肪
族モノカルボン酸エステル類、アクリロニ1−リル、メ
タクリロニトリル、アクリルアミドなどの(メタ)アク
リル酸誘導体、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエ
ーテルナトノビニルエーテル類、ビニルメチルケトン、
ビニルエチルケトンなどのビニルケトン類、N−ビニル
ビロール、N−ヒニルカルバゾール、N−ビニルインド
ールなどのN−ビニル化合物などが挙げられる。これら
の単量体は1種用いてもよいし、また2種以上を組み合
わせて用いてもよい。特に、アルカリ可溶性のバインダ
ーポリマーとするには、カルボキシル基を含む単量体、
例えば(メタ)アクリル酸、7マル酸、ケイ皮酸、クロ
トン酸、イタコン酸、マレイン酸無水物、マレイン酸半
エステルなどの中から選ばれた少なくとも1種が併用さ
れる。
このようなアルカリ可溶性バインダーポリマー中に含ま
れるカルボキシル基の含有量は、カルボキシル基当量で
、通常100〜600、好ましくは200〜450の範
囲で選ばれる。ここでカルボキシル基当量とは、カルボ
キシル基1当量が含まれるダラム重量を意味する。さら
にこのアルカリ可溶性バインダーポリマーは、その重量
平均分子量が通常1.000〜500,000、好まし
くは20.000〜200,000の範囲で選ばれる。
れるカルボキシル基の含有量は、カルボキシル基当量で
、通常100〜600、好ましくは200〜450の範
囲で選ばれる。ここでカルボキシル基当量とは、カルボ
キシル基1当量が含まれるダラム重量を意味する。さら
にこのアルカリ可溶性バインダーポリマーは、その重量
平均分子量が通常1.000〜500,000、好まし
くは20.000〜200,000の範囲で選ばれる。
一方、アルカリ可溶性でないバインダーポリマーの場合
は、その重量平均分子量は、通常10,000〜500
,000、好ましくは20,000〜300,000の
範囲で選ばれる。
は、その重量平均分子量は、通常10,000〜500
,000、好ましくは20,000〜300,000の
範囲で選ばれる。
本発明組成物における(B)成分の光重合性モノマーに
ついては、末端エチレン性不飽和基を少なくとも1個有
する不飽和化合物であればよく、特に制限はない。この
ような光重合性モノマーとしては、従来公知の化合物(
特公昭55〜38961号公報、特開昭58−887月
号公報、特願昭62−224025号などに記載されて
いる化合物)の中から任意のものを選択して用いること
ができる。
ついては、末端エチレン性不飽和基を少なくとも1個有
する不飽和化合物であればよく、特に制限はない。この
ような光重合性モノマーとしては、従来公知の化合物(
特公昭55〜38961号公報、特開昭58−887月
号公報、特願昭62−224025号などに記載されて
いる化合物)の中から任意のものを選択して用いること
ができる。
本発明組成物に8いては、(C)成分の光重合開始剤と
して、(イ)一般式 (式中のR1及びR2は前記と同じ意味をもつ)で表わ
される化合物の中から選ばれた少なくとも1種と(ロ)
2,4.5−トリアリールイミダゾリルニ量体とが併用
される。前記(イ)成分の一般式(I)で表わされる化
合物としては、例えばベンゾインジメチルエーテル、ベ
ンゾインジエチルエーテル、ベンゾインジイソプロピル
エーテルなどが好ましく挙げられ、これらの化合物は1
種用いてもよいし、2種以上を組み合わせてもよい。
して、(イ)一般式 (式中のR1及びR2は前記と同じ意味をもつ)で表わ
される化合物の中から選ばれた少なくとも1種と(ロ)
2,4.5−トリアリールイミダゾリルニ量体とが併用
される。前記(イ)成分の一般式(I)で表わされる化
合物としては、例えばベンゾインジメチルエーテル、ベ
ンゾインジエチルエーテル、ベンゾインジイソプロピル
エーテルなどが好ましく挙げられ、これらの化合物は1
種用いてもよいし、2種以上を組み合わせてもよい。
また、(ロ)成分の2.4.5−トリアリールイミダゾ
リルニ量体は、一般式 (式中のAr’、Ar2及びAr3は、それぞれ置換基
を有しない、又はハロゲン原子やアルコキシ基などの置
換基を有するフェニル基であり、それらは同一であって
もよいし、たがいに異なっていてもよい)で表わされる
化合物であり、このようなものとしては、例えば2.4
.5−トリフェニルイミダゾリルニJiL体、2−(o
−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル
ニ量体、2−(o−フルオロフェニル)4.5−ジフェ
ニルイミダゾリルニ量体、2−(o−メトキシフェニル
)−4,5−ジフェニルイミタソリルニA体、2.4−
シ(p−メトキシフェニル)−5−フェニルイミタソリ
ルニik体、2−(o−エトキシフェニル)−4,5−
ジフェニルイミダゾリルニ量体、2,4−ジ(pエトキ
シフェニル)−5−フェニルイミダゾリルニ量体などが
