JPH0248664A - ドライフイルムレジスト用光重合性組成物 - Google Patents

ドライフイルムレジスト用光重合性組成物

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JPH0248664A
JPH0248664A JP63200605A JP20060588A JPH0248664A JP H0248664 A JPH0248664 A JP H0248664A JP 63200605 A JP63200605 A JP 63200605A JP 20060588 A JP20060588 A JP 20060588A JP H0248664 A JPH0248664 A JP H0248664A
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稔 前田
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規な組み合わせの光重合開始剤系を含有する
光重合性組成物に関するものである。更に詳しくは、平
版印刷版、樹脂凸版、プリント基板f’[用フォトレジ
スト又はフォトマスクなどの用途に好適な、高感度で、
高いM偉力を有し、焼出し性にすぐれ、かつ優れた膜物
性を与える光重合性組成物に関する。
〔従来の技術〕
近年の電子工業分野等における高密度化の要求に伴い、
フォトレジストに対しては更に高い解像度を有すること
が期待されている。さらに、工程の時間短縮化のために
、高い感度が求められている。
従来、光重合性組成物の感度を高める研究が進められ、
多くの光重合開始剤(系)が提案されてきた。例えば、
米国特許第2≠≠1121号明細誉に記載のベンゾイン
エーテル類、米国特許第30≠&/27号明細書に記載
のアンスラキノン類、特公昭≠ター//23乙号明細曹
に記載のアミノフェニルケトンと活性メチレン又はアミ
ノ化合物、米国特許第36♂26弘7号明細書に記載の
ミヒラーズケトンとベンゾフェノン、特公昭≠r −J
r弘03号明細簀に記載のベンゾフェノンと≠−N、N
−ジエチルアミノベンゾフェノン、特公昭≠j−、37
377号明細書及び特公昭!、1’−31≠03号明細
書に記載のミヒラーズケトンとロフィン二量体、特開昭
オj−3!/3≠号明細書に記載のロフインニ量体と光
重合性エチレン性不飽和単鼠体、特開昭よター弘713
3り号明細書に記載の≠−N、N−ジアルキルアミノベ
ンゾフェノン、ベンゾフェノン及び有機ハロゲン化合物
の三元系などである。
〔本発明が解決しようとする問題点〕
確かに、これらの光重合開始剤系を使用するとある程度
の感度、解像度の向上が認められるものの、近年の要求
を満たすには不十分であった。更には、例えばプリント
配線板作成時に使用されるドライフィルムレジストとし
て用いられた場合、テンティング法によるスルーホール
作成時にテンティング膜の強度が十分でないため、現像
やエツチング工程中に膜が破れるという故障が生じ易か
った。現像やエツチング工程中に膜が破れると、プリン
ト基板の表側と裏側を導通させているスルーホール内部
の銅メツキ部分がエツチング液によって浴解し、導通不
良を起こさせるという重大な問題となることは広く知ら
れている。
〔発明の目的〕
従って、本発明の目的は、高感度で、高い解像力を有し
、かつ優れた膜物性を与える光重合性組成物を提供する
ことにある。更なる目的は本発明の詳細な説明よシ明ら
かになろう。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者等は、種々研究を重ねた結果、上記目的を達成
しうる新規な組み合わせの光重合開始剤系を含有する光
重合性組成物を見い出した。
即ち、本発明の目的は、 (11熱可塑性高分子結合剤 (2)非ガス状エチレン性不飽和化合物(3)tA、I
/−′ −ビス(ジアルキルアミノ)ベンゾフェノン、
芳香族ケトン及びロフインニ量体よジなる光重合開始剤
系 (4)  有機ハロゲン化合物 (5)  ロイコ色素 から成る光重合性組成物を用いることによp達成された
この効果の原因は明らかではないが、この組み合わせを
用いることによって、非ガス状エチレン性不飽和化合物
の光重合反応効率を著しく高めることによるものと推定
される。
本発明の光重合性組成物に用いられる熱可塑性高分子結
合剤は、広範な種類の合成、半合成、天然の高分子物質
の中から次の条件を満足するものが用いられる。即ち、
非ガス状エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤系、有
機ハロゲン化合物、ロイコ色素との相浴性が堡布液の調
製から、塗布、乾燥に至る製造工程および得られる塗布
物の保存中に脱混合を起こさない程度に良いこと、本発
明の便用法に応じた性質、例えば、テンティング用フォ
トレジストに用いる場合には結合剤の強度、延伜性、耐
摩耗性、耐薬品性などが適当であること、さらに、結合
剤の分子量、分子間力、硬さ、軟化温匿、結晶性、破壊
伸度などが適切なことである。
結合剤の具体例を挙げると塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレンなどの塩素化ポリオレフィン、ポリメチ
イメタノアクリレートなどのポリ(メタ)アクリル酸ア
ルキルエステル(アルキル基としては、メチル基、エチ
ル基、ブチル基など)、(メタ)アクリル酸と(メタ)
アクリル酸アルキルエステル(アルキル基は同上)との
共重合物、ポリ(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル
酸アルキルエステル(アルキル基は同上)とアクリロニ
トリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン、ブタ
ジェン等のモノマーの少くとも一種との共重合物、ポリ
塩化ビニル、塩化ビニルとアクリロニド、リルとの共重
合物、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデンとアクリロ
ニトリルとの共重合物、詐敢ビニルと塩化ビニルとの共
重合物、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリルとス
チレンとの共重合物、アクリロニトリルとブタジェン及
びスチレントの共重合物、スチレンと無水マレイン酸な
どの不飽和二塩基酸無水物との共重合物、ポリビニルブ
チラール、スチレンブタジェンゴム、塩化ゴム、環化ゴ
ム、アセチルセルロースなどのホモポリマー又は共重合
物などがある。
共重合物の場合、その成分モノマーの含有比は広範囲の
値をとシうるが、一般には他の共重合上ツマ−がモル比
で!%以上含まれているものが好適である。またこれら
以外のポリマーであっても、前記の条件を満たすもので
あれば、本発明の結合剤として用いることが出来る。
上記のポリマーの内、本発明の結合剤として特に好適に
用いられるものは、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプ
ロピレン、ポリメチルメタアクリレート、メチルメタク
リレート−アクリロニトリル共重合物(メチルメタクリ
レートのモル含量20〜♂O%)、塩化ビニル−アクリ
ロニトリル共重合物(塩化ビニルのそル含量20〜to
%)、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合物(塩
化ビニリチンのモル含1i20〜10%)、スチレン−
i水マレイン酸共重合物、特願昭!9−//≠736号
(結合剤は、メタクリル酸メチル/メタクリル酸/λ−
エチルへキシルメタクリレート/ベンジルメタクリレー
ト四元共重合体である)、特公昭!弘−3弘327号(
結合剤は、例えばメタクリル酸メチル/メタクリル酸λ
−エチルヘキシル/メタクリル酸の三元共重合体である
)、特公昭!!−3♂り47号(結合剤は例えばスチレ
ン/マレイン酸モノ−n−iチルエステル共重合体であ
る)、特公昭よ≠−2jり!7号(結合剤は例えばスチ
レン/メタクリル酸メチル/アクリル酸二チル/メタク
リル酸の四元共重合体である)、特開昭!λ−タタr1
0号(結合剤は例えばメタクリル酸ベンジル/メタクリ
ル酸共重合体である)、特公昭よr−12177号(結
合剤は例えばアクリロニトリル/メタクリル酸2−エチ
ルヘキシル/メタクリル酸の三元共重合体である)およ
び特公昭!!−6210号(結合剤は例えばメタクリル
酸メチル/アクリル酸エチル/アクリル酸の三元共重合
体とインプロパツールで一部分エステル化したスチレン
/マレイン酸無水物共重合体の2種である)の各明細書
記載の結合剤などである。
これらの結合剤は、単独で結合剤として用いてもよいが
、二種以上の塗布液の調製から、塗布、乾燥に至る製造
工程中および得られる塗布物の保存中に脱混合を起さな
い程度に互いに相溶性のあるポリマーを適当な比で混合
して結合剤として用いることが出来る。
結合剤として用いられる高分子物質の分子量は、ポリマ
ーの種類によって広範な値をとりうるが、−船釣にはr
、oooNλ、ooo、ooo、より好ましくは、!0
.000〜/、000,000の範囲のものが本発明に
好適に用いられる。
結合剤の量は光重合性組成物の固形分に対してr〜9!
