JPH0247645A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、硬調な画像を与えるハロゲン化銀写真感光材
料に関し、更に詳しくは、ヒドラジン化合物による硬調
化技術において生する故障を改良することに関するもの
である。
料に関し、更に詳しくは、ヒドラジン化合物による硬調
化技術において生する故障を改良することに関するもの
である。
近年、印刷写真製版分野において、印刷物のカラー化や
複雑化が非常に進みつつある。その為印刷の中間媒体で
ある印刷用ハロゲン化銀写真感光材料(以下印刷感材と
いう)への品質の向上と品質の安定に対する要求も年々
増加している。従来から、一般的印刷感材は高品質を達
成する為にいわゆる“リス現像”処理適性が付与されて
いる。しかし“リス現像”においては、その現像処理液
中に保恒剤である亜硫酸イオンを高濃度に含有すること
が機構的に不可能であり、そのため現像液の安定性が非
常に悪いことは当業者間では良く知られた事実である。
複雑化が非常に進みつつある。その為印刷の中間媒体で
ある印刷用ハロゲン化銀写真感光材料(以下印刷感材と
いう)への品質の向上と品質の安定に対する要求も年々
増加している。従来から、一般的印刷感材は高品質を達
成する為にいわゆる“リス現像”処理適性が付与されて
いる。しかし“リス現像”においては、その現像処理液
中に保恒剤である亜硫酸イオンを高濃度に含有すること
が機構的に不可能であり、そのため現像液の安定性が非
常に悪いことは当業者間では良く知られた事実である。
“リス現像パの不安定さを解消し、かつ、゛リス現像”
処理並の硬調な画像を得る為の技術としては、幾つか、
その試みについて特許文献の開示を見ることができる。
処理並の硬調な画像を得る為の技術としては、幾つか、
その試みについて特許文献の開示を見ることができる。
例えばヒドラジン化合物を使用し、硬調化画像を得る技
術が特開昭53−16623号、同53−20921号
、同53−20922号、同53−49429号、同5
3−66731号、同53−66732号、同53−7
7616号、同53−84714号、同53−1371
33号、同54−37732号、同54−40629号
、同55−52050号、同55−90940号、同5
6−67843号等に開示されている。これらのヒドラ
ジン化合物を用いた画像形成方法における処理方法では
、ヒドラジン化合物を含有している現像液のpH値、又
はヒドラジン化合物を含有している写真感光材料の処理
現像液のpH値が比較的高いレベルにあることが硬調な
画像を得るために必要であって、この高いpH値が現像
液の有効寿命を下げるという欠点があった。
術が特開昭53−16623号、同53−20921号
、同53−20922号、同53−49429号、同5
3−66731号、同53−66732号、同53−7
7616号、同53−84714号、同53−1371
33号、同54−37732号、同54−40629号
、同55−52050号、同55−90940号、同5
6−67843号等に開示されている。これらのヒドラ
ジン化合物を用いた画像形成方法における処理方法では
、ヒドラジン化合物を含有している現像液のpH値、又
はヒドラジン化合物を含有している写真感光材料の処理
現像液のpH値が比較的高いレベルにあることが硬調な
画像を得るために必要であって、この高いpH値が現像
液の有効寿命を下げるという欠点があった。
これに対して、特開昭56−106244号では、画像
形成時に、ヒドラジン化合物及び現像促進量のアミノ化
合物を含有することによって、硬調な画像を比較的低い
pH(11−11,5)で形成できるとしている。
形成時に、ヒドラジン化合物及び現像促進量のアミノ化
合物を含有することによって、硬調な画像を比較的低い
pH(11−11,5)で形成できるとしている。
これらのヒドラジン化合物を用いる画像形成方法は非常
に硬調な画像を得ることができる。一般に現像処理液は
適切な現像補充剤の補充がなされない場合は写真性能上
好ましくないカプリ発生等があるが、ヒドラジンを用い
たこの方法では現像処理液の疲労度がそれほど大きくな
い場合でも未露光部、例えば印刷感材におけるコンタク
トスクリーンを用いた撮網時に網点間に黒胡麻の様なブ
ラックドツト(以下ペラパーフォグという)の発生が見
られ、商品価値上重大な欠点となり得る故障を引き起こ
すことがある。先に掲げた特開昭53−16623号や
特開昭53−20921号においては、上で述ベたペラ
パーフォグを含むカブリの発生を、抑制剤であるベンゾ
トリアゾールをハロゲン化銀写真乳剤に含有させること
により抑制しているが、その効果は充分でなく、しかも
硬調性が損なわれることもあり、完成された技術である
とは言いがたい。 本発明の発明者らは鋭意研究の結果
、ヒドラジド化合物を用いた硬調化技術の欠点であるペ
ラパーフォグを含むカブリを抑制しつつ硬調性を損なわ
ないハロゲン化銀写真感光材料を開発することができた
。
に硬調な画像を得ることができる。一般に現像処理液は
適切な現像補充剤の補充がなされない場合は写真性能上
好ましくないカプリ発生等があるが、ヒドラジンを用い
たこの方法では現像処理液の疲労度がそれほど大きくな
い場合でも未露光部、例えば印刷感材におけるコンタク
トスクリーンを用いた撮網時に網点間に黒胡麻の様なブ
ラックドツト(以下ペラパーフォグという)の発生が見
られ、商品価値上重大な欠点となり得る故障を引き起こ
すことがある。先に掲げた特開昭53−16623号や
特開昭53−20921号においては、上で述ベたペラ
パーフォグを含むカブリの発生を、抑制剤であるベンゾ
トリアゾールをハロゲン化銀写真乳剤に含有させること
により抑制しているが、その効果は充分でなく、しかも
硬調性が損なわれることもあり、完成された技術である
とは言いがたい。 本発明の発明者らは鋭意研究の結果
、ヒドラジド化合物を用いた硬調化技術の欠点であるペ
ラパーフォグを含むカブリを抑制しつつ硬調性を損なわ
ないハロゲン化銀写真感光材料を開発することができた
。
本発明の第1の目的はヒドラジド化合物を用いた硬調な
画像を安定に形成し得るハロゲン化銀写真感光材料を提
供することにある。第2の目的はペラパーフォグを含め
たカブリ発生のない硬調ナハロゲン化銀写真感光材料を
提供することにある。
画像を安定に形成し得るハロゲン化銀写真感光材料を提
供することにある。第2の目的はペラパーフォグを含め
たカブリ発生のない硬調ナハロゲン化銀写真感光材料を
提供することにある。
前記本発明の目的は、支持体上に少なくとも一層の感光
性ハロゲン化銀乳剤層を含む親水性コロイド層を塗設し
てなるハロゲン化銀写真感光材料において、該感光性ハ
ロゲン化銀乳剤層にヒドラジン誘導体を含有し、該感光
性ハロゲン化銀乳剤層又は/及び親水性コロイド層中に
下記一般式CI )、Cn )、(III )及び〔I
V〕で表される化合物から選ばれる少なくとも1種を含
有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によ
って達成される。
性ハロゲン化銀乳剤層を含む親水性コロイド層を塗設し
てなるハロゲン化銀写真感光材料において、該感光性ハ
ロゲン化銀乳剤層にヒドラジン誘導体を含有し、該感光
性ハロゲン化銀乳剤層又は/及び親水性コロイド層中に
下記一般式CI )、Cn )、(III )及び〔I
V〕で表される化合物から選ばれる少なくとも1種を含
有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によ
って達成される。
一般式(1)
式中、Y 、、Y 、は−0)1基又は−〇〇208基
を表し、それぞれ同じものであってもよく異なっていて
もよい。Rは炭素数1〜3のアルキル基を表す。
を表し、それぞれ同じものであってもよく異なっていて
もよい。Rは炭素数1〜3のアルキル基を表す。
一般式[n)
式中、R、、R2,R3及びR1は、それぞれ同じか又
は異なって水素原子或いは低級アルキル基を表し、2は
−ec)1.鮎−(nは0又は1〜5の整数を表す。)
−c−(Rs、Raはそれぞれ水素原子、メチル基、R
・ エチル基又はプロピル基を表すが、R、、R、がともに
水素原子であることはない。) −CH2−0−CH,−、−鮒=CH−−C:EC−又
は エーテル基、但しAとA′は同時にポリアルキレンエー
テル基にはならない。pは2〜30を表す。
は異なって水素原子或いは低級アルキル基を表し、2は
−ec)1.鮎−(nは0又は1〜5の整数を表す。)
−c−(Rs、Raはそれぞれ水素原子、メチル基、R
・ エチル基又はプロピル基を表すが、R、、R、がともに
水素原子であることはない。) −CH2−0−CH,−、−鮒=CH−−C:EC−又
は エーテル基、但しAとA′は同時にポリアルキレンエー
テル基にはならない。pは2〜30を表す。
B、B’は−NH−又は−0−を表すが同時にB。
B′が一〇−になることはない。
Rは低級アルキル基、フェニル基、アラルキル基又は
−(CHりQCOOR’ (但しR′は低級アルキル基