挙げられる。これらの化合物はそれぞれ単独で用いても
よいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
リルニ量体は、一般式 (式中のAr’、Ar2及びAr3は、それぞれ置換基
を有しない、又はハロゲン原子やアルコキシ基などの置
換基を有するフェニル基であり、それらは同一であって
もよいし、たがいに異なっていてもよい)で表わされる
化合物であり、このようなものとしては、例えば2.4
.5−トリフェニルイミダゾリルニJiL体、2−(o
−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル
ニ量体、2−(o−フルオロフェニル)4.5−ジフェ
ニルイミダゾリルニ量体、2−(o−メトキシフェニル
)−4,5−ジフェニルイミタソリルニA体、2.4−
シ(p−メトキシフェニル)−5−フェニルイミタソリ
ルニik体、2−(o−エトキシフェニル)−4,5−
ジフェニルイミダゾリルニ量体、2,4−ジ(pエトキ
シフェニル)−5−フェニルイミダゾリルニ量体などが
挙げられる。これらの化合物はそれぞれ単独で用いても
よいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明組成物においては、該(C)成分の光重合開始剤
として、前記(イ)成分及び(ロ)成分とともに、所望
に応じ、さらに(ハ)一般式 (式中のR3及びR4は前記と同じ意味をもつ)で表わ
される化合物の中から選ばれた少なくとも1種と(ニ)
一般式 (式中のR6、R6及びR7は前記と同じ意味をもつ)
で表わされる化合物の中から選ばれた少なくとも1種と
を併用することができる。
として、前記(イ)成分及び(ロ)成分とともに、所望
に応じ、さらに(ハ)一般式 (式中のR3及びR4は前記と同じ意味をもつ)で表わ
される化合物の中から選ばれた少なくとも1種と(ニ)
一般式 (式中のR6、R6及びR7は前記と同じ意味をもつ)
で表わされる化合物の中から選ばれた少なくとも1種と
を併用することができる。
前記(ハ)成分の一般式(II)で表わされる化合物と
しては、例えばチオキサントン、2−メチルチオキサン
トン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチ
オキサントン、2.4−ジメチルチオキサントン、2.
4−ジエチルチオキサントン、2.4−ジイソプロピル
チオキサントンなどのチオキサントンのアルキル化誘導
体、2−クロロチオキサントン、2.4−シクロロチオ
キサントンなどのチオキサントンのハロゲン化誘導体な
どが挙げられる。これらの化合物はそれぞれ単独で用い
てもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
しては、例えばチオキサントン、2−メチルチオキサン
トン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチ
オキサントン、2.4−ジメチルチオキサントン、2.
4−ジエチルチオキサントン、2.4−ジイソプロピル
チオキサントンなどのチオキサントンのアルキル化誘導
体、2−クロロチオキサントン、2.4−シクロロチオ
キサントンなどのチオキサントンのハロゲン化誘導体な
どが挙げられる。これらの化合物はそれぞれ単独で用い
てもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
一方、前記(ニ)成分の一般式(I[I)で表わされる
化合物としては、該式中のR5及びR6が炭素数1〜3
のアルキル基であるものが好ましく、また、R7がアル
コキシカルボニル基である場合には、そのアルキル基の
炭素数が18以下のものが好ましい。このようなものと
しては、例えば、p−ジメチルアミノ安息香酸、p−ジ
エチルアミノ安息香酸、p−ジイソプロピルアミノ安息
香酸及びこれらとアルコールとのエステル化物、p−ジ
メチルアミノベンゾニトリル、p−ジエチルアミノベン
ゾニトリル、p−ジイソプロピルアミノベンゾニトリル
などのニトリル化合物が挙げられる。前記エステル化物
を形成するアルコール成分としては、例えばメタノール
、エタノール、エチレングリコール、β−メトキシエタ
ノール、β−エトキシエタノール、β−ブトキシエタノ
−J呟fi−プロパツール、1so−’ロバノール、n
−ブタノーノ呟5eC−ブタノール、n−アミルアルコ
ール、1so−アミルアルコール、n−ヘキシルアルコ
ール、ヘプチルアルコール、オクチルアルコール、ステ
アリルアルコールなどの炭素数l〜18のアルコールを
用いることができる。前記(ニ)成分の化合物は1種用
いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
化合物としては、該式中のR5及びR6が炭素数1〜3
のアルキル基であるものが好ましく、また、R7がアル