wt%、好tしくは410−10w1%である。
本発明に用いられる好適なエチレン性不飽和化合物は、
少なくとも2個の末端不飽和基全頁する、活性光線の照
射により、光重合が可能な化合物である。以下多官化上
ツマ−と略す。
具体的には、特公昭3よ−よ、021号公報、特公昭3
j−/≠、7/り号公報、特公昭≠≠−2r、727号
公機等に記載される下記の化合物である。
先ずアクリル酸エステル類及びメタクリル酸エステル類
としては、多価アルコールのポリアクリレート類及びポ
リメタクリレート類(ここで「ポリ」とはジアクリレー
ト以上を指す。)がある。
上記多価アルコールとしては、ポリエチレングリコール
、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール
、ポリシクロヘキセンオキサイド、ポリスチレンオキサ
イド、ポリオキセタン、ポリテトラヒドロフラン、シク
ロヘキサンジオール、ギシリレンジオール、シー(β−
ヒドコキゾエトキシ)ベンゼン、グリセリン、ジグリセ
リン、ネオインチルグリコール、トリメチロールプロ/
ξン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール、
ジにンタエリスリトール、ンルビタン、ソルビトール、
ブタンジオール、ブタントリオール、コープテン−7、
弘−ジオール、u−n−ブチル−λ−エチループロパン
ジオール、x−7’チン−l。
クージオール、3−クロル−t 、 2−i口Aンジオ
ール、/、弘−シクロヘキサンジメタツール、3−シク
ロヘキセン−7,/−ジメタツール、デカリンジオール
、λ、3−ジブロムー2−ブテンー/、4!−ジオール
、2.2−ジエチル−/、J−プロパンジオール、l、
!−ジヒドロキシ−7゜λ、3.≠−テトラヒドロナフ
タレン、2.、!r−ジメチルー2.!−ヘキサンジオ
ール、λ、2−ジメチルー/、3−プロパンジオール、
2.−一シフェニルー/、J−プロパンジオール、トチ
カンジオール、メゾエリスリトール、2−エチル−/、
3−ヘキサンジオール、2−エチル−2−(ヒドロキシ
メチル)−/、3−プロノンジオール、2−エチル−2
−メチル−/、J−プロノンジオール、ヘプタンジオー
ル、ヘキサンジオール、3−ヘキセン−r、r−ジオー
ル、ヒドロキシベンジルアルコール、ヒドロキシエチル
レゾルシノール、−一メチルー/l≠−ブタンジオール
、2−メチル−2,グーインタンジオール、ノナンジオ
ール、オクタンジオール、はンタンジオール、/−フェ
ニル−/、2−エタンジオール、フロ12ンジオール、
2.コ、IIt、≠−テトラメチル−/。
3−シクロブタンジオール、λ、!、!、t−テトラメ
チルーp−キシレン−α、α′−ジオール、/、/、’
A、弘−テドラフェニルー/、tA−ブタンジオール、
/、/、II−、≠−テトラフェニルー2−ブチンー/
l≠−ジオール、II2.乙−トリヒドロキシヘキサン
、/、/’  −ビーコーナフトール、ジヒドロキシナ
フタレン、/、/’ −メチレンジー2−ナフトール、
/、2.IA−ベンゼントリオール、ビフェノール、2
.2’ −ビス(弘−ヒドロヤシフェニル)ブタン、/
、l−ビス(弘−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン
、ビス(ヒドロキシフェニル)メタン、カテコール、弘
−クロルレゾルシノール、3.弘−ジヒドロキシハイド
ロシンナミックアシッド、・ハイドロキノン、ヒドロキ
シベンジルアルコール、メチルハイドロキノン、メチル
−2,IA、t−)リヒドロキシベンゾエート、フロロ
グルシノール、ピロガロール、レゾルシノール、グルコ
ース、α−(/−アミノエチル)−p−ヒドロキシベン
ジルアルコール、λ−アミノー2−エチルー/、3−プ
ロノξンジオール、コーアミノー2−メチルー/、3−
プロパンジオール、3−アミノ−/、コープロノテンジ
オール、N−(j−アミノプロピル) −ジェタノール
アミン、N 、 N’  −ビス−(2−ヒト。
キシエチル〕ピペラジン、i、2−ビス(ヒドロキシメ
チル) −2,2/  、、2//−ニトリロトリエタ
ノール、2.λ−ビス(ヒドロキシメチル)フロピオニ
ツクアシッド、l、3−ビス(ヒドロキシメチル)ウレ
ア、/、2−ビス(弘−ピリジル)−/、2−エタンジ
オール、N−n−ブチルジェタノールアミン、ジェタノ
ールアミン、N−エチレンジエタノールアミン、3−メ
ルカプト−7゜λ−プロパンジオール、3−ピペリジノ
−/、2−プロパンジオール、λ−(2−ピリジル)−
/。
3−プロノぐンジオール、トリエタノールアミン、α−
(/−アミノエチル)−p−ヒドロキシベンジIL I
I7 フルコール、3−アミノ−≠−ヒドロキシフェニ
ルスルホンなどがある。これらのアクリル識エステル類
、及びメタクリル酸エステル類のうち、最も好ましいも
のは、その入手の容易さから、エチレングリコールジア
クリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ト
リエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレン
グリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタ
クリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、
トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチ
レングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコ
ールジアクリレート、テトラプロピレングリコールジア
クリレート、ドデカプロピレングリ;−ルジアクリレー
ト、トリメチロールプロ/テアトリアクリレート、トリ
メチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトール
トリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレー
ト、ハンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタ
エリスリトールはンタアクリレート、グリセリントリア
クリレート、ジグリセリンジメタクリレート、/、3−
プロノンジオールジアクリレート、/、!、4L−ブタ
ントリオールトリメタクリレート、/、≠−シクロヘキ
サンジオールジアクリレート、/、よ−はンタンジオー
ルジアクリレート、ネオはンチルグリコールジアクリレ
ート、エチレンオキサイド付加したトリメチロールプロ
パンのトリアクリル酸エステル等である。
一方、アクリルアミド類、及びメタクリルアミド類とし
ては、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタ
リルアミドのほか、エチレンジアミン、ジアミノプロパ
ン、ジアミノブタン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサ
メチレン、ビス(λ−アミノプロピル)アミン、ジエチ
レントリアミンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オ
