JP2673571B2 - 多電極プラズマ反応器電力分配装置 - Google Patents

多電極プラズマ反応器電力分配装置

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JP2673571B2 JP63508096A JP50809688A JP2673571B2 JP 2673571 B2 JP2673571 B2 JP 2673571B2 JP 63508096 A JP63508096 A JP 63508096A JP 50809688 A JP50809688 A JP 50809688A JP 2673571 B2 JP2673571 B2 JP 2673571B2
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Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 発明の分野 本発明は全体として加工物の表面修正のためのガスプ
ラズマ装置用の電気回路に関するものであり、更に詳し
くいえば、多電極ガスプラズマ反応器用の回路に関する
ものである。
従来技術の説明 表面のガスプラズマ修正は、多くの分野にまたがる多
数の用途に非常に有用なことが判明している。それらの
表面修正はエツチング（金属、誘電体、ポリマ等）、付
着（金属、誘電体、ポリマ等）、エツチバツク、プリン
ト回路板の表面の汚れ除去および化学的表面処理（クリ
ーニングを含む）を含むが、それらに限定されるもので
はない。プラズマ処理において遭遇する共通の問題は反
応器全体にわたつて一様な処理結果を得ることが困難な
ことである。この問題は、エレクトロケミカル・ソサエ
テイ・エクステンデツド・アブストラクツ（Electrochc
mical Society Extended Abstructs）84−２、アブスト
ラクトNo.369、521ページ、1984年所載の、ジユームス
・ダブリユー・ウイルソン（James W.Wilson）の「プラ
ズマ・エツチング・オブ・オーガニツク・マテリアルス
・イン・ラージマルチセル・リアクタース（Plasma Etc
hing of Organic Materials in Large Multicell React
ors）」により、プリント回路板の汚れをとり、かつエ
ツチバツクするために用いられる反応器において示され
ているように、プリント回路板の汚れをとり、かつエツ
チバツクするために用いられる反応器において複数の電
極を応用いる多数の処理領域を有する反応器においてと
くに明らかである。
この現象の１つの原因は、互いに同一でないまたは対
象的でない電極給電体を持つことによりもたらされる、
ドライブされる電極への各給電体のインピーダンスが異
なることである。この結果として電極の間で電力が非対
称的に分配されることになり、その非対称的な電力分布
は一様でないプラズマにおいて、したがつて一様でない
処理において発生される。
米国特許第4,381,965は、対称的な給電体を持たない
多数の電極対を有するプラズマエツチング反応器を示
す。ドライブされる各電極は、電極板への入力端子へお
のおの直列の別々の可変コンデンサを介してRF励振を受
ける。各プラズマ領域における一様なエツチング性能
は、後者の各コンデンサを調整し、各プラズマ領域にお
いて起るエツチングの程度を決定し、変化を観測し、試
験を続行し、エツチング効果が平衡させられるまで作業
を再調整することにより達成される。また、それらの設
定は非常に狭い処理パラメータ（電力、圧力、使用ガ
ス、負荷等）範囲についてのみ正しく、パラメータが大
きく変えられた時は設定を繰返えさなければならない。
一様でないプラズマの別の原因は、負荷効果、すなわ
ち、反応器の内部に多数の部品を置くこと、のためにプ
ラズマの電気的特性が変化することである。プリント回
路板の汚れ除去およびエツチバツクのために用いられる
