JPH10161309A - 感光性樹脂組成物、感光性シート及び金属配線基板の製造方法 - Google Patents
感光性樹脂組成物、感光性シート及び金属配線基板の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 金属層付き基板の金属層に対する接着性が優
れた、特に光硬化後現像時における接着性が優れた、感
光性樹脂層を与えることができる感光性樹脂組成物、感
光性シート及び感光性シートを用いた金属配線基板の製
造方法を提供すること。 【解決手段】 バインダーポリマー、光の照射によって
付加重合することのできるエチレン性不飽和二重結合含
有モノマー及び光重合開始剤からなる感光性樹脂組成物
であって、バインダーポリマーが、１４〜３０重量部の
メタクリル酸、２０〜７０重量部のメチルメタクリレー
ト、３〜３０重量部のエチルアクリレート及び３〜３０
重量部のベンジル（メタ）アクリレートを共重合して得
られ、かつ５０〜１２０℃のガラス転移温度及び３万〜
２０万の重量平均分子量を有する共重合体である感光性
樹脂組成物；透明支持体上に該感光性樹脂組成物からな
る感光性樹脂層が設けられた感光性シート；及び該感光
性シートを用いた金属配線基板の製造方法。
れた、特に光硬化後現像時における接着性が優れた、感
光性樹脂層を与えることができる感光性樹脂組成物、感
光性シート及び感光性シートを用いた金属配線基板の製
造方法を提供すること。 【解決手段】 バインダーポリマー、光の照射によって
付加重合することのできるエチレン性不飽和二重結合含
有モノマー及び光重合開始剤からなる感光性樹脂組成物
であって、バインダーポリマーが、１４〜３０重量部の
メタクリル酸、２０〜７０重量部のメチルメタクリレー
ト、３〜３０重量部のエチルアクリレート及び３〜３０
重量部のベンジル（メタ）アクリレートを共重合して得
られ、かつ５０〜１２０℃のガラス転移温度及び３万〜
２０万の重量平均分子量を有する共重合体である感光性
樹脂組成物；透明支持体上に該感光性樹脂組成物からな
る感光性樹脂層が設けられた感光性シート；及び該感光
性シートを用いた金属配線基板の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、感光性樹脂組成物
及びこれを用いて得られる感光性シート、更に詳しく
は、平版印刷版、樹脂凸版、プリント配線基板のフォト
レジスト又はフオトマスク等を作成するのに好適な感光
性樹脂組成物及び感光性シートに関する。また本発明
は、上記感光性シートを用いてプリント配線基板等の金
属配線基板を製造する方法に関する。
及びこれを用いて得られる感光性シート、更に詳しく
は、平版印刷版、樹脂凸版、プリント配線基板のフォト
レジスト又はフオトマスク等を作成するのに好適な感光
性樹脂組成物及び感光性シートに関する。また本発明
は、上記感光性シートを用いてプリント配線基板等の金
属配線基板を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年の電子工業分野等における高密度化
の要求に伴い、フォトレジストに対しては更に高い解像
度を有することが期待されている。プリント配線基板
（金属配線基板）、平版印刷版、樹脂凸版等の製造に利
用されるフォトレジスト（レジスト材料）として、感光
性樹脂層を基板に転写するための感光性シート（感光性
転写材料）が広く使用されている。例えば、プリント配
線基板の作成は、金属層を有する基板の金属層の上に、
感光性シートを、感光性樹脂層と銅等の金属層が接触す
るように積層し、この積層体の感光性樹脂層を支持体側
からフォトマスク（例、ネガ）を介してパターン露光
し、そして感光性樹脂層を金属層上に残して、積層体か
ら支持体を剥し取り、次いで感光性樹脂層を現像してそ
の未露光領域を除去した後、露出した金属層をエッチン
グして除去することにより行なわれる。
の要求に伴い、フォトレジストに対しては更に高い解像
度を有することが期待されている。プリント配線基板
（金属配線基板）、平版印刷版、樹脂凸版等の製造に利
用されるフォトレジスト（レジスト材料）として、感光
性樹脂層を基板に転写するための感光性シート（感光性
転写材料）が広く使用されている。例えば、プリント配
線基板の作成は、金属層を有する基板の金属層の上に、
感光性シートを、感光性樹脂層と銅等の金属層が接触す
るように積層し、この積層体の感光性樹脂層を支持体側
からフォトマスク（例、ネガ）を介してパターン露光
し、そして感光性樹脂層を金属層上に残して、積層体か
ら支持体を剥し取り、次いで感光性樹脂層を現像してそ
の未露光領域を除去した後、露出した金属層をエッチン
グして除去することにより行なわれる。
【０００３】上記プリント配線基板作成時に、感光性樹
脂層をパターン露光後現像する際、現像後銅層の上に残
るべき、即ちパターン画像となるべき領域の感光性樹脂
層が一部又は全部剥れることがあり、このような感光性
樹脂層のパターンを有する銅層をエッチングした場合、
その剥れた領域の銅層も消失することとなり、得られる
プリント配線基板は断線部分を有することなる。従っ
て、感光性シートの感光性樹脂層（感光性樹脂組成物）
は、高解像度を有すると共に、金属層への密着性、樹脂
層の強度を有することが望まれる。
脂層をパターン露光後現像する際、現像後銅層の上に残
るべき、即ちパターン画像となるべき領域の感光性樹脂
層が一部又は全部剥れることがあり、このような感光性
樹脂層のパターンを有する銅層をエッチングした場合、
その剥れた領域の銅層も消失することとなり、得られる
プリント配線基板は断線部分を有することなる。従っ
て、感光性シートの感光性樹脂層（感光性樹脂組成物）
は、高解像度を有すると共に、金属層への密着性、樹脂
層の強度を有することが望まれる。
【０００４】特開平４−２２５３５４号公報には、優れ
た現像性と密着性を有する感光性樹脂組成物が記載され
ている。即ち、感光性樹脂組成物のポリマー成分とし
て、メタクリル酸、炭素原子数１〜１２のアルキルメタ
クリレート及びエチルアクリレートの共重合により得ら
れるポリマーを使用することにより、感光性樹脂層が金
属層に対する優れた密着性と高い膜強度を有し、高精度
のレリーフ像が得られるとしている。
た現像性と密着性を有する感光性樹脂組成物が記載され
ている。即ち、感光性樹脂組成物のポリマー成分とし
て、メタクリル酸、炭素原子数１〜１２のアルキルメタ
クリレート及びエチルアクリレートの共重合により得ら
れるポリマーを使用することにより、感光性樹脂層が金
属層に対する優れた密着性と高い膜強度を有し、高精度
のレリーフ像が得られるとしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】プリント配線基板の作
成工程は、最近自動化されており、感光性樹脂層をパタ
ーン露光後の現像は、パターン露光された感光性樹脂層
を有する基板を搬送しながら基板に現像液をスプレーし
て行なわれることが一般的である。そして、基板の搬送
は、基板の搬送方向を制御するために搬送方向の両側に
設置されたリングを、基板表面に接触させて横振れを防
止しながら行なわれることが多い。従って、基板の搬送
（現像）中、基板表面の感光性樹脂層は現像液を吹きつ
けられた状態でリングに接触あるいは衝突するため、露
光、硬化された感光性樹脂層（パターン部分）も剥れ易
くなっている。上記特開平４−２２５３５４号公報に記
載の優れた密着性と高い膜強度を有する感光性樹脂層で
あっても、パターン部分が剥れることがあり、得られる
プリント配線基板に断線箇所が発生することが明らかと
なった。
成工程は、最近自動化されており、感光性樹脂層をパタ
ーン露光後の現像は、パターン露光された感光性樹脂層
を有する基板を搬送しながら基板に現像液をスプレーし
て行なわれることが一般的である。そして、基板の搬送
は、基板の搬送方向を制御するために搬送方向の両側に
設置されたリングを、基板表面に接触させて横振れを防
止しながら行なわれることが多い。従って、基板の搬送
（現像）中、基板表面の感光性樹脂層は現像液を吹きつ
けられた状態でリングに接触あるいは衝突するため、露
光、硬化された感光性樹脂層（パターン部分）も剥れ易
くなっている。上記特開平４−２２５３５４号公報に記
載の優れた密着性と高い膜強度を有する感光性樹脂層で
あっても、パターン部分が剥れることがあり、得られる
プリント配線基板に断線箇所が発生することが明らかと
なった。
【０００６】本発明の目的は、金属層付き基板の金属層
に対する接着性が優れた、特に光硬化後現像時における
接着性が優れた、感光性樹脂層を与えることができる感
光性樹脂組成物を提供することにある。また、本発明の
目的は、金属層付き基板の金属層に対する接着性が優れ
た、特に光硬化後現像時における接着性が優れた、感光
性樹脂層を有する感光性シートを提供することにある。
更に、本発明の目的は、断線のない金属配線基板を得る
ことができる金属配線基板の製造方法を提供することに
ある。
に対する接着性が優れた、特に光硬化後現像時における
接着性が優れた、感光性樹脂層を与えることができる感
光性樹脂組成物を提供することにある。また、本発明の
目的は、金属層付き基板の金属層に対する接着性が優れ
た、特に光硬化後現像時における接着性が優れた、感光
性樹脂層を有する感光性シートを提供することにある。
更に、本発明の目的は、断線のない金属配線基板を得る
ことができる金属配線基板の製造方法を提供することに
ある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、バインダーポ
リマー、光の照射によって付加重合することのできるエ
チレン性不飽和二重結合含有モノマー及び光重合開始剤
からなる感光性樹脂組成物であって、該バインダーポリ
マーが、１４〜３０重量部のメタクリル酸、２０〜７０
重量部のメチルメタクリレート、３〜３０重量部のエチ
ルアクリレート及び３〜３０重量部のベンジルアクリレ
ートまたはベンジルメタクリレートを共重合して得ら
れ、かつ５０〜１２０℃のガラス転移温度及び３万〜２
０万の重量平均分子量を有する共重合体であることを特
徴とする感光性樹脂組成物にある。また、透明支持体上
に、上記の感光性樹脂組成物から形成された感光性樹脂
層が設けられてなる感光性シートにもある。
リマー、光の照射によって付加重合することのできるエ
チレン性不飽和二重結合含有モノマー及び光重合開始剤
からなる感光性樹脂組成物であって、該バインダーポリ
マーが、１４〜３０重量部のメタクリル酸、２０〜７０
重量部のメチルメタクリレート、３〜３０重量部のエチ
ルアクリレート及び３〜３０重量部のベンジルアクリレ
ートまたはベンジルメタクリレートを共重合して得ら
れ、かつ５０〜１２０℃のガラス転移温度及び３万〜２
０万の重量平均分子量を有する共重合体であることを特
徴とする感光性樹脂組成物にある。また、透明支持体上
に、上記の感光性樹脂組成物から形成された感光性樹脂
層が設けられてなる感光性シートにもある。
【０００８】さらに本発明は、上記の感光性シートを用
いた金属配線基板の製造方法にもある。即ち、下記の工
程：金属層を有する基板の該金属層の上に、上記の感光
性シートを、感光性樹脂層と金属層が接触するように積
層して積層体を形成する工程、該積層体の感光性樹脂層
を支持体を介して画像様に露光する工程、感光性樹脂層
を金属層上に残して、積層体から透明支持体を剥し取る
工程、感光性樹脂層を現像してその未露光領域を除去す
る工程、及び露出した金属層をエッチングして除去する
工程、からなる金属配線基板の製造方法。
いた金属配線基板の製造方法にもある。即ち、下記の工
程：金属層を有する基板の該金属層の上に、上記の感光
性シートを、感光性樹脂層と金属層が接触するように積
層して積層体を形成する工程、該積層体の感光性樹脂層
を支持体を介して画像様に露光する工程、感光性樹脂層
を金属層上に残して、積層体から透明支持体を剥し取る
工程、感光性樹脂層を現像してその未露光領域を除去す
る工程、及び露出した金属層をエッチングして除去する
工程、からなる金属配線基板の製造方法。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の感光性樹脂組成物につい
て詳しく説明する。このような感光性樹脂組成物から形
成された感光性樹脂層が透明支持体上に設けられてなる
感光性シートは金属配線基板の製造に特に有利に使用す
ることができる。
て詳しく説明する。このような感光性樹脂組成物から形
成された感光性樹脂層が透明支持体上に設けられてなる
感光性シートは金属配線基板の製造に特に有利に使用す
ることができる。
【００１０】本発明の感光性樹脂組成物は、バインダー
ポリマー、光の照射によって付加重合することのできる
エチレン性不飽和二重結合含有モノマー及び光重合開始
剤からなる。そして、バインダーポリマーに特定のポリ
マーを使用することに特徴を有する。上記特定のポリマ
ーは、１４〜３０重量部のメタクリル酸、２０〜７０重
量部のメチルメタクリレート、３〜３０重量部のエチル
アクリレート及び３〜３０重量部のベンジルアクリレー
トまたはベンジルメタクリレートを共重合して得られ、
かつ５０〜１２０℃のガラス転移温度及び３万〜２０万
の重量平均分子量を有する共重合体である。共重合の方
法は、公知の製法に従い製造することができる。上記メ
タクリル酸の量は、１６〜２８重量部が好ましく、特に
１８〜２６重量部が好ましい。上記メチルメタクリレー
トの量は、２２〜６８重量部が好ましく、特に２４〜６
６重量部が好ましい。上記エチルアクリレートの量は、
３〜２８重量部が好ましく、特に５〜２６重量部が好ま
しい。上記ベンジルアクリレートまたはベンジルメタク
リレートの量は、３〜２８重量部が好ましく、特に３〜
２６重量部が好ましい。ベンジルアクリレートとベンジ
ルメタクリレートとは同様な性質を示すが、ベンジルメ