クタメチレンジアミン並びに異種原子により中断された
ポリアミン、環を有するポリアミン(例えばフェニレン
ジアミン、キシリレンジアミン、β−(弘−アミノフェ
ニル)エチルアミン、ジアミノベンゾイックアシッド、
ジアミノトルエン、ジアミノアントラキノン、ジアミノ
フルオレンなど)のポリアクリルアミド及びポリメタク
リルアミドがある。
アリル化合物としては、例えばフタル酸、テレフタル酸
、セパシン酸、アジピン酸、ゲルタール酸、マロン酸、
蓚酸等のジカルボン酸のジアリルエステル、例えば、1
ントラキノンジス5−ホン酸、(ンゼンジスルホソ酸、
1.!−ジヒドロキシーp−ベンゼンジスルホン酸、ジ
ヒドロキシナフタレンジスルホン酸、ナフタレンジスル
ホン酸などのジスルホン酸のジアリルエステル、ジアリ
ルアミドなどがある。
ビニルエーテル化合物としては、前記多価アルコールの
ポリビニルエーテルがあり、例えばエチレンクリコール
シヒニルエ゛−チル、/、J、に−トリーβ−ビニロキ
シエトキシベンゼン、/、3−ジ−β−ビニロキシエト
キシベンゼン、グリセロールトリビニルエーテルなどが
ある。
ビニルエステル類としては、ジビニルサクシネート、ジ
ビニルアジペート、ジビニルフタレート、ジビニルテレ
フタレート、ジビニルベンゼン−/。
3−ジスルホネート、ジビニルブタン−/、≠−ジスル
ホネートなどがある。
スチレン化合物としては、ジビニルベンゼン、p−アリ
ルスチレン、p−インプロペンスチレンなどがある。
N−β−ヒドロキシエチル−β−(メタクリルアミド)
エチルアクリレ−)、N、N−ビス(β−メタクリロキ
シエチル)アクリルアミド、アリルメタクリレートなど
の如き、異なった付加重合性不飽和結合をλ個以上有す
る化合物も、本発明に好適に用いられる。
更に、少なくとも二つの水酸基を有するポリオール化合
物と、やや過剰の少なくとも二つのインシアネート基を
有するポリインシアネート化合物とを反応させた反応生
成物に、少なくとも一つの水酸基と少なくとも一つのエ
チレン性不飽和基を有する化合物を反応させて得られる
少なくとも二つのエチレン性不飽和基を有する多官能ウ
レタン化合物も本発明に好適に用いられる。
これらの多官能モノマーは単独あるいは二種以上を併用
して用いることができ、光重合性組成物固形分の!〜り
0w1%、好ましくはl!〜t。
wt%の範囲で用いられる。
本発明に使用される好ましい≠、弘′−ビス(ジアルキ
ルアミノ)ベンゾフェノンの具体例としてハ弘、参′ 
−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、≠、μ′−
ビス(ジシクロへキシルアミノ)ベンゾフェノン、≠、
弘′ −ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、≠、
参′−ビス(ジヒドロキシエチルアミノ)ベンゾフェノ
ンがある。
これらのうち特に好ましい化合物としては、弘。
≠′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンを挙げる
ことができる。
本発明に使用する弘、μ′−ビス(ジアルキルアミノ)
ベンゾフェノンの蛍は、光重合組成物の固形分に対し、
0,0/重量%から1重itXの範囲が好筐しい。更に
好ましくは0.02重量%から0.1重重%の範囲であ
る。
芳香族ケトンの好ましい具体例としては、ベンゾフェノ
ン、コーメチルベンゾフエノン、3−メチルベンゾフェ
ノン、グーメチルベンゾフェノン、≠−メトキシベンゾ
フェノン、コークロロベンゾフエノン、グークロロベン
ゾフエノン、≠−ブロモベンゾフェノン、−一カルボキ
シベンゾフエノン、λ−エトキシカルボニルベンゾフェ
ノン、ベンゾフェノンテトラカルボン酸またはそのテト
ラメチルエステル、≠−メトキシー参′−ジメチルアミ
ノベンゾフェノン、弘、μ′−ジメトキシベンゾフェノ
ン、l−ジメチルアミノベンゾフェノン、弘−ジメチル
アミノアセトフェノン、アントラキノン、λ−tert
−ブチルアントラキノン、λ−メチルアントラキノン、
フエナントラキノン、キサントン、チオキサントン、コ
ークロルチオキサントン、コ、≠−ジメチルチオキサン
トン、コ。
≠−ジエチルチオキサントン、フルオレン、アクリドン
およびベンゾイン、ベンゾインエーテル類、例、t ハ
ヘンゾインメチルエーテル、ベンゾインエン チルエーテル、ペンシイ々プロピルエーテル、ベンゾイ
ンイノプロビルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル
、ベンジルジメチルケタールナトカ挙げられ、特に好筐
しい本のとしてベンゾフェノンがある。本発明に使用さ
れる芳香族ケトンの好ましい添加量は、光重合組成物の
固形分に対し、0、/重量%〜io重量%、よシ好まし
くは、Q。
j重量%〜!重量%の範囲である。
本発明に使用しうるロフィン二量体としては、例えば特
公昭≠1−37377号、特公昭4!l−2005号、
特公昭μF−31≠03号、特公昭r3−ixror号
、特公昭!j−j4’4’/4’号、特開昭jj−3!
/3≠号、特開昭j6−/Jりrot号、特開昭57一
コlμo1号、特開昭!7−/l、/7≠λ号、特開昭
よJ’−/り311号、特開昭jターtit号、特公昭
jターコlr3λり号、特開昭jターよ6≠03号、特
開昭jターフ≠tri号、記載のものがある。具体的な
好ましい例としては2−(λ′−クロロフェニル)−≠
!−ジフェニルイミダゾールニit 体、 、z  (
、z p−クロロフェニル)−p、t−ジ(3′−メト
キシフェニル)イミダゾールニ盆体、2−(2’フルオ
ロフエニル)−≠、2−ジフェニルイミタ:/’−ル:
鍵体、J −(J’ −メトキシフェニル)−≠、!−
ジフェニルイミダゾールニ量体、U−(≠′−メトキシ
フェニル)−4,j−ジフェニルイミダゾール二量体な
どがある。
これらのうち特に好ましい例としては、コー(2′−ク
ロロフェニル)−≠、j−ジフェニルイミダゾールニ量
体、λ−(2′−クロロフェニル)−p、t−ジ(3′
−メトキシフェニル)イミダゾールニ量体である。
本発明に用いるロフィン二量体の添加量は、光重合性組
成物の固形分に対して、o、i71量%から10重量%
の範囲である。更に好ましくは、0゜3重量%から5重
量%の範囲である。
また、本発明には前述の弘、参′−ビス(ジアルキルア
ミノ)ベンゾフェノン、芳香族ケトン、ロフィン二量体
の他に、更に従来の公知のものを好適に組合せて用いる
ことができ、例えば、J。
コーサー著「ライトセンシティブシステムズ」第5章に
記載されているような有機硫黄化合物、過酸化物、レド
ックス系化合物、アゾ並びにジアゾ化合物光還元性色素
などがある。
有機硫黄化合物としては、ジーn−プチルジサルファイ
ド、ジベンジルジサルファイド、コーメルカブトベンズ
チアゾール、−−メルカプトベンズオキサゾール、チオ
フェノール、エチルトリクロロメタンスルフェネート、
λ−メルカプトベンズイミダゾールなどがある。
過酸化物としては、ジ−t−ブチルパーオキサイド、過
酸化ベンゾイル、メチルエチルケトンパーオキサイドな
どがある。
レドックス化合物は、過酸化物と還元剤の組合せからな
るものでちゃ、第一鉄イオンと過硫酸イオン、第二鉄イ
オンと過酸化物などがある。
アゾ及びジアゾ化合物としては、α、α′−アゾビスイ
