JPH02501608A - 多電極プラズマ反応器電力分配装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 多電極プラズマ反応器電力分配装置 発明の背景 発明の分野 本発明は全体として加工物の表面修正のためのガスプラズマ装置用の電気回路に 関するものであり、更に詳しくいえば、多電極ガスプラズマ反応器用の回路に関 するものである。

従来技術の説明 表面のガスプラズマ修正は、多くの分野に′またがる多数の用途に非常に有用な ことが判明している。

それらの表面修正はエツチング（金属、誘電体、ポリマ等）、付着（金属、誘電 体、ポリマ等）、エッチバンク、プリント回路板の表面の汚れ除去および化学的 表面処理（クリ、ニングを含む）全含むが、それらに限定されるものではない。

プラズマ処理において遭遇する共通の問題は反応器全体にわたって一様な処理結 果を得ることが困難なことである。この問題は、エレクトロケミカル・ソサエテ ィ・エクステンデッド・アブストラクト（ＥｌｅｃｔｒｏｃｈｃｍｉｃａｌＳｏ ｃｉｅｔｙ　Ｅｘｔｅｎｄｅｄ　Ａｂｓｔｒｕｃｔｓ）　８４−２　、アブスト ラクトＮｏ、３６９．５２１ページ、１９８４年所載の、ジュームス・ダブりニ ー・ウィルソン（Ｊ　ａｍｅ　ｓ　Ｗ、Ｗｉ　Ｉ　ｓ　ｏ　ｎ　）の［プラズマ ・エツチング・オブ・オーガニック゛マテリアルス・イン・ラージマルチセル・ リアクター　ス（Ｐｌａｓｒｎａ　Ｅｔｃｈｉｎｇ　ｏｆ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｍ ａｔｅｒｉａｌｓ　ｉｎＬａｒｇｅ　Ｍｕｌｔｊｃｅｌｌ　Ｒｅａｃｔｏｒｓ） Ｊ　によシ、プリント回路板の汚れをとシ、かつエッチバンクするために用いら れる反応器において示されているように、プリント回路板の汚れをとシ、かつエ ッチバンクするために用いられる反応器において複数の電極を用いる多数の処理 領域を有する反応器においてとくに明らかである。

この現象の１つの原因は、互いに同一でないまたは対象的でない電極給電体を持 つことによりもたらされる、ドライブされる電極への各給電体のインピーダンス が異なることである。この結果として電極の間で電力が非対称的に分配されるこ とになり、その非対称的な電力分布は一様でないプラズマにおいて、したがって 一様でない処理（ておいて発生される。

米国特許第４　、３８１　、９６５は、対称的な給電体を持たない多数の電極対 を有するプラズマエツチング反応器を示す。ドライブされる各電極は、電極板へ の入力端子へおのおの直列の別々の可変コンデンサを介してＲＦ励ｉｔ受ける。

各プラズマ領域における一様なエンチング性能は、後者の各コンデンサを調整し 、各プラズマ領域において起るエツチングの程度を決定し、変化を観測し、試験 を続行し、エツチング効果が平衡させられるまで作業を再調整することに工υ達 成される。また、それらの設定は非常に狭い処理パラメータ（電力、圧力、使用 ガス、負荷等）範囲についてのみ正しく、パラメータが大きく変えられた時は設 定を繰返えさなければならない。

一様でないプラズマの別の原因は、負荷効果、すなわち、反応器の内部に多数の 部品を置くこと、のためにプラズマの電気的特性が変化することである。

プリント回路板の汚れ除去およびエッチバンクのために用いられるプラズマ反応 器（多電極装置）を記述している米国特許第４，２８２，０７７号においては、 この問題は、各電極に直列の可変インダクタンスを利用することにより解決され ていた。この場合にも、上記米国特許第４　、３８１　、９６５号に述べられて いるのと同様に、個々のインダクタを調整するという、長い時間がかかる困難な 作業音用いて経験的に一様性が達成されるだけである。ま、ｔ、可変インダクタ が反応器内に位置させられ、したがってプラズマ条件にさらされ、そのプラズマ 条件において、プラズマの電気的特性が変えられると、可変インダクタは大気の 透磁性の変化にさらされる。そうすると、１つの設定において広い圧力を使用す ることが、不可能では々いまでも、困難となる。プラズマの電気的特性に影響を 及ぼすガスの化学的な諸要件と、処理条件もこの可変性に寄与する。