コキシカルボニル基である場合には、そのアルキル基の
炭素数が18以下のものが好ましい。このようなものと
しては、例えば、p−ジメチルアミノ安息香酸、p−ジ
エチルアミノ安息香酸、p−ジイソプロピルアミノ安息
香酸及びこれらとアルコールとのエステル化物、p−ジ
メチルアミノベンゾニトリル、p−ジエチルアミノベン
ゾニトリル、p−ジイソプロピルアミノベンゾニトリル
などのニトリル化合物が挙げられる。前記エステル化物
を形成するアルコール成分としては、例えばメタノール
、エタノール、エチレングリコール、β−メトキシエタ
ノール、β−エトキシエタノール、β−ブトキシエタノ
−J呟fi−プロパツール、1so−’ロバノール、n
−ブタノーノ呟5eC−ブタノール、n−アミルアルコ
ール、1so−アミルアルコール、n−ヘキシルアルコ
ール、ヘプチルアルコール、オクチルアルコール、ステ
アリルアルコールなどの炭素数l〜18のアルコールを
用いることができる。前記(ニ)成分の化合物は1種用
いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明組成物における前記(A)成分のバインダーポリ
マーの含有量は、通常5〜90重量%、好ましくは30
〜70重量%の範囲で選ばれ、また(B)成分の光重合
性モノマーの含有量は、通常5〜90重量%、好ましく
は20〜60重量%の範囲で選ばれる。
マーの含有量は、通常5〜90重量%、好ましくは30
〜70重量%の範囲で選ばれ、また(B)成分の光重合
性モノマーの含有量は、通常5〜90重量%、好ましく
は20〜60重量%の範囲で選ばれる。
さらに、(C)成分の光重合開始剤の含有量については
、(イ)成分と(ロ)成分の2成分併用系では、通常該
組成物に対して、それぞれ0.1−10重量%の範囲で
選ばれる。また、(イ)成分と(ロ)成分と(ハ)成分
と(ニ)成分の4成分併用系では、通常該組成物に対し
て、それぞれ帆1〜10重量%の範囲で選ばれるが、(
ハ)成分と(ニ)成分との割合が、重量比で10:lな
いし1:10の範囲にあることが好ましい。
、(イ)成分と(ロ)成分の2成分併用系では、通常該
組成物に対して、それぞれ0.1−10重量%の範囲で
選ばれる。また、(イ)成分と(ロ)成分と(ハ)成分
と(ニ)成分の4成分併用系では、通常該組成物に対し
て、それぞれ帆1〜10重量%の範囲で選ばれるが、(
ハ)成分と(ニ)成分との割合が、重量比で10:lな
いし1:10の範囲にあることが好ましい。
本発明においては、光重合開始剤として、前記の(イ)
成分と(ロ)成分とを併用することにより、はじめて(
イ)成分及び(ロ)成分をそれぞれ単独で添加したのみ
では得られない所期の効果が発揮される。さらに、前記
(イ)成分及び(ロ)成分とともに、(ハ)成分と(ニ
)成分とを併用することにより、−層その効果を助長さ
せることができる。
成分と(ロ)成分とを併用することにより、はじめて(
イ)成分及び(ロ)成分をそれぞれ単独で添加したのみ
では得られない所期の効果が発揮される。さらに、前記
(イ)成分及び(ロ)成分とともに、(ハ)成分と(ニ
)成分とを併用することにより、−層その効果を助長さ
せることができる。
本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じ、熱安定性
や保存安定性を向上させるだめのラジカル重合禁止剤、
通常の染料や顔料、あるいは、光硬化部分と未硬化部分
とを区別するための光照射により発色する発色系染料や
退色系染料などの着色物質、可塑剤などの添加剤を添加
することができる。
や保存安定性を向上させるだめのラジカル重合禁止剤、
通常の染料や顔料、あるいは、光硬化部分と未硬化部分
とを区別するための光照射により発色する発色系染料や
退色系染料などの着色物質、可塑剤などの添加剤を添加
することができる。
前記ラジカル重合禁止剤としては、例えば、p−メトキ
シフェノール、ヒドロキノン、ピロガロールナフチルア
ミン、L−ブチルカテコール、塩化第一銅、2.6−ジ
ー(−ブチル−p−クレゾール、2.2′−メチレンビ
ス(4−エチル−6−し−ブチルフェノール)、2.2
’−メチレンビス(2−メチル−6−t−’チルフェノ
ールなどが挙げられ、通常の染料や顔料などの着色物質
としては、例えば、7クシン、オーラミン塩基、カルコ
キシドグリーンS1パラマジエンタ、クリスタルバイオ
レット、メチルオレンジ、ナイルプル−2B、 ビク
トリアブルー、マラカイトグリーン、ペイシックブルー
20、ダイアモンドグリーンなどが挙げられる。
シフェノール、ヒドロキノン、ピロガロールナフチルア
ミン、L−ブチルカテコール、塩化第一銅、2.6−ジ
ー(−ブチル−p−クレゾール、2.2′−メチレンビ
ス(4−エチル−6−し−ブチルフェノール)、2.2
’−メチレンビス(2−メチル−6−t−’チルフェノ
ールなどが挙げられ、通常の染料や顔料などの着色物質