ソブチロニトリル、ニーアゾビスー2−メチルブチロニ
トリル、p−アミノジフェニルアミンのジアゾニウム塩
などがある。
光還元性色素としては、ローズベンガル、エリスロシン
、エオシン、アクリフラビン、リボフラビン、チオニン
などがある。
また、本発明に用いる有機ハロゲン化合物としては、特
開昭tF−7133り号の記載の次の一般式11a〜■
eで表わされる化合物群よシ選ばれる化合物が好ましい
1b d (Z:塩素又は臭素原子) 一般式laの化合物は特開昭!よ一777≠λ号明細書
に記載の化合物であり、その好ましい例としては、λ−
トリクロロメチルー!−フェニル−/、!、μmオキサ
ジアゾール、λ−トリクロロメチルー!−(≠−クロロ
フェニル)−/、3゜弘−オキサジアゾール、λ−トリ
クロロメチルー!−(l−ナフチル)−/、3.≠−オ
キサジアゾール、ニートリクロロメチル−6−(,2−
ナフチル)−/、3.≠−オキサジアゾール、コートリ
フロモメチルー!−フェニル−/、3.≠−オキサジア
ゾール、2−1Jブロモメチル−よ−(2−ナフチル)
−/、3.4!−オキサジアゾールが挙げられる。特に
好ましいものはニートリクロロメチル−ター(/−ナフ
チル) −/ 、 3 、弘−オキサジアゾールおよび
ニートリクロロメチル−よ−(≠−クロロフェニル)−
/、3.4L−オキサジアゾールである。
また一般式[1bで表わされる化合物は、特開昭j弘−
7≠721号に記載されている化合物であシ、その好ま
しい例としては、次のものが挙げられる。λ−トリクロ
ロメチルーよ一スチリル−7゜3、弘−オキサジアゾー
ル、コートリクロロメチル−1−(弘−クロルスチリル
)  ’+3m+3mキーオキサジアゾールトリクロロ
メチル−!−(lI−メトキシスチリル) −/ 、 
J 、≠−オキサジアゾール、−一トリクロロメチル−
3−(/−ナフチル)−/、3.lt−オキサジアゾー
ル、コートリクロロメチルーj −(II −n−ブト
キシスチリル)−/、3,1fi−オキサジアゾール、
λ−トリブロモメチルーよ一ステリルー/、J、li−
オキサジアゾール。これらのうちとくに好ましい化合物
としては2−トリクロロメチル−j−(≠−クロルスチ
リル)  ’+3+≠−オキサジアゾール、コートリク
ロロメチルーよ−(≠−n−ブトキシスチリル)−/、
3.44−オキサジアゾールが挙けられる。
父、一般式[1cの具体例としては、フェニルトリブロ
モメチルスルホン、p−ニトロフェニルトリブロモメチ
ルスルホン、p−クロルフェニルトリブロモメチルスル
ホンが挙げられ、特に好ましいものとしては、フェニル
トリブロモメチルスルホンである。一般式11dの化合
物の具体例としてHl、z−)ジクロロメチルキナゾリ
ノンと2−トリブロモメチルキナゾリノンが挙げられ、
コートリクロロメチルキナゾリノンが特に好ましい。
般式[1eで示される化合物は特開昭j≠−74!tt
7号明細書に記載の化合物であり、その具体例としては
、コ、≠、6−トリス(トリクロロメチル) −s−)
リアジン、λ−フェニルー≠、A−ビス(トリクロロメ
チル) −S −)リアジン、−一(≠−メトキシフェ
ニル)−1,A−ビス(トリクロロメチル) −s −
トIJアジン、λ−(≠−クロロフェニル)−μ、A−
ビス() 17−iロモメチル)−S−トリアジンが挙
げられ、そのうち特に好ましいものとしてはコ、弘、を
一トリス(トリクロロメチル)−S−トリアジンとコー
(≠−メトキシフェニル)−弘、4−ビス(トリクロロ
メチル) −s −)リアジンが挙げられる。
更に、本発明に使用しつる有機ハロゲン化合物の例とし
ては、ハロゲン化炭化水素、ハロゲン化アルコール化合
物、ハロゲン化カルボニル化合物、ハロケン化エーテル
化合物、ハロゲン化エステル化合物、ハロゲン化アミド
化合物を挙げることができる。
ハロゲン化炭化水素の例としては、四臭化炭素、ヨード
ホルム、/、、2−ジiロモエタン、/、/コ1.2−
テトラブロモエタン、/、l−ビス(p−クロロフェニ
ル) −2、u 、 !−) IJジクロロタン、/、
2−ジブロモ−/、/、2−)ジクロロエタン、/、2
.3−ト+)プロモプロノξン、/−プロモーグークロ
ロブタン、/、2,3.ぴ−テトラブロモブタン、テト
ラクロロシクロプロペン、ヘキサクロロシクロはンタジ
ェン、ジブロモシクロヘキサンなどを挙げることができ
る。
ハロゲン化アルコール化合物の例としては、2゜2.2
−トリクロロエタノール、トリブロモエタノール、l、
3−ジクロロ−λ−プロノ耐ノール、/、/、/−)リ
クロローλ−プロパツール、ジ(ヨードへキサメチレン
)アミノインプロパツール、トリフロモーt e r 
t −7チルアルコール、λ。
コツ3−トリクロロブタン−/、4!−ジオールなどを
挙げることができる。
ハロゲン化カルボニル化合物の例としてハ/。
l−ジクロロアセトン、l、3−ジクロロアセトン、ヘ
キサクロロアセトン、ヘキサブロモアセトン、/、/、
3.J−テトラクロロアセトン、/。
/、/−トリクロロアセトン、J、4’−ジブロモ−2
−ブタノン、/、4C−ジクロローコーブタノン、ジブ
ロモシクロヘキサノンなどを挙げることができる。
ハロゲン化エーテル化合物の例としては、λ−ブロモエ
チルメチルエーテル、J −−70モエチルエチルエー
テル、ジ(,2−iロモエチル)エーテル、l、2−ジ
クロロエチルエチルエーテルナトを皐げることができる
ハロゲン化エステル化合物ハ、ハロゲン化カルボン酸の
エステル、カルボン酸のハロゲン化エスチル、またはハ
ロゲン化カルボン酸のハロゲン化エステルでるることが
できる。当該エステルの例としては、酢酸ブロモエチル
、トリクロロ酢酸エチル、トリクロロ酢酸トリクロロエ
チル、コツ3−ジブロモゾロピルアクリレートのホモポ
リマー及び共重合体、ジブロモプロピオン酸トリクロロ
エチル、α、β−ジクロロアクリル酸エテルなどを挙げ
ることができる。
ハロゲン化アミド化合物の例としては、クロロアセトア
ミド、ブロモアセトアミド、ジクロロアセトアミド、ト
リクロロアセトアミド、トリブロモアセトアミド、トリ
クロロエチルトリクロロアセトアミド、コープロモイソ
プロピオンアミド1.2..2..2−)+7クロロプ
ロビオンアミド、N−クロロスクシンイミド、N−ブロ
モスクシンイミドなどを挙げることができる。
有機ハロゲン化合物のうちでは同一炭素原子に結合した
一個以上のハロゲン原子をもつハロゲン化物が好ましく
、特に好ましくは一個の炭素原子に三個のハロゲン原子
をもつハロゲン化物である。
有機ハロゲン化合物は単独で使用してもよく、二種以上
併用してもよい。
これらのうち特に好ましい有機ハロゲン化合物ハ、トリ
ブロモメチルフェニルスルホン、、?、4L−ビス(ト
リクロロメチル)6−フェニルトリアゾールである。
本発明に用いられる有機ハロゲン化合物の童は光重合性
組成物の固形分に対しo、ooi重童%から5重量%の
範囲である。さらに好ましくは、o、ooz重量%から
7重量%である。
不発明に便用される光重合性組成物には、更に熱重合禁
止剤を加えることが好ましい。熱重合禁止剤の具体例と
しては、例えば、p−メトキシフェノール、ハイドロキ
ノン、アルキルまたはアリール置換ハイドロキノン、t
−ブチルカテコール、ピロガロール、塩化第一銅、フロ
ラニール、ナフチルアミン、β−ナフトール、λ、6−