。
−(CHりQCOOR’ (但しR′は低級アルキル基
。
一般式(II[)
(但しR“は低級アルキル基)を表す。
式中、Aは低級アルキレン基又は)CHzCHzO←B
とはOで結合しないポリアルキレンエーテル基、A′は
低級アルキレン基又は→CH,CH!O汁CHx −C
HzRは水素又は炭素数1〜IOまでのアルキル基を表
す。
とはOで結合しないポリアルキレンエーテル基、A′は
低級アルキレン基又は→CH,CH!O汁CHx −C
HzRは水素又は炭素数1〜IOまでのアルキル基を表
す。
nはl又は2、mは平均重合度を表し、1〜50までの
整数を表す。
整数を表す。
Mは水素原子又はアルカリ金属原子を表す。
以下、本発明の構成について詳細に具体的に説明する。
本発明に用いられるヒドラジン誘導体には、下記一般式
(1)a、(2)、(3)で示される化合物が挙げられ
る。
(1)a、(2)、(3)で示される化合物が挙げられ
る。
又、一般式CI)で表されるシクロヘキサン誘導体、一
般式(n)で表されるジオール体、一般式(I[[)で
表されるチオエーテル体及び一般式〔■〕で表されるフ
ェノール又はナフトール系アルデヒド樹脂は下記に示さ
れる化合物が挙げられる。
般式(n)で表されるジオール体、一般式(I[[)で
表されるチオエーテル体及び一般式〔■〕で表されるフ
ェノール又はナフトール系アルデヒド樹脂は下記に示さ
れる化合物が挙げられる。
一般式(1)a
(式中、R1及びR2はアリール基またはへテロ環基を
表し、Rは有機結合基を表し、nは0〜6、mはOまた
はlを表し、nが2以上のときは、各Rは同じであって
も、異なっていてもよい。)一般式〔2〕 (式中、R21は脂肪族基、芳香族基またはへテロ環基
を、R1!は水素原子、置換してもよいアルコキシ基、
ヘテロ環オキシ基、アミノ基、もしくはアリールオキシ
基を表し%Pl及びR2は水素原子、アシル基、または
スルフィン酸基を表す。)一般式〔3〕。
表し、Rは有機結合基を表し、nは0〜6、mはOまた
はlを表し、nが2以上のときは、各Rは同じであって
も、異なっていてもよい。)一般式〔2〕 (式中、R21は脂肪族基、芳香族基またはへテロ環基
を、R1!は水素原子、置換してもよいアルコキシ基、
ヘテロ環オキシ基、アミノ基、もしくはアリールオキシ
基を表し%Pl及びR2は水素原子、アシル基、または
スルフィン酸基を表す。)一般式〔3〕。
Ar NHNHCRs+
(式中、Arは耐拡散基またはハロゲン化銀吸着促進基
を少なくとも1つ含むアリール基を表し、RS+は置換
アルキル基を表す。) 以下一般式(1)a、(2)、(3)について具体的に
説明する。
を少なくとも1つ含むアリール基を表し、RS+は置換
アルキル基を表す。) 以下一般式(1)a、(2)、(3)について具体的に
説明する。
一般式〔1〕a
式中、R□及びR2はアリール基またはへテロ環基を表
わし、Rは2価の有機基を表わし、nは0〜6、mは0
またはlを表わす。
わし、Rは2価の有機基を表わし、nは0〜6、mは0
またはlを表わす。
ここで、R1及びR3で表わされるアリール基としては
フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、ヘテロ環基とし
てはピリジル基、ベンゾチアゾリル基、キノリル基、チ
エニル基等が挙げられるが、R1及びR2として好まし
くはアリール基である。
フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、ヘテロ環基とし
てはピリジル基、ベンゾチアゾリル基、キノリル基、チ
エニル基等が挙げられるが、R1及びR2として好まし
くはアリール基である。
R1及びR2で表わされるアリール基またはへテロ環基
には種々の置換基が導入できる。置換基としては例えば
ハロゲン原子(例えば塩素、フッ素など)、アルキル基
(例えばメチル、エチル、ドデシルなど)、アルコキシ
基(例えばメトキシ、エトキシ、インプロポキシ、ブト
キシ、オクチルオキシ、ドデシルオキシなど)、アシル
アミノ基 (例えばアセチルアミノ、ピバリルアミノ、
ベンゾイルアミノ、テトラデカノイルアミノ、α−(2
,4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブチリルアミノなど
)、スルホニルアミノ基(例えハ、メタンスルホニルア
ミノ、ブタンスルホニルアミノ、ドデカンスルホニルア
ミノ、ベンゼンスルホニルアミノなど)、ウレア基(例
えば、フヱニルウレア、エチルウレアなど)、チオウレ
ア基(例えば、フェニルチオウレア、エチルチオウレア
など)、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基(
例えば、メチルアミノ、ジメチルアミノなど)、カルボ
キシ基、アルコキシカルボニル基(例えば、エトキシカ
ルボニル)、カルバモイル基、スルホ基などが挙げられ
る。Rで表わされる2価の有機基としては、例えばアル
キレン基(例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン
、テトラメチレンなど)、アリーレン基(例えば、フェ
ニレン、ナフチレンなど)、アラルキレン基等が挙げら
れるがアルキレン基は結合中にオキシ基、チオ基、セレ
ノ基、カルポニR3 ル基、−N−基・(R,は水素原子、アルキル基、アリ
ール基を表わす)、スルホニル基等を含んでも良い。R
で表わされる基には種々の置換基が導入できる。
には種々の置換基が導入できる。置換基としては例えば
ハロゲン原子(例えば塩素、フッ素など)、アルキル基
(例えばメチル、エチル、ドデシルなど)、アルコキシ
基(例えばメトキシ、エトキシ、インプロポキシ、ブト
キシ、オクチルオキシ、ドデシルオキシなど)、アシル
アミノ基 (例えばアセチルアミノ、ピバリルアミノ、
ベンゾイルアミノ、テトラデカノイルアミノ、α−(2
,4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブチリルアミノなど
)、スルホニルアミノ基(例えハ、メタンスルホニルア
ミノ、ブタンスルホニルアミノ、ドデカンスルホニルア
ミノ、ベンゼンスルホニルアミノなど)、ウレア基(例
えば、フヱニルウレア、エチルウレアなど)、チオウレ
ア基(例えば、フェニルチオウレア、エチルチオウレア
など)、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基(
例えば、メチルアミノ、ジメチルアミノなど)、カルボ
キシ基、アルコキシカルボニル基(例えば、エトキシカ
ルボニル)、カルバモイル基、スルホ基などが挙げられ
る。Rで表わされる2価の有機基としては、例えばアル
キレン基(例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン
、テトラメチレンなど)、アリーレン基(例えば、フェ
ニレン、ナフチレンなど)、アラルキレン基等が挙げら
れるがアルキレン基は結合中にオキシ基、チオ基、セレ
ノ基、カルポニR3 ル基、−N−基・(R,は水素原子、アルキル基、アリ
ール基を表わす)、スルホニル基等を含んでも良い。R
で表わされる基には種々の置換基が導入できる。
置換基としては例えば、−〇〇NHNHR,(R、は上
述したR1及びR8と同じ意味を表わす)、アルキル基
、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボ
キシ基、アシル基、アリール基、等が挙げられる。
述したR1及びR8と同じ意味を表わす)、アルキル基
、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボ
キシ基、アシル基、アリール基、等が挙げられる。
Rとして好ましくはアルキレン基である。
一般式(:l)aで表わされる化合物のうち好ましくは
R1及びR2が置換または未置換のフェニル基であり、
nw−@−1でRがアルキレン基を表わす化合物である
。
R1及びR2が置換または未置換のフェニル基であり、
nw−@−1でRがアルキレン基を表わす化合物である
。
上記一般式(1)aで表される代表的な化合物具体的化
合物 −S tc6H++ ■ ■ ■ ■ ■ ■ tcsHI I ■ =34 ■ ■ ■ tG1H++ t(4H+1 ■ −52 次に一般式〔2〕について説明する R11で表わされる脂肪族基は、好ましくは、炭素数6
以上のものであって、特に炭素数8〜50の直鎖、分岐
または環状のアルキル基である。ここで分岐アルキル基
はその中に1つまたはそれ以上のへテロ原子を含んだ飽
和のへテロ環を形成するように環化されてもよい。また
このアルキル基はアリール基、アルコキシ基、スルホキ
シ基、等の置換基を有してもよい。
合物 −S tc6H++ ■ ■ ■ ■ ■ ■ tcsHI I ■ =34 ■ ■ ■ tG1H++ t(4H+1 ■ −52 次に一般式〔2〕について説明する R11で表わされる脂肪族基は、好ましくは、炭素数6