としては、例えば、7クシン、オーラミン塩基、カルコ
キシドグリーンS1パラマジエンタ、クリスタルバイオ
レット、メチルオレンジ、ナイルプル−2B、 ビク
トリアブルー、マラカイトグリーン、ペイシックブルー
20、ダイアモンドグリーンなどが挙げられる。
また、該発色系染料としては、ロイコ染料とハロゲン化
合物との組合せがよく知られており、ロイコ染料として
は、例えばトリス(4−ジメチルアミノフェニル)メタ
ン[ロイコクリスタルバイオレット]、トリス(4−ジ
エチルアミノ−2−メチルフェニル)メタン[ロイコマ
ラカイトグリーン]などが挙げられる。一方、ハロゲン
化合物としては、臭化アミル、臭化イソアミル、臭化イ
ンブチレン、臭化エチレン、臭化ジフェニルメチル、臭
化ヘンザル、臭化メチレン、トリブロモメチルフェニル
スルホン、四臭化炭素、トリス(2,3−シフ。
合物との組合せがよく知られており、ロイコ染料として
は、例えばトリス(4−ジメチルアミノフェニル)メタ
ン[ロイコクリスタルバイオレット]、トリス(4−ジ
エチルアミノ−2−メチルフェニル)メタン[ロイコマ
ラカイトグリーン]などが挙げられる。一方、ハロゲン
化合物としては、臭化アミル、臭化イソアミル、臭化イ
ンブチレン、臭化エチレン、臭化ジフェニルメチル、臭
化ヘンザル、臭化メチレン、トリブロモメチルフェニル
スルホン、四臭化炭素、トリス(2,3−シフ。
モプロピル)ホスフェート、トリスクロロアセトアミド
、ヨウ化アミル、ヨウ化イソブチル、1,1.1トリク
ロロ−2,2−ヒスCp−クロロフェニル)エタンヘキ
サクロロエタンなどが挙げられる。
、ヨウ化アミル、ヨウ化イソブチル、1,1.1トリク
ロロ−2,2−ヒスCp−クロロフェニル)エタンヘキ
サクロロエタンなどが挙げられる。
さらに、可塑剤などの添加剤としては、例えばジエチル
フタレート、ジフェニルフタレートなどの7タル酸工ス
テル系化合物、ポリエチレングリコール、ポリエチレン
グリコールジアセテート、ポリエチレングリコールジメ
チルエーテルなどのポリエーテル系化合物、N、N−ジ
メチルスルホンアミドなどのスルホンアミド系化合物な
どが挙げられる。
フタレート、ジフェニルフタレートなどの7タル酸工ス
テル系化合物、ポリエチレングリコール、ポリエチレン
グリコールジアセテート、ポリエチレングリコールジメ
チルエーテルなどのポリエーテル系化合物、N、N−ジ
メチルスルホンアミドなどのスルホンアミド系化合物な
どが挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物は、印刷回路板作成用レジス
ト材料として、好適に用いられる。次に、その1例を示
すと、まず該組成物を透明なフィルムなどの支持体上に
塗布して感光性樹脂層を形成したのち、この感光性樹脂
層を所望の画像を設けようとする基板表面に加熱圧着し
て積層する。この際の加熱温度は、通常40〜160°
Cの範囲である。
ト材料として、好適に用いられる。次に、その1例を示
すと、まず該組成物を透明なフィルムなどの支持体上に
塗布して感光性樹脂層を形成したのち、この感光性樹脂
層を所望の画像を設けようとする基板表面に加熱圧着し
て積層する。この際の加熱温度は、通常40〜160°
Cの範囲である。
次に、該感光性樹脂層に、マスクフィルムを介して活性
光を照射して画像形成露光を行ったのち、支持体を剥離
し、例えばアルカリ水溶液などを用いて現像処理を行い
、未露光部を除去する。次いで、この現像処理により露
出した金属面をエツチング又はめっき処理による公知の
方法を用いて、金属の画像パターンを形成したのち、硬
化レジスト画像を通常前記の現像処理で用いたアルカリ
水溶液よりも、さらに強いアルカリ性の水溶液によって
剥離させることにより、所望の印刷回路板を得ることが
できる。
光を照射して画像形成露光を行ったのち、支持体を剥離
し、例えばアルカリ水溶液などを用いて現像処理を行い
、未露光部を除去する。次いで、この現像処理により露
出した金属面をエツチング又はめっき処理による公知の
方法を用いて、金属の画像パターンを形成したのち、硬
化レジスト画像を通常前記の現像処理で用いたアルカリ
水溶液よりも、さらに強いアルカリ性の水溶液によって
剥離させることにより、所望の印刷回路板を得ることが
できる。
なお、本発明の感光性樹脂組成物は、他に、印刷版の製
造などにも使用できる。
造などにも使用できる。
発明の効果
本発明の感光性樹脂組成物は、光重合開始剤として、特
定のベンゾインジアルキルエステル類と2.4.5−
トリアリールイミダゾリルニ量体とを併用することで、
高感度となり、かつ感光性樹脂層と基板表面との密着性
にも優れ、さらにテンティング膜強度も飛躍的に向上し
、プリント配線板の製造などに使用されるレジスト材料
として極めて効果的に用いることができる。
定のベンゾインジアルキルエステル類と2.4.5−
トリアリールイミダゾリルニ量体とを併用することで、
高感度となり、かつ感光性樹脂層と基板表面との密着性