多電極装置の別の例が米国特許第４，４７４，６５９号により示されている。そ の米国特許においては、加工物自体が電極として作用し、良い一様性を達成する ために多数のゼネレータが用いられる。しかし、この場合には、目標は電極の間 で電気的均一性を達成することではなく、ガスの組成の違いと、種々の電極の間 のガスの流量の違いを補償するために個々の電極へのＲＦ励振電力を変−えるこ とである。この特許には、多数のゼネレータによりドライブされ、または電極の 種々の領域への個々の給電を減衰させて１つのゼネレータによりドライブされる 、多数の領域で構成されたプレーナー型電極構造も開示されて本発明の目的は、 多電極環境内の電離ガスプラズマ中において、エツチング、付着、またはその他 の何らかの表面処理手段により加工物の表面を修正するためのプラズマ処理を行 う新規かつ改良した装置を得ることである。

本発明の別の目的は、負荷状態とは独立に加工物を一様に処理できる多電項プラ ズマ反応器を得ることである。

本発明の別の目的は、各電極へ電力を一様に分配して、反応器の全体にわたって 一様なプラズマ特性ｔもたらす多電力プラズマ反応器回路’ｒ　４４ることであ る。

本発明の別の目的は、多数のゼネレータと多数の整合回路網の少くとも一方の必 要をなくす多電極プラズマ反応器回路を得ることである。

本発明の別の目的は、一様な処理結果を得るために個々の回路素子を調整する必 要をなくす多電極プラズマ反応器回路を得ることである。

本発明の別の目的は、調整装置をなくし、その代シに、調整を必要とし々い１つ の部品を用いる多電力プラズマ反応器回路を得ることである。

本発明の更に別の目的は、２種類のチャンバ内に配置されている電（至）へ電力 を供給してそのチャンバ内に一様なプラズマを生じ、しかも個々のチャンノζを 相対的に調整する必要がない多電極プラズマ反応器回路を得ることである。

本発明は多電極プラズマ反応器回路内で一様なプラズマ特性を構成する電気回路 を含む。それは、電力を供給される電極へ電力を供給し、電力回路のインピーダ ンスが異々ることと、チャンノ；の特性が異なることの影響を最小にする電力分 割素子を回路中に利用する。その電力分割素子は、差動ドライブ変圧器とセンタ ータップ付きのコイルの少くとも一方として用いられ、電力回路素子を調整する 従来の技術の必要をなくすものである。

本発明の利点は、多電極環境内の電離されたガスプラズマ中で、エンチング、付 着またはその他の表面処理手段によシ加工物の表面修正のためのプラズマ処理を 行う新規がり改良した装置を得ることである。

本発明の別の利点は、負荷とは独立に加工物を一様に表面処理することができる ようにする多電極プラズマ反応器を得ることである。

本発明の別の利点は、各電極へ電力を一様に分配して、反応器全体にわたって一 様なプラズマ特性をもたらす多電力プラズマ反応器回路を得ることである。

本発明の別の利点は、多数のゼネレータと多数の整合回路網の少くとも一方の必 要をなくす多電極プラズマ反応器回路を得ることである。

本発明の別の利点は、一様な処理結果を得るために個々の回路素子を調整する必 要をなくす多電極プラズマ反応器回路を得ることである。

本発明の別の利点は、多数のゼネレータと多数の整合回路網の少くとも一方の必 要をなくす多電極フ。

ラズマ反応器回路を得ることである。

本発明の別の利点は、調整装置をなくし、その代シに、調整を必要としない１つ の部品を用いる多電力プラズマ反応器回路を得ることである。

本発明の更に別の利点は、２種類のチャンノζ内（・て配置されている電極へ電 力を供給してそのチャンノ（内に一様なプラズマを生じ、しかも個々のチャンノ ζ金相対的に調整する必要がない多電力プラズマ反応器回路を得ることである。

本発明のそれらの目的およびその他の目的、ならびに本発明のそれらの利点およ びその他の利点は、図面および以下の好適な実施例についての説明について考え ることにより当業者にとって明らかとなるであろう。