以上のものであって、特に炭素数8〜50の直鎖、分岐
または環状のアルキル基である。ここで分岐アルキル基
はその中に1つまたはそれ以上のへテロ原子を含んだ飽
和のへテロ環を形成するように環化されてもよい。また
このアルキル基はアリール基、アルコキシ基、スルホキ
シ基、等の置換基を有してもよい。
R21で表される芳香族基は単環または2環アリール基
または不飽和へテロ環基である。ここで不飽和へテロ環
基は単環または2環のアリール基と縮合してヘテロアリ
ール基を形成してもよい。
または不飽和へテロ環基である。ここで不飽和へテロ環
基は単環または2環のアリール基と縮合してヘテロアリ
ール基を形成してもよい。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
R21として特に好ましいものはアリール基である。
Ri+のアリール基または不飽和へテロ環基は置換され
ていてもよく、代表的な置換基としては直鎖、分岐また
は環状のアルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数
が1〜20の単環または2環のもの)、アルコキシ基(
好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好
ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミ
ノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を
持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜
30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜
30を持つもの)などがある。
ていてもよく、代表的な置換基としては直鎖、分岐また
は環状のアルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数
が1〜20の単環または2環のもの)、アルコキシ基(
好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好
ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミ
ノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を
持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜
30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜
30を持つもの)などがある。
一般式〔2〕のR22で表される基のうち置換されても
よいアルコキシ基としては炭素数1〜20のモノテアっ
て、ハロゲン原子、アリール基などで置換されていても
よい。
よいアルコキシ基としては炭素数1〜20のモノテアっ
て、ハロゲン原子、アリール基などで置換されていても
よい。
一般式〔2〕においてR2□で表される基のうち置換さ
れてもよいアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基と
しては単環のものが好ましく、また置換基としてはハロ
ゲン原子アルキル基、アルコキシ基、シアノ基などがあ
る R1ff1で表される基のうちで好ましいものは、置換
されてもよいアルコキシ基またはアミン基である。
れてもよいアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基と
しては単環のものが好ましく、また置換基としてはハロ
ゲン原子アルキル基、アルコキシ基、シアノ基などがあ
る R1ff1で表される基のうちで好ましいものは、置換
されてもよいアルコキシ基またはアミン基である。
A、置換されてもよいアルキル基、アルコシ基または−
0−−3−−N−基結合を含む環状構造であってもよい
。但しR22がヒドラジノ基であることはない。
0−−3−−N−基結合を含む環状構造であってもよい
。但しR22がヒドラジノ基であることはない。
一般式〔2〕のRZ+またはR2□はその中にカプラー
等の不動性写真用添加剤において常用されているバラス
ト基が組み込まれているものでもよい。
等の不動性写真用添加剤において常用されているバラス
ト基が組み込まれているものでもよい。
バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、7ニノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、7ニノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
一般式〔2〕のR21またはR82はその中にハロゲン
化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれてい
るものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、
複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾー
ル基などの米国特許第4゜355、105号に記載され
た基があげられる。一般式〔2〕で表される化合物のう
ち下記一般式[2−alで表される化合物は特に好まし
い。
化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれてい
るものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、
複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾー
ル基などの米国特許第4゜355、105号に記載され
た基があげられる。一般式〔2〕で表される化合物のう
ち下記一般式[2−alで表される化合物は特に好まし
い。
一般式[2−al
上記一般式[2−al中、
R23およびR2,は水素原子、置換されてもよいアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシ
ル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−7アノエチル基
、2−クロロエチル基)、置換されてもよいフェニル基
、ナフチル基、シクロヘキシル基、ピリジル基、ピロリ
ジル基(例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、ナ
フチル基、α−ヒドロキシナフチル基、シクロヘキシル
基、p−メチルシクロヘキシル基、ピリジル基、4−プ
ロピル−2−ピリジル基、ピロリジル基、4−メチル−
2−ピロリジル基)を表し、 Rzfは水素原子または置換されてもよいベンジル基、
アルコキシ基及びアルギル基(例えばベンジル基、p−
メチルベンジル基、メトキシ基、エトキン基、エチル基
、ブチル基)を表し、R86及びR21は2価の芳香族
基(例えばフェニレン基またはナフチレン基)を表し、
Yはイオウ原子または酸素原子を表し、Lは2価の結合
基(例えば−3OzCHzCHzNHSo□NH,−0
CH2So、NH,−0−−CH−N−)を表し、 R2aは−N R/ R//または一0R2,を表し、
R/ 、 R//及びR2,は水素原子、置換されても
よいアルキル基(例えばメチル基、エチル基、ドデシル
基)、フェニル基(例えばフェニル基、p−メチルフェ
ニル基、p−メトキシフェニル基)またはす7チル基(
例えばα−ナフチル基、 β−ナフチル基) 一般式〔2〕 の具体例 を表し、 s、nは0まjこは ■ を表す。
キル基(例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシ
ル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−7アノエチル基
、2−クロロエチル基)、置換されてもよいフェニル基
、ナフチル基、シクロヘキシル基、ピリジル基、ピロリ
ジル基(例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、ナ
フチル基、α−ヒドロキシナフチル基、シクロヘキシル
基、p−メチルシクロヘキシル基、ピリジル基、4−プ
ロピル−2−ピリジル基、ピロリジル基、4−メチル−
2−ピロリジル基)を表し、 Rzfは水素原子または置換されてもよいベンジル基、
アルコキシ基及びアルギル基(例えばベンジル基、p−
メチルベンジル基、メトキシ基、エトキン基、エチル基
、ブチル基)を表し、R86及びR21は2価の芳香族
基(例えばフェニレン基またはナフチレン基)を表し、
Yはイオウ原子または酸素原子を表し、Lは2価の結合
基(例えば−3OzCHzCHzNHSo□NH,−0
CH2So、NH,−0−−CH−N−)を表し、 R2aは−N R/ R//または一0R2,を表し、