にも優れ、さらにテンティング膜強度も飛躍的に向上し
、プリント配線板の製造などに使用されるレジスト材料
として極めて効果的に用いることができる。
また、本発明の感光性樹脂組成物は、光重合間始剤とし
て、前記成分とともに、さらに特定の構造を有するチオ
キサントン化合物とp−ジアルキルアミノ安息香酸誘導
体とを併用して、4成分系とすることで、感度が驚異的
に向上する上、高解像度で、かつ保存安定性にも優れた
ものとなり、画像形成材料として使用した場合、低露光
量においても安定したレジスト画像を得ることが可能で
ある。
て、前記成分とともに、さらに特定の構造を有するチオ
キサントン化合物とp−ジアルキルアミノ安息香酸誘導
体とを併用して、4成分系とすることで、感度が驚異的
に向上する上、高解像度で、かつ保存安定性にも優れた
ものとなり、画像形成材料として使用した場合、低露光
量においても安定したレジスト画像を得ることが可能で
ある。
実施例
次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、
本発明はこれらの例によってなんら限定されるものでは
ない。
本発明はこれらの例によってなんら限定されるものでは
ない。
実施例1
第1表に示す感光性樹脂組成物の溶液を調製し、厚さ2
5μmのポリエチレンテレフタレートフィルムにバーコ
ーターを用いて均一に塗布し、95°Cの乾燥機中で5
分間乾燥して、厚さ50μmの感光性樹脂層を形成させ
た。
5μmのポリエチレンテレフタレートフィルムにバーコ
ーターを用いて均一に塗布し、95°Cの乾燥機中で5
分間乾燥して、厚さ50μmの感光性樹脂層を形成させ
た。
次に、該感光性樹脂層のポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを積層していない表面上に厚さ40μmのポリエ
チレンフィルムを張り合せて積層フィルムを得たのち、
この積層フィルムのポリエチレンフィルムを剥がしなが
ら、該感光性樹脂層を銅張積層基板にホットロールラミ
ネーターにより105°Cでラミネートした。この積層
体にネガフィルムを通して超高圧水銀灯(オーク製作所
HMW−201KB)により、60mJ/cm”で露光
し、次いでポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離
したのち、1重量%炭酸ナトリウム水溶液を約70秒間
スプレーし、未露光部分を溶解除去したところ、良好な
画像(これをレジスト画像と称する)を得た。感度はコ
ダック21段ステップタブレットNo、2を用いて6段
目まで硬化膜が残っていた。
ィルムを積層していない表面上に厚さ40μmのポリエ
チレンフィルムを張り合せて積層フィルムを得たのち、
この積層フィルムのポリエチレンフィルムを剥がしなが
ら、該感光性樹脂層を銅張積層基板にホットロールラミ
ネーターにより105°Cでラミネートした。この積層
体にネガフィルムを通して超高圧水銀灯(オーク製作所
HMW−201KB)により、60mJ/cm”で露光
し、次いでポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離
したのち、1重量%炭酸ナトリウム水溶液を約70秒間
スプレーし、未露光部分を溶解除去したところ、良好な
画像(これをレジスト画像と称する)を得た。感度はコ
ダック21段ステップタブレットNo、2を用いて6段
目まで硬化膜が残っていた。
このレジスト画像はライン/スペースが1/1のライン
で50μmまで解像が可能であった。また、1本の独立
したラインについては30μmのラインまで流れること
なく良好な密着性を示した。テンティング性については
、4+l1lIIのスルーホール径をもつ基板にラミネ
ートし、上記を同様にして8 0 mJ/cm”で露光
し、上記と同一条件で現像したところ、破れやシワなど
の異常は全く発生しなかったが、4回目の現像ではじめ
てシワが発生した。
で50μmまで解像が可能であった。また、1本の独立
したラインについては30μmのラインまで流れること
なく良好な密着性を示した。テンティング性については
、4+l1lIIのスルーホール径をもつ基板にラミネ
ートし、上記を同様にして8 0 mJ/cm”で露光
し、上記と同一条件で現像したところ、破れやシワなど
の異常は全く発生しなかったが、4回目の現像ではじめ
てシワが発生した。
実施例2〜3
第1表に示す組成の感光性樹脂組成物の溶液を用いた以
外は、実施例1と同様に実施した。評価結果を第2表に
示す。
外は、実施例1と同様に実施した。評価結果を第2表に
示す。
比較例1〜4
第1表に示す組成の感光性樹脂組成物の溶液を用いた以
外は、実施例1と同様に実施した。評価結果を第2表に
示す。
外は、実施例1と同様に実施した。評価結果を第2表に
示す。
実施例4
第1表に示す組成の感光性樹脂組成物の溶液を調製し、