図面において 第１図は単一電極チャンバ用の従来のし形リアクティブ整合回路網を示す電気回 路図、 第２図は従来の多電極反応器の回路図、第３図は本発明の第１の実施例の電気回 路図、第４図は本発明の別の好適な実施例の電気回路図、第５図は第４図に示さ れている本発明の更に別の好適な実施例の電気回路図、 第６図は２つの単一電極チャンバに応用された本発明の電気回路図である。

好適な実施例の説明 １００ＭＨｚ　工り低い周波数でドライブされるプラズマチャンバは、電力発生 器によりドライブされる電極と、接地された戻り路とを通常含む。電力を受ける 電極と接地電極の間に、ＡＣ放電が起る空間が存在する。解決すべき問題は、固 定出力インビ一ダンスを有する電力発生器から、典型的には最適インピーダンス 以外のインピーダンス音響する負荷へ高周波゛電力を最適に供給することである 。従来の単一電極プラズマ室では、電極近くのシース容量と直列のプラズマの抵 抗性を５０オームのソースへ通常変換する通常のＬ形リアクティブ整合回路網を 用いることによりそれは行われている。Ｌ形すアクティブ整合回路の典型的な回 路図表現が第１図に示されている。

第１図に示すように、単−電極チャンバく用のＬ形リアクティブ整合回路網はソ ースインピーダンス１４を持っていることが示されているＲＦ発生器１２と、Ｌ 形整合回路網１６と、電力を受ける１個の電極１８と、接地電極２０とを含む。

ソースインピーダンス１４の典型的な値は５０オームである。電極１８と２０は チャンバ２０の中に入れられる。整合回路網１６は容量２４とインダクタンス２ ６を含む。動作させられた時は、電力を受ける電極を１個含む電極チャンバ２２ を破線で示されている容量２８お工び抵抗３０として電気的に表すことができる 。その容量はプラズマシース・ファラデー空間の容量の簡単なモデルを表し、抵 抗はプラズマの抵抗値の簡単なモデルを表す。この回路表現の動作および力学は 従来技術において知られており、当業者によって良く理解されている。

多電極反応器装置においては、各電極に沿って、および各電極の間で、一様な電 圧輪郭を達成するためには対称性性が重要である。良い電圧分布カニないとプラ ズマの一様性が非常に貧弱になシ、シばしば、反応器内の種々の領域が非常に異 なるリアクティブ性を生ずる程度にまでなって、プラズマ処理の一様性が受け入 れることができなくなる。前記米国特許第４，２８２，０７７号および同第４， ３８１．９６５号に示されているように、多電極チャンバの問題は、いくつかの 各インダクタまたはそれらのインダクタの等価コンデンサを個々に調整すること 重要することであった。

したがって、多電極反応器は、多数の電極のインピーダンス整合と、負荷分加え ることによる可変表面積を持つこと、および非対称的なＲＦ給電体の長さとを含 めた特殊な間萌を持つことが判明している。

典型的な従来の三電極反応器の代表的な図が第２図に示されている。その図に示 すように、三電極反応器回路図５０は電力を受ける第１の電極５２と、電力を受 ける第２の電極５４と、電力を受ける電極５６と５４の間に配置されている接地 電極５６とを含む。それらの電極５２，５４．５６　は接地チャンバ５８の中に 納められる。接地電極５６と、電力を受ける２個の電％５２．５４Ｄ７Ｅ’ｌの 空間に２つのプラズマが発生される。チャンバ５８の接地壁、主として上部壁６ ０と下部壁６２は、電力を受ける電極５２と５４および接地壁６０と６２の間の それぞれの間にもプラズマが形成されるように、電力を受ける電極５２．５４に それぞれ対して接地電極として作用する。電力発生器６６と整合回路網６８が電 力を受ける２個の電極５２と５４へ電力を供給する。