プラズマ反応器（多電極装置）を記述している米国特許
第4,282,077号においては、この問題は、各電極に直列
の可変インダクタンスを利用することにより解決されて
いた。この場合にも、上記米国特許第4,381,965号に述
べられているのと同様に、個々のインダクタを調整する
という、長い時間がかかる困難な作業を用いて経験的に
一様性が達成されるだけである。また、可変インダクタ
が反応器内に位置させられ、したがつてプラズマ条件に
さらされ、そのプラズマ条件において、プラズマの電気
的特性が変えられると、可変インダクタは大気の透磁性
の変化にさらされる。そうすると、１つの設定において
広い圧力を使用することが、不可能ではないまでも、困
難となる。プラズマの電気的特性に影響を及ぼすガスの
化学的な諸要件と、処理条件もこの可変性に寄与する。
多電極装置の別の例が米国特許第4,474,659号により
示されている。その米国特許においては、加工物自体が
電極として作用し、良い一様性を達成するために多数の
ゼネレータが用いられる。しかし、この場合には、目標
は電極の間で電気的均一性を達成することではなく、ガ
スの組成の違いと、種々の電極の間のガスの流量の違い
を補償するために個々の電極へのRF励振電力を変えるこ
とである。この特許には、多数のゼネレータによりドラ
イブされ、または電極の種々の領域への個々の給電を減
衰させて１つのゼネレータによりドライブされる、多数
の領域で構成されたプレーナー型電極構造も開示されて
いる。
発明の概要 本発明の目的は、多電極環境内の電離ガスプラズマ中
において、エツチング、付着、またはその他の何らかの
表面処理手段により加工物の表面を修正するためのプラ
ズマ処理を行う新規かつ改良した装置を得ることであ
る。
本発明の別の目的は、負荷状態とは独立に加工物を一
様に処理できる多電極プラズマ反応器を得ることであ
る。
本発明の別の目的は、各電極へ電力を一様に分配し
て、反応器の全体にわたつて一様なプラズマ特性をもた
らす多電力プラズマ反応器回路を得ることである。
本発明の別の目的は、多数のゼネレータと多数の整合
回路網の少くとも一方の必要をなくす多電極プラズマ反
応器回路を得ることである。
本発明の別の目的は、一様な処理結果を得るために個
々の回路素子を調整する必要をなくす多電極プラズマ反
応器回路を得ることである。
本発明の別の目的は、調整装置をなくし、その代り
に、調整を必要としない１つの部品を用いる多電力プラ
ズマ反応器回路を得ることである。
本発明の更に別の目的は、２種類のチヤンバ内に配置
されている電極へ電力を供給してそのチヤンバ内に一様
なプラズマを生じ、しかも個々のチヤンバを相対的に調
整する必要がない多電極プラズマ反応器回路を得ること
である。
本発明は多電極プラズマ反応器回路内で一様なプラズ
マ特性を構成する電気回路を含む。それは、電力を供給
される電極へ電力を供給し、電力回路のインピーダンス
が異なることと、チヤンバの特性が異なることの影響を
最小にする電力分割素子を回路中に利用する。その電力
分割素子は、差動ドライブ変圧器とセンタータツプ付き
のコイルの少くとも一方として用いられ、電力回路素子
を調整する従来の技術の必要をなくすものである。
本発明の利点は、多電極環境内の電離されたガスプラ
ズマ中で、エツチング、付着またはその他の表面処理手
段により加工物の表面修正のためのプラズマ処理を行う
新規かつ改良した装置を得ることである。
本発明の別の利点は、負荷とは独立に加工物を一様に
表面処理することができるようにする多電極プラズマ反
応器を得ることである。
本発明の別の利点は、各電極へ電力を一様に分配し
て、反応器全体にわたつて一様なプラズマ特性をもたら
す多電力プラズマ反応器回路を得ることである。
本発明の別の利点は、多数のゼネレータと多数の整合
回路網の少くとも一方の必要をなくす多電極プラズマ反
応器回路を得ることである。
本発明の別の利点は、一様な処理結果を得るために個
々の回路素子を調整する必要をなくす多電極プラズマ反