実施例1と同じ方法により積層フィルムを得た。次いで
、同様にラミネート、露光したのち、1、1.1−)リ
クロロエタンで約100秒間スプレーし、同様にして評
価を行った。その結果を第2表に示す。
実施例1と同じ方法により積層フィルムを得た。次いで
、同様にラミネート、露光したのち、1、1.1−)リ
クロロエタンで約100秒間スプレーし、同様にして評
価を行った。その結果を第2表に示す。
比較例5
第1表に示す組成の感光性樹脂組成物の溶液を調製し、
実施例4と同様に実施した。評価結果を第2表に示す。
実施例4と同様に実施した。評価結果を第2表に示す。
[注1
A−1:MMA73M量%とn−BA5重量%とMMA
22M量%との3元共重合体、重量平均分子量12万A
−2:MM八重重合 体 表 [新中村化学(株)製、BPE−5001B−3: ト
リメチロールプロパントリアクリレートB−4:テトラ
エチレングリコールジアクリレートC−2:2−(o−
クロロフェニル)−4,5−ジフエニルイミダゾリルニ
量体 [を主] l) コダック21段ステップタブレットN002を通
して、60 mJ/cm2で露光(超高圧水銀灯)し、
現像したのちの硬化膜の残っている段数。
22M量%との3元共重合体、重量平均分子量12万A
−2:MM八重重合 体 表 [新中村化学(株)製、BPE−5001B−3: ト
リメチロールプロパントリアクリレートB−4:テトラ
エチレングリコールジアクリレートC−2:2−(o−
クロロフェニル)−4,5−ジフエニルイミダゾリルニ
量体 [を主] l) コダック21段ステップタブレットN002を通
して、60 mJ/cm2で露光(超高圧水銀灯)し、
現像したのちの硬化膜の残っている段数。
2)l)と同条件のときに、−本独立したラインが、断
線、蛇行、欠けなどがなく、保持されている最小ライン
巾(μm)。
線、蛇行、欠けなどがなく、保持されている最小ライン
巾(μm)。
3)テンティング膜強度の加速テスト
スルーホール径4mm1の基板にラミネートし、80
mJ/cm”で露光したのち、テンティング膜にシワが
発生するまで現像をくり返す。そのシワが発生するまで
の現像回数。
mJ/cm”で露光したのち、テンティング膜にシワが
発生するまで現像をくり返す。そのシワが発生するまで
の現像回数。
実施例5
第3表に示す感光性樹脂組成物の溶液を調製し、厚さ2
5μmのポリエチレンテレフタレートフィルムにバーコ
ーターを用いて均一に塗布したのち、これを95°Cの
乾燥機中で3分間乾燥して、厚さ30μmの感光性樹脂
層を形成した。
5μmのポリエチレンテレフタレートフィルムにバーコ
ーターを用いて均一に塗布したのち、これを95°Cの
乾燥機中で3分間乾燥して、厚さ30μmの感光性樹脂
層を形成した。
次に、該感光性樹脂層のポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを積層していない表面上に厚さ40μmのポリエ
チレンフィルムを張り合せて積層フィルムを得た。この
積層フィルムを実施例1と同様にラミネートしたのち、
40mJ/cm”で露光し、1重量%炭酸ナトリウム水
溶液で約40秒間現像したところ、良好な画像を得た。
ィルムを積層していない表面上に厚さ40μmのポリエ
チレンフィルムを張り合せて積層フィルムを得た。この
積層フィルムを実施例1と同様にラミネートしたのち、
40mJ/cm”で露光し、1重量%炭酸ナトリウム水
溶液で約40秒間現像したところ、良好な画像を得た。
感度はコダック21段ステップタブレットN092を用
いて8段目まで硬化膜が残っていた。
いて8段目まで硬化膜が残っていた。
このレジスト画像は、ライン/スペースが1/1のライ
ンで40μmまで解像が可能であった。また1本の独立
しt;ラインについては、30μmのラインまで流れる
ことなく良好な密着、性を示した。
ンで40μmまで解像が可能であった。また1本の独立
しt;ラインについては、30μmのラインまで流れる
ことなく良好な密着、性を示した。
次に塩化第二銅エツチング液(50°C)でエツチング
したところ、エツチング液によるしみ込みもなく、シャ
ープな銅ラインが形成できた。さらに保存安定性テスト
として、該積層フィルムを50℃、45%RHに3日間
放置したのち、同様の評価を行ったところ、感度の低下
は見られず、その他の性能にも変化はなかった。また、
該積層フィルムを銅張積層板にラミネートし、次いで3
5°C165%RHに3日間放置したのち、露光現像し
評価したところ、この場合にも性能には変化は見られな
かった。
したところ、エツチング液によるしみ込みもなく、シャ
ープな銅ラインが形成できた。さらに保存安定性テスト
として、該積層フィルムを50℃、45%RHに3日間
放置したのち、同様の評価を行ったところ、感度の低下
は見られず、その他の性能にも変化はなかった。また、
該積層フィルムを銅張積層板にラミネートし、次いで3