R/ 、 R//及びR2,は水素原子、置換されても
よいアルキル基(例えばメチル基、エチル基、ドデシル
基)、フェニル基(例えばフェニル基、p−メチルフェ
ニル基、p−メトキシフェニル基)またはす7チル基(
例えばα−ナフチル基、 β−ナフチル基) 一般式〔2〕 の具体例 を表し、 s、nは0まjこは ■ を表す。
R2,がOR,、を
■
表すときYはイオウ原子を表すのが好ましい。
上記一般式〔2〕
及び[2
alで表される代表的
CH3
CIDH!lfl
※−NHNHCCOCHICFI!SO,CH,C)1
.OH※−NHNHL;CL)l;H,UH!>LJI
2L;tl、υi=40 CI′I3 =47 ※ η −NHNHCCNHC+tHts しυしト。
.OH※−NHNHL;CL)l;H,UH!>LJI
2L;tl、υi=40 CI′I3 =47 ※ η −NHNHCCNHC+tHts しυしト。
※−NHNl’1CCHzOCHzCHtOCHtCH
*OH次に化合物3−5の合成例について述べる。
*OH次に化合物3−5の合成例について述べる。
化合物3−5の合成
合成スキーム
化合物2−45の合成法に準じて化合物3を
得 tこ 。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料に含まれる一般式[
1la 、[2]、[3]の化合物の量は、本発明のハ
ロゲン化銀写真感光材料中に含有されるハロゲン化銀1
モル当り、5 X 10−’ないし5 X 10−’モ
ルまでが好ましく、更に好ましくは5 X 10−’な
い一般式CI) 式中、Y 1. Y !は−OH基又は−CH,OH基
を表し、それぞれ同じものであってもよく異なっていて
もよい。Rは炭素数1〜3のアルキル基を表す。
1la 、[2]、[3]の化合物の量は、本発明のハ
ロゲン化銀写真感光材料中に含有されるハロゲン化銀1
モル当り、5 X 10−’ないし5 X 10−’モ
ルまでが好ましく、更に好ましくは5 X 10−’な
い一般式CI) 式中、Y 1. Y !は−OH基又は−CH,OH基
を表し、それぞれ同じものであってもよく異なっていて
もよい。Rは炭素数1〜3のアルキル基を表す。
次に一般式〔I〕で表される化合物の具体例を示すが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明はこれらに限定されるものではない。
化合物No、 化合物No。
CI)
CI)−8
以下に一般式[II)で表される化合物の具体例を示す
が、本発明はこれらに限定されない。
が、本発明はこれらに限定されない。
化合物No。
化合物No。
(II)−1
[11)−2
一般式[I[)
(II)
(n)−4
1+
R,R。
式中、Rr 、 Rz 、 Rs及びR4は、それぞれ
同じが又は異なって水素原子或いは低級アルキル基を表
し、Zは云CH2V (nは0又は1〜5の整数を表す
。)(II)−5 CL)−6 −o(R,s、Ral’!それぞれ水素原子、メチル基
、R。
同じが又は異なって水素原子或いは低級アルキル基を表
し、Zは云CH2V (nは0又は1〜5の整数を表す
。)(II)−5 CL)−6 −o(R,s、Ral’!それぞれ水素原子、メチル基
、R。
エチル基又はプロピル基を表すが、Rs 、 Raがと
CII)−7 (II)−8 もに水素原子であることはない。) CHz−OCHI 、 CH=CH、C=EC51ハ
(If)−9 (n)−10 (II)−19 (l[)−20 HOCH,C−CCH20H HOCHfC=CCH,OH [11)−11 (II)−12 (I[)−21 (n)−21 (II)−13 (n)−14 一般式 [[) %式% [) 式中、 Aは低級アルキレン基又は−+CHzCHzO[〔「〕 (ff) とは0で結合しないポリアルキレンエーテル基、′は低
級アルキレン基又は−(’CH,CH2O祐−CH,−
CH。
CII)−7 (II)−8 もに水素原子であることはない。) CHz−OCHI 、 CH=CH、C=EC51ハ
(If)−9 (n)−10 (II)−19 (l[)−20 HOCH,C−CCH20H HOCHfC=CCH,OH [11)−11 (II)−12 (I[)−21 (n)−21 (II)−13 (n)−14 一般式 [[) %式% [) 式中、 Aは低級アルキレン基又は−+CHzCHzO[〔「〕 (ff) とは0で結合しないポリアルキレンエーテル基、′は低
級アルキレン基又は−(’CH,CH2O祐−CH,−
CH。
エーテル基、
但しAとA
′は同時にポリ
アルキレ
ンエーテル基にはならない。
pは2〜30を表す。
B、B
′は−NH−又は−〇−を表すが同時にB。
′が−0
になることはない。
Rは低級アルキル基、
フェニル基、
アラルキル
基又は
(CHz)qcOOR’
(但しR
′は低級アルキル基。
(但しR“
は低級アルキル基)を表す。
次に一般式CIII)で表される具体的化合物例を示す
が、 本発明はこれらに限定されるものではない。
が、 本発明はこれらに限定されるものではない。
CH2CHzNHCOOCHzCHzSCHzCHzC
OOCzHsCHICH,NHCooCH,CI(2S
CH2CH,C00C,H。
OOCzHsCHICH,NHCooCH,CI(2S
CH2CH,C00C,H。
(I[1)−2
CHzCHzNHCOOCHzCHzSCHs(II[
)−3 CHzCHzOCONHCHzCHzSCzHsCHz
CH*OCONl(CHzCHzSC2HsCm)−4 OHx NHCONHCH2CHI SC2HsCH。
)−3 CHzCHzOCONHCHzCHzSCzHsCHz
CH*OCONl(CHzCHzSC2HsCm)−4 OHx NHCONHCH2CHI SC2HsCH。
CHxNHCONHCHzCHzSC2Hs(III)
−5 CHsCH*CHzNHCONHCHzCHzSC2H
sCH3−N CH2CH2CH2NHCONHCH2CH2SCJa
(Ill)−6 (III)−7 CHzCHzNHCOO(CHzCHzO)acHzs
c4HsCH2CH2NHCOOCH,Cl、SCH。
−5 CHsCH*CHzNHCONHCHzCHzSC2H
sCH3−N CH2CH2CH2NHCONHCH2CH2SCJa
(Ill)−6 (III)−7 CHzCHzNHCOO(CHzCHzO)acHzs
c4HsCH2CH2NHCOOCH,Cl、SCH。
CHzCHzNHCOO(CH2CH20)。CHx
SC4)1 *CIII)−8 CIII)−13 「(CHzCHzO)z*cHzcHμ0NHCH,S
C,H。
SC4)1 *CIII)−8 CIII)−13 「(CHzCHzO)z*cHzcHμ0NHCH,S
C,H。
’(CHzCHzO)zsCHzCHzOCONHCH
zSCzHs(I[[)−9 CH2CH20CONHCH2CH,SC,H。
zSCzHs(I[[)−9 CH2CH20CONHCH2CH,SC,H。
CIbCHtOCONHCH2CHzSCJs(III
)−12 Rは水素又は炭素数1−10までのアルキル基を表す。
)−12 Rは水素又は炭素数1−10までのアルキル基を表す。
nは1又は2、mは平均重合度を表し、1〜50までの
整数を表す。
整数を表す。
Mは水素原子又はアルカリ金属原子を表す。
次に一般式[IV)で表される具体的化合物例を示すが
、本発明はこれらに限定されるものではない。
、本発明はこれらに限定されるものではない。
(IV)−1(TV)−2
[rV)−3
CTV)−4
(IV)−5
(IV)−6
m=15
m=lυ
前述した一般式CI)、[:n ]、Cm )及び〔■
〕の化合物はいづれも公知の化合物であり、下記の特許
文献などに記載の合成方法に準じて得られるものである
。
〕の化合物はいづれも公知の化合物であり、下記の特許
文献などに記載の合成方法に準じて得られるものである
。
例えば、一般式1”l)で表されるシクロヘキサン誘導
体は、J、A、C,S Vol−76,771頁(1
954)に記載の方法によって容易に得られる。
体は、J、A、C,S Vol−76,771頁(1
954)に記載の方法によって容易に得られる。
又、一般武(II)で表されるジオール体は例えば米国
特許2,960,404号、同3,650.759号明
細書記載の方法で得られ、又一般式(I[[)で表され
るチオエーテル体は、例えば特公昭47−11116号
の明細書記載の方法、一般式〔■〕で表されるフェノー
ル又はナフトール系アルデヒド樹脂は例えば特公昭35
−16765号明細書記載の方法によって容易に得られ
るものである。
特許2,960,404号、同3,650.759号明
細書記載の方法で得られ、又一般式(I[[)で表され
るチオエーテル体は、例えば特公昭47−11116号
の明細書記載の方法、一般式〔■〕で表されるフェノー
ル又はナフトール系アルデヒド樹脂は例えば特公昭35
−16765号明細書記載の方法によって容易に得られ
るものである。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料に使用される上記一