応器回路を得ることである。
本発明の別の利点は、多数のゼネレータと多数の整合
回路網の少くとも一方の必要をなくす多電極プラズマ反
応器回路を得ることである。
本発明の別の利点は、調整装置をなくし、その代り
に、調整を必要としない１つの部品を用いる多電力プラ
ズマ反応器回路を得ることである。
本発明の更に別の利点は、２種類のチヤンバ内に配置
されている電極へ電力を供給してそのチヤンバ内に一様
なプラズマを生じ、しかも個々のチヤンバを相対的に調
整する必要がない多電力プラズマ反応器回路を得ること
である。本発明のそれらの目的およびその他の目的、な
らびに本発明のそれらの利点およびその他の利点は、図
面および以下の好適な実施例についての説明について考
えることにより当業者にとつて明らかとなるであろう。
図面において 第１図は単一電極チヤンバ用の従来のＬ形リアクテイ
ブ整合回路網を示す電気回路図、 第２図は従来の多電極反応器の回路図、 第３図は本発明の第１の実施例の電気回路図、 第４図は本発明の別の好適な実施例の電気回路図、 第５図は第４図に示されている本発明の更に別の好適
な実施例の電気回路図、 第６図は２つの単一電極チヤンバに応用された本発明
の電気回路図である。
好適な実施例の説明 100MHzより低い周波数でドライブされるプラズマチヤ
ンバは、電力発生器によりドライブされる電極と、接地
された戻り路とを通常含む。電力を受ける電極と接地電
極の間に、AC放電が起る空間が存在する。解決すべき問
題は、固定出力インピーダンスを有する電力発生器か
ら、典型的には最適インピーダンス以外のインピーダン
スを有する負荷への高周波電力を最適に供給することで
ある。従来の単一電極プラズマ室では、電極近くのシー
ス容量と直列のプラズマの抵抗性を多50オームのソース
へ通常変換する通常のＬ形リアクテイブ整合回路網を用
いることによりそれは行われている。Ｌ形リアクテイブ
整合回路の典型的な回路図表現が第１図に示されてい
る。
第１図に示すように、単一電極チヤンバ用のＬ形リア
クテイブ整合回路網はソースインピーダンス14を持つて
いることが示されているRF発生器12と、Ｌ形整合回路網
16と、電力を受ける１個の電極18と、接地電極20とを含
む。ソースインピーダンス14の典型的な値は50オームで
ある。電極18と20はチヤンバ20の中に入れられる。整合
回路網16は容量24とインダクタンス26を含む。動作させ
られた時は、電力を受ける電極１個含む電極チヤンバ22
を破線で示されている容量28および抵抗30として電気的
に表すことができる。その容量はプラズマシース・フア
ラデー空間の容量の簡単なモデルを表し、抵抗はプラズ
マの抵抗値の簡単なモデルを表す。この回路表現の動作
および力学は従来技術において知られており、当業者に
よつて良く理解されている。
多電極反応器装置においては、各電極に沿つて、およ
び各電極の間で、一様な電圧輪郭を達成するためには対
称性性が重要である。良い電圧分布がないとプラズマの
一様性が非常に貧弱になり、しばしば、反応器内の種々
の領域が非常に異なるリアクテイブ性を生ずる程度にま
でなつて、プラズマ処理の一様性が受け入れることがで
きなくなる。前記米国特許第4,282,077号および同第4,3
81,965号に示されているように、多電極チヤンバの問題
は、いくつかの各インダクタンスまたはそれらのインダ
クタの等価コンデンサを個々に調整することを要するこ
とであつた。したがつて、多電極反応器は、多数の電極
のインピーダンス整合と、負荷を加えることによる可変
表面積を持つこと、および非対称的なRF給電体の長さと
を含めた特殊な問題を持つことが判明している。
典型的な従来の三電極反応器の代表的な図が第２図に
示されている。その図に示すように、三電極反応器回路
図50は電力を受ける第１の電極52と、電力を受ける第２
の電極54と、電力を受ける電極56と54の間に配置されて
いる接地電極56とを含む。それらの電極52,54,56は接地