5°C165%RHに3日間放置したのち、露光現像し
評価したところ、この場合にも性能には変化は見られな
かった。
さらに、実施例1と同様の方法で、感光性樹脂層の厚み
が50μmの積層フィルムを作成し、テンティング性の
評価を行ったところ、4回目の現像ではじめてシワの発
生が見られた。
が50μmの積層フィルムを作成し、テンティング性の
評価を行ったところ、4回目の現像ではじめてシワの発
生が見られた。
実施例6〜9
第3表に示す組成の感光性樹脂組成物の溶液を用いた以
外は、実施例5と全く同様に実施した。
外は、実施例5と全く同様に実施した。
評価結果を第4表に示す。
比較例6
第3表に示す組成の感光性樹脂組成物の溶液を調製し、
実施例5と同様に、感光性積層フィルムを作成し、同様
に評価を行ったところ、感度はコダック21段ステップ
タブレットNo、2で、5段と低かった。また、1本の
独立ラインについても、50μm以下のラインが流れ、
良好な密着性が得られたのは60μmにすぎなかった。
実施例5と同様に、感光性積層フィルムを作成し、同様
に評価を行ったところ、感度はコダック21段ステップ
タブレットNo、2で、5段と低かった。また、1本の
独立ラインについても、50μm以下のラインが流れ、
良好な密着性が得られたのは60μmにすぎなかった。
さらに感光性積層フィルムの保存安定性テストについて
は、50℃保存テストでは1段の感度低下、ラミネート
後の35°C165%RH保存テストでは、1〜2段の
感度低下が見られた。また、テンティング性の評価では
、2回目の現像でシワの発生が見られIこ 。
は、50℃保存テストでは1段の感度低下、ラミネート
後の35°C165%RH保存テストでは、1〜2段の
感度低下が見られた。また、テンティング性の評価では
、2回目の現像でシワの発生が見られIこ 。
比較例7.8
第3表に示す組成の感光性樹脂組成物の溶液を用いt;
以外は、実施例5と同様に実施した。評価結果を第4表
に示す。
以外は、実施例5と同様に実施した。評価結果を第4表
に示す。
実施例10
第3表に示す組成の感光性樹脂組成物の溶液を調製し、
実施例5と同じ方法により積層フィルムを得た。次に、
同様にラミネート露光したのち、1.1.iトリクロロ
エタンで約60秒間スプレーし、以下、同様の評価を行
った。その結果を第4表に示す。
実施例5と同じ方法により積層フィルムを得た。次に、
同様にラミネート露光したのち、1.1.iトリクロロ
エタンで約60秒間スプレーし、以下、同様の評価を行
った。その結果を第4表に示す。
比較例9
第3表に示す組成の感光性樹脂組成物の溶液を用いた以
外は、実施例IOと同様に実施した。評価結果を第4表
に示す。
外は、実施例IOと同様に実施した。評価結果を第4表
に示す。
/
/
/
/
A−1% A−2、B−IS B−2、B−3、B−5
、C−1及びC−2は第1表と同じ意味をもつ。
、C−1及びC−2は第1表と同じ意味をもつ。
第
表
[注1
1) コダック21段ステップタブレットNo、2を通
して超高圧水銀灯で40 mJ/cyr”露光し、現像
したのちの硬化膜の残っている段数。
して超高圧水銀灯で40 mJ/cyr”露光し、現像
したのちの硬化膜の残っている段数。
2)l)と同条件で現像した際、ライン/スペース=l
/lの解像度テストパターンでレジスト画像がシャープ
に得られている最小値(μm)。
/lの解像度テストパターンでレジスト画像がシャープ
に得られている最小値(μm)。
3)■)と同条件で現像した際、1本の独立したレジス
トラインが、断線、蛇行、欠けなどがなく保持されてい
る最小ライン巾(μm)。
トラインが、断線、蛇行、欠けなどがなく保持されてい
る最小ライン巾(μm)。
4)感光性積層フィルムを50°045%RHで7日間
保存したのち、■)と同様に感度を評価し、保存前と後
で低下した感度の段数。
保存したのち、■)と同様に感度を評価し、保存前と後
で低下した感度の段数。
5)感光性積層フィルムを銅張積層板にラミネートし、
30°065%RHで7日間保存したのち、l)と同様
に感度を評価し、保存前と後で低下した感度の段数。
30°065%RHで7日間保存したのち、l)と同様
に感度を評価し、保存前と後で低下した感度の段数。
6)感光性積層フィルム(感光性層の厚み50μm)を
スルーホール径4朋−の基板にラミネートし、40 m
J/cta”で露光したのち、テンティング膜にシワが
発生するまで現像をくり返す。そのシワが発生するまで
の現像回数。
スルーホール径4朋−の基板にラミネートし、40 m
J/cta”で露光したのち、テンティング膜にシワが
発生するまで現像をくり返す。そのシワが発生するまで
の現像回数。
特許出願人 旭化成工業株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (A)α,β−不飽和エチレン系単量体単位を有す
るバインダーポリマー、(B)光重合性モノマー及び(