ジー1−フチルーp−クレゾール、ピリジン、ニトロベ
ンゼン、ジニトロベンゼン、p−)ルイジン、メチレン
ブルー、有機銅、サリチル酸メチルなどがある。これら
の熱重合禁止剤は、多官能モノマーに対して0,00/
〜!重量%の範囲で含有されるのが好ましい。
本発明において、膜物性をコントロールするために、可
塑剤を添加してもよく、代表例としては、ジメチルフタ
レート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ
インブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オクチ
ルカブリールフタレート、シンクロヘキシルフタレート
、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート
、ジイソデシルフタレート、ジアリールフタレートなど
のフタル酸エステル類、ジメチルグリコースフタレート
、エチルフタリールエチルグリコレート、メチルフタリ
ールエチルグリコレート1.プチルフタリールヅテルグ
リコレート、トリエチレングリコールシカゾリル酸エス
テルナトのグリコールエステル類、トリクレジールフオ
スフエート、トリフェニルフォスフェートなどの燐酸エ
ステル類、ジインブチルアジペート、ジオクチルアジペ
ート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオ
クチルセバケート、ジブチルマレートなどの脂肪族二塩
基酸エステル類、ベンゼンスルホンアミド、p−トルエ
ンスルホンアミド、N−n−7’チルアセトアミドなど
のアミド類、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセ
チルエステル、ラウリル酸ブチルなどがちる。
これらのうち特に好ましいものは、p−トルエンスルホ
ンアミドである。
本発明に使用しうるロイコ色素の代表的なものとしては
、次のものが含まれる。トリス(p−ジメチルアミノフ
ェニル)メタン、(ロイコクリスタルバイオレット)、
トリス(p−ジエチルアミノフェニル)メタン、トリス
(p−ジメチルアミノ−0−メチルフェニル)メタン、
トリス(p−ジエチルアミノーO−メチルフェニル)メ
タン、ビス(p−ジブチルアミノフェニル)−Q)−(
−2−シアノエチル)メチルアミノフェニルコメタン。
ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−2−キノリルメ
タン、トリス(p−ジプロピルアミノフェニル)メタン
等のアミノトリアリールメタン類、J、A−ビス(ジエ
チルアミノ)−ターフェニルキサンチン、3−アミノ−
乙−ジメチルアミノ−J−メf−ルータ−(0−クロロ
フェニル)キサンチン等のアミノキサンチン類、3.t
−ビス(ジエチルアミノ)−ター(0−エトキシカルボ
ニルフェニル)チオキサンチン、3,6−ビス(ジメチ
ルアミノ)チオキサンチン等のアミノチオキサンチン類
、J 、 A−ビス(ジエチルアミノ)−タ。
io−ジヒドロ−ターフェニルアクリジン、3゜6−ビ
ス(ベンジルアミノ)−2,10−ジヒドロ−ターメチ
ルアクリジン等のアミノータ、10−ジヒドロアクリジ
ン類、3.7−ビス(ジエチルアミノ)フェノキサジン
等のアミノフェノキサジン類、3e 7−ビス(エチル
アミン)フェノチアジン等のアミノフェノチアジン類、
3,7−ビス(ジエチルアミノ)−よ−へキシル−!、
10−ジヒドロフェナジン等のアミノジヒドロフェナジ
ン類、ビス(p−ジメチルアミノフェニル)アニリノメ
タン等のアミノフェニルメタン類、≠−アミノー弘′−
ジメチルアミノジフェニルアミン、弘−アミノ−α、β
−ジシアノヒドロケイ皮酸メチルエステル等のアミノヒ
ドロケイ皮酸類、/−(J−f7fル)−2−フェニル
ヒドラジン等のヒドラジン類%’l≠−ビス(エチルア
ミノ)−23−ジヒドロアントラキノン等のアミノ−λ
3−ジヒドロアントラキノン類、N、N−ジエチル−p
−7エネチルアニリン等のフェネチルアニリン類、10
−アセチル−3,7−ビス(ジメチルアミノ)フェノチ
アジン等の塩基性NH基を含むロイコ色素のアシル誌導
体、トリス(≠−ジエチルアミンー〇 −)リル)エト
キシカルボニルメタン等の酸化しりる水素をもっていな
いが、発色化合物に酸化しうるロイコ様化合物、ロイコ
インジゴイド色素、米国特許第J、0142.jIJ号
及び同第3,01/−2,117号に記載されているよ
うな発色形に散化しうるような有機アミン類。
この型の代表的な化合物としては、次のものを挙ケルこ
とができる。p、l −エチレンジアミン。
ジフェニルアミン、N、N−ジメチルアニリン、弘、≠
′ −メチレンジアミントリフェニルアミン、N−ビニ
ルカルバゾール。これらのうち特に好ましいものはロイ
コクリスタルバイオレットである。
本発明に用いるロイコ色素の11は光重合性組成物の固
形分画シ、o 、oi〜10重量%の範囲で、更に好ま
しくは0.01..1重重%の範囲である。
本発明には、光重合組成物を着色させたシ、保存安定性
を付与したシする目的に染料を用いることができる。
好適な染料の例は、ブIJ IJアンドグリーン硫酸塩
、エオシン、エチルアミンツト、エリスロシンB、メチ
ルグリーン、クリスタルバイオレット、ペイシックツク
シン、フェノールフタレイン、/。
3−ジフェニルトリアジン、アリザリンレッドS。
チモールフタレイン、メチルバイオレット2B。
キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニル−イエロ
ー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、
メチルオレンジ、オレンジ■、ジフェニルチオカルバゾ
ン、コ、7−ジクロロフルオレセイン、パラメチルレッ
ド、コンゴーレッド、ベンゾプルプリンtA13.α−
ナフチル−レッド、ナイルプルーA1フエナセタリン、
メチル/9イオレツト、マラカイトグリーンシュウ酸塩
、ノミラックシン、オイルブルー#1.03〔オリエン
ト化学工業■製〕、ローダミンB、ローダミン6Gなど
である。
特に好ましい染料はマラカイトグリーンシュウ酸塩であ
る。
本発明には、密着性を向上させるために、公知のいわゆ
る密着促進剤を用いることができる。例えば、特公昭!
Q−タ/77号、特公昭!弘−よ。
λり2号、特公昭!j−22.tiri号、特開昭!/
−6≠、り/り号、特開昭j/−6≠、り20号、特開
昭jO−Aj、017号、特開昭j2−2,72≠号、
特開昭j j −70λ号、特開昭!13−72≠1!
≠/号、特開昭j3−/コ弘。
j5PII号、特開昭!It−/3! 、 316号、
特開昭j≠−/33.!j’rt号、特開昭1l−AI
タグ7号、特公昭j7−≠t、OjJ号、特公昭j7−
≠l、、0!≠号、特開昭jt−ii、りO≠号、特公
昭!7−2/、l、27号、特開昭、tG−77,4≠
2号、特開昭74−A7.r≠≠号、。
特公昭!7−I10 、100号、特開昭56−タタ。
202号、特開昭!t−100,103号、特開昭よ7
−1.0.327号、特開昭!7−62.O≠7号、D
A82.lA4す1g!0号、US≠。
6−タ、672号、特公昭j7−μり、♂り≠号、特開
昭!7−/弘t、3り2号、特開昭j7−/12 、?