チヤンバ58の中に納められる。接地電極56と、電力を受
ける２個の電極52,54の間の空間に２つのプラズマが発
生される。チヤンバ58の接地壁、主として上部壁60と下
部壁62は、電力を受ける電極52と54および接地壁60と62
の間のそれぞれの間にもプラズマが形成されるように、
電力を受ける電極52,54はそれぞれ対して接地電極とし
て作用する。電力発生器66と整合回路網68が電力を受け
る２個の電極52と54へ電力を供給する。
プラズマチヤンバ内において処理される物質が反応器
の棚の上に不均一に負荷されると、表面積したがつて容
量結合はチヤンバの棚の間で異る。この効果は給電線の
インダクタンスの違いに組合わせれて、チヤンバ内の多
数の電極の間の２つの明確に異なる負荷インピーダンス
を生ずる。電力を受ける２つの電極と接地面の間に一様
なプラズマ界が発生されるように、２個の可変インダク
タ70と72によりユーザーは２つの電力回路を電力を受け
る電極52,54にそれぞれ個々に調整させることができる
ようにされる。チヤンバ内の種々の棚の上に置かれてい
る加工物に対して類似の結果を得るために、そのような
一様性が望ましい。第２図に示され、かつ上で説明した
装置は米国特許第4,282,077号に記載されている装置に
動作が類似する。もちろん、米国特許第4,381,965号に
説明されているように、２個の可変インダクタ70,72の
代りに２個の可変コンデンサ（図示せず）を用いること
ができる。それらの可変コンデンサにより２つの電力を
受ける回路を個々に調整して一様な結果を得ることがで
きるようにする。
多電極反応器装置においては、各電極に沿つて、およ
び各電極の間に一様な電圧輪郭を達成するためには対称
性が重要である。良い電圧分布のプラズマがないと、一
様性は非常に低くなり、しばしば、反応器内の種々の領
域が非常に異なるリアクテイブ性を生じ、プラズマ処理
の一様性が受け入れることができない程度にまで一様性
が減少することがしばしばある。米国特許第4,282,077
号および同第4,381,965号に示されているように、多電
極チヤンバの問題は、いくつかの各インダクタまたはそ
れらのインダクタと等価のコンデンサを個々に調整する
ことを求められることである。
本発明は、完全に対称的な給電を必要とすることなし
に、電力分布とプラズマの一様性を改善することを可能
にする構成および回路を有する多電力プラズマ反応器で
ある。第３図に示されている本発明の好適な実施例100
においては、電力発生器102からの高周波RF電力が正常
なやり方で整合回路網104へ加えられるが、整合回路網
を励振した時に、電力は差動ドライブトランス106を介
して供給される。そうすると、トランスの出力コイル10
7からの電力は分割され、それによりトランス106の出力
コイル107の各端部109と111から別々の給電回路108,110
をそれぞれ介して、接地チヤンバ118の内部に配置され
ている電極を受ける各電極112,114へそれぞれ給電され
る。チヤンバ118内の中心電極116は接地され、接地チヤ
ンバ118の上部壁120と下部壁122も接地電極として機能
する。一様性を達成するために、それらの電極は平らな
部材として形成すること、および電力を受ける電極112,
114と接地電極160,120,122の間の間隔は全体にわたつて
等しいことが好ましい。各RF電力給電回路108,110にはD
C阻止コンデンサ124,126がそれぞれ設けられる。出力コ
イル107に接地される中心タツプ128が設けることがで
き、あるいはその接地中心タツプにDC阻止コンデンサ
（図示せず）を設けることができる。電力を受ける電極
の自己バイアス消失を阻止するために阻止コンデンサ12
4,126が用いられる。差動ドライブトランス電力回路の
作用は、修正すべき１つの負荷インピーダンスを整合回
路網104へ呈示することである。差動ドライブトランス
回路はほぼ同じRF電流を電力を受ける電極112,114へ供