タクリレートがより好ましい。
ポリマー、光の照射によって付加重合することのできる
エチレン性不飽和二重結合含有モノマー及び光重合開始
剤からなる。そして、バインダーポリマーに特定のポリ
マーを使用することに特徴を有する。上記特定のポリマ
ーは、１４〜３０重量部のメタクリル酸、２０〜７０重
量部のメチルメタクリレート、３〜３０重量部のエチル
アクリレート及び３〜３０重量部のベンジルアクリレー
トまたはベンジルメタクリレートを共重合して得られ、
かつ５０〜１２０℃のガラス転移温度及び３万〜２０万
の重量平均分子量を有する共重合体である。共重合の方
法は、公知の製法に従い製造することができる。上記メ
タクリル酸の量は、１６〜２８重量部が好ましく、特に
１８〜２６重量部が好ましい。上記メチルメタクリレー
トの量は、２２〜６８重量部が好ましく、特に２４〜６
６重量部が好ましい。上記エチルアクリレートの量は、
３〜２８重量部が好ましく、特に５〜２６重量部が好ま
しい。上記ベンジルアクリレートまたはベンジルメタク
リレートの量は、３〜２８重量部が好ましく、特に３〜
２６重量部が好ましい。ベンジルアクリレートとベンジ
ルメタクリレートとは同様な性質を示すが、ベンジルメ
タクリレートがより好ましい。
【００１１】上記以外に下記の一般式（１）： ＣＨ2 ＝Ｃ（Ｒ1 ）ＣＯＯＲ2 （１） ［但し、Ｒ1 は水素原子又はメチル基を表わし、そして
Ｒ2 は炭素原子数１〜１２のアルキル基を表わす。但
し、Ｒ1 がメチル基且つＲ2 がメチル基の場合及びＲ1
が水素原子且つＲ2 がエチル基の場合を除く。］で表わ
されるアクリレートモノマーを上記モノマー１００重量
部に対して１８重量部以下の量で用いても良い。一般式
（１）で表わされるモノマーの例として、メチルアクリ
レート、エチルメタクリレート、プロピル（メタ）アク
リレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メ
タ）アクリレート、ネオペンチル（メタ）アクリレー
ト、ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル
（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレー
ト、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、デシル
（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート
を挙げることができる。
Ｒ2 は炭素原子数１〜１２のアルキル基を表わす。但
し、Ｒ1 がメチル基且つＲ2 がメチル基の場合及びＲ1
が水素原子且つＲ2 がエチル基の場合を除く。］で表わ
されるアクリレートモノマーを上記モノマー１００重量
部に対して１８重量部以下の量で用いても良い。一般式
（１）で表わされるモノマーの例として、メチルアクリ
レート、エチルメタクリレート、プロピル（メタ）アク
リレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メ
タ）アクリレート、ネオペンチル（メタ）アクリレー
ト、ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル
（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレー
ト、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、デシル
（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート
を挙げることができる。
【００１２】また、上記本発明の共重合体のガラス転移
温度は、６０〜１１０℃が好ましくく、特に７０〜１０
０℃が好ましい。また、その重量平均分子量は、５万〜
１８万が好ましく、特に６万〜１２万が好ましい。上記
本発明の共重合体は、モノマー成分としてベンジル（メ
タ）アクリレートを含んでいることが特徴であり、これ
により基板上の金属層（特に銅層）に対する感光性樹脂
層の接着性が向上したものと考えられる。特に、感光性
樹脂層を画像様に硬化後、その硬化層の接着性が、現像
液に曝された状態でも良好で、前記現像時の接触、衝撃
に対しても剥れ難くなっている。また、ベンジル（メ
タ）アクリレートにより感光性樹脂層の膜強度も上昇し
ていると考えられ、これによっても、上記現像時の接
触、衝撃に対して剥れ難くなっていると考えられる。
温度は、６０〜１１０℃が好ましくく、特に７０〜１０
０℃が好ましい。また、その重量平均分子量は、５万〜
１８万が好ましく、特に６万〜１２万が好ましい。上記
本発明の共重合体は、モノマー成分としてベンジル（メ
タ）アクリレートを含んでいることが特徴であり、これ
により基板上の金属層（特に銅層）に対する感光性樹脂
層の接着性が向上したものと考えられる。特に、感光性
樹脂層を画像様に硬化後、その硬化層の接着性が、現像
液に曝された状態でも良好で、前記現像時の接触、衝撃
に対しても剥れ難くなっている。また、ベンジル（メ
タ）アクリレートにより感光性樹脂層の膜強度も上昇し
ていると考えられ、これによっても、上記現像時の接
触、衝撃に対して剥れ難くなっていると考えられる。
【００１３】バインダーポリマーは、上記共重合体以外
に下記のポリマーを２０重量％以下の量で含んでいても
良い、上記他のバインダーポリマーの例としては、塩素
化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレンなどの塩素化ポ
リオレフイン；上記以外のアクリル樹脂；ポリ（メタ）
アクリル酸；（メタ）アクリル酸アルキルエステルとア
クリロニトリル共重合体；塩化ビニル、塩化ビニリデ
ン、スチレン、ブタジエン等のモノマーの少くとも一種
との共重合体；ポリ塩化ビニル；塩化ビニルとアクリロ
ニトリルとの共重合体；ポリ塩化ビニリデン；塩化ビニ
リデンとアクリロニトリルとの共重合体；酢酸ビニルと
塩化ビニルとの共重合体；ポリアクリロニトリル；アク
リロニトリルとスチレンとの共重合体；アクリロニトリ
ルとブダジエン及びスチレンとの共重合体；スチレンと
無水マレイン酸などの不飽和二塩基酸無水物との共重合
体；ポリビニルブチラール；スチレンブダジエンゴム；
塩化ゴム；環化ゴム；アセチルセルロースなどのホモポ
リマー又は共重合体；スチレンと（メタ）アクリル酸と
の共重合体などを挙げることができる。ポリマーバイン
ダー量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して５〜９６
重量％が好ましく、特に４０〜８０重量％が好ましい。
に下記のポリマーを２０重量％以下の量で含んでいても
良い、上記他のバインダーポリマーの例としては、塩素
化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレンなどの塩素化ポ
リオレフイン；上記以外のアクリル樹脂；ポリ（メタ）
アクリル酸；（メタ）アクリル酸アルキルエステルとア
クリロニトリル共重合体；塩化ビニル、塩化ビニリデ
ン、スチレン、ブタジエン等のモノマーの少くとも一種
との共重合体；ポリ塩化ビニル；塩化ビニルとアクリロ
ニトリルとの共重合体；ポリ塩化ビニリデン；塩化ビニ
リデンとアクリロニトリルとの共重合体；酢酸ビニルと
塩化ビニルとの共重合体；ポリアクリロニトリル；アク
リロニトリルとスチレンとの共重合体；アクリロニトリ
ルとブダジエン及びスチレンとの共重合体；スチレンと
無水マレイン酸などの不飽和二塩基酸無水物との共重合
体；ポリビニルブチラール；スチレンブダジエンゴム；
塩化ゴム；環化ゴム；アセチルセルロースなどのホモポ
リマー又は共重合体；スチレンと（メタ）アクリル酸と
の共重合体などを挙げることができる。ポリマーバイン
ダー量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して５〜９６
重量％が好ましく、特に４０〜８０重量％が好ましい。
【００１４】本発明に用いられる光の照射によって付加
重合することのできるエチレン性不飽和二重結合含有モ
ノマーの好適な例としては、少なくとも２個のエチレン
性不飽和二重結合を有する化合物である（以下多官能モ
ノマーとも言う）。例えば、このような多官能モノマー
の例としては、特公昭３６−５０９３号公報、特公昭３
５−１４７１９号公報、特公昭４４−２８７２７号公報
等に記載される化合物を挙げることができる。上記公報
に記載の化合物（（メタ）アクリル酸エステル類、（メ
タ）アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル
化合物、ビニルエステル類）の例として下記のものを挙
げることができる。アクリル酸エルテル及びメタクリル
酸エステル類の例としては、多価アルコールのポリアク
リレート類及びポリメタクリレート類（ここで「ポリ」
とはジ（メタ）アクリレート以上を言う）を挙げること
ができ、その多価アルコールの例としては、ポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレ
ングリコール、ポリシクロヘキセンオキサイド、ポリス
チレンオキサイド、ポリオキセタン、ポリテトラヒドロ
フラン、シクロヘキサンジオール、キシリレンジオー
ル、ジ−（β−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン、グリセ
リン、ジグリセリン、ネオペンチルグリコール、トリメ
チロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリ
スルリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビタン、
ソルビトール、ブタンジオール、プタントリオール、２
−ブテン−１，４−ジオール、２−ｎ−ブチル−２−エ
チル−プロパンジオール、２−ブチン−１，４−ジオー
ル、３−クロル−１，２−プロパンジオール、１，４−
シクロヘキサンジメタノール、３−シクロヘキセン−
１，１−ジメタノール、デカリンジオール、２，３−ジ
ブロム−２−ブテン−１，４−ジオール、２，２−ジエ
チル−１，３−プロパンジオール、１，５−ジヒドロキ
シ−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン、２，５
−ジメチル−２，５−ヘキサンジオール、２，２−ジメ
チル−１，３−プロパンジオール、２、２−ジフェニル
−１，３−プロパンジオール、ドデカンジオール、メゾ
エリスリトール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオー
ル、２−エチル−２−（ヒドロキシメチル）−１，３−
プロパンジオール、２−エチル−２−メチル−１，３−
プロパンジオール、ヘプタンジオール、ヘキサンジオー
ル、３−ヘキセン−２，５−ジオール、ヒドロキシベン
ジルアルコール、ヒドロキシエチルレゾルシノール、２
−メチル−１，４−ブタンジオール、２−メチル−２，
４−ペンタンジオール、ノナンジオール、オクタンジオ
ール、ペンタンジオール、１−フェニル−１，２−エタ
ンジオール、プロパンジオール、２，２，４，４−テト
ラメチル−１，３−シクロブタンジオール、２，３，
５，６−テトラメチル−ｐ−キシレン−α，α’−ジオ
ール、１，１，４，４−テトラフェニル−１，４−ブタ
ンジオール、１，１，４，４−テトラフェニル−２−ブ
チン−１，４−ジオール、１，２，６−トリヒドロキシ
ヘキサン、１，１’−ビ−２−ナフトール、ジヒドロキ
シナフタレン、１，１’−メチレン−ジ−２−ナフトー
ル、１，２，４−ベンゼントリオール、ビフェノール、
２，２’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン、ビス（ヒドロキシフェニル）メタン、カテコール、
４−クロルレゾルシノール、３，４−ジヒドロキシハイ
ドロシンナミックアシッド、ハイドロキノン、ヒドロキ
シベンジルアルコール、メチルハイドロキノン、メチレ
ン−２，４，６−トリヒドロキシベンゾエート、フロロ
グリシノール、ピロガロール、レゾルシノール、グルコ
ース、α−（１−アミノエチル）−ｐ−ヒドロキシベン
ジルアルコール、２−アミノ−２−エチル−１，３−プ
ロパンジオール、２−アミノ−２−メチル−１，３−プ
ロパンジオール、３−アミノ−１，２−プロパンジオー
ル、Ｎ−（３−アミノプロピル）−ジエタノールアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ビス−（２−ヒドロキシエチル）ピペラ
ジン、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−２，２’，
２”−ニトリロトリエタノール、２，２−ビス（ヒドロ
キシメチル）プロピオニックアシッド、１，３−ビス
（ヒドロキシメチル）ウレア、１，２−ビス（４−ピリ
ジル）−１，２−エタンジオール、Ｎ−ｎ−ブチルジエ
タノールアミン、ジエタノールアミン、Ｎ−エチレンジ
エタノールアミン、３−メルカプト−１，２−プロパン
ジオール、３−ピペリジノ−１，２−プロパンジオール
２−（２−ピリジル）−１，３−プロパンジオール、ト
リエタノールアミン、α−（１−アミノエチル）−ｐ−
ヒドロキシベンジルアルコール、３−アミノ−４−ヒド
ロキシフェニルスルホンなどを挙げることができる
重合することのできるエチレン性不飽和二重結合含有モ
ノマーの好適な例としては、少なくとも２個のエチレン
性不飽和二重結合を有する化合物である（以下多官能モ
ノマーとも言う）。例えば、このような多官能モノマー
の例としては、特公昭３６−５０９３号公報、特公昭３
５−１４７１９号公報、特公昭４４−２８７２７号公報