般式CI )、(If )、〔lll )及び[rV)
の化合物の添加量は、ハロゲン化銀乳剤の種類によって
も多少異なるが、I X 10−’= I X 10−
’モル/ モルAg(’)範囲でよい。
般式CI )、(If )、〔lll )及び[rV)
の化合物の添加量は、ハロゲン化銀乳剤の種類によって
も多少異なるが、I X 10−’= I X 10−
’モル/ モルAg(’)範囲でよい。
これら化合物は水或いは水に混和可能な有機溶媒(例え
ばメタノールなど)に溶解してから、添加するのが好ま
しいが塗布液中で分散した状態であってもよい。
ばメタノールなど)に溶解してから、添加するのが好ま
しいが塗布液中で分散した状態であってもよい。
本発明に係るヒドラジン誘導体と一般式〔工〕。
(I[)、CI(I )及び〔IV〕で表される化合物
の添加される位置は、ハロゲン化銀乳剤層、非感光性層
のいづれでもよいが、好ましくはハロゲン化銀乳剤層で
よい。
の添加される位置は、ハロゲン化銀乳剤層、非感光性層
のいづれでもよいが、好ましくはハロゲン化銀乳剤層で
よい。
その添加時期としては、ハロゲン化銀乳剤の場合には、
化学熟成の工程から塗布される直前までのいづれの時期
でもよいが、好ましくは化学熟成終了時がよい。
化学熟成の工程から塗布される直前までのいづれの時期
でもよいが、好ましくは化学熟成終了時がよい。
非感光性の親水性コロイド液に添加す場合は塗布液を調
整する任意の段階でよい。
整する任意の段階でよい。
本発明のハロゲン化銀乳剤層に用いられるハロゲン化銀
は、塩臭化銀、塩沃臭化銀、沃臭化銀のいずれであって
もよい。
は、塩臭化銀、塩沃臭化銀、沃臭化銀のいずれであって
もよい。
このハロゲン化銀の粒子径は特に制限はないが、平均粒
子が0.5μmより小さいものが好ましく、全粒子数の
90%以上が平均粒子径を中心に±40%以内に入る所
謂単分散粒子であることが好ましい。
子が0.5μmより小さいものが好ましく、全粒子数の
90%以上が平均粒子径を中心に±40%以内に入る所
謂単分散粒子であることが好ましい。
ハロゲン化銀粒子の晶癖は立方晶、14面体および8面
体のいずれでもよく、又、特開昭58−108525号
に開示されているタブレット型粒子でもよい。
体のいずれでもよく、又、特開昭58−108525号
に開示されているタブレット型粒子でもよい。
本発明のハロゲン化銀乳剤層のハロゲン化銀粒子の調整
方法は順混合法、逆混合法等のシングルジェット法や同
時混合法によるダブルジェット法のいずれでもよく、よ
り好ましいのは同時混合法である。またアンモニア法、
中性法、酸性法や特公昭58−3232号に開示された
変則アンモニア法等のいずれでもよく、より好ましいの
は酸性法または中性法である。
方法は順混合法、逆混合法等のシングルジェット法や同
時混合法によるダブルジェット法のいずれでもよく、よ
り好ましいのは同時混合法である。またアンモニア法、
中性法、酸性法や特公昭58−3232号に開示された
変則アンモニア法等のいずれでもよく、より好ましいの
は酸性法または中性法である。
また、これらのハロゲン化銀粒子内に、イリジウム、ロ
ジウム、オスミウム、ビスマス、コバルト、ニッケル、
ルテニウム、鉄、銅、亜鉛、鉛、カドミウム等の金属原
子を含有せしめてもよい。
ジウム、オスミウム、ビスマス、コバルト、ニッケル、
ルテニウム、鉄、銅、亜鉛、鉛、カドミウム等の金属原
子を含有せしめてもよい。
これらの金属原子を含有せしめる場合、ハロゲン化銀1
モル当り、10−8〜10−’モルの範囲で含有させる
のが好ましい。また、ハロゲン化銀粒子は表面潜像型が
好ましい。
モル当り、10−8〜10−’モルの範囲で含有させる
のが好ましい。また、ハロゲン化銀粒子は表面潜像型が
好ましい。
本発明に係るハロゲン化銀乳剤層のハロゲン化銀写真乳
剤(以下本発明のハロゲン化銀写真乳剤という)は化学
増感を施すことができる。化学増感法には、硫黄増感、
還元増感および貴金属増感が包含されるが、本発明にお
いては、硫黄増感単独で化学増感を行うのが好ましい。
剤(以下本発明のハロゲン化銀写真乳剤という)は化学
増感を施すことができる。化学増感法には、硫黄増感、
還元増感および貴金属増感が包含されるが、本発明にお
いては、硫黄増感単独で化学増感を行うのが好ましい。
硫黄増感剤としてはゼラチン中に含まれる硫黄化合物の
ほか、種々の硫黄化合物、例えばチオ硫酸塩、チオ尿素
類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることができ
、具体的には米国特許第1574944号、同第241
0689号、同第2728668号、特公昭59−11
892号等に記載されている硫黄増感剤を用いることが
できる。
ほか、種々の硫黄化合物、例えばチオ硫酸塩、チオ尿素
類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることができ
、具体的には米国特許第1574944号、同第241
0689号、同第2728668号、特公昭59−11
892号等に記載されている硫黄増感剤を用いることが
できる。
本発明のハロゲン化銀写真乳剤は、それぞれ所望の感光
波長域に感光性を付与することができる。
波長域に感光性を付与することができる。
ここで1種または2種以上の増感色素を用いて分光増感
をしてもよい。増感色素としては、種々のものを用いる
ことができるが、本発明に於て有利に使用しうる分光増
感色素としては、シアニン類、カルボシアニン類、メロ
シアニン類、三核または四核メロシアニン類、三核また
は四核シアニン類、スチリル類、ホロポーラ−シアニン
類、ヘミンシアニン類、オキソノール類、ヘミオキソノ
ール類等を挙げることができ、これらの分光増感色素は
含窒素複素環核としてその構造の1部にチアゾリン、チ
アゾール等の塩基性基またはローダニン、チオヒダント
イン、オキサゾリジンジオン、バルビッール酸、チオバ
ルビッール酸、ピラゾロン等の核を含むものが好ましく
、かかる核は、アルキル、ヒドロキシアルキルハロゲン
、フェニル、シアノ、アルコキシ置換することができ、
またこれらの分光増感色素は炭素環または複素環と縮合
していてもよい。
をしてもよい。増感色素としては、種々のものを用いる
ことができるが、本発明に於て有利に使用しうる分光増
感色素としては、シアニン類、カルボシアニン類、メロ
シアニン類、三核または四核メロシアニン類、三核また
は四核シアニン類、スチリル類、ホロポーラ−シアニン
類、ヘミンシアニン類、オキソノール類、ヘミオキソノ
ール類等を挙げることができ、これらの分光増感色素は
含窒素複素環核としてその構造の1部にチアゾリン、チ
アゾール等の塩基性基またはローダニン、チオヒダント
イン、オキサゾリジンジオン、バルビッール酸、チオバ
ルビッール酸、ピラゾロン等の核を含むものが好ましく
、かかる核は、アルキル、ヒドロキシアルキルハロゲン
、フェニル、シアノ、アルコキシ置換することができ、
またこれらの分光増感色素は炭素環または複素環と縮合
していてもよい。
本発明のハロゲン化銀写真乳剤には安定剤として例えば
テトラザインデン類、カブリ防止剤として例えばトリア
ゾール類、テトラゾール類、カバーリングパワー向上剤
、イラジェーション防止剤として例えばオキサノール染
料、ジアルキルアミノベンジリデン染料等、湿潤剤とし
て例えばポリマーラテックス類、その他一般の写真用乳
剤に用いられる添加剤、例えば延展剤、併用の目的で本
発明外の硬膜剤等を添加することは可能である。
テトラザインデン類、カブリ防止剤として例えばトリア
ゾール類、テトラゾール類、カバーリングパワー向上剤
、イラジェーション防止剤として例えばオキサノール染
料、ジアルキルアミノベンジリデン染料等、湿潤剤とし
て例えばポリマーラテックス類、その他一般の写真用乳
剤に用いられる添加剤、例えば延展剤、併用の目的で本
発明外の硬膜剤等を添加することは可能である。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の支持体は、ホリエ
ステルベース、TACベース 、(ライタ紙、ラミネー
ト加工紙、ガラス板等通常用いられるものが用いられる
。
ステルベース、TACベース 、(ライタ紙、ラミネー
ト加工紙、ガラス板等通常用いられるものが用いられる
。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料に使用される現像液
としては、一般的な)λロゲン化銀写真感光材料に用い
られる現像液およびリス現像液の1/)ずれをも用いる
ことができる。これら現像液の現像主薬としては、ノ1
イドロキノン、クロル/Xイドロキノン、カテコールの
様なジヒドロキシベンゼン類や、l−フェニル−3−ピ
ラゾリドン、1−フェニル−4,4−、;メチル−3−
ピラゾリドン、l−フェニル−4−メチル−3−ピラゾ
リドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキンメ
チル−3−ピラゾリドンの様な 3−ピラゾリドン類が