給して、放電電力を一様に平衡させ、電力を受ける電極
112,114と接地面116,120,122の間に一様なプラズマを生
じさせる。したがつて、この回路構成100は、給電設
計、負荷作用およびその他の変数が異なることによりひ
き起される変化を補償し、したがつて反応器チヤンバの
処理領域内での一様なプラズマを容易にする。
第２の好適な実施例200が第４図に示されている。こ
の実施例は、第３図の差動ドライブトランス106と阻止
コンデンサ124,126の代りに用いられる中心タツプ付き
コイル202を用いることを含む。したがつて、電力は整
合回路網206からコイル202の中心タツプ203を通じて供
給され、分割されて、電力はコイル202の各端部205,207
を介して供給され、それから別々の給電回路208,210を
それぞれ介して、接地チヤンバ218の中に設けられてい
る電力を受ける各電極212,214へそれぞれ供給される。
中心電極216は接地され、接地室218の上部壁220と下部
壁222も接地面として機能する。電力発生器204と、整合
回路網206と、チヤンバの電極構成は第３図に示すそれ
に類似する。DC阻止コンデンサ224をRF給電線中の、整
合回路網206と中心タツプ付きコイル202の間に設けるこ
とができる。
電力回路に対する中心タツプ付きコイル202の寄与
は、電力を受ける電極212,214を一緒に強く結合させる
ことである。したがつて、中心タツプ付きコイル202
は、整合回路網がそれに呈示された１つの負荷インピー
ダンスをみるように、多数の電極を実際に直列にきつく
結合する。
電力を受ける２つの回路208と210のインピーダンスの
間のどのようなインピーダンス不整合も、結合されてい
るインダクタ202に差電流を流させる。その正味の結果
として、棚負荷構成およびその他のプロセスパラメータ
が用いられたとしても、電極電力分配装置は自己平衡す
る。このようにして多数のプラズマ領域に一様なプラズ
マが同時に発生され、したがつて負荷状態とは独立に加
工物を一様に処理する。
第５図は複数のチヤンバまたはチヤンバ内の複数の領
域の少くとも一方の内部の複数の電極に適用される、第
３図と第４図に示されている好適な実施例の拡張を示
す。多電極回路300は、中心タツプ付きコイルとして示
されている複数のリアクテイブ回路素子を含む。それら
の回路素子はRF発生器301から１つの整合回路網303を通
じて電力を受ける。中心タツプ付きコイルの代りに、上
記第３図と第４図を比較することによりわかるように、
差動ドライブトランスを用いることができる。第５図に
示すように、中心タツプ付きコイル302はRF電力を、２
つの異なるチヤンバ318,328へ電力を供給する以後の２
個の中心タツプ付きコイル304,306の中心タツプへ電力
を供給する。その後でコイル306が電力を別の２つの中
心タツプ付きコイル308,310へ供給する。コイル304は、
接地電極316と１つのチヤンバ318内のチヤンバ壁に関連
してプラズマを生ずる電力を受ける電極312,314へ電力
を供給する。他のチヤンバ328に関連して、コイル308
は、接地電極326,330とチヤンバ328の壁に関連してプラ
ズマフイールドを形成する電力を受ける電極322,324へ
電力を供給する。コイル310は、接地電極330,336および
チヤンバ328のチヤンバ壁と関連してプラズマフイール
ドを形成する電力を受ける電力332,334へ電力を供給す
る。コイル304に関連して発生されるプラズマフイール
ドは一様である。同様に、棚の間隔およびその他のパラ
メータが等しいとすると、チヤンバ328の内部でコイル3
08,310から電力を受ける電極322,324,332,334に関連し
て発生されたプラズマフイールドは全て一様である。し
かし、コイル306からの電力がコイル308と310に更に分
割されるために、コイル304に関連して発生されたプラ
ズマフイールドは、コイル308と310に関連して発生され