等に記載される化合物を挙げることができる。上記公報
に記載の化合物（（メタ）アクリル酸エステル類、（メ
タ）アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル
化合物、ビニルエステル類）の例として下記のものを挙
げることができる。アクリル酸エルテル及びメタクリル
酸エステル類の例としては、多価アルコールのポリアク
リレート類及びポリメタクリレート類（ここで「ポリ」
とはジ（メタ）アクリレート以上を言う）を挙げること
ができ、その多価アルコールの例としては、ポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレ
ングリコール、ポリシクロヘキセンオキサイド、ポリス
チレンオキサイド、ポリオキセタン、ポリテトラヒドロ
フラン、シクロヘキサンジオール、キシリレンジオー
ル、ジ−（β−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン、グリセ
リン、ジグリセリン、ネオペンチルグリコール、トリメ
チロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリ
スルリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビタン、
ソルビトール、ブタンジオール、プタントリオール、２
−ブテン−１，４−ジオール、２−ｎ−ブチル−２−エ
チル−プロパンジオール、２−ブチン−１，４−ジオー
ル、３−クロル−１，２−プロパンジオール、１，４−
シクロヘキサンジメタノール、３−シクロヘキセン−
１，１−ジメタノール、デカリンジオール、２，３−ジ
ブロム−２−ブテン−１，４−ジオール、２，２−ジエ
チル−１，３−プロパンジオール、１，５−ジヒドロキ
シ−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン、２，５
−ジメチル−２，５−ヘキサンジオール、２，２−ジメ
チル−１，３−プロパンジオール、２、２−ジフェニル
−１，３−プロパンジオール、ドデカンジオール、メゾ
エリスリトール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオー
ル、２−エチル−２−（ヒドロキシメチル）−１，３−
プロパンジオール、２−エチル−２−メチル−１，３−
プロパンジオール、ヘプタンジオール、ヘキサンジオー
ル、３−ヘキセン−２，５−ジオール、ヒドロキシベン
ジルアルコール、ヒドロキシエチルレゾルシノール、２
−メチル−１，４−ブタンジオール、２−メチル−２，
４−ペンタンジオール、ノナンジオール、オクタンジオ
ール、ペンタンジオール、１−フェニル−１，２−エタ
ンジオール、プロパンジオール、２，２，４，４−テト
ラメチル−１，３−シクロブタンジオール、２，３，
５，６−テトラメチル−ｐ−キシレン−α，α’−ジオ
ール、１，１，４，４−テトラフェニル−１，４−ブタ
ンジオール、１，１，４，４−テトラフェニル−２−ブ
チン−１，４−ジオール、１，２，６−トリヒドロキシ
ヘキサン、１，１’−ビ−２−ナフトール、ジヒドロキ
シナフタレン、１，１’−メチレン−ジ−２−ナフトー
ル、１，２，４−ベンゼントリオール、ビフェノール、
２，２’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン、ビス（ヒドロキシフェニル）メタン、カテコール、
４−クロルレゾルシノール、３，４−ジヒドロキシハイ
ドロシンナミックアシッド、ハイドロキノン、ヒドロキ
シベンジルアルコール、メチルハイドロキノン、メチレ
ン−２，４，６−トリヒドロキシベンゾエート、フロロ
グリシノール、ピロガロール、レゾルシノール、グルコ
ース、α−（１−アミノエチル）−ｐ−ヒドロキシベン
ジルアルコール、２−アミノ−２−エチル−１，３−プ
ロパンジオール、２−アミノ−２−メチル−１，３−プ
ロパンジオール、３−アミノ−１，２−プロパンジオー
ル、Ｎ−（３−アミノプロピル）−ジエタノールアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ビス−（２−ヒドロキシエチル）ピペラ
ジン、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−２，２’，
２”−ニトリロトリエタノール、２，２−ビス（ヒドロ
キシメチル）プロピオニックアシッド、１，３−ビス
（ヒドロキシメチル）ウレア、１，２−ビス（４−ピリ
ジル）−１，２−エタンジオール、Ｎ−ｎ−ブチルジエ
タノールアミン、ジエタノールアミン、Ｎ−エチレンジ
エタノールアミン、３−メルカプト−１，２−プロパン
ジオール、３−ピペリジノ−１，２−プロパンジオール
２−（２−ピリジル）−１，３−プロパンジオール、ト
リエタノールアミン、α−（１−アミノエチル）−ｐ−
ヒドロキシベンジルアルコール、３−アミノ−４−ヒド
ロキシフェニルスルホンなどを挙げることができる
【００１５】これらのアクリル酸エステル類、及びメタ
クリル酸エステル類のうち、最も好ましい例としては、
その入手の容易さから、エチレングリコールジアクリレ
ート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチ
レングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコ
ールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレ
ート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエ
チレングリコールジメタクリレート、テトラエチレング
リコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジ
アクリレート、テトラプロビレングリコールジアクリレ
ート、ドデカプロピレングリコールジアクリレート、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロー
ルプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスルトールジアクリレート、ペン
タエルスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレート、グリセリントリアクリレー
ト、ジグリセリンジメタクリレート、１，３−プロパン
ジオールジアクリレート、１，２，４−ブタントリオー
ルトリメタクリレート、１，４−シクロヘキサンジオー
ルジアクリレート、１，５−ベンタンジオールジアクリ
レート、ネオベンチルグリコールジアクリレート、エチ
レンオキサイド付加したトリメチロールプロパンのトリ
アクリル酸エステル等を挙げることができる。
クリル酸エステル類のうち、最も好ましい例としては、
その入手の容易さから、エチレングリコールジアクリレ
ート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチ
レングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコ
ールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレ
ート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエ
チレングリコールジメタクリレート、テトラエチレング
リコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジ
アクリレート、テトラプロビレングリコールジアクリレ
ート、ドデカプロピレングリコールジアクリレート、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロー
ルプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスルトールジアクリレート、ペン
タエルスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレート、グリセリントリアクリレー
ト、ジグリセリンジメタクリレート、１，３−プロパン
ジオールジアクリレート、１，２，４−ブタントリオー
ルトリメタクリレート、１，４−シクロヘキサンジオー
ルジアクリレート、１，５−ベンタンジオールジアクリ
レート、ネオベンチルグリコールジアクリレート、エチ
レンオキサイド付加したトリメチロールプロパンのトリ
アクリル酸エステル等を挙げることができる。
【００１６】アクリルアミド類及びメタクリルアミド類
の例としては、メチレンビスアクリルアミド、メチレン
ビスメタリルアミドのほか；エチレンジアミン、ジアミ
ノプロパン、ジアミノブタン、ペンタメチレンジアミ
ン、ヘキサメチレン、ビス（２−アミノプロピル）アミ
ン、ジエチレントリアミンジアミン、ヘプタメチレンジ
アミン、オクタメチレンジアミンおよび異種原子により
中断されたポリアミン及び環を有するポリアミン（例え
ば、フェニレンジアミン、キシリレンジアミン、β−
（４−アミノフェニル）エチルアミン、ジアミノベンゾ
イックアシッド、ジアミノトルエン、ジアミノアントラ
キノン、ジアミノフルオレンなど）等のポリアクリルア
ミド及びポリメタクリルアミドを挙げることができる。
の例としては、メチレンビスアクリルアミド、メチレン
ビスメタリルアミドのほか；エチレンジアミン、ジアミ
ノプロパン、ジアミノブタン、ペンタメチレンジアミ
ン、ヘキサメチレン、ビス（２−アミノプロピル）アミ
ン、ジエチレントリアミンジアミン、ヘプタメチレンジ
アミン、オクタメチレンジアミンおよび異種原子により
中断されたポリアミン及び環を有するポリアミン（例え
ば、フェニレンジアミン、キシリレンジアミン、β−
（４−アミノフェニル）エチルアミン、ジアミノベンゾ
イックアシッド、ジアミノトルエン、ジアミノアントラ
キノン、ジアミノフルオレンなど）等のポリアクリルア
ミド及びポリメタクリルアミドを挙げることができる。
【００１７】アリル化合物の例としては、フタル酸、テ
レフタル酸、セバシン酸、アシビン酸、グルタール酸、
マロン酸及び硝酸等のジカルボン酸のジアリルエステ
ル；アントラキノンジスルホン酸、ベンゼンジスルホン
酸、２，５−ジヒドロキシ−ｐ−ベンゼンジスルホン
酸、ジヒドロキシナフタレンジスルホン酸及びナフタレ
ンジスルホン酸などのジスルホン酸のジアリルエステ
ル；及びジアリルアミドなどを挙げることができる。ビ
ニルエーテル化合物の例としては、前記多価アルコール
のポリビニルエーテル｛例えば、エチレングリコールジ
ビニルエーテル、１，３，５−トリ−β−ビニロキシエ
トキジベンゼン、１，３−ジ−β−ビニロキジエトキジ
ベンゼン及びグリセロールトリビニルエーテル｝を挙げ
ることができる。ビニルエステル類の例としては、ジビ
ニルサクシネート、ジビニルアジペート、ジビニルフタ
レート、ジビニルテレフタレート、ジビニルベンゼン−
１，３−ジスルホネート及びジビニルブタン−１，４−
ジスルホネート等を挙げることができる。スチレン化合
物の例としては、ジビニルベンゼン、ｐ−アリルスチレ
ン及びｐ−イソプロペンスチレン等を挙げることができ
る。
レフタル酸、セバシン酸、アシビン酸、グルタール酸、
マロン酸及び硝酸等のジカルボン酸のジアリルエステ
ル；アントラキノンジスルホン酸、ベンゼンジスルホン
酸、２，５−ジヒドロキシ−ｐ−ベンゼンジスルホン
酸、ジヒドロキシナフタレンジスルホン酸及びナフタレ
ンジスルホン酸などのジスルホン酸のジアリルエステ
ル；及びジアリルアミドなどを挙げることができる。ビ
ニルエーテル化合物の例としては、前記多価アルコール
のポリビニルエーテル｛例えば、エチレングリコールジ
ビニルエーテル、１，３，５−トリ−β−ビニロキシエ
トキジベンゼン、１，３−ジ−β−ビニロキジエトキジ
ベンゼン及びグリセロールトリビニルエーテル｝を挙げ
ることができる。ビニルエステル類の例としては、ジビ
ニルサクシネート、ジビニルアジペート、ジビニルフタ
レート、ジビニルテレフタレート、ジビニルベンゼン−
１，３−ジスルホネート及びジビニルブタン−１，４−
ジスルホネート等を挙げることができる。スチレン化合
物の例としては、ジビニルベンゼン、ｐ−アリルスチレ
ン及びｐ−イソプロペンスチレン等を挙げることができ
る。
【００１８】上記化合物以外の化合物として、Ｎ−β−
ヒドロキシエチル−β−（メタクリルアミド）エチルア
クリレート、Ｎ，Ｎ−ビス（β−メタクリロキシエチ
ル）アクリルアミド、アリルメタクリレートなどの、異
なったエチレン性不飽和二重結合を２個以上有する化合
物；さらに少なくとも二つの水酸基を有するポリオール
化合物と、やや過剰の少なくとも二つのイソシアネート
基を有するポリイソシアネート化合物とを反応させた反
応生成物に、少なくとも一つの水酸基と少なくとも一つ
のエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させて得ら
れる少なくとも二つのエチレン性不飽和二重結合を有す
る多官能ウレタン化合物も、本発明に好適に用いられる
化合物として挙げることができる。
ヒドロキシエチル−β−（メタクリルアミド）エチルア
クリレート、Ｎ，Ｎ−ビス（β−メタクリロキシエチ
ル）アクリルアミド、アリルメタクリレートなどの、異
なったエチレン性不飽和二重結合を２個以上有する化合
物；さらに少なくとも二つの水酸基を有するポリオール
化合物と、やや過剰の少なくとも二つのイソシアネート
基を有するポリイソシアネート化合物とを反応させた反
応生成物に、少なくとも一つの水酸基と少なくとも一つ
のエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させて得ら