444号、特開昭jr−/ 00 、r’44A号、特
開昭jターl/3.≠32号、特開昭jター12!、7
コj号、特開昭jターフ2よ、726号、特開昭!ター
/λj、727号、特開昭jター/2よ、7λを号、特
開昭!ター/j2.≠3り号、特開昭!ター/j弘、弘
≠O号、特開昭jターl!≠、≠≠1号、特開昭!ター
itz、ozi号、特開昭60−A2.j弘3号、特開
昭jO−/コ。
j弘≠号、特開昭to−i3z、り3/号、特開昭tO
−/31.!170号、特開昭tO−/144゜233
号、特開昭67−≠、03♂号、特開昭6/−4,j弘
≠号、特開昭4/−A、4≠6号、特開昭A/−1le
&、!弘/号、特開昭乙/−772,132号、特開昭
6/−/It、、9j2号、特開昭67−/り0..3
30号、特開昭A/−/りざ、l弘6号、特開昭A/−
223,136号、特開昭& /−212,1rjj号
、特開昭t/−310,237号、特開昭62−タ/、
り3j号、特開昭62−タロ1り3り号、特開昭ax−
it0.3141号、特開昭1.2−A10.31!号
、特開昭62−7ざ0,316号、特開昭62−A10
.317号、特開昭A、2−/II、303号、%開昭
62−、20g’ 、017−2号、特開昭62−コl
/lO1り!O号、特開昭乙コーコ77.μQ!号、特
開昭6.2−Aft 、03!号、特開昭t2−220
.702号、特公昭63−/J、126号、特開昭&J
−、2弘、2弘3号、特開昭AJ−47゜622号、特
開昭AJ−6/、2≠/号記載の化合物がある。
具体的には、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール
、ベンズチアゾール、コーメルカブトベンズイミダゾー
ル、コーメルカブトベンズオキサゾール、λ−メルカプ
トベンズチアゾール、3−モルホリノメチル−/−フェ
ニル−トリアゾール−λ−チオン、3−モルホリノメチ
ル−よ−7エニルーオキサジアゾールーコーチオン、!
−アミノー3−モルホリノメチル−チアジアゾール−λ
−チオン、2−メルカプト−よ−メチルチオーチアジア
ゾールなどがある。
特に好ましい化合物としては3−モルホリノメチル−7
−フェニルトリアゾール−2−チオンが挙げられる。
本発明の光重合性勢脂瞥載物は、溶剤に溶解または分散
して塗布液となし、支持体上に適当な方法で塗布し、乾
燥し、もし必要ならばその上に保護フィルムを重ね画像
形成材料として用いるのが一般的である。
塗布液の溶剤としては、例えばメタノール、エタ/−k
、n−プロノノール、インプロパツール、n−ブタノー
ル、5ec−ブタノール、n−へキサ/−に等(Dアル
コール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイン
ブチルケトン、シクロヘキサノン、ジインヅチルケトン
などのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−n−
アミル、蟻識メチル、プロピオン酸エチル、7タル酸ジ
メチル、安息香酸エチルなどのエステル類、トルエン、
キシレン、ベンゼン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化
水素類、四塩化炭素、トリクロロエチレン、クロロホル
ム、/ 、/ 、/−ト’Jりoaミニタフ塩化メチレ
ン、モノクロロベンゼン、などのノーロゲン化炭化水素
類、デトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル、l−メトキシ−2−プロノeノール
などのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホオキサイドなどがある。
前述の支持体として用いられるものは、光の透過性が良
好であること及び表面が均一であることが必要である。
具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピ
レン、ポリエチレン、三酢酸セルロース、二酢酸セルロ
ース、ポリ(メタ)アクリル酸アルキルエステル、ポリ
(メタ)アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル
、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチ
レン、セロファン、ポリ塩化ビニリデン共重合物、ポリ
アミド、ポリイミド、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
、ポリテトラフロロエチレン、ポリトリフロロエチレン
等の各種のプラスチックフィルムが使用できる。更にこ
れ等の二種以上からなる複合材料も使用することができ
る。
支持体は、一般的には夕〜/!θμmのもの、好ましく
は1o−toμmのものが使用されるが、上記以外の範
囲でも使用することができる。
支持体上に設けられる、前記光重合性組成物の層の厚さ
は、最終的に形成される画像の所望の機能を果たすよう
な厚さで設けられるが、一般的には3〜100μmの範
囲であり、好ましくは、10−10μmの範囲である。
本発明の光重合性組成物は支持体上に塗布されて用いら
れるが、必要に応じて、光重合性組成物層の上に保護フ
ィルムを設けることができる。かかる保護フィルムとし
ては、前記支持体に使用されるものおよび、紙、たとえ
ばポリエチレン、ポリプロピレンなどがラミネートされ
た紙などの中から適宜選ぶことができる。厚さは!〜i
ooμmが一般的であり70〜jOμmがより好ましい
その際、光重合性組成物層と支持体の接着力Aと光重合
性組成物層と保護フィルムの接着力BとがA)Bの関係
になるようにする必要がある。支持体/保護フィルムの
組み合せの具体例としては、ポリエチレンテレフタレー
ト/ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート/、
+?リエチレン、ポリアミド(ナイロンJ)/ポリエチ
レン、ポリ塩化ビニル/セロファン、ポリイミド/ポリ
プロピレンなどがある。
上記のように支持体と保護フィルムを相互に異種のもの
から選ぶ方法のほかに、支持体および保護フィルムの少
くとも一方を表面処理することにより、前記のような接
着力の関係を満たすことができる。支持体の表面処理は
光重合性組成物層との接着力を高めるために施されるの
が一般的であり、例えば、下塗層の塗設、コロナ放電処
理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波照射処理、グロ
ー放電照射処理、活性プラズマ照射処理、レーザー光線
照射処理などがある。
また、保護フィルムの表面処理は、上記支持体の表面処
理とは逆に、光重合性組成物層との接着力を低めるため
に施されるのが一般的であり、例えばポリオルガノシロ
キサン、弗素化ポリオレフィン、ポリフルオロエチレン
などを下塗層として設ける方法がある。
塗布後の乾燥は一般的には300C〜/jO°C1特に
j O’C−/ 20 ’(’で7〜30分間行うのが
よい。
前記の画像形成材料が保護フィルムを有する場合にはそ
れをはがして光重合性組成物層の表面を露出させ、これ
を所望の清浄化した基板表面に加圧して積層する。
基板としては、本発明の使用目的に応じて種々のものが
用いられ、例えば支持体に用いたものとは異った光重合
性層との接着力を有するプラスチックフィルム、紙、木
材、金属板、ガラス板などが用いられる。特に本発明を
プリント配線作成用のレジストとして用いる場合には金
属、例えば、銅、−アルミニウム、銀などの薄い層をプ
ラスチック板の上又は下、或いはプラスチック板を通し
てあけられた穴、即ちスルーホールの内壁表面にはり合
わせた、あるいはメツキで付着させたプリント配線基板
、あるいは、うすいプラスチックフィルム上に金属の薄
い膜を蒸着またはメツキ等によって設けた基板などが用
いられ、さらに本発明を印刷版に用いる場合には、アル
ミニウム板、アルミニウム層を設けたプラスチックフィ
ルムなトカ用いられる。この場合、アルミニウム等の金
属表面は、シリケート処理、陽極酸化等の処理がほどこ
されていることが好ましい。
光重合性組成物層のこれら基板への積層は室温(/j〜
JO’C)或いは加熱下(30,1r 0oC)で行う
ことが出来、特に10〜/≠00Cで行うのが好ましい
かくして基板上に積層された感光層及び支持体を、次に
透明支持体を通して一般には原稿を通して画像状に露光
する。光源としては透明支持体を透過し、かつ用いられ
ている光重合開始剤に対して活性な電磁波、波長が37
0〜7oonm、より好ましくは3よ0−!00nmの
範囲の紫外−可視光線を発する光源が用いられる。例え
ば、高圧水銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク灯、
ハロゲンランプ、複写用の螢光管などが用いられる。こ
の他にレーザー光線、電子線、X線などを用いて露光し
てもよい。
画像状の露光後、透明支持体を除去し適当な現像液、例
えば、有機溶剤、有機溶剤を含有したアルカリ水浴液ま
たはアルカリ水溶液などで未露光部を溶出し、基板上に
光硬化した画像を得る。
画像形成後、必要ならば、所望の処理をすることができ
る。例えば、プリント配線板を作成する場合には、塩化
銅水浴液、塩化第二鉄水浴液などノ公知のエツチング液
を用いて露出した金属をエツチングしたり、ピロリン酸
銅、硫酸銅などの公知のメツキ液を用いて露出した金属
上にメツキをすることが出来る。
又、本発明の光重合性組成物を既述の溶媒に溶解した液
を、スピナー、ホイラー等を用いて基板上に直接塗布、
乾燥を行い、フォトレジストを作成することもできる。
本発明の光重合性W組成物は、特にプリント配線板の作
成に好適に用いられるが、さらに、平板または凸版印刷
板の作成、レリーフ型の作成、光学的複製、写真等の広
範囲の目的に使用することが出来る。
以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明するが
、本発明はこの実施例によって限定されるものではない
。なお、「部」は特に断シのない限シ「重量部」を意味
する。
実施例/〜グ、比較例/〜7 下記に示した素材を混合させて均一な溶液を調製した(
以下、これを母液と称する)。
メタクリル酸メチル/メタク   弘コ、り部リル酸/
コーエチルヘキシ ルメタクリレート/ベンジ ルメタクリレート共重合体 (モル比=j 172g、ざ // / 、7/弘、j二重量 平均分子量りoooo )の 35重量%溶液 (溶媒はメチルエチルケ トン//−メトキシ− λ−プロパツール=1 //(重量比)) ポリプロピレングリコールジ    6.jfffiア
クリレート (平均分子量 122 ) テトラエチレングリコールジ    1.5部メタクリ
レート p−)ルエンスルホンアミド    o、s部マラカイ
トグリーンシュウ酸塩 /、621部(1%メタノール
溶液) 3−モルホリノメチル−/−0,0/部フェニルトリア
ゾールーλ 一チオン 上記の母液に、表1の!!施例/〜≠、比較例1〜7に
示した量の弘、μ′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフ
ェノン、ベンゾフェノン、フェニルトリブロモメチルス
ルホン、J−(J’ −クロロフェニル)−≠、z−ジ
フェニルイミタソール二盪体、ロイコクリスタルバイオ