たプラズマフイールドの２倍のパワーを有する。したが
つて、接地電極を間に挟んでいる複数の電力を受ける電
極を有するチヤンバを製作するためにこの分割コイルの
技術的思想を利用できる。接地電極と電力を受ける電極
の表面の間に一様なプラズマが発生される。
第６図は２つの単一電極チヤンバに応用された本発明
の電気回路図である。第６図に示すように、２チヤンバ
回路400が、RF発生器404から整合回路網406を通じてRF
電力を受ける中心タツプ付きコイル402を含む。RF電力
線の整合回路網406とコイル402の中心タツプの間にDC阻
止コンデンサ408を採用できる。コイル402の１つの出力
端部410からのRF電力が、第１の反応器室414の内部に設
けられている電力を受ける電極412へ供給される。コイ
ル402の他の端部416からの出力電力が、第２の反応器チ
ヤンバ420の内部に配置されている電力を受ける第２の
電極418へ供給される。チヤンバ414と420の内部に接地
電極422と424をそれぞれ設けることができ、チヤンバ41
4と420のチヤンバ壁を同様に接地できる。したがつて、
電気回路400は、各チヤンバ414と420内の異なるインピ
ーダンス負荷を自動的に調整する電気回路内の１つ整合
回路網406で１つのRF発生器404により２つの反応器室を
ドライブできるようにするから、両方のチヤンバの内部
に一様なプラズマが生じさせられる。第６図の電気回路
400と第５図の電気回路の技術的思想を種々のやり方で
組合わせて、少くとも１個、おそらくは数個の電力を受
ける電極で、種々の反応器チヤンバ内に設けられている
電力を受ける電極を有する複数の反応器チヤンバ電力を
供給する。差動ドライブトランスと中心タツプ付きコイ
ルの少くとも一方のような自己調整回路を用いると、同
様に電力を受ける電極の間に一様なプラズマを発生させ
る自己調整電気回路が得られる結果となる。
一般に、電力を受ける複数の電極に関連してプラズマ
を生ずる本発明の電力分割思想は、電力を受ける電極の
数が１より大きい整数に等しい数（Ｎ）であるような回
路で実現できる。第５図の302,304,306,308,310のよう
なリアクテイブ回路素子は中心タツプ付きコイルまたは
差動ドライブトランスとすることができ、リアクテイブ
回路素子の数は電力を受ける電極の数（Ｎ）から１を差
し引いたものに等しい。したがつて、第５図に示す種類
の回路は、差動ドライブトランスの数（Ｄ）と、中心タ
ツプ付きコイルの数（Ｃ）とを含むリアクテイブ回路素
子の数（Ｙ）を持つことができる。すなわち、Ｙ＝Ｃ＋
Ｄ、Ｙ＝Ｎ−１である。ここに、Ｎは１より大きい整数
である。
以上、本発明をある好適な実施例についてとくに示
し、説明したが、それらの実施例を種々変更できること
が当業者はわかるであろう。したがつて、下記の請求の
範囲はそれらの変更の全てをカバーし、かつ本発明の真
の要旨および範囲に含まれることを意図するものであ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−206028（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−202438（ＪＰ，Ａ)

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】RF発生器と、 このRF発生器へ電気的に結合される整合回路網と、 接地表面を有している少なくとも１つの反応チャンバで
    あって、電力を受ける少なくとも合計２つの電極を収容
    しており、前記電極と前記接地表面とは、RF電力を印加
    されたとき、それらの間にプラズマが発生するように互
    いに相対的に位置づけられている、少なくとも１つの反
    応チャンバと、 前記整合回路網と前記電極の間に配置されて前記整合回
    路網から前記電極へRF電力を供給する電極電力回路であ
    って、両端と中心タップを有する少なくとも１つのコイ