プラズマチャンバ内において処理される物質が反応器の棚の上に不均一に負荷さ れると、表面積したがって容量結合はチャンバの棚の間で異る。この効果が給電 線のインダクタンスの違いに組合わされて、チャンバ内の多数の電極の間の２つ の明確【τ異なる負荷インピーダンスを生ずる。電力を受ける２つの電極と接地 面の間に一様なプラズマ界が発生されるように、２個の可変インダクタ７０と７ ２によりユーザーは２つの電力回路を電力を受ける電極５２゜５４にそれぞれ個 々に調整させることができるようにされる。チャンバ内の種々の棚の上に置かれ ている加工物）て対して類似の結果を得るために、そのような一様性が望ましい 。第２図に示され、力・っ上で説明した装置は米国特許第４，２８２，０７７号 に２軟されている装置に動作が類似する。もちろん、米国特許第４，３８１，９ ６５号に説明されているように、２岡の可変インダクタ７０．７２の代シに２個 の可変コンデンサ（図示せず）を用いることができる。それらの可変コンデンサ により２つの電力を受ける回路を個々に調整して一様な結果を得ることができる ようにする。

多電極反応器装置においては、各電極に沿って、および各電極の間に一様な電圧 輪郭を達成する念めには対称性が重要である。良い電圧分布のプラズマがないと 、一様性は非常ｔて低くなり、しばしば、反応器内の種々の領域が非常に異なる リアクティブ性を生じ、プラズマ処理の一様性が受け入れることができない程度 にまで一様性が減少することがしばしばある。米国特許第４．２８２，０７７号 および同第４，３８１，９６５号に示されているように、多電極チャンバの問題 は、いくつかの各インダクタまたはそれらのインダクタと等価のコンデンサを個 々に調整することをめられることである。

本発明は、完全に対称的な給電全必要とすることなしに、電力分布とプラズマの 一様性を改善することを可能にする構成および回路を有する多電力プラズマ反応 器である。第３図に示されている本発明の好適な実施例１００においては、電力 発生器１０２からの高周波ＲＦ電力が正常なやり方で整合回路網１０４へ加えら れるが、整合回路網を励振した時に、電力は差動ドライブトランス１０６全介し て供給される。

そうすると、トランスの出力コイル１０７からの電力は分割され、それによりト ランス１０６の出力コイル１０７の各端部１０９と１１１から別々の給電回路１ ０８゜１１０をそれぞれ介して、接地チャンバ１１８の内部に配置されている電 極全受ける各電極１１２．１１４へそれぞれ給電される。チャンバ１１８内の中 心電極１１６は接地され、接地チャンバ１１８の上部壁１２０と下部壁１２２も 接地電極として機能する。一様性を達成するために、それらの電極（ｄ平らな部 材として形成すること、および電力を受ける電％　１１２，１１４と接地電極１ １６．１２０，１２２の間の間隔は全体にわたって等しいことが好ましい。各Ｒ Ｆ電力給電回路１０８．１１０にはＤＣ阻止コンデンサ１２４，１２６がそれぞ れ設けられる。出力コイル１０７に接地される中心タップ１２８ヲ設けることが でき、あるいはその接地中心タップにＤＣ阻止コンデンサ（図示せず）を設ける ことができる。

電力を受ける電極の自己バイアス消失を阻止するために阻止コンデンサ１２４　 、１２６が用いられる。差動ドライブトランス電力回路の作用は、修正すべき］ つの負荷インピーダンスを整合回路網１０４へ呈示することである。差動ドライ ブトランス回路はほぼ同じＲＦ主電流電力を受ける電極１１２，１１４へ供給し て、放電電力を一様に平衡させ、電力を受ける電極１１２゜１１４と接地面１１ ６，１２０，１２２の間に一様なプラズマを生じさせる。したがって、この回路 構成１００は、給電設計、負荷作用およびその他の変数が異なることによりひき 起される変化全補償し、したがって反応器チャンバの処理領域内での一様なプラ ズマを容易にする。

第２の好適な実施例２００が第４図に示されている。

この実施例は、第３図の差動ドライブトランス１０６と阻止コンデンサ１２４， １２６の代りに用いられる中心タップ付きコイル２０２を用いることを含む。し たがって、電力は整合回路網２０６からコイル２０２の中心タップ２０３　′ｊ ｋ通じて供給され、分割されて、電力はコイル２０２の各端部２０８，２１０を 介して供給され、それから別々の給電回路２０８　、２１０をそれぞれ介して、 接地チャンバ２１８の中に設けられている電力を受ける各電極２１２，２１４へ それぞれ供給される。中心電極２１６は接地され、接地室２１８の上部壁２２０ と下部壁２２２も接地面として機能する。電力発生器２０４と、整合回路網２０ ６と、チャンバの電極構成は第３図に示すそれに類イ以する。ＤＣ阻止コンデン サ２２４をＲＦ給電線中の、整合回路網２０６と中心タップ付きコイル２０２の 間に設けることができる。