あげられ、さらに又、N−メチル−p−アミノフェノー
ル、N−(4−ヒドロキシフェニル)クリシンの様なパ
ラアミノフェノール類、β−メタンスルホンアミドエス
テル、エチルアミノトルイジン、N、N−、;エチル−
p−7二二レンジアミンの様なp−7エニレンジアミン
類及びアスコルビン酸類などがあげられ、この様な現像
主薬を1つ以上含む水溶液として使用される。
としては、一般的な)λロゲン化銀写真感光材料に用い
られる現像液およびリス現像液の1/)ずれをも用いる
ことができる。これら現像液の現像主薬としては、ノ1
イドロキノン、クロル/Xイドロキノン、カテコールの
様なジヒドロキシベンゼン類や、l−フェニル−3−ピ
ラゾリドン、1−フェニル−4,4−、;メチル−3−
ピラゾリドン、l−フェニル−4−メチル−3−ピラゾ
リドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキンメ
チル−3−ピラゾリドンの様な 3−ピラゾリドン類が
あげられ、さらに又、N−メチル−p−アミノフェノー
ル、N−(4−ヒドロキシフェニル)クリシンの様なパ
ラアミノフェノール類、β−メタンスルホンアミドエス
テル、エチルアミノトルイジン、N、N−、;エチル−
p−7二二レンジアミンの様なp−7エニレンジアミン
類及びアスコルビン酸類などがあげられ、この様な現像
主薬を1つ以上含む水溶液として使用される。
他に現像液には亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、ホ
ルムアルデヒド亜硫酸水素ナトリウム、ヒドロキシルア
ミン、エチレン尿素の様な保恒剤、臭化ナトリウム、臭
化カリウム1、ヨウ化カリウム等の様な無機塩の現像抑
制剤、l−フェニル−5−メルカプトテトラゾール、5
−ニトロペンツイミダゾール、5−ニトロベンゾトリア
ゾール、5−ニトロインダゾール、5−メチル−ベンゾ
トリアゾール、4−チアゾリン−2−チオン等の様な1
種以上の有機抑制剤、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等のアルカリ剤、ジェタノールアミン、トリエタノー
ルアミン、3−ジエチルアミン−1−プロパツール、2
−メチルアミツーl−エタノール、3−ジエチルアミノ
−1,2−プロパンジオール、ジイソプロピルアミン、
5−アミノ−1−ペンタノール、6−アミノ−1−ヘキ
サノール等の現像促進効果を有するアルカノールアミン
類、炭酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、炭酸水溶液、
リン酸水溶液等の現像液中でバッファー効果を持つバッ
ファー剤、硫酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、クエン酸
ナトリウムの様な塩類、エチレンジアミン4酢酸ナトリ
ウム、ニトリロ三酢酸ナトリウム、ヒドロキシジアミン
三酢酸ナトリウム等のキレート化効果による硬水軟化剤
、グルタルアルデヒドの様な現像硬膜剤、ジエチレング
リコール、ジメチルホルムアルデヒド、エチルアルコー
ル、ベンジルアルコールの様な現像主薬ヤ有機抑制剤の
溶剤、メチルイミダシリン、メチルイミダゾール、ポリ
エチレングリコール、ドデシルピリジニウムブロマイド
等の現像調整剤等を添加して構成することができる。
ルムアルデヒド亜硫酸水素ナトリウム、ヒドロキシルア
ミン、エチレン尿素の様な保恒剤、臭化ナトリウム、臭
化カリウム1、ヨウ化カリウム等の様な無機塩の現像抑
制剤、l−フェニル−5−メルカプトテトラゾール、5
−ニトロペンツイミダゾール、5−ニトロベンゾトリア
ゾール、5−ニトロインダゾール、5−メチル−ベンゾ
トリアゾール、4−チアゾリン−2−チオン等の様な1
種以上の有機抑制剤、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等のアルカリ剤、ジェタノールアミン、トリエタノー
ルアミン、3−ジエチルアミン−1−プロパツール、2
−メチルアミツーl−エタノール、3−ジエチルアミノ
−1,2−プロパンジオール、ジイソプロピルアミン、
5−アミノ−1−ペンタノール、6−アミノ−1−ヘキ
サノール等の現像促進効果を有するアルカノールアミン
類、炭酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、炭酸水溶液、
リン酸水溶液等の現像液中でバッファー効果を持つバッ
ファー剤、硫酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、クエン酸
ナトリウムの様な塩類、エチレンジアミン4酢酸ナトリ
ウム、ニトリロ三酢酸ナトリウム、ヒドロキシジアミン
三酢酸ナトリウム等のキレート化効果による硬水軟化剤
、グルタルアルデヒドの様な現像硬膜剤、ジエチレング
リコール、ジメチルホルムアルデヒド、エチルアルコー
ル、ベンジルアルコールの様な現像主薬ヤ有機抑制剤の
溶剤、メチルイミダシリン、メチルイミダゾール、ポリ
エチレングリコール、ドデシルピリジニウムブロマイド
等の現像調整剤等を添加して構成することができる。
現像液のpHは特に規定はないがpH9〜13の範囲が
好ましい。
好ましい。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料を現像するのに好ま
しい現像液の構成物の一例は次の通りである。現像主薬
としてハイドロキノン20〜60g/αおよび1−7二
二ルー4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾ
リドン0.1〜2g/12又はl−7エニルー4.4−
ジメチル−3−ピラゾリドン0.1〜29/Q、現像液
保恒剤として亜硫酸ナトリウムlO〜200g/Qまた
は亜硫酸カリウムlO〜2009/(2,無機塩の現像
抑制剤として臭化ナトリウムや臭化カリウムI−LOy
/(1,現像促進効果を持つアルカノールアミンMl〜
50g/I2、有機抑制剤として例えば5−メチルベン
ゾトリアゾール0.05〜2g/+2.もしくは5−ニ
トロインダゾール0、O1〜2g/(2,バッファー剤
として炭酸ナトリウム1〜50yIQやリン酸水溶液(
1mof27Q) 10〜800mQ/4、キレート化
剤としてエチレンジアミン四酢酸2ナトリウム塩0.1
〜10y/Qを添加し、適当なアルカリ剤(例えば水酸
化カリウム)を用いてpHを11.0〜12.5に合せ
た現像液である。
しい現像液の構成物の一例は次の通りである。現像主薬
としてハイドロキノン20〜60g/αおよび1−7二
二ルー4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾ
リドン0.1〜2g/12又はl−7エニルー4.4−
ジメチル−3−ピラゾリドン0.1〜29/Q、現像液
保恒剤として亜硫酸ナトリウムlO〜200g/Qまた
は亜硫酸カリウムlO〜2009/(2,無機塩の現像
抑制剤として臭化ナトリウムや臭化カリウムI−LOy
/(1,現像促進効果を持つアルカノールアミンMl〜
50g/I2、有機抑制剤として例えば5−メチルベン
ゾトリアゾール0.05〜2g/+2.もしくは5−ニ
トロインダゾール0、O1〜2g/(2,バッファー剤
として炭酸ナトリウム1〜50yIQやリン酸水溶液(
1mof27Q) 10〜800mQ/4、キレート化
剤としてエチレンジアミン四酢酸2ナトリウム塩0.1
〜10y/Qを添加し、適当なアルカリ剤(例えば水酸
化カリウム)を用いてpHを11.0〜12.5に合せ
た現像液である。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、上述した現像液
で現像された後、定着、水洗、乾燥のプロセスを経て画
像を固定される。この時現像プロセスに於ける現像温度
と現像時間に対しては、特に制約はないが、現像温度は
20〜45°C1現像時間は15秒〜200秒の範囲が
好ましい。
で現像された後、定着、水洗、乾燥のプロセスを経て画
像を固定される。この時現像プロセスに於ける現像温度
と現像時間に対しては、特に制約はないが、現像温度は
20〜45°C1現像時間は15秒〜200秒の範囲が
好ましい。
以下実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
明はこれらに限定されるものではない。
実施例 1
40°Cに保ったゼラチン水溶液中に硝酸銀水溶液とハ
ライド水溶液(KBr 40mo(2%、 NacQ
60mor1%)とをpH3,OpAg7.7に保ちな
がらコンドロールドダブルジェット法により同時に60
分間で加え、平均粒径0.30μmの単分散塩臭化銀乳
剤を調製した。
ライド水溶液(KBr 40mo(2%、 NacQ
60mor1%)とをpH3,OpAg7.7に保ちな
がらコンドロールドダブルジェット法により同時に60
分間で加え、平均粒径0.30μmの単分散塩臭化銀乳
剤を調製した。
この乳剤を常法により脱塩、水洗を行った後、塩臭化銀