    ルと、前記整合回路網から前記中心タップに接続された
    入力電力線と、前記コイルの両端からそれぞれ前記電極
    の一つへ接続された出力電力線を有し、前記RF電力を前
    記電極の間に分割し、前記電極の１つと前記接地表面の
    間のインピーダンスの変化に自動的に反応して、前記電
    極へそれぞれ供給される電力を変化させて、前記電極と
    前記接地表面間にそれぞれ発生するプラズマを平衡させ
    る回路手段を含む電極電力回路と を備えた多電極プラズマ反応器電力回路。
  2. 【請求項２】電力を受ける２つの電極が１つの前記反応
    チャンバ内に配置され、１つの接地電極が１つの前記反
    応チャンバ内で前記２つの電極の間に配置された請求項
    １に記載の多電極プラズマ反応器電力回路。
  3. 【請求項３】前記回路手段は（Ｄ）個の差動ドライブト
    ランスと（Ｃ）個の中心タップ付きコイル含む（Ｙ）個
    の回路素子をを含み、（Ｃ）は少なくとも１であり、Ｙ
    ＝Ｄ＋Ｃであり、前記反応チャンバは電力を受ける
    （Ｎ）個の電極を有し、Ｙ＝Ｎ−１であり、Ｎは１より
    大きい整数である請求項１又は２に記載の多電極プラズ
    マ反応器電力回路。
  4. 【請求項４】壁で仕切られ、内部にプラズマが発生させ
    られる少なくとも１つのチャンバと、 電力を受ける複数の電極および少なくとも１つの接地表
    面であって、少なくとも１つの前記電極と対応する１つ
    の前記接地表面が前記各チャンバ内に配置され、前記プ
    ラズマが前記電極と対応する接地表面の間に生成され
    る、電力を受ける複数の電極および少なくとも１つの接
    地表面と を備え、 前記複数の電極はRF電力分割回路手段に結合され、前記
    RF電力分割回路手段はそのRF電力入力がRF電源に結合さ
    れており、 前記RF電力分割回路手段は両端と中心タップを有する少
    なくとも１つのコイルを含み、前記中心タップは前記RF
    電源に結合され、両端はそれぞれ前記電極に結合されて
    おり、 前記RF電力分割回路手段は前記電極と、対応する前記接
    地表面との間のインピーダンスの変化に自動的に反応し
    て、前記各電極へ供給される電力を変化させて、各前記
    電極と、対応する前記接地表面との間に発生するプラズ
    マを平衡させる 多電極プラズマ反応器。
  5. 【請求項５】前記RF電力分割回路手段は（Ｄ）個の差動
    ドライブトランスと（Ｃ）個の中心タップ付きコイル含
    む（Ｙ）個の回路素子をを含み、（Ｃ）は少なくとも１
    であり、Ｙ＝Ｄ＋Ｃであり、前記チャンバは電力を受け
    る（Ｎ）個の電極を有し、Ｙ＝Ｎ−１であり、Ｎは１よ
    り大きい整数である請求項４に記載の多電極プラズマ反
    応器。
  6. 【請求項６】２つ以上のチャンバと電力を受ける３つ以
    上の電極を有する多電極プラズマ反応器であって、前記
    RF電力分割回路手段は中心タップ付きのコイルを含み、
    その中心タップを入力電力線に結合し、かつその両端を
    ２つの出力電力線に結合しており、少なくとも１つのコ
    イルの１つの出力電力線は他のコイルの入力電力線に結
    合されている請求項４又は５に記載の多電極プラズマ反
    応器。
  7. 【請求項７】１つのチャンバ内に電力を受ける複数の電
    極があり、接地表面が前記電極のそれぞれの間に配置さ
    れている請求項４、５又は６に記載の多電極プラズマ反
    応器。
  8. 【請求項８】前記電極と前記接地表面は平坦な部材とし
    て形成され、前記電極と前記接地表面の間の距離が等し
    くなるように並行に前記チャンバ内に配置されている請
    求項７に記載の多電極プラズマ反応器。
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