電力回路に対する中心タップ付きコイル２０２の寄与は、電力を受ける電極２１ ２．２１４を一緒に強く結合させることである。したがって、中心タップ付きコ イル２０２は、整合回路網がそれに呈示された１つの負荷インピーダンスをみる ように、多数の電極を実際に直列にきつく結合する。

電力と受ける２つの回路２０８と２１０のインピーダンスの間のどの工うなイン ピーダンス不整合も、結合されているインダクタ２０２に差電流を流させる。

その正味の結果として、槽負荷構成およびその他のプロセスパラメータが用いら れたとしても、電極電力分配装置は自己平衡する。この；うにして多数のプラズ マ領域に一様なプラ゛ズマが同時に発生され、したがって負荷状態とは独立に加 工物を一様に処理する。

第５図は複数のチャンバまたはテヤンノく内の複数の領域の少くとも一方の内部 の複数の電極に適用される、第３図と第４図に示されている好適な実施例の拡張 を示す。多電極回路３００は、中心タップ付きコイルとして示されている複数の りアクティブ回路素子を含む。それらの回路素子はＲＦ発生器３０１から１つの 整合回路網３０３を通じて電力を受ける。中心タップ付きコイルの代りに、上記 第３図と第４図全比較することにｘｉ）わかるように、差動ドライフ。

トランスを用いることができるっ第５図に示すように、中心タップ付きコイル３ ０２はＲＦ電力を、２つの異なるチャンバ３１８．３２８へ電力を供給する以後 の２個の中心タップ付きコイル３０４，３０６の中心タンプへ電力を供給する。

その後でコイル３０６が電力を別の２つの中心タップ付きコイル３０８，３１０ へ供給する。

コイル３０４は、接地電極３１６と１つのチャンノ（３１８内のチャンバ壁に関 連してプラズマを生ずる電力を受ける電極３１２，３１４へ電力を供給する。他 のチャンバ３２８に関連して、コイル３０８は、接地電極３２６゜３３０とチャ ンバ３２８の壁に関連してプラズマフィールドを形成する電力を受ける電＠　３ ２２，３２４へ電力を供給する。コイル３１０は、接地電極３３０，３３６およ びチャンバ３２８のチャンバ壁と関連してプラズマフィールドを形成する電力を 受ける電力３３２，３３４へ電力を供給する。コイル３０４に関連して発生され るプラズマフィールドは一様である。同様（て、棚の間隔およびその他のパラメ ータが等しいとすると、チャンバ３２８の内部でコイル３０８，３１０から電力 を受ける電極３２２，３２４，３３２，３３４に関連して発生されたプラズマフ ィールドは全て一様である。しかし、コイル３０６からの電力がコイル３０８と ３１０に更に分割されるために、コイル３０４に関連して発生されたプラズマフ ィールドは、コイル３０８と３１０に関連して発生されたプラズマフィールドの ２倍のパワーを有する。したがって、接地電極を間に挾んでいる複数の電力金受 ける電極金有するチャンバを製作するためにこの分割コイルの技術的思想を利用 できる。接地電極と電力と受ける電極の表面り間に一様なプラズマが発生される っ 第６図は２つの単一電極チャンバに応用された本発明の電気回路図である。第６ 図に示すように、２チャンバ回路４００が、ＲＦ発生器４０４から整合回路網４ ０６を通じてＲＦ電力を受ける中心タンプ付きコイル４０２を含む。ＲＦ電力線 の繋合回路網４０６とコイル４０２の中心タンプの間にＤＣ阻止コンデンサ４ｏ ８５−採用できる。コイル４０２の１つの出力端部４１０からのＲＦ電力が、第 １の反応器室４１４の内部に設けられている電力を受ける電極４１２へ供給され る。コイル４０２の他の端部４１６からの出力電力が、第２の反応器テーヤンバ ４２０の内部に配置されている電力を受ける第２の電１４１８へ供給される。チ ャンバ４１４と４２０の内部に接地電極４２２と４２４をそれぞれ設けることが でき、チャンバ４１４　ト４２０１）ｆ　ヤ７バ壁を同様に接地できる。したが って、電気回路４００は、各チャンバ４１４と４２０内の異なるインピーダンス 負荷を自動的に調整する電気回ｉ内の１つ整合回路網４０６で１つのＲＦ発生器 ４０４により２つの反応器室をドライブできるようにする力）ら、両方のチャン バの内部に一様なプラズマが生じさせられる。