C)光重合開始剤を含有して成る感光性樹脂組成物にお
いて、該光重合開始剤として、(イ)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のR^1及びR^2は、それぞれ水素原子又はア
ルキル基であり、それらは同一であってもよいし、たが
いに異なっていてもよい) で表わされる化合物の中から選ばれた少なくとも1種と
(ロ)2,4,5−トリアリールイミダゾリル二量体の
中から選ばれた少なくとも1種とを併用することを特徴
とする感光性樹脂組成物。 2 (A)α,β−不飽和エチレン系単量体単位を有す
るバインダーポリマー、(B)光重合性モノマー及び(
C)光重合開始剤を含有して成る感光性樹脂組成物にお
いて、該光重合開始剤として、(イ)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のR^1及びR^2は、それぞれ水素原子又はア
ルキル基であり、それらは同一であってもよいし、たが
いに異なっていてもよい) で表わされる化合物の中から選ばれた少なくとも1種と
(ロ)2,4,5−トリアリールイミダゾリル二量体の
中から選ばれた少なくとも1種と(ハ)一般式▲数式、
化学式、表等があります▼ (式中のR^3及びR^4は、それぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子又はアルキル基であり、それらは同一であって
もよいし、たがいに異なっていてもよい)で表わされる
化合物の中から選ばれた少なくとも1種と(ニ)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のR^5及びR^6は、それぞれアルキル基であ
り、それらは同一であってもよいし、たがいに異なつて
いてもよく、R^7はカルボキシル基、アルコキシカル
ボニル基又はニトリル基である)で表わされる化合物の
中から選ばれた少なくとも1種とを併用することを特徴
とする感光性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63214426A JP2675345B2 (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63214426A JP2675345B2 (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0262545A true JPH0262545A (ja) | 1990-03-02 |
JP2675345B2 JP2675345B2 (ja) | 1997-11-12 |
Family
ID=16655593
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63214426A Expired - Lifetime JP2675345B2 (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2675345B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5356755A (en) * | 1989-05-17 | 1994-10-18 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Method for producing printed circuit board using photocurable resin laminate |
KR100399651B1 (ko) * | 1996-12-04 | 2004-01-24 | 삼성에스디아이 주식회사 | 칼라표시패널용 광도전층 조성물 |
WO2005029188A1 (ja) * | 2003-09-24 | 2005-03-31 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58120636A (ja) * | 1982-01-04 | 1983-07-18 | イ−・アイ・デユポン・ド・ネモア−ス・アンド・コンパニ− | 放射感受性ポリイミド前駆体組成物およびその製造方法 |
-
1988
- 1988-08-29 JP JP63214426A patent/JP2675345B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP4640177B2 (ja) * | 2003-09-24 | 2011-03-02 | 日立化成工業株式会社 | 感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2675345B2 (ja) | 1997-11-12 |
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