1モル当りチオ硫酸ナトリウム15+agを添加し、6
0°Cで60分間化学熟成を加えた。
1モル当りチオ硫酸ナトリウム15+agを添加し、6
0°Cで60分間化学熟成を加えた。
次に、この乳剤に6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3
゜3a、7−チトラザインデンをIg/Ag1モルを加
えた。
゜3a、7−チトラザインデンをIg/Ag1モルを加
えた。
増感色素として下記化合物(M)を300mg/ Ag
1モル、又、分子量約4000のポリエチレングリコー
ルを250mg/Ag1モル、本発明に係るヒドラジド
化合物と一般式CI)の化合物を表1に示す様に添加し
た。
1モル、又、分子量約4000のポリエチレングリコー
ルを250mg/Ag1モル、本発明に係るヒドラジド
化合物と一般式CI)の化合物を表1に示す様に添加し
た。
更に5−ニトロインタソールをl X 10−”モル/
Ag1モルとハイドロキノンを5 X 10−”モル/
Ag1モル、ブチルアクリレートラテックスポリマー及
び延展剤としてサポニン水溶液を加え、乳剤塗布液を調
製した。更にゼラチン水溶液に、延展剤としてl−デシ
ル−2−(3−インペンチル)サクシネート−2−スル
ホン酸ソーダ水溶液、マット剤として平均粒径3.02
mのメタクリル酸メチルポリマー 硬膜剤として2−ヒ
ドロキシ−4,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジン
ナトリウム塩を加え保護層用塗布液を調製し、上記乳剤
塗布液とともに、PETベース上に同時重層塗布乾燥し
た。このとき、ゼラチンの付量は乳剤層が2.5g/
l”、保護層が1.Og/ffl”、AgX粒子の付量
は銀量換算で3.5g/ m”、ブチルアクリレートラ
テックスポリマーの付量は2 g/ J、マット剤の付
量は30g/11”、硬膜剤の付量は乳剤層、保護層両
方込みのゼラチン付量に対して、2 g/ 100gゼ
ラチンであった。
Ag1モルとハイドロキノンを5 X 10−”モル/
Ag1モル、ブチルアクリレートラテックスポリマー及
び延展剤としてサポニン水溶液を加え、乳剤塗布液を調
製した。更にゼラチン水溶液に、延展剤としてl−デシ
ル−2−(3−インペンチル)サクシネート−2−スル
ホン酸ソーダ水溶液、マット剤として平均粒径3.02
mのメタクリル酸メチルポリマー 硬膜剤として2−ヒ
ドロキシ−4,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジン
ナトリウム塩を加え保護層用塗布液を調製し、上記乳剤
塗布液とともに、PETベース上に同時重層塗布乾燥し
た。このとき、ゼラチンの付量は乳剤層が2.5g/
l”、保護層が1.Og/ffl”、AgX粒子の付量
は銀量換算で3.5g/ m”、ブチルアクリレートラ
テックスポリマーの付量は2 g/ J、マット剤の付
量は30g/11”、硬膜剤の付量は乳剤層、保護層両
方込みのゼラチン付量に対して、2 g/ 100gゼ
ラチンであった。
(組成り)
純水(イオン交換水) 17 tan
1iitE酸(50%Vt/Vの水溶液)
4.7g硫酸アルミニウム (Al1.03換算含量が8.1%W/ V(7)水溶
液) 26.5g定着液の使用時に水500mQ中に
上記組成A1組成りの順に溶かし、14に仕上げて用い
た。この定着液のpHは酢酸で6に調整した。
1iitE酸(50%Vt/Vの水溶液)
4.7g硫酸アルミニウム (Al1.03換算含量が8.1%W/ V(7)水溶
液) 26.5g定着液の使用時に水500mQ中に
上記組成A1組成りの順に溶かし、14に仕上げて用い
た。この定着液のpHは酢酸で6に調整した。
得られた試料は感度及びコントラストを損なうことなく
、ペラパーフォグの発生を著しく抑制していることがわ
かる。尚、表1において、感度は相対感度で表している
。
、ペラパーフォグの発生を著しく抑制していることがわ
かる。尚、表1において、感度は相対感度で表している
。
〈現像液処方〉
ハイドロキノン 34gN−メチ
ル−p−アミノフェノール 0.23gエチレ
ンジアミン四酢酸2ナトリウム塩1g3−ジエチル−1
,2−プロパンジオール 15 g5−メチルベンツ
トリアゾール 0.4gNa1SO376g NaBr 3 g
NaCQ 1.3
g1111012/12リン酸溶液 4
00 rnQpi(11,5にするのに必要なNaOH
を加えた後、水でIQとする。
ル−p−アミノフェノール 0.23gエチレ
ンジアミン四酢酸2ナトリウム塩1g3−ジエチル−1
,2−プロパンジオール 15 g5−メチルベンツ
トリアゾール 0.4gNa1SO376g NaBr 3 g
NaCQ 1.3
g1111012/12リン酸溶液 4
00 rnQpi(11,5にするのに必要なNaOH
を加えた後、水でIQとする。
〈定着液処方〉
(組成A)
チオ硫酸アンモニウム
(72,5%W/V水溶液) 240
mQ亜硫酸ナトリウム 17 g
酢酸ナトリウム・3水塩 6.5g硼酸
6gクエン酸ナトリ
ウム・2水塩 2g上記No、1〜8の試料
を常法に従ってフィルムウェッジを通してタングステン
光源で段階露光を与えた後、下記に示す現像液で38℃
で30秒間現像し定漕、水洗及び乾燥の後、感度、コン
トラスト及びペラパーフォグを評価した。コントラスト
は特性曲線の直線部の煩き(tane値)で表し、ペラ
パーフォグの発生度合を(5)は全く発生なし、(4)
は−視野に1〜2ケ、(3)は少ないが低品位、(2)
は著しく発生の4段階にランク付けした。このようにし
て得られた結果を下記の表Iに示す。
mQ亜硫酸ナトリウム 17 g
酢酸ナトリウム・3水塩 6.5g硼酸
6gクエン酸ナトリ
ウム・2水塩 2g上記No、1〜8の試料
を常法に従ってフィルムウェッジを通してタングステン
光源で段階露光を与えた後、下記に示す現像液で38℃
で30秒間現像し定漕、水洗及び乾燥の後、感度、コン
トラスト及びペラパーフォグを評価した。コントラスト
は特性曲線の直線部の煩き(tane値)で表し、ペラ
パーフォグの発生度合を(5)は全く発生なし、(4)
は−視野に1〜2ケ、(3)は少ないが低品位、(2)
は著しく発生の4段階にランク付けした。このようにし
て得られた結果を下記の表Iに示す。
比較化合物
実施例 2
実施例Iと同様に40°Cに保ったゼラチン水溶液中に
硝酸銀水溶液とハライド水溶液(KBr 401110
12%。
硝酸銀水溶液とハライド水溶液(KBr 401110
12%。
NacQ60moQ%)とをI)Agを7.7. pH
3,0に保ちながらコンドロールドダブルジェット法に
より同時に60分間で加えた。この乳剤を常法により脱
塩、水洗を行った後、ゼラチンを加えて再分散を行い、
平均粒径0.30μmの単分散塩臭化銀乳剤Em−1を
調製した。次に水溶性イリジウム化合物であるヘキサク
ロロイリジウム(IV)酸カリウムI X 10−’モ
ル/AgX1モルをハライド水溶液に加えた以外はEm
−1と同様の方法により、平均粒径0.30μmの単分
散塩臭化銀乳剤Es−2を調製した。
3,0に保ちながらコンドロールドダブルジェット法に
より同時に60分間で加えた。この乳剤を常法により脱
塩、水洗を行った後、ゼラチンを加えて再分散を行い、
平均粒径0.30μmの単分散塩臭化銀乳剤Em−1を
調製した。次に水溶性イリジウム化合物であるヘキサク
ロロイリジウム(IV)酸カリウムI X 10−’モ
ル/AgX1モルをハライド水溶液に加えた以外はEm
−1と同様の方法により、平均粒径0.30μmの単分
散塩臭化銀乳剤Es−2を調製した。
続いて、水溶性ロジウム塩である三塩化ロジウム三水塩
2.28X 10−’モル/ AgX 1モルをハライ
ド水溶液に加えた以外はEm−1と同様の方法により、
平均粒径0.30μlの単分散塩臭化銀乳剤E+a−3
を調製した。これらE+a 1,2及び3の各乳剤に
実施例1と同様に化学熟成から同時重層塗布乾燥迄の操
作を施し、試料NO69〜No、14を得た。
2.28X 10−’モル/ AgX 1モルをハライ
ド水溶液に加えた以外はEm−1と同様の方法により、
平均粒径0.30μlの単分散塩臭化銀乳剤E+a−3
を調製した。これらE+a 1,2及び3の各乳剤に
実施例1と同様に化学熟成から同時重層塗布乾燥迄の操
作を施し、試料NO69〜No、14を得た。
以後、露光、現像及び評価も実施例1の方法に従って行
った。実験に使用しt;本発明の化合物の内容と評価の
結果を表2に示す。
った。実験に使用しt;本発明の化合物の内容と評価の
結果を表2に示す。
一7オグ抑制効果があることが確認できた。
実施例 3
実施例1において化合物〔1)のかわりに化合物(I[
)を用いる以外は、全く同様にして塗布、乾燥し、試料
を得た後、同様に露光処理し、評価した。
)を用いる以外は、全く同様にして塗布、乾燥し、試料
を得た後、同様に露光処理し、評価した。
試料内容と評価の結果を表3に示す。
実施例4
実施例1において化合物(I)のかわりに化合物(I[