れる少なくとも二つのエチレン性不飽和二重結合を有す
る多官能ウレタン化合物も、本発明に好適に用いられる
化合物として挙げることができる。
【００１９】これらの多官能モノマーは単独あるいは二
種以上を併用して用いることができ、感光性樹脂組成物
固形分の５〜９０重量％、好ましくは１５〜６０重量％
の範囲で用いられる。
種以上を併用して用いることができ、感光性樹脂組成物
固形分の５〜９０重量％、好ましくは１５〜６０重量％
の範囲で用いられる。
【００２０】本発明で用いられる光重合開始剤として
は、芳香族ケトン、米国特許第２３６７６６０号明細書
に開示されているビシナルポリケタルドニル化合物、米
国特許第２４４８８２８号明細書に記載されているアシ
ロインエーテル化合物、米国特許第２７２２５１２号明
細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイ
ン化合物、米国特許第３０４６１２７号明細書及び同第
２９５１７５８号明細書に記載の多核キノン化合物、米
国特許第３５４９３６７号明細書に記載のトリアリール
イミダゾール二量体とｐ−アミノケトンの組合せ、特公
昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチアゾール化
合物とトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特
許第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロ
メチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９
７６号明細書に記載されているトリハロメチルオキサジ
アゾール化合物等を挙げることができる。特に、芳香族
ケトンが好ましい。
は、芳香族ケトン、米国特許第２３６７６６０号明細書
に開示されているビシナルポリケタルドニル化合物、米
国特許第２４４８８２８号明細書に記載されているアシ
ロインエーテル化合物、米国特許第２７２２５１２号明
細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイ
ン化合物、米国特許第３０４６１２７号明細書及び同第
２９５１７５８号明細書に記載の多核キノン化合物、米
国特許第３５４９３６７号明細書に記載のトリアリール
イミダゾール二量体とｐ−アミノケトンの組合せ、特公
昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチアゾール化
合物とトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特
許第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロ
メチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９
７６号明細書に記載されているトリハロメチルオキサジ
アゾール化合物等を挙げることができる。特に、芳香族
ケトンが好ましい。
【００２１】上記芳香族ケトンの好ましい例をしては、
ベンゾフェノン、２−メチルベンゾフエノン、３−メチ
ルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、４−メ
トキシベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４
−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、
２−カルボキシベンゾフェノン、２−エトキシカルボニ
ルベンゾルフェノン、ベンゾフェノンテトラカルボン酸
又はそのテトラメチルエステル、４−メトキシ−４’−
ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシ
ベンゾフェノン、４−ジメチルアミノベンゾフェノン、
４−ジメチルアミノアセトフェノン、アントラキノン、
２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアン
トラキノン、フェナントラキノン、キサントン、チオキ
サントン、２−クロルチオキサントン、２，４−ジメチ
ルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、
フルオレン、アクリドンおよびベンゾイン、ベンゾイエ
ーテル類（例、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾ
インイソプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテ
ル、ベンジルジメチルケタール）、４，４’−ビス（ジ
アルキルアミノ）ベンゾフェノン類（例、４，４’−ビ
ス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス
ジシクロヘキシルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−
ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビ
ス（ジヒドロキシエチルアミノ）、ベンゾフェノン）を
挙げることができる。特に好ましいも例としてンベンゾ
フェノンを挙げることができる。
ベンゾフェノン、２−メチルベンゾフエノン、３−メチ
ルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、４−メ
トキシベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４
−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、
２−カルボキシベンゾフェノン、２−エトキシカルボニ
ルベンゾルフェノン、ベンゾフェノンテトラカルボン酸
又はそのテトラメチルエステル、４−メトキシ−４’−
ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシ
ベンゾフェノン、４−ジメチルアミノベンゾフェノン、
４−ジメチルアミノアセトフェノン、アントラキノン、
２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアン
トラキノン、フェナントラキノン、キサントン、チオキ
サントン、２−クロルチオキサントン、２，４−ジメチ
ルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、
フルオレン、アクリドンおよびベンゾイン、ベンゾイエ
ーテル類（例、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾ
インイソプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテ
ル、ベンジルジメチルケタール）、４，４’−ビス（ジ
アルキルアミノ）ベンゾフェノン類（例、４，４’−ビ
ス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス
ジシクロヘキシルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−
ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビ
ス（ジヒドロキシエチルアミノ）、ベンゾフェノン）を
挙げることができる。特に好ましいも例としてンベンゾ
フェノンを挙げることができる。
【００２２】本発明の感光性樹脂組成物における、全固
形分に対する光重合開始剤の含有量は、０．１〜１０重
量％が一般的で、０．５〜５重量％が好ましい。０．１
重量％未満では光感度や画像の強度が低く、１０重量％
を超えて添加しても性能向上への効果が認められない。
形分に対する光重合開始剤の含有量は、０．１〜１０重
量％が一般的で、０．５〜５重量％が好ましい。０．１
重量％未満では光感度や画像の強度が低く、１０重量％
を超えて添加しても性能向上への効果が認められない。
【００２３】本発明の感光性樹脂組成物はロフイン二量
体を含んでも良い。ロフイン二量体の例としては、２−
（２’−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダ
ゾール二量体、２−（２’−クロロフェニル）−４，５
−ジ（３’−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、
２−（２’−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニル
イミダゾール二量体、２−（２’−メトキシフェニル）
−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（４’
−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾー
ル二量体を挙げることができる。
体を含んでも良い。ロフイン二量体の例としては、２−
（２’−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダ
ゾール二量体、２−（２’−クロロフェニル）−４，５
−ジ（３’−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、
２−（２’−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニル
イミダゾール二量体、２−（２’−メトキシフェニル）
−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（４’
−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾー
ル二量体を挙げることができる。
【００２４】また、本発明の感光性樹脂組成物は、例え
ば、Ｊ．コーサー著「ライトセンシテイブシステムズ」
第５章に記載されているような有機硫黄化合物、過酸化
物、レドツクス系化合物、アゾ並びにジアゾ化合物光環
元性色素などを含んでいても良い。有機硫黄化合物の例
としては、ジーｎ−ブチルジサルファイド、ジベンジル
ジサルファイド、２−メルカプロベンズチアゾール、２
−メルカプトベンズオキサゾール、チオフェノール、エ
チルトリクロロメタンスルフェネート、２−メルカプト
ベンズイミダゾールを挙げることができる。過酸化物の
例としては、ジーｔ−ブチルパーオキサイド、過酸化ベ
ンゾイル、メチルエチルケトンパーオキサイドを挙げる
ことができる。レドツクス化合物は、過酸化物と還元剤
の組み合わせからなるものであり、第一鉄イオンと過硫
酸イオン、第二鉄イオンと過酸化物などを挙げることが
できる。アゾ及びジアゾ化合物としては、α，α’−ア
ゾビスイリブチロニトリル、２−アゾビス−２−メチル
ブチロニトリル、ｐ−アミノジフェニルアミンのジアゾ
ニウム類を挙げることができる。光還元性色素として
は、ローズベンガル、エリスロシン、エオシン、アクリ
フラビン、リポフラビン、チオニンを挙げることができ
る。有機ハロゲン化合物の例としては、２−トリクロロ
メチル−５−フェニル−１，３，４−オキサジアゾー
ル、２−トリクロロメチル−５−（４−クロロフェニ
ル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロ
メチル−５−（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジ
アゾール、２−トリクロロメチル−５−（２−ナフチ
ル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリブロモ
メチル−５−フェニル−１，３，４−オキサジアゾー
ル、２−トリブロモメチル−５−（２−ナフチル）−
１，３，４−オキサジアゾール；２−トリクロロメチル
−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾール、２−
トリクロロメチル−５−（４−クロルスチリル）−１，
３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５
−（４−メトキシスチリル）−１，３，４−オキサジア
ゾール、２−トリクロロメチル−５−（１−ナフチル）
−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチ
ル−５−（４−ｎ−ブトキシスチリル）−１，３，４−
オキサジアゾール、２−トリプロメメチル−５−スチリ
ル−１，３，４−オキサジアゾール；フェニルトリブロ
モメチルスルホン、ｐ−ニトロフェニルトリブロモメチ
ルスルホン、ｐ−クロルフェニルトリブロモメチルスル
ホン；２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−
トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニ
ル）−４，６ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−（４−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリ
ブロモメチル）−ｓ−トリアジン；を挙げることができ
る。
ば、Ｊ．コーサー著「ライトセンシテイブシステムズ」
第５章に記載されているような有機硫黄化合物、過酸化
物、レドツクス系化合物、アゾ並びにジアゾ化合物光環
元性色素などを含んでいても良い。有機硫黄化合物の例
としては、ジーｎ−ブチルジサルファイド、ジベンジル
ジサルファイド、２−メルカプロベンズチアゾール、２
