JPH0239573A - ゲートバイアホール型半導体素子 - Google Patents

ゲートバイアホール型半導体素子

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Publication number
JPH0239573A
JPH0239573A JP18841888A JP18841888A JPH0239573A JP H0239573 A JPH0239573 A JP H0239573A JP 18841888 A JP18841888 A JP 18841888A JP 18841888 A JP18841888 A JP 18841888A JP H0239573 A JPH0239573 A JP H0239573A
Authority
JP
Japan
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gate
electrode
drain electrode
viahole
gate electrode
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Pending
Application number
JP18841888A
Other languages
English (en)
Inventor
Akishige Nakajima
秋重 中島
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、超高周波領域における半導体素子構造に係り
、特に素子の高出力化に好適なゲートバイアホール型半
導体素子の構造に関する。
〔従来の技術〕
従来の高出力半導体素子構造は、特開昭53年−499
30号に記載のように、ストリップラインを用いて電力
合成型の平面構造をしていた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記従来技術では、(1)半導体素子と伝送路の接続に
は同軸−ストリップライン変換器が必要となることから
生ずる変換器部の損失、(2)素子位置に依存した位相
差補正の限界により、高出力化高利得化がさまたげられ
ていた。
本発明の目的は、同軸−ストリップライン変換部を無く
し、素子の位相差を生じさせない素子構造を提供するこ
とにある。
〔問題点を解決するための手段〕
上記目的は、ドレイン電極を中心に、ゲート・ソースを
放射状に対称な位置に設け、ゲート電極をバイアホール
構造を用いて基板の反対側に取り出し、上記半導体素子
を同軸線路ではさみ込み、ソース電極を外部導体に、ゲ
ート電極とドレイン電極を中心導体に各々接続すること
により、達成される。
〔作用〕
本発明によれば、半導体素子は、ストリップラインを介
することなく、同軸線路の中心導体とアース導体とに直
接接続される。それによって、同軸−ストリップ変換部
の損失はなくなり、高出力化が実現できる。
また、半導体素子を放射状に配置しであるため、素子の
位相差はゼロに近くなり、高出力化、高利得化が図られ
る。
〔実施例〕
以下、本発明の詳細な説明する。
第1図は、半導体基板4上に形成された素子の平面図で
ある。中心にドレイン電極3を設け、その回りに、円形
ゲート電極1.ソース電極2を放射状に対称の位置に設
けた。第2図は、第1図に示した素子の裏面である。円
形ゲート電極6は、バイアホールを介し、表面のゲート
電Vilと接続されている1本実施例によれば、入力信
号は各々のゲート電極に同位相で加えられ、増幅された
信号は、ドレイン電極に同位相で加えられ、利得の増加
、出力増大の効果がある。
第3図は、第1図に示した半導体素子を同軸線路にはさ
み込んだ構造の縦方向断面図である。ソース電極2は、
同軸線路外部導体9に接続されている。裏面ゲート電極
6は、入力側整合回路を組み込んだ同軸線路中心導体7
に接続されている6また。ドレイン電極3は、出力側整
合回路を組み込んだ同軸線路中心導体8に接続されてい
る。これにより、同軸線路−ストリップライン変換部が
無くなり、変換部損失をゼロにでき、利得増加が可能と
なる。
第4図は、デバイスチップ10を放射状位置に設けた時
の平面図である。基板11の中心にドレイン電極3を設
け、デバイスのドレイン電極と接続されている。基板1
1上のゲート電極は、基板に設けたスルーホールにより
基板ウラ面に引き出されており、上記ゲート電極とデバ
イスのゲート電極とは基板表面にて接続されている。基
板上ソース電極2は、デバイスのソース電極と接続され
ている。また、第3図に示した同軸線路と直結する構造
にできることら、変換部損失をゼロにし、出力電力を増
加でき、利得増加が可能となる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、同軸−ストリップライン変換部を介す
ることなく、同軸線路と半導体素子が直接接続でき、素
子の位相差をゼロにできるので、素子の高出力化、高利
得化が実現できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の平面図、第2図は。 第1図の裏面図、第3図は、第1図半導体素子を同軸線
路にはさみ込んだ構造の縦方向断面図、第4図は、デバ
イスチップを放射状に対称な位置に設けた時の平面図で
ある。 1・・・ゲート電極、2・・・ソース電極、3・・・ド
レイン電極、4・・・半導体基板、5・・・ゲートバイ
アホール。 6・・・ウラ面ゲート電極、7・・・入力側中心導体、
8・・・出力側中心導体、9・・・同軸外部導体、10
・・・デ107ハ1人す・/7゜ // 茎根

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.ドレイン電極を中心に、ゲート・ソースを放射状に
    対称な位置に設け、ゲート電極をバイアホール構造によ
    り基板の反対側に取り出して構成されたことを特徴とす
    るゲートバイアホール型半導体素子。
  2. 2.第1項記載の半導体素子において上記半導体素子を
    同軸線路の間にはさみ、ソース電極を外部導体に、ゲー
    ト電極とドレイン電極を中心導体に各々接続して構成さ
    れたことを特徴とするゲートバイアホール型半導体素子
JP18841888A 1988-07-29 1988-07-29 ゲートバイアホール型半導体素子 Pending JPH0239573A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06232180A (ja) * 1993-02-05 1994-08-19 Nec Corp 半導体装置
JP2006005005A (ja) * 2004-06-15 2006-01-05 Toshiba Corp 窒素化合物含有半導体装置
JP2018528611A (ja) * 2015-08-19 2018-09-27 レイセオン カンパニー ループ状に配列された電界効果トランジスタセルを有する電界効果トランジスタ

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JPH06232180A (ja) * 1993-02-05 1994-08-19 Nec Corp 半導体装置
JP2006005005A (ja) * 2004-06-15 2006-01-05 Toshiba Corp 窒素化合物含有半導体装置
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