[)を用いる以外は、全く同様にして塗布、乾燥し、試
料を得た後、同様に露光処理し、評価した。
[)を用いる以外は、全く同様にして塗布、乾燥し、試
料を得た後、同様に露光処理し、評価した。
試料内容と評価の結果を表4に示す。
表2から明らかな様に、本発明の化合物を用いた試料N
o、9.11.)3は、イリジウム、ロジウム等の金属
ドーピングした乳剤においても著しいペッパ表 4 表 5 実施例 5 実施例1において化合物CI)のかわりに化合物(IV
)を用いる以外は、全く同様にして塗布、乾燥し、試料
を得た後、同様に露光処理し、評価した。
o、9.11.)3は、イリジウム、ロジウム等の金属
ドーピングした乳剤においても著しいペッパ表 4 表 5 実施例 5 実施例1において化合物CI)のかわりに化合物(IV
)を用いる以外は、全く同様にして塗布、乾燥し、試料
を得た後、同様に露光処理し、評価した。
試料内容と評価の結果を表5に示す。
本発明のヒドラジド化合物を用いたハロゲン化銀写真感
光材料による硬調画像の形成により、硬調化を損なわず
にペラパーフォラグの発生が改良された。
光材料による硬調画像の形成により、硬調化を損なわず
にペラパーフォラグの発生が改良された。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 支持体上に少なくとも一層の感光性ハロゲン化銀乳剤層
を含む親水性コロイド層を塗設してなるハロゲン化銀写
真感光材料において、該感光性ハロゲン化銀乳剤層中に
ヒドラジン誘導体を含有し、該感光性ハロゲン化銀乳剤
層又は/及び親水性コロイド層中に下記一般式〔 I 〕
、〔II〕、〔III〕及び〔IV〕で表される化合物から選
ばれる少なくとも1種を含有することを特徴とするハロ
ゲン化銀写真感光材料。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Y_1、Y_2は−OH基又は−CH_2OH基
を表し、それぞれ同じものであってもよく異なっていて
もよい。Rは炭素数1〜3のアルキル基を表す。 一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R_1、R_2、R_3及びR_4は、それぞれ
同じか又は異なって水素原子或いは低級アルキル基を表
し、Zは▲数式、化学式、表等があります▼(nは0又
は1〜5の整数を表す。)▲数式、化学式、表等があり
ます▼(R_5、R_6はそれぞれ水素原子、メチル基
、エチル基又はプロピル基を表すが、R_5、R_6が
ともに水素原子であることはない。) −CH_2−O−CH_2−、−CH=CH−、−C≡
C−又は▲数式、化学式、表等があります▼を表す。 一般式〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Aは低級アルキレン基又は▲数式、化学式、表等
があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼で表され、 BとはOで結合しないポリアルキレンエーテル基、A′
は低級アルキレン基又は▲数式、化学式、表等がありま
す▼ ▲数式、化学式、表等があります▼で表されるポリアル
キレン エーテル基、但しAとA′は同時にポリアルキレンエー
テル基にはならない。pは2〜30を表す。 B、B′は−NH−又は−O−を表すが同時にB、B′
が−O−になることはない。 Rは低級アルキル基、フェニル基、アラルキル基又は−
(CH_2)_qCOOR′(但しR′は低級アルキル
基。 qは1〜3、Xは−S−、−O−、−CH_2−、▲数
式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等
があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼、で
表される2価の基、 (但しR″は低級アルキル基)を表す。 一般式〔IV〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Aは▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数
式、化学式、表等があります▼を表し、 Rは水素又は炭素数1〜10までのアルキル基を表す。 nは1又は2、mは平均重合度を表し、1〜50までの
整数を表す。 Mは水素原子又はアルカリ金属原子を表す。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63199083A JP2879341B2 (ja) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
EP19890114504 EP0354503A3 (en) | 1988-08-09 | 1989-08-05 | Light-sensitive silver halide photographic material |
US07/623,257 USH1091H (en) | 1988-08-09 | 1990-12-05 | Light-sensitive silver halide photographic material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63199083A JP2879341B2 (ja) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0247645A true JPH0247645A (ja) | 1990-02-16 |
JP2879341B2 JP2879341B2 (ja) | 1999-04-05 |
Family
ID=16401818
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63199083A Expired - Fee Related JP2879341B2 (ja) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2879341B2 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5417832A (en) * | 1977-07-11 | 1979-02-09 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Silver halide photographic material |
JPS60200250A (ja) * | 1984-03-23 | 1985-10-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 高コントラストネガ画像形成方法 |
US4693956A (en) * | 1984-11-16 | 1987-09-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Process for high contrast development of photographic elements |
JPS62262040A (ja) * | 1986-05-07 | 1987-11-14 | Konika Corp | 高感度ハロゲン化銀写真感光材料 |
-
1988
- 1988-08-09 JP JP63199083A patent/JP2879341B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5417832A (en) * | 1977-07-11 | 1979-02-09 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Silver halide photographic material |
JPS60200250A (ja) * | 1984-03-23 | 1985-10-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 高コントラストネガ画像形成方法 |
US4693956A (en) * | 1984-11-16 | 1987-09-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Process for high contrast development of photographic elements |
JPS62262040A (ja) * | 1986-05-07 | 1987-11-14 | Konika Corp | 高感度ハロゲン化銀写真感光材料 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2879341B2 (ja) | 1999-04-05 |
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