−メルカプトベンズオキサゾール、チオフェノール、エ
チルトリクロロメタンスルフェネート、２−メルカプト
ベンズイミダゾールを挙げることができる。過酸化物の
例としては、ジーｔ−ブチルパーオキサイド、過酸化ベ
ンゾイル、メチルエチルケトンパーオキサイドを挙げる
ことができる。レドツクス化合物は、過酸化物と還元剤
の組み合わせからなるものであり、第一鉄イオンと過硫
酸イオン、第二鉄イオンと過酸化物などを挙げることが
できる。アゾ及びジアゾ化合物としては、α，α’−ア
ゾビスイリブチロニトリル、２−アゾビス−２−メチル
ブチロニトリル、ｐ−アミノジフェニルアミンのジアゾ
ニウム類を挙げることができる。光還元性色素として
は、ローズベンガル、エリスロシン、エオシン、アクリ
フラビン、リポフラビン、チオニンを挙げることができ
る。有機ハロゲン化合物の例としては、２−トリクロロ
メチル−５−フェニル−１，３，４−オキサジアゾー
ル、２−トリクロロメチル−５−（４−クロロフェニ
ル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロ
メチル−５−（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジ
アゾール、２−トリクロロメチル−５−（２−ナフチ
ル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリブロモ
メチル−５−フェニル−１，３，４−オキサジアゾー
ル、２−トリブロモメチル−５−（２−ナフチル）−
１，３，４−オキサジアゾール；２−トリクロロメチル
−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾール、２−
トリクロロメチル−５−（４−クロルスチリル）−１，
３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５
−（４−メトキシスチリル）−１，３，４−オキサジア
ゾール、２−トリクロロメチル−５−（１−ナフチル）
−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチ
ル−５−（４−ｎ−ブトキシスチリル）−１，３，４−
オキサジアゾール、２−トリプロメメチル−５−スチリ
ル−１，３，４−オキサジアゾール；フェニルトリブロ
モメチルスルホン、ｐ−ニトロフェニルトリブロモメチ
ルスルホン、ｐ−クロルフェニルトリブロモメチルスル
ホン；２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−
トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニ
ル）−４，６ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−（４−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリ
ブロモメチル）−ｓ−トリアジン；を挙げることができ
る。
【００２５】更に、本発明に使用してもよい有機ハロゲ
ン化合物の例として、ハロゲン化炭化水素、ハロゲン化
アルコール化合物、ハロゲン化カルボニル化合物、ハロ
ゲン化エーテル化合物、ハロゲン化エステル化合物、ハ
ロゲン化アミド化合物を挙げることができる。ハロゲン
化炭化水素の例としては、四臭化炭素、ヨードホルム、
１，２−ジブロモエタン、１，１２，２−テトラブロモ
エタン、１，１−ビス（ｐ−クロロフェニル）−２，
２，２−トリクロロエタン、１，２−ジブロモ−１，
１，２−トリクロロエタン、１，２，３トリブロモプロ
バン、１−ブロモ−４−クロロブタン、１，２，３，４
−テトラブロモブタン、テトラクロロシクロプロペン、
ヘキサクロロシクロペンタジエン、ジブロモシキロヘキ
サンなどを挙げることができる。ハロゲン化アルコール
化合物の例としては、２，２，２−トリクロロエタノー
ル、トリブロモエタノール、１，３−ジクロロ−２−プ
ロパノール、１，１，１−トリクロロ−２−プロパノー
ル、ジ（ヨードヘキサメチレン）アミノイソプロパノー
ル、トリブロモ−ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、２，
２，３−トリクロロブタン−１，４−ジオールなどを挙
げることができる。ハロゲン化カルボニル化合物の例と
しては、１，１−ジクロロアセトン、１，３−ジクロロ
アセトン、ヘキサクロロアセトン、ヘキサブロモアセト
ン、１，１，３，３−テトラクロロアセトン、１，１，
１−トリクロロアセトン、３，４−ジブロモ−２−ブタ
ノン、１，４−ジクロロ−２−ブタノン−ジブロモシク
ロヘキサノンなどを挙げることができる。ハロゲン化エ
ーテル化合物の例としては、２−ブロモエチルメチルエ
ーテル、２−ブロモエチルエチルエーテル、ジ（２−ブ
ロモエチル）エーテル、１，２−ジクロロエチルエチル
エーテルなどを挙げることができる。ハロゲン化エステ
ル化合物の例としては、ハロゲン化カルボン酸のエステ
ル、カルボン酸のハロゲン化エステル、またはハロゲン
化カルボン酸のハロゲン化エステルを挙げることがで
き、これらの例として、酢酸ブロモエチル、トリクロロ
酢酸エチル、トリクロロ酢酸トリクロロエチル、２，３
−ジブロモプロピルアクリレートのホモポリマー及び共
重合体、ジブロモプロピオン酸トリクロロエチル、α，
β−ジグロロアクリル酸エチルなどを挙げることができ
る。ハロゲン化アミド化合物の例としては、クロロアセ
トアミド、ブロモアセトアミド、ジクロロアセトアミ
ド、トリクロロアセトアミド、トリブロモアセトアミ
ド、トリクロロエチルトリクロロアセトアミド、２−ブ
ロモイソプロピオンアミド、２，２，２−トリクロロプ
ロピオンアミド、Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロ
モスクシンイミドなどを挙げることができる。有機ハロ
ゲン化合物のうちでは同一炭素原子に結合した二個以上
のハロゲン原子を持つハロゲン化物が好ましく、特に好
ましくは一個の炭素原子に三個のハロゲン原子を持つハ
ロゲン化物である。有機ハロゲン化合物は単独で使用し
てもよく、二種以上併用してもよい。これらのうち特に
好ましい有機ハロゲン化合物は、トリブロモメチルフェ
ニルスルホン、２，４−ビス（トリクロロメチル）６−
フェニルトリアゾールである。本発明に用いられる有機
ハロゲン化合物の量は感光性樹脂組成物の固形分に対し
０．００１〜５重量％の範囲が一般的で、０．００５〜
１重量％が好ましい。
ン化合物の例として、ハロゲン化炭化水素、ハロゲン化
アルコール化合物、ハロゲン化カルボニル化合物、ハロ
ゲン化エーテル化合物、ハロゲン化エステル化合物、ハ
ロゲン化アミド化合物を挙げることができる。ハロゲン
化炭化水素の例としては、四臭化炭素、ヨードホルム、
１，２−ジブロモエタン、１，１２，２−テトラブロモ
エタン、１，１−ビス（ｐ−クロロフェニル）−２，
２，２−トリクロロエタン、１，２−ジブロモ−１，
１，２−トリクロロエタン、１，２，３トリブロモプロ
バン、１−ブロモ−４−クロロブタン、１，２，３，４
−テトラブロモブタン、テトラクロロシクロプロペン、
ヘキサクロロシクロペンタジエン、ジブロモシキロヘキ
サンなどを挙げることができる。ハロゲン化アルコール
化合物の例としては、２，２，２−トリクロロエタノー
ル、トリブロモエタノール、１，３−ジクロロ−２−プ
ロパノール、１，１，１−トリクロロ−２−プロパノー
ル、ジ（ヨードヘキサメチレン）アミノイソプロパノー
ル、トリブロモ−ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、２，
２，３−トリクロロブタン−１，４−ジオールなどを挙
げることができる。ハロゲン化カルボニル化合物の例と
しては、１，１−ジクロロアセトン、１，３−ジクロロ
アセトン、ヘキサクロロアセトン、ヘキサブロモアセト
ン、１，１，３，３−テトラクロロアセトン、１，１，
１−トリクロロアセトン、３，４−ジブロモ−２−ブタ
ノン、１，４−ジクロロ−２−ブタノン−ジブロモシク
ロヘキサノンなどを挙げることができる。ハロゲン化エ
ーテル化合物の例としては、２−ブロモエチルメチルエ
ーテル、２−ブロモエチルエチルエーテル、ジ（２−ブ
ロモエチル）エーテル、１，２−ジクロロエチルエチル
エーテルなどを挙げることができる。ハロゲン化エステ
ル化合物の例としては、ハロゲン化カルボン酸のエステ
ル、カルボン酸のハロゲン化エステル、またはハロゲン
化カルボン酸のハロゲン化エステルを挙げることがで
き、これらの例として、酢酸ブロモエチル、トリクロロ
酢酸エチル、トリクロロ酢酸トリクロロエチル、２，３
−ジブロモプロピルアクリレートのホモポリマー及び共
重合体、ジブロモプロピオン酸トリクロロエチル、α，
β−ジグロロアクリル酸エチルなどを挙げることができ
る。ハロゲン化アミド化合物の例としては、クロロアセ
トアミド、ブロモアセトアミド、ジクロロアセトアミ
ド、トリクロロアセトアミド、トリブロモアセトアミ
ド、トリクロロエチルトリクロロアセトアミド、２−ブ
ロモイソプロピオンアミド、２，２，２−トリクロロプ
ロピオンアミド、Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロ
モスクシンイミドなどを挙げることができる。有機ハロ
ゲン化合物のうちでは同一炭素原子に結合した二個以上
のハロゲン原子を持つハロゲン化物が好ましく、特に好
ましくは一個の炭素原子に三個のハロゲン原子を持つハ
ロゲン化物である。有機ハロゲン化合物は単独で使用し
てもよく、二種以上併用してもよい。これらのうち特に
好ましい有機ハロゲン化合物は、トリブロモメチルフェ
ニルスルホン、２，４−ビス（トリクロロメチル）６−
フェニルトリアゾールである。本発明に用いられる有機
ハロゲン化合物の量は感光性樹脂組成物の固形分に対し
０．００１〜５重量％の範囲が一般的で、０．００５〜
１重量％が好ましい。
【００２６】本発明の感光性樹脂組成物には、更に熱重
合禁止剤を加えることが好ましい。熱重合禁止剤の例と
しては、例えばｐ−メトキシフエノール、ハイドロキノ
ン、アルキルまたはアリール置換ハイドロキノン、ｔ−
ブチルカテコール、ピロガロール、塩化第一銅、クロラ
ニール、ナフチルアミン、β−ナフトール、２，６−ジ
−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピリジン、ニトロベン
ゼン、ジニトロベンゼン、ｐ−トリイジン、メチレンブ
ルー、有機銅、サリチル酸メチルなど挙げることができ
る。これらの熱重合禁止剤は多官能モノマーに対して
０．００１〜５重量％の範囲で含有されているのが好ま
しい。
合禁止剤を加えることが好ましい。熱重合禁止剤の例と
しては、例えばｐ−メトキシフエノール、ハイドロキノ
ン、アルキルまたはアリール置換ハイドロキノン、ｔ−
ブチルカテコール、ピロガロール、塩化第一銅、クロラ
ニール、ナフチルアミン、β−ナフトール、２，６−ジ
−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピリジン、ニトロベン
ゼン、ジニトロベンゼン、ｐ−トリイジン、メチレンブ
ルー、有機銅、サリチル酸メチルなど挙げることができ
る。これらの熱重合禁止剤は多官能モノマーに対して
０．００１〜５重量％の範囲で含有されているのが好ま
しい。
【００２７】本発明において、膜物性（可撓性）をコン
トロールするために、可塑性を添加してもよく、その例
としては、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、
ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オク
チルカプリールフタレート、ジシクロヘキシルフタレー
ト、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレー
ト、ジイソデシルフタレート、ジアリールフタレートな
どのフタル酸エステル類；ジメチルグリコースフタレー
ト、エチルフタリールエチルグリコレート、メチルフタ
リールエチルグリコレート、ブチルフタリールブチルグ
リコレート、トリエチレングリコールジカブリル酸エス
テルなどのグリコールエステル類；トリクレジオールフ
ォスフェート、トリフェニルフォスフエートなどの燐酸
エステル類；ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジ
ベート、ジメチルセパケート、ジブチルセパケート、ジ
オクチルセパケート、ジブチルマレートなどの脂肪族二
塩基エステル類；ベンゼンスルホンアミド、ｐ−トルエ
ンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアセトアミドなどの
アミド類；クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチ
ルエステル、ラウリル酸ブチルなどを挙げることができ
る。ｐ−トルエンスルホンアミドが好ましい。
トロールするために、可塑性を添加してもよく、その例
としては、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、
ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オク
チルカプリールフタレート、ジシクロヘキシルフタレー
ト、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレー
ト、ジイソデシルフタレート、ジアリールフタレートな
どのフタル酸エステル類；ジメチルグリコースフタレー
ト、エチルフタリールエチルグリコレート、メチルフタ