第６図の電気回路４００と第５図の電気回路の技術的思想を種々のやシ方で組合 わせて、少くとも１個、おそらくは数個の電力を受ける電極で、種々の反応器チ ャンバ内に設けられている電力を受ける電極を有する複数の反応器チャンバへ電 力全供給する。差動ドライブトランスと中心タップ付きコイルの少くとも一方の ような自己調整回路を用いると、同様に電力を受ける電極の間に一様なプラズマ を発生させる自己調整電気回路が得られる結果となる。

一般に、電力を受ける複数の電極に関連してプラズマ全土ずる本発明の電力分割 思想は、電力を受ける電極の数が１より大きい整数に等しい数（Ｎ）であるよう な回路で実現できる。第５図の３０２．３０４，３０６゜３０８　、３１０のよ うなりアクティブ回路素子は中心タップ付きコイルまたは差動ドライブトランス とすることができ、リアクティブ回路素子の数は電力を受ける電極の数（Ｎ）か ら２を差し引いたものに等しい。

したがって、第５図に示す種類の回路は、差動ドライブトランスの数（Ｄ）と、 中心タンプ付きコイルの数（Ｃ）とを含むリアクティブ回路素子の数（Ｙ）を持 つことができる。すなわち、Ｙ＝Ｃ十Ｄ％Ｙ＝Ｎ−１である。

ここに、Ｎは１より大きい整数である。

以上、本発明をある好適な実施例についてとくに示し、説明したが、それらの実 施例を種々変更できることが当業者はわかるであろう。したがって、下記の請求 の範囲はそれらの変更の全てをカバーし、かつ本発明の真の要旨および範囲に含 まれること全意図するものである。

ＦＩＧ−２ ＦＩＧ−６ 手続補正書（λ欠） 特許庁長官殿　Ｆ″！　与、３．６ｔ　８１、事件の表示　ヒ。Ｔ／ｌｕｓ８ｇ ／θ３１ｇ＋、′ ２、奇ｆ１目の名称 珍電不）フ′シス”マ屑Ａ」蓉電〃分加乙＋１靴３、補正をする者 事件との関係　特　許出願人 名称（氏名）フｐンス゛マ・寸イエンス・インコーホル−ｙＶｌ−’”＋ｔ ６、補正の対象 国際調査報告