レット、あるいは式(1)もしくは(21で表される化
合物をそれぞれ添加に塗布し、100 ′Cで2分間乾
燥して約4!0μm専の感光性塗布膜を有する感材を得
た。この感材を清浄化した銅張積層板(基板)上に10
j″Cでラミネートし、以下に述べる特性を有する2種
類のネガ原稿を介してj kW超高圧水銀灯(オーク■
製HMW−jJ2D)を用いて、種々の露光量で露光し
た。
チャートAニライン巾/スペース巾(L/5)=i/i
、ライン巾=30μm〜 100μm(10ttmステップ、 6巾のラインが!本ずつある) チャー)B : L/8=//、!、以下チャート人と
同じ 更に、感度を評価するため、両原稿にはa度の段差がo
、isである富士ステップガイドP−i設けた。
ii!光is分後公債%炭酸ナトリウム水浴液(30°
C)でμO秒間スプレー現像(スプレー圧コゆ/cIr
L2)シたのち、20°Cの水で弘θ秒間水洗した。こ
のようにして得られたA、B両原稿によるレジストパタ
ーンを光学顕微鏡で観察した。
評価は以下のように行った。
〈最高解像間〉 まずチャートAを用いてダOmj/crn2で露光して
得られたパターンを観察し、!本のラインが剥がれたり
、現像されない部分が残ったりしていない最も細いライ
ンの巾(解像度)を記録した。次いで、20 m j 
/cm2間隔で露光量を増しながら露光し、各サンプル
の解像度を同様にして記録した。
一般に、低露光童域ではレジストパターンが剥がれ易い
ため細いライン巾の画線が得られない。逆に高露光量域
ではライン間にツマリを生じ易く、細い線巾のライン程
その傾向が太きいため、解像解像度とした。
く感度〉 1oomj でtlI元したときに得られたステップガ
イドのパターンにおけるクリアー段数を感度とした。即
ち、段数が大きい程感度が高い。
く密着〉 最高解像度の得られる露光量でのB原稿の/ξターンを
観察し、剥がれのない最も細い線のライン巾を記録した
くテント膜強度〉 ぶnφのスルーホール(2000大)をもつ基板の両面
に感光性塗布膜をラミネートした後、最高解像度の得ら
れたginで全面露光し、既述の条件で現像してテント
膜全形成した。これに、塩化銅水餅液’6スプレーシた
(3t’ Be、 4Lr0c。
コ、jゆ/ぼ2、μ分間)後、水をスプレーした( /
 r 0C12に9/an2.3分間)。この操作を更
に2回繰り返した後、破れたテント膜の率を記録した。
結果を表/に示す。これから明らかな様に、本発明の光
重合開始剤系、有機ハロゲン化合物、ロイコ染料を組み
合わせることにより、解像度・密着が著しく向上すると
共にテン)[の破れ率が大巾に減少した。更に感度向上
の効果も認められた。
実施例j、A及び比較例1 既述の母液に、光重合開始剤系として表λに示した化合
物を添加した以外は実施例1−≠及び比較例1〜7と同
様にして弘Qμmの感光性塗布膜を得た。
これに既述の超高圧水銀灯を用いて100mj/cWL
2で露光した。3分後に、UV〜可視分光光感度計(高
滓グラフィコード UV−24!O)で、!りOnmに
おける吸光度を測定した。II元前の塗布膜の同様の測
定で得られた吸光度を差し引き、焼き出しm度へDを求
めた。結果を表1に示す。
これから明らかな様に、本発明の光重合開始剤系、有機
ハロゲン化合物、ロイコ色素、の組み合わせにより焼き
出し性を著しく高めることができた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  下記(1)〜(5)を含有してなる光重合性組成物 (1)熱可塑性高分子結合剤 (2)非ガス状エチレン性不飽和化合物 (3)4,4′−ビス(ジアルキルアミノ)ベンゾフェ
    ノン、芳香族ケトン及びロフイン二量体よりなる光重合
    開始剤系 (4)有機ハロゲン化合物 (5)ロイコ色素
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04282638A (ja) * 1991-03-12 1992-10-07 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPH08240908A (ja) * 1994-12-29 1996-09-17 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性樹脂組成物、それを用いた感光性平版印刷版、および平版印刷用版材の製造方法
EP0780731A2 (en) 1995-12-22 1997-06-25 Mitsubishi Chemical Corporation Photopolymerizable composition for a color filter, color filter and liquid crystal display device
JP2005121790A (ja) * 2003-10-15 2005-05-12 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性ドライフィルム
US6919151B2 (en) 2002-01-29 2005-07-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Reflective color filter
WO2006121113A1 (ja) * 2005-05-12 2006-11-16 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 三次元微小成形体製造用感光性ドライフィルムおよび感光性樹脂組成物
JP2011195625A (ja) * 2010-03-17 2011-10-06 Fujifilm Corp インク組成物およびインクセット、並びに画像形成方法
WO2016185604A1 (ja) * 2015-05-21 2016-11-24 株式会社メイコー プリント配線板の製造方法及びエッチングレジストのパターン形成方法
JP2017517136A (ja) * 2014-03-03 2017-06-22 アグフア−ゲヴエルト 導電性パターン(conductive patterns)の作製のためのエッチング−抵抗性インキジェットインキ

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0511439A (ja) * 1990-09-13 1993-01-22 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
DE4204949A1 (de) * 1992-02-19 1993-09-09 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung eines mehrfarbenbilds und lichtempfindliches material zur durchfuehrung dieses verfahrens
JP2832409B2 (ja) * 1992-06-09 1998-12-09 富士写真フイルム株式会社 光重合性樹脂材料及びこれを用いたプリント回路の作成方法
US5391458A (en) * 1992-12-18 1995-02-21 Morton International, Inc. Photoresist processing for improved resolution having a bake step to remove the tackiness of the laminated photosensitive layer prior to contact imagewise exposure
US5407783A (en) * 1993-07-22 1995-04-18 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoimageable compositions containing substituted 1, 2 dihalogenated ethanes for enhanced printout image
JP3044689B2 (ja) * 1994-10-14 2000-05-22 日本ゼオン株式会社 感光性エラストマー組成物及び感光性ゴム版
US5885746A (en) * 1994-12-29 1999-03-23 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Photosensitive resin composition, photosensitive printing plate using the same and method of manufacturing printing master plate
US5900346A (en) * 1995-04-06 1999-05-04 Shipley Company, L.L.C. Compositions comprising photoactivator, acid, generator and chain extender
US5665522A (en) * 1995-05-02 1997-09-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Visible image dyes for positive-acting no-process printing plates
US6066435A (en) * 1997-06-02 2000-05-23 Ciba Specialty Chemicals Corp. Liquid photosensitive composition
JPH11167203A (ja) * 1997-12-01 1999-06-22 Nichigoo Mooton Kk 感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント
EP1209528B1 (en) 2000-11-28 2015-07-22 Eternal Technology Corporation Photoresist composition
US6479217B1 (en) 2001-02-22 2002-11-12 Spectra Group Limited, Inc. Method for producing selectively colorable printing plates
US20030087178A1 (en) * 2001-04-20 2003-05-08 Adrian Lungu Photopolymerizable element for use as a flexographic printing plate and a process for preparing the plate from the element
GB0228647D0 (en) * 2002-12-09 2003-01-15 Ciba Sc Holding Ag Polyeric material containing a latent acid
EP1614541A3 (en) 2004-07-08 2006-06-07 Agfa-Gevaert Method of making a lithographic printing plate.