リールエチルグリコレート、ブチルフタリールブチルグ
リコレート、トリエチレングリコールジカブリル酸エス
テルなどのグリコールエステル類；トリクレジオールフ
ォスフェート、トリフェニルフォスフエートなどの燐酸
エステル類；ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジ
ベート、ジメチルセパケート、ジブチルセパケート、ジ
オクチルセパケート、ジブチルマレートなどの脂肪族二
塩基エステル類；ベンゼンスルホンアミド、ｐ−トルエ
ンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアセトアミドなどの
アミド類；クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチ
ルエステル、ラウリル酸ブチルなどを挙げることができ
る。ｐ−トルエンスルホンアミドが好ましい。
【００２８】本発明の感光性樹脂組成物はロイコ色素を
含むことができる。ロイコ色素の例としては、トリス
（ｐ−ジメチルアミノフェニル）メタン（ロイコクリス
タルバイオレツト）、トリス（ｐ−ジエチルアミノフェ
ニル）メタン、トリス（ｐ−ジメチルアミノ−ｏ−メチ
ルフェニル）メタン、トリス（ｐ−ジエチルアミノ−ｏ
−メチルフェニル）メタン、ビス（ｐ−ジブチルアミノ
フェニル）−〔ｐ−（２−シアノエチル）メチルアミノ
フェニル〕メタン、ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニ
ル）−２−キノリルメタン、トリス（ｐ−ジプロピルア
ミノフェニル）メタン等のアミノトリアリールメタン
類；３，６−ビス（ジメチルアミノ）−９−フェニルキ
サンチン、３−アミノ−６−ジメチルアミノ−２−メチ
ル−９−（ｏ−クロロフェニル）キサンチン等のアミノ
キサンチン類；３，６−ビス（ジエチルアミノ）−９−
（ｏ−エトキシカルボニルフェニル）チオキサンテン、
３，６−ビス（ジメチルアミノ）チオキサンテン等のア
ミノチオキサンテン類；３，６−ビス（ジエチルアミ
ノ）−９，１０−ジヒドロ−９−フェニルアクリジン、
３，６−ビス（ベンジルアミノ）−９，１０−ジビドロ
−９−メチルアクリジン等のアミノ−９，１０−ジヒド
ロアクリジン類；３，７−ビス（ジエチルアミノ）フェ
ノキサジン等のアミノフェノキサジン類；３，７−ビス
（エチルアミノ）フェノチアゾン等のアミノフェノチア
ジン類；３，７−ビス（ジエチルアミノ）−５−ヘキシ
ル−５，１０−ジヒドロフェナジン等のアミノジヒドロ
フェナジン類；ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ア
ニリノメタン等のアミノフェニルメタン類；４−アミノ
−４’−ジメチルアミノジフェニルアミン、４−アミノ
−α、β−ジシアノヒドロケイ皮酸メチルエステル等の
アミノヒドロケイ皮酸類；１−（２−ナフチル）−２−
フェニルヒドラジン等のヒドラジン類；１，４−ビス
（エチルアミノ）−２，３−ジヒドロアントラキノン類
のアミノ−２，３−ジヒドロアントラキノン類；Ｎ，Ｎ
−ジエチル−ｐ−フェネチルアニリン等のフェネチルア
ニリン類；１０−アセチル−３，７−ビス（ジメチルア
ミノ）フェノチアジン等の塩基性ＮＨを含むロイコ色素
のアシル誘導体；トリス（４−ジエチルアミノ−ｏ−ト
リル）エトキシカルボニルメンタン等の酸化しうる水素
をもつていないが、発色化合物に酸化しうるロイコ様化
合物；ロイコインジゴイド色素；米国特許３，０４２，
５１５号及び同第３，０４２，５１７号に記載されてい
るような発色形に酸化しうるような有機アミン類（例、
４，４’−エチレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアニリン、４，４’−メチレンジアミント
リフェニルアミン、Ｎ−ビニルカルバゾール）を挙げる
ことができる。特に好ましいものはロイコクリスタルパ
イレツトである。上記ロイコ色素の量は、感光性樹脂組
成物の固形分当たり、０．０１〜１０重量％の範囲が好
ましく、特に０．０５〜５重量％の範囲が好ましい。
含むことができる。ロイコ色素の例としては、トリス
（ｐ−ジメチルアミノフェニル）メタン（ロイコクリス
タルバイオレツト）、トリス（ｐ−ジエチルアミノフェ
ニル）メタン、トリス（ｐ−ジメチルアミノ−ｏ−メチ
ルフェニル）メタン、トリス（ｐ−ジエチルアミノ−ｏ
−メチルフェニル）メタン、ビス（ｐ−ジブチルアミノ
フェニル）−〔ｐ−（２−シアノエチル）メチルアミノ
フェニル〕メタン、ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニ
ル）−２−キノリルメタン、トリス（ｐ−ジプロピルア
ミノフェニル）メタン等のアミノトリアリールメタン
類；３，６−ビス（ジメチルアミノ）−９−フェニルキ
サンチン、３−アミノ−６−ジメチルアミノ−２−メチ
ル−９−（ｏ−クロロフェニル）キサンチン等のアミノ
キサンチン類；３，６−ビス（ジエチルアミノ）−９−
（ｏ−エトキシカルボニルフェニル）チオキサンテン、
３，６−ビス（ジメチルアミノ）チオキサンテン等のア
ミノチオキサンテン類；３，６−ビス（ジエチルアミ
ノ）−９，１０−ジヒドロ−９−フェニルアクリジン、
３，６−ビス（ベンジルアミノ）−９，１０−ジビドロ
−９−メチルアクリジン等のアミノ−９，１０−ジヒド
ロアクリジン類；３，７−ビス（ジエチルアミノ）フェ
ノキサジン等のアミノフェノキサジン類；３，７−ビス
（エチルアミノ）フェノチアゾン等のアミノフェノチア
ジン類；３，７−ビス（ジエチルアミノ）−５−ヘキシ
ル−５，１０−ジヒドロフェナジン等のアミノジヒドロ
フェナジン類；ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ア
ニリノメタン等のアミノフェニルメタン類；４−アミノ
−４’−ジメチルアミノジフェニルアミン、４−アミノ
−α、β−ジシアノヒドロケイ皮酸メチルエステル等の
アミノヒドロケイ皮酸類；１−（２−ナフチル）−２−
フェニルヒドラジン等のヒドラジン類；１，４−ビス
（エチルアミノ）−２，３−ジヒドロアントラキノン類
のアミノ−２，３−ジヒドロアントラキノン類；Ｎ，Ｎ
−ジエチル−ｐ−フェネチルアニリン等のフェネチルア
ニリン類；１０−アセチル−３，７−ビス（ジメチルア
ミノ）フェノチアジン等の塩基性ＮＨを含むロイコ色素
のアシル誘導体；トリス（４−ジエチルアミノ−ｏ−ト
リル）エトキシカルボニルメンタン等の酸化しうる水素
をもつていないが、発色化合物に酸化しうるロイコ様化
合物；ロイコインジゴイド色素；米国特許３，０４２，
５１５号及び同第３，０４２，５１７号に記載されてい
るような発色形に酸化しうるような有機アミン類（例、
４，４’−エチレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアニリン、４，４’−メチレンジアミント
リフェニルアミン、Ｎ−ビニルカルバゾール）を挙げる
ことができる。特に好ましいものはロイコクリスタルパ
イレツトである。上記ロイコ色素の量は、感光性樹脂組
成物の固形分当たり、０．０１〜１０重量％の範囲が好
ましく、特に０．０５〜５重量％の範囲が好ましい。
【００２９】本発明の感光性樹脂組成物には、組成物を
着色させたり、保存安定性を付与したりする目的に染料
を用いることができる。好適な染料の例としては、ブリ
リアントグリーン硫酸塩、エオシン、エチルバイオレッ
ト、エリスロシンＢ、メチルグリーン、クリスタルバイ
オレット、ベイシックフクシン、フェノールフタレイ
ン、１，３−ジフェニルトリアジン、アリザリンレッド
Ｓ、チモールフタレイン、メチルバイオレット２Ｂ、キ
ナルジンレッド、ローズベンガル、メタニル−イエロ
ー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、
メチルオレンジ、オレンジＩＶ、ジフェニルチロカルバ
ゾン、２，７−ジクロロフルオレセイン、パラメチルレ
ッド、コンゴーレッド、ベンゾプルプリン４Ｂ、α−ナ
フチル−レッド、ナイルブルーＡ、フェナセタリン、メ
チルバイオレット、マラカイトグリーンシュウ酸塩、パ
ラフクシン、オイルブルー＃６０３（オリエント化学工
業（株）製）、ローダミンＢ、ロータミン６Ｇなどを挙
げることができる。特に好ましい染料はマラカイトグリ
ーンシュウ酸塩である。
着色させたり、保存安定性を付与したりする目的に染料
を用いることができる。好適な染料の例としては、ブリ
リアントグリーン硫酸塩、エオシン、エチルバイオレッ
ト、エリスロシンＢ、メチルグリーン、クリスタルバイ
オレット、ベイシックフクシン、フェノールフタレイ
ン、１，３−ジフェニルトリアジン、アリザリンレッド
Ｓ、チモールフタレイン、メチルバイオレット２Ｂ、キ
ナルジンレッド、ローズベンガル、メタニル−イエロ
ー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、
メチルオレンジ、オレンジＩＶ、ジフェニルチロカルバ
ゾン、２，７−ジクロロフルオレセイン、パラメチルレ
ッド、コンゴーレッド、ベンゾプルプリン４Ｂ、α−ナ
フチル−レッド、ナイルブルーＡ、フェナセタリン、メ
チルバイオレット、マラカイトグリーンシュウ酸塩、パ
ラフクシン、オイルブルー＃６０３（オリエント化学工
業（株）製）、ローダミンＢ、ロータミン６Ｇなどを挙
げることができる。特に好ましい染料はマラカイトグリ
ーンシュウ酸塩である。
【００３０】本発明には、密着性を向上させるために、
公知のいわゆる密着促進剤を用いることができる。例え
ば、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズ
チアゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−
メルカプトベンズオキサノール、２−メルカプトベンズ
チアゾール、３−モルホリノメチル−１−フェニル−ト
リアゾール−２−チオン、３−モルホリノメチル−５−
フェニル−オキサジアゾール−２−チオン、５−アミノ
−３−モルホリノメチル−チアジアゾール−２−チオ
ン、２−メルカプト−５−メチルチオーチアジアゾール
などを挙げることができる。３−モルホリノメチル−１
−フェニルトリアゾール−２−チオンが好ましい。
公知のいわゆる密着促進剤を用いることができる。例え
ば、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズ
チアゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−
メルカプトベンズオキサノール、２−メルカプトベンズ
チアゾール、３−モルホリノメチル−１−フェニル−ト
リアゾール−２−チオン、３−モルホリノメチル−５−
フェニル−オキサジアゾール−２−チオン、５−アミノ
−３−モルホリノメチル−チアジアゾール−２−チオ
ン、２−メルカプト−５−メチルチオーチアジアゾール
などを挙げることができる。３−モルホリノメチル−１
−フェニルトリアゾール−２−チオンが好ましい。
【００３１】本発明の感光性シートは、透明支持体上に
上記本発明の感光性樹脂組成物から形成された感光性樹
脂層が設けられてなるものである。本発明の感光性シー
トは、例えば、上記本発明の感光性樹脂組成物を、溶剤
に溶解または分散して塗布液を得、この塗布液を支持体
上に塗布し、乾燥して感光性樹脂層を形成することによ
り得ることができる。感光性樹脂層の上に保護フイルム
を重ねて用いるのが一般的である。塗布液の溶剤として
は、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロバノー
ル、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタ
ノール、ｎ−ヘキサノール等のアルコール類；アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロゲキサノン、ジイソブチルケトンなどのケトン類；
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−ｎ−アミル、硫酸メチ
ル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安息化酸
エチルなどのエステル類；トルエン、キシレン、ベンゼ
ン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；四塩化炭
素、トリクロロエチレン、クロロホルム、１，１，１−
トリクロロエタン、塩化メチレン、モノクロロベンゼン
などのハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、１−メト
キシ−２−プロパノールなどのエーテル類；ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホオキサイドなどを挙げるこ
とができる。
上記本発明の感光性樹脂組成物から形成された感光性樹
脂層が設けられてなるものである。本発明の感光性シー
トは、例えば、上記本発明の感光性樹脂組成物を、溶剤
に溶解または分散して塗布液を得、この塗布液を支持体
上に塗布し、乾燥して感光性樹脂層を形成することによ
り得ることができる。感光性樹脂層の上に保護フイルム
を重ねて用いるのが一般的である。塗布液の溶剤として
は、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロバノー
ル、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタ
ノール、ｎ−ヘキサノール等のアルコール類；アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロゲキサノン、ジイソブチルケトンなどのケトン類；