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. １．ＲＦ発生器と、 このＲＦ発生器へ電気的に結合される整合回路網と、 少くとも１つの反応チヤンバと、 電極電力回路と、 を備え、前記少くとも１つの反応チヤンバの内部には少くとも２つの電力を受け る電極が配置され、かつ各前記チヤンバの内部には少くとも１つの接地表面が配 置され、各電力を受ける電極へ電力が供給された時に各電力を受ける電極に対し て少くとも１つのプラズマが発生されるように、前記電力を受ける電極と前記接 地表面は相対的に位置させられ、前記電極電力回路は前記整合回路網と前記電力 を受ける電極の間に配置されて前記整合回路網から前記電力を受ける電極へＲＦ 電力を供給し、前記電極電力回路は、前記整合回路網から接続された入力電力線 と、前記電力を受ける電極へ接続される出力電力線を有し、前記ＲＦ発生器を前 記電力を受ける電極の間に分割する回路手段を含み、この回路手段は前記電力を 受ける電極の種々の１つと前記接地表面の間のインピーダンスの変化に自動的に 反応して、各前記電力を受ける電極へ供給される電力を変化して、各前記電力を 受ける電極と前記接地表面の間に発生されるプラズマを平衡させる多電極プラズ マ反応器電力回路。
2. ２．請求項１記載の多電極プラズマ反応器において、前記回路手段は少くとも１ つの差動ドライプトランスを含む多電極プラズマ反応器。
3. ３．請求項２記載の多電極プラズマ反応器において、各前記電力を受ける電極は 差動ドライプトランスから出力線へ電気的に接続される多電極プラズマ反応器。
4. ４．請求項１記載の多電極プラズマ反応器において、１つの前記チャンバの内部 に２つの電力を受ける電極が配置され、前記チヤンバ内の前記２つの電力を受け る電極の間に１つの接地電極が配置され、前記回路手段は２つの出力線を有する 差動ドライプトランスを含み、各前記電力を受ける電極は前記２本の出力線の一 方へ接続される多電極プラズマ反応器。
5. ５．請求項４記載の多電極プラズマ反応器において、前記差動ドライプトランス は２つの出力端部を有する出力コイルを含み、各前記出力端部は前記電力を受け る電極の一方へ電気的に接続され、前記出力コイルはそれの中心タツプにおいて 接地され、前記電気回路の各前記電力を受ける電極と前記差動ドライプトランス の前記接地された中心タップの間に電気的に接続される多電極プラズマ反応器。
6. ６．請求項１記載の多電極プラズマ反応器において、前記回路手段は１つの中心 タップ付きコイルを含み、各前記中心タップ付きコイルは２つの出力端部を有し 、各前記電力を受ける電極は中心タツプ付きコイルの出力端部へ接続され、前記 整合回路網は中心タップ付きコイルの中心タップへ接続される多電極プラズマ反 応器。
7. ７．請求項１記載の多電極プラズマ反応器において、１つの前記チヤンバの内部 に２つの電力を受ける電極が配置され、前記チヤンバ内の前記２つの電力を受け る電極の間に１つの接地電極が配置され、前記回路手段は中心タップ付きコイル を含み、その中心タップ付きコイルは前記コイルの中心タップへ接続される前記 入力電力線を有し、前記コイルは２本の出力線を有し、各前記電力を受ける電極 は前記２本の出力線の一様へ接続される多電極プラズマ反応器。
8. ８．請求項１記載の多電極プラズマ反応器において、前記回路手段は、ある数（ Ｄ）の差動ドライプトランスとある数（Ｃ）の中心タップ付きコイルを含むある 数（Ｙ）の回路素子を含み、ここにＹ＝Ｃ＋Ｄてあり、前記チヤンバはある数（ Ｎ）の電力を受ける電極を含み、ここに、Ｙ＝Ｎ−１であり、Ｎは１より大きい 整数である多電極プラズマ反応器。
9. ９．壁により構成され、内部にプラズマが発生されるチヤンバと、 このチヤンバ内に配置された複数の電力を受ける電極および接地表面と、 を備え、前記電力を受ける電極と前記接地表面の間にプラズマが発生され、 前記電力を受ける電極はＲＦ電力分割回路手段へ接続され、前記回路手段はそれ のＲＦ電力入力端子がＲＦ電源へ結合され、 前記回路手段は前記電力を受ける電極と前記接地表面の間の異なるインピーダン スに反応して、各前記電力を受ける電極へ供給されるＲＦ電力を変え、各前記電 力を受ける電極と前記接地表面の間に発生されたプラズマを平衡させる多電極プ ラズマ反応器。
10. １０．請求項９記載の多電極プラズマ反応器において、接地電極が各前記電力を 受ける電極の間に配置される多電極プラズマ反応器。
11. １１．請求項１０記載の多電極プラズマ反応器において、各前記電力を受ける電 極と接地電極の間に等しい距離が存在するように、前記電力を受ける電極と前記 接地電極は平らな部材として形成され、かつ前記チヤンバ内に配置される多電極 プラズマ反応器。
12. １２．請求項１１記載の多電極プラズマ反応器において、前記回路手段は、ある 数（Ｄ）の差動ドライプトランスとある数（Ｃ）の中心タップ付きコイルを含む ある数（Ｙ）の回路素子を含み、ここにＹ＝Ｃ＋Ｄであり、前記チャンバはある 数（Ｎ）の電力を受ける電極を含み、ここに、Ｙ＝Ｎ−１であり、Ｎは１より大 きい整数である多電極プラズマ反応器。