JP2006335826A (ja) * 2005-05-31 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法
ATE391014T1 (de) 2005-06-21 2008-04-15 Agfa Graphics Nv Wärmeempfindliches bildaufzeichnungselement
JP5449688B2 (ja) * 2008-03-26 2014-03-19 太陽ホールディングス株式会社 光硬化性熱硬化性樹脂組成物、そのドライフィルム及び硬化物並びにそれらを用いたプリント配線板
US9413861B2 (en) * 2012-10-05 2016-08-09 Nokia Technologies Oy Metallization and anodization of plastic and conductive parts of the body of an apparatus
CN106030711B (zh) * 2013-12-20 2019-02-22 科思创德国股份有限公司 具有改进的光敏性的全息介质
EP3431290B1 (en) 2017-07-20 2021-09-08 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
WO2019219560A1 (en) 2018-05-14 2019-11-21 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
EP3587112B1 (en) 2018-06-21 2024-04-03 Eco3 Bv A lithographic printing plate precursor
EP3587113B1 (en) 2018-06-21 2023-01-04 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
CN113168096B (zh) 2018-12-10 2024-05-24 易客发有限公司 Uv或紫色敏化的平版印刷版的在机加工
EP3686011A1 (en) 2019-01-23 2020-07-29 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
EP3875271A1 (en) 2020-03-04 2021-09-08 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
EP3892469B1 (en) 2020-04-10 2023-11-08 Eco3 Bv Lithographic printing plate precursor

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5474728A (en) * 1977-11-28 1979-06-15 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
JPS5474887A (en) * 1977-11-29 1979-06-15 Fuji Photo Film Co Ltd Photo-polymerizable composition
JPS5565591A (en) * 1978-10-12 1980-05-17 Polychrome Corp Flat printing plate made of aluminium coated with copper
JPS5577742A (en) * 1978-12-08 1980-06-11 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
JPS5978339A (ja) * 1982-10-28 1984-05-07 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPH0267558A (ja) * 1988-07-20 1990-03-07 Basf Ag 感光性、ネガ形成印写皮膜
JPH0284647A (ja) * 1988-07-20 1990-03-26 Basf Ag 感光性記録材料、その応用及びそれに適した新規のロイコ化合物

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3479185A (en) * 1965-06-03 1969-11-18 Du Pont Photopolymerizable compositions and layers containing 2,4,5-triphenylimidazoyl dimers
US3814607A (en) * 1972-08-07 1974-06-04 Du Pont Crystalline photopolymerizable compositions with improved storage life
JPS5994B2 (ja) * 1976-09-14 1984-01-05 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
US4264708A (en) * 1978-03-31 1981-04-28 E. I. Du Pont De Nemours And Company Radiation sensitive element having a thin photopolymerizable layer
US4311783A (en) * 1979-08-14 1982-01-19 E. I. Du Pont De Nemours And Company Dimers derived from unsymmetrical 2,4,5,-triphenylimidazole compounds as photoinitiators
DE2953533C2 (de) * 1979-10-23 1984-04-26 Josef Gartner & Co, 8883 Gundelfingen Fassadenklappe für Gebäudefassaden
US4351893A (en) * 1980-12-31 1982-09-28 E. I. Du Pont De Nemours And Company Derivatives of aryl ketones as visible sensitizers of photopolymerizable compositions
US4438190A (en) * 1981-03-04 1984-03-20 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive resin composition containing unsaturated monomers and unsaturated phosphates
JPS57148740A (en) * 1981-03-10 1982-09-14 Toyobo Co Ltd Image duplicating material
EP0131824B1 (en) * 1983-07-01 1990-05-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition
US4629679A (en) * 1985-02-12 1986-12-16 Mitsubishi Rayon Company Ltd. Tetrazole compound-containing photopolymerizable resin composition

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5474728A (en) * 1977-11-28 1979-06-15 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
JPS5474887A (en) * 1977-11-29 1979-06-15 Fuji Photo Film Co Ltd Photo-polymerizable composition
JPS5565591A (en) * 1978-10-12 1980-05-17 Polychrome Corp Flat printing plate made of aluminium coated with copper
JPS5577742A (en) * 1978-12-08 1980-06-11 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
JPS5978339A (ja) * 1982-10-28 1984-05-07 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPH0267558A (ja) * 1988-07-20 1990-03-07 Basf Ag 感光性、ネガ形成印写皮膜
JPH0284647A (ja) * 1988-07-20 1990-03-26 Basf Ag 感光性記録材料、その応用及びそれに適した新規のロイコ化合物

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04282638A (ja) * 1991-03-12 1992-10-07 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPH08240908A (ja) * 1994-12-29 1996-09-17 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性樹脂組成物、それを用いた感光性平版印刷版、および平版印刷用版材の製造方法
EP0780731A2 (en) 1995-12-22 1997-06-25 Mitsubishi Chemical Corporation Photopolymerizable composition for a color filter, color filter and liquid crystal display device
US6919151B2 (en) 2002-01-29 2005-07-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Reflective color filter
JP2005121790A (ja) * 2003-10-15 2005-05-12 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性ドライフィルム
US8372577B2 (en) 2003-10-15 2013-02-12 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Photosensitive resin compositions and photosensitive dry films using the same
WO2006121113A1 (ja) * 2005-05-12 2006-11-16 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 三次元微小成形体製造用感光性ドライフィルムおよび感光性樹脂組成物
JP2006317698A (ja) * 2005-05-12 2006-11-24 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 三次元微小成形体製造用感光性ドライフィルムおよび感光性樹脂組成物
KR100904576B1 (ko) * 2005-05-12 2009-06-25 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 3차원 미소 성형체 제조용 감광성 드라이 필름 및 감광성수지 조성물
JP2011195625A (ja) * 2010-03-17 2011-10-06 Fujifilm Corp インク組成物およびインクセット、並びに画像形成方法
JP2017517136A (ja) * 2014-03-03 2017-06-22 アグフア−ゲヴエルト 導電性パターン(conductive patterns)の作製のためのエッチング−抵抗性インキジェットインキ
WO2016185604A1 (ja) * 2015-05-21 2016-11-24 株式会社メイコー プリント配線板の製造方法及びエッチングレジストのパターン形成方法

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