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−ｎ−アミル、硫酸メチ
ル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安息化酸
エチルなどのエステル類；トルエン、キシレン、ベンゼ
ン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；四塩化炭
素、トリクロロエチレン、クロロホルム、１，１，１−
トリクロロエタン、塩化メチレン、モノクロロベンゼン
などのハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、１−メト
キシ−２−プロパノールなどのエーテル類；ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホオキサイドなどを挙げるこ
とができる。
【００３２】前記透明支持体として用いられるものは、
光の透過性が良好であること必要である。また表面の平
滑性が良好であることが望ましい。支持体の例として
は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ
レート、ポリプロピレン、ポリエチレン、三酢酸セルロ
ース、二酢酸セルロース、ポリ（メタ）アクリル酸アル
キルエステル、ポリ（メタ）アクリル酸エステル共重合
体、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリカー
ボネート、ポリスチレン、セロファン、ポリ塩化ビニリ
デン共重合体、ポリアミド、ポリイミド、塩化ビニル・
酢酸ビニル共重合体、ポリテトラフロロエチレン、ポリ
トリフロロエチレン等の各種のプラスチックフィルムを
挙げることができる。更にこれらの二種以上からなる複
合材料も使用することができる。上記の中でポリエチレ
ンテレフタレートが特に好ましい。支持体の厚さは、５
〜１５０μｍが一般的であり、１０〜５０μｍが好まし
い。支持体上には設けられる。また、前記感光性樹脂層
の厚さは、最終的に形成される画像の所望の機能を果た
すような厚さで設けられるが、５〜１００μｍの範囲が
一般的であり、１０〜８０μｍの範囲が好ましい。
光の透過性が良好であること必要である。また表面の平
滑性が良好であることが望ましい。支持体の例として
は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ
レート、ポリプロピレン、ポリエチレン、三酢酸セルロ
ース、二酢酸セルロース、ポリ（メタ）アクリル酸アル
キルエステル、ポリ（メタ）アクリル酸エステル共重合
体、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリカー
ボネート、ポリスチレン、セロファン、ポリ塩化ビニリ
デン共重合体、ポリアミド、ポリイミド、塩化ビニル・
酢酸ビニル共重合体、ポリテトラフロロエチレン、ポリ
トリフロロエチレン等の各種のプラスチックフィルムを
挙げることができる。更にこれらの二種以上からなる複
合材料も使用することができる。上記の中でポリエチレ
ンテレフタレートが特に好ましい。支持体の厚さは、５
〜１５０μｍが一般的であり、１０〜５０μｍが好まし
い。支持体上には設けられる。また、前記感光性樹脂層
の厚さは、最終的に形成される画像の所望の機能を果た
すような厚さで設けられるが、５〜１００μｍの範囲が
一般的であり、１０〜８０μｍの範囲が好ましい。
【００３３】本発明の感光性シートは、支持体上の感光
性樹脂層の上に、前述のように更に保護フィルムを設け
ることができる。上記保護フィルムの例としては、前記
支持体に使用されるもの及び、紙、ポリエチレン、ポリ
プロピレンなどがラミネートされた紙などを挙げること
ができる。特にポリエチレンが好ましい。保護フィルム
の厚さは、５〜１００μｍが一般的であり、１０〜５０
μｍが好ましい。その際、感光性樹脂層と支持体の接着
力Ａと感光性樹脂層と保護フィルムの接着力Ｂとが、Ａ
＞Ｂの関係になるようにする必要がある。支持体／保護
フィルムの組み合わせの例としては、ポリエチレンテレ
フタレート／ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレ
ート／ポリエチレン、ポリ塩化ビニル／セロフアン、ポ
リイミド／ポリプロビレンなどを挙げることができる。
上記のように支持体と保護フィルムを相互に異種のもの
から選ぶ方法のほかに、支持体及び保護フィルムの少な
くとも一方を表面処理することにより、前記のような接
着力の関係を満たすことができる。支持体の表面処理は
感光性樹脂層との接着力を高めるために施されるのが一
般的であり、例えば、下塗層の塗設、コロナ放電処理、
火炎処理、紫外線照射処理、高周波照射処理、グロー放
電照射処理、活性プラズマ照射処理、レーザー光線照射
処理などを挙げることができる。また、支持体と保護フ
ィルムとの静摩擦係数も重要である。これらの静摩擦係
数は、０．３〜１．４が好ましく、特に０．５〜１．２
が好ましい。０．３未満では滑り過ぎるため、ロール状
にした時巻ズレが発生する。また１．４超えた場合、良
好なロール状に巻くことが困難となる。
性樹脂層の上に、前述のように更に保護フィルムを設け
ることができる。上記保護フィルムの例としては、前記
支持体に使用されるもの及び、紙、ポリエチレン、ポリ
プロピレンなどがラミネートされた紙などを挙げること
ができる。特にポリエチレンが好ましい。保護フィルム
の厚さは、５〜１００μｍが一般的であり、１０〜５０
μｍが好ましい。その際、感光性樹脂層と支持体の接着
力Ａと感光性樹脂層と保護フィルムの接着力Ｂとが、Ａ
＞Ｂの関係になるようにする必要がある。支持体／保護
フィルムの組み合わせの例としては、ポリエチレンテレ
フタレート／ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレ
ート／ポリエチレン、ポリ塩化ビニル／セロフアン、ポ
リイミド／ポリプロビレンなどを挙げることができる。
上記のように支持体と保護フィルムを相互に異種のもの
から選ぶ方法のほかに、支持体及び保護フィルムの少な
くとも一方を表面処理することにより、前記のような接
着力の関係を満たすことができる。支持体の表面処理は
感光性樹脂層との接着力を高めるために施されるのが一
般的であり、例えば、下塗層の塗設、コロナ放電処理、
火炎処理、紫外線照射処理、高周波照射処理、グロー放
電照射処理、活性プラズマ照射処理、レーザー光線照射
処理などを挙げることができる。また、支持体と保護フ
ィルムとの静摩擦係数も重要である。これらの静摩擦係
数は、０．３〜１．４が好ましく、特に０．５〜１．２
が好ましい。０．３未満では滑り過ぎるため、ロール状
にした時巻ズレが発生する。また１．４超えた場合、良
好なロール状に巻くことが困難となる。
【００３４】また、保護フィルムを表面処理しても良
い。表面処理は、感光性樹脂層との接着性を低下させる
ために行なわれる。例えば、保護フィルムの表面に、ポ
リオルガノシロキサン、弗素化ポリオレフィン、ポリフ
ルオロエチレン、ポリビニルアルコール等の下塗層を設
ける。下塗層の形成は、上記ポリマーの塗布液を保護フ
ィルムの表面に塗布後、３０〜１５０℃（特に５０〜１
２０℃）で１〜３０分間乾燥することにより一般に行な
われる。
い。表面処理は、感光性樹脂層との接着性を低下させる
ために行なわれる。例えば、保護フィルムの表面に、ポ
リオルガノシロキサン、弗素化ポリオレフィン、ポリフ
ルオロエチレン、ポリビニルアルコール等の下塗層を設
ける。下塗層の形成は、上記ポリマーの塗布液を保護フ
ィルムの表面に塗布後、３０〜１５０℃（特に５０〜１
２０℃）で１〜３０分間乾燥することにより一般に行な
われる。
【００３５】上記本発明の感光性シートを、平版印刷
版、樹脂凸版、プリント配線基板（金属配線基板）の作
成に使用する場合、感光性シートを基板表面に加圧して
積層して行なわれる。感光性シートが保護フィルムを有
する場合は保護フィルムをはがした後行なう。基板とし
ては、その使用目的に従い種々のものを使用することが
できる。シートの例としては、支持体に用いたものとは
異なった感光性樹脂層との接着力を示すプラスチックフ
ィルム、紙、木材板、金属板、ガラス板等を挙げること
ができる。特に、感光性シートをプリント配線基板の作
製に使用する場合は、基板として、銅、アルミニウム、
銀等の金属の薄層をプラスチック板；プラスチック板を
貫通する穴（即ちスルーホール）の内壁表面に貼り合わ
せた、あるいはメッキで付着させたプリント配線基板；
または薄いプラスチックフィルム上に金属の薄層が蒸着
又はメッキで設けられた基板等を使用することができ
る。また、感光性シートを印刷版の作製に用いる場合
は、アルミニウム板、アルミニウム層を設けたプラスチ
ックフィルム等が用いられる。このアルミニウム板の表
面は、シリケート処理、陽極酸化処理等が施されている
ことが好ましい。
版、樹脂凸版、プリント配線基板（金属配線基板）の作
成に使用する場合、感光性シートを基板表面に加圧して
積層して行なわれる。感光性シートが保護フィルムを有
する場合は保護フィルムをはがした後行なう。基板とし
ては、その使用目的に従い種々のものを使用することが
できる。シートの例としては、支持体に用いたものとは
異なった感光性樹脂層との接着力を示すプラスチックフ
ィルム、紙、木材板、金属板、ガラス板等を挙げること
ができる。特に、感光性シートをプリント配線基板の作
製に使用する場合は、基板として、銅、アルミニウム、
銀等の金属の薄層をプラスチック板；プラスチック板を
貫通する穴（即ちスルーホール）の内壁表面に貼り合わ
せた、あるいはメッキで付着させたプリント配線基板；
または薄いプラスチックフィルム上に金属の薄層が蒸着
又はメッキで設けられた基板等を使用することができ
る。また、感光性シートを印刷版の作製に用いる場合
は、アルミニウム板、アルミニウム層を設けたプラスチ
ックフィルム等が用いられる。このアルミニウム板の表
面は、シリケート処理、陽極酸化処理等が施されている
ことが好ましい。
【００３６】感光性シートの感光性樹脂層の上記基板へ
の積層は、室温（１５〜３０℃）あるいは加熱下（３０
〜１８０℃）で行なうことができる。特に、８０〜１４
０℃の加熱下で行なうことが好ましい。かくして、基板
上に感光性シート（即ち、感光性樹脂層及び透明支持
体）が積層される。次に、透明支持体を通して感光性樹
脂層に、ネガ等の原稿を介して画像様に露光される。上
記露光に使用される光源としては、透明支持体を透過し
且つ用いられている光重合開始剤に対して活性な電磁
波、波長が３１０〜７００ｎｍ（好ましくは３５０〜５
００ｎｍ）の範囲の紫外〜可視光線を発する光源が用い
られる。例えば、（超）高圧水銀灯、キセノン灯、カー
ボンアーク灯、ハロゲンランプ、複写用の蛍光管等の公
知の光源を使用することができる。この他に、レーザ光
線、電子線、Ｘ線等を用いて露光しても良い。
の積層は、室温（１５〜３０℃）あるいは加熱下（３０
〜１８０℃）で行なうことができる。特に、８０〜１４
０℃の加熱下で行なうことが好ましい。かくして、基板
上に感光性シート（即ち、感光性樹脂層及び透明支持
体）が積層される。次に、透明支持体を通して感光性樹
脂層に、ネガ等の原稿を介して画像様に露光される。上
記露光に使用される光源としては、透明支持体を透過し
且つ用いられている光重合開始剤に対して活性な電磁
波、波長が３１０〜７００ｎｍ（好ましくは３５０〜５
００ｎｍ）の範囲の紫外〜可視光線を発する光源が用い
られる。例えば、（超）高圧水銀灯、キセノン灯、カー
ボンアーク灯、ハロゲンランプ、複写用の蛍光管等の公
知の光源を使用することができる。この他に、レーザ光
線、電子線、Ｘ線等を用いて露光しても良い。
【００３７】画像様に露光後、透明支持体を剥し取った
後、適当な現像液で、未露光部を溶出し、基板上に光硬
化した画像を得る。現像液としては、アルカリ水溶液、
有機溶剤を含有するアルカリ水溶液、有機溶剤を挙げる
ことができる。
後、適当な現像液で、未露光部を溶出し、基板上に光硬
化した画像を得る。現像液としては、アルカリ水溶液、
有機溶剤を含有するアルカリ水溶液、有機溶剤を挙げる
ことができる。
【００３８】上記画像形成後、必要に応じて下記の処理
を行なう。金属配線基板（プリント配線基板）を作製す
る場合は、塩化銅水溶液、塩化第二鉄水溶液などの公知
のエッチング液を用いて表面に露出した金属を除去する
ことができる。あるいは、露出した金属上に、ピロリン
酸銅、硫酸銅などの公知のメッキ液を用いてメッキを施
しても良い。
を行なう。金属配線基板（プリント配線基板）を作製す
る場合は、塩化銅水溶液、塩化第二鉄水溶液などの公知
のエッチング液を用いて表面に露出した金属を除去する
ことができる。あるいは、露出した金属上に、ピロリン
酸銅、硫酸銅などの公知のメッキ液を用いてメッキを施
しても良い。
【００３９】勿論、感光性樹脂組成物を用いて、基板表
面にスピナー、ホイラー等を用いて塗布にて感光性樹脂
層を形成しても良い。
面にスピナー、ホイラー等を用いて塗布にて感光性樹脂
層を形成しても良い。
【００４０】本発明の金属配線基板の製造方法も上述の
方法により行なうことができる。また、本発明の感光性
樹脂組成物及び感光性シートは、上記金属配線基板（プ
リント配線基板）に好適に利用できる他、平版印刷版、
樹脂凸版の製造、レリーフ型の作製、光学複製、写真作
製等、広範囲に利用することができる。
方法により行なうことができる。また、本発明の感光性
樹脂組成物及び感光性シートは、上記金属配線基板（プ
リント配線基板）に好適に利用できる他、平版印刷版、
樹脂凸版の製造、レリーフ型の作製、光学複製、写真作
製等、広範囲に利用することができる。
【００４１】以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細
に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【００４２】
［実施例１〜５及び比較例１〜６］厚さ２０μｍのポリ
エチレンテレフタレートフィルム（Ｖ−２０、帝人
（株）製）の支持体上に、下記の組成からなる塗布液を
塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が４０μｍの感光性樹脂層を
設け、その上に保護フィルム（ＧＦ１０６、タマポリ
（株）製）を貼り合わせ、感光性シートを得た。
エチレンテレフタレートフィルム（Ｖ−２０、帝人
（株）製）の支持体上に、下記の組成からなる塗布液を
塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が４０μｍの感光性樹脂層を
設け、その上に保護フィルム（ＧＦ１０６、タマポリ
（株）製）を貼り合わせ、感光性シートを得た。
【００４３】 （感光性樹脂層形成様塗布液の組成） 表１に示されたモノマー組成の共重合により 得られる共重合体 １５．０ 重量部 ドデカプロピレングリコールジアクリレート （アロニックスＭ２７７、東亜合成（株）製） ６．０ 重量部 テトラエチレングリコールジメタクリレート （ＮＫエステル４Ｇ、新中村化学（株）製） ２．０ 重量部 Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベンゾフェノン ０．０５重量部 ベンゾフェノン １．０ 重量部 ２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５− ジフェニルイミダゾール二量体 ０．５ 重量部 トリブロモメチルフェニルスルホン ０．０５重量部 ロイコクリスタルバイオレット ０．０５重量部 マラカイトグリーンシュウ酸塩 ０．０２重量部 メチルエチルケトン ２０ 重量部 １−メトキシ−２−プロパノール １０ 重量部
【００４４】表面を研磨、乾燥した銅張積層板（ナショ
ナルプリント配線板用銅張積層板Ｒ−１７０１、松下電
工（株）製）上に、保護フィルムを剥した感光性シート
を銅表面と感光性樹脂層が接触するように重ね、ラミネ
ーター（ＭＯＤＥＬ８Ｂ−７２０−ＰＨ、大成ラミネー
ター（株）製）を用いて積層した。積層の条件は、基板
温度７０℃、積層温度１０５℃、積層圧力３kg/cm2、そ
して積層の搬送速度１．２m/分であった。積層後、室温
（２３℃、５５％ＲＨ）で１０分間放置し、ネガ原稿
（ライン／スペース＝１２５μｍ／２５０μｍ）を介し
て、感光性シート上に超高圧水銀灯で５０mj/cm2の照射
エネルギーで露光した。露光後、室温で１０分間放置
し、次いで積層体からポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを剥し取り、感光性樹脂層の表面に、１％の炭酸ナ
トリウム水溶液を３０℃にて、スプレー圧１．０kg/cm2
で８０秒間スプレーし、未露光部を除去して、現像を行
なった。その後、２０℃で、スプレー圧１．０kg/cm2に
て８０秒間水洗を行ない、その直後に、硬質ゴム円盤
（バイドンゴム、ゴム硬度＝８０、直径５０mm、厚さ２
mm）を用いて１００gfの荷重で、１cm／秒の速度で引っ
掻いた。直ちに、塩化第二銅のエッチング液を用いて、
４５℃で、スプレー圧２．０kg/cm2にて６０秒間エッチ
ングを行ない、金属配線基板を得た。
ナルプリント配線板用銅張積層板Ｒ−１７０１、松下電
工（株）製）上に、保護フィルムを剥した感光性シート
を銅表面と感光性樹脂層が接触するように重ね、ラミネ
ーター（ＭＯＤＥＬ８Ｂ−７２０−ＰＨ、大成ラミネー
ター（株）製）を用いて積層した。積層の条件は、基板
温度７０℃、積層温度１０５℃、積層圧力３kg/cm2、そ
して積層の搬送速度１．２m/分であった。積層後、室温
（２３℃、５５％ＲＨ）で１０分間放置し、ネガ原稿
（ライン／スペース＝１２５μｍ／２５０μｍ）を介し
て、感光性シート上に超高圧水銀灯で５０mj/cm2の照射
エネルギーで露光した。露光後、室温で１０分間放置
し、次いで積層体からポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを剥し取り、感光性樹脂層の表面に、１％の炭酸ナ
トリウム水溶液を３０℃にて、スプレー圧１．０kg/cm2
で８０秒間スプレーし、未露光部を除去して、現像を行
なった。その後、２０℃で、スプレー圧１．０kg/cm2に
て８０秒間水洗を行ない、その直後に、硬質ゴム円盤
（バイドンゴム、ゴム硬度＝８０、直径５０mm、厚さ２
mm）を用いて１００gfの荷重で、１cm／秒の速度で引っ
掻いた。直ちに、塩化第二銅のエッチング液を用いて、
４５℃で、スプレー圧２．０kg/cm2にて６０秒間エッチ
ングを行ない、金属配線基板を得た。
【００４５】［金属配線基板の評価］上記のように、現
像直後に自動現像機における現像搬送時の衝撃を想定し
た引っ掻試験（実際より厳しい条件の試験）を行ない、
得られる配線基板の断線の程度を、配線基板のパターン
を顕微鏡で観察し、その断線の個数を数えた。その結果
を表１に示す。
像直後に自動現像機における現像搬送時の衝撃を想定し
た引っ掻試験（実際より厳しい条件の試験）を行ない、
得られる配線基板の断線の程度を、配線基板のパターン
を顕微鏡で観察し、その断線の個数を数えた。その結果
を表１に示す。
【００４６】
【表１】 表１ ──────────────────────────────────── ［モノマー組成］ 重量平均 Ｔｇ 断線数 MAA MMA EA BzMA EMA EHA 分子量 （万） （℃） （個） ──────────────────────────────────── 実施例１ 25 39 19 17 0 0 ８ ８２ ７ 実施例２ 24 28 23 25 0 0 ８ ７１ ８ 実施例３ 18 46 19 17 0 0 ８ ７７ ８ 実施例４ 25 53 5 8 0 9 ８ ８６ １１ 実施例５ 26 44 15 9 6 0 ８ ９２ １０ ──────────────────────────────────── 比較例１ 26 30 17 0 27 0 ８ ８１ ２９ 比較例２ 26 42 15 0 17 0 ８ ９２ ２６ 比較例３ 27 51 10 0 12 0 ８ １０４ ３１ 比較例４ 22 54 21 0 3 0 ８ ８４ ２３ 比較例５ 18 56 20 0 6 0 ８ ８０ ２１ 比較例６ 24 51 0 8 0 17 ８ ７３ ２８ ──────────────────────────────────── 備考） MAA ：メタクリル酸、MMA ：メチルメタクリレート、 EA：エチルアクリレート、 BzMA ：ベンジルメタクリレート、 EMA ：エチルメタクリレート、 EHA：２−エチルヘキシルアクリレート
【００４７】
【発明の効果】本発明の感光性樹脂組成物は、特定のア
クリル系共重合体をポリマーバインダーとして含んでい
る。この感光性樹脂組成物より形成される感光性樹脂層
は、金属層に対する接着性が、特に光硬化後、現像液に
曝された状態における接着性が優れている。従って、感
光性樹脂組成物を用いて得られる画像は、欠陥のないも
のであり、このようにして作製されるプリント配線基板
も、断線のない金属配線基板である。従って、本発明の
上記感光性樹脂組成物から形成される感光性樹脂層を有
する感光性多層シートも、上記と同様な効果が得られ
る。
クリル系共重合体をポリマーバインダーとして含んでい
る。この感光性樹脂組成物より形成される感光性樹脂層
は、金属層に対する接着性が、特に光硬化後、現像液に
曝された状態における接着性が優れている。従って、感
光性樹脂組成物を用いて得られる画像は、欠陥のないも
のであり、このようにして作製されるプリント配線基板
も、断線のない金属配線基板である。従って、本発明の
上記感光性樹脂組成物から形成される感光性樹脂層を有
する感光性多層シートも、上記と同様な効果が得られ
る。
Claims (3)
- 【請求項１】 バインダーポリマー、光の照射によって
付加重合することのできるエチレン性不飽和二重結合含
有モノマー及び光重合開始剤からなる感光性樹脂組成物
であって、 該バインダーポリマーが、１４〜３０重量部のメタクリ
ル酸、２０〜７０重量部のメチルメタクリレート、３〜
３０重量部のエチルアクリレート及び３〜３０重量部の
ベンジル（メタ）アクリレートを共重合して得られ、か
つ５０〜１２０℃のガラス転移温度及び３万〜２０万の
重量平均分子量を有する共重合体であることを特徴とす
る感光性樹脂組成物。 - 【請求項２】 透明支持体上に、請求項１に記載の感光
性樹脂組成物から形成された感光性樹脂層が設けられて
なる感光性シート。 - 【請求項３】 下記の工程：金属層を有する基板の該金
属層の上に、請求項２に記載の感光性シートを、感光性
樹脂層と金属層が接触するように積層して積層体を形成
する工程、 積層体の感光性樹脂層を支持体を介して画像様に露光す
る工程、 感光性樹脂層を金属層上に残して、積層体から透明支持
体を剥し取る工程、 感光性樹脂層を現像してその未露光領域を除去する工
程、及び露出した金属層をエッチングして除去する工
程、からなる金属配線基板の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8331481A JPH10161309A (ja) | 1996-11-26 | 1996-11-26 | 感光性樹脂組成物、感光性シート及び金属配線基板の製造方法 |
| KR1019970063229A KR100454453B1 (ko) | 1996-11-26 | 1997-11-26 | 감광성수지조성물및감광성시이트 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8331481A JPH10161309A (ja) | 1996-11-26 | 1996-11-26 | 感光性樹脂組成物、感光性シート及び金属配線基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10161309A true JPH10161309A (ja) | 1998-06-19 |
Family
ID=18244135
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8331481A Withdrawn JPH10161309A (ja) | 1996-11-26 | 1996-11-26 | 感光性樹脂組成物、感光性シート及び金属配線基板の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10161309A (ja) |
| KR (1) | KR100454453B1 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2000039709A (ja) * | 1998-07-24 | 2000-02-08 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、バンプ形成用および配線形成用材料ならびにドライフィルムレジスト |
| WO2005003860A1 (ja) * | 2003-07-03 | 2005-01-13 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 感光性樹脂組成物、その積層体及びその製造方法 |
| JP2005300908A (ja) * | 2004-04-12 | 2005-10-27 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 感光性組成物及び感光性平版印刷版材料 |
| JP2006267463A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
| JP2009048073A (ja) * | 2007-08-22 | 2009-03-05 | Fujifilm Corp | 感光性転写材料、隔壁及びその形成方法、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置 |
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| KR100483895B1 (ko) * | 2002-09-03 | 2005-04-19 | 주식회사 코오롱 | 드라이필름 포토레지스트 조성물 |
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| KR100791819B1 (ko) | 2005-09-30 | 2008-01-04 | 주식회사 동진쎄미켐 | 감광성 수지 조성물 |
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-
1996
- 1996-11-26 JP JP8331481A patent/JPH10161309A/ja not_active Withdrawn
-
1997
- 1997-11-26 KR KR1019970063229A patent/KR100454453B1/ko not_active IP Right Cessation
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| KR100454453B1 (ko) | 2005-01-17 |
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