JPH0238592B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0238592B2 JPH0238592B2 JP56148050A JP14805081A JPH0238592B2 JP H0238592 B2 JPH0238592 B2 JP H0238592B2 JP 56148050 A JP56148050 A JP 56148050A JP 14805081 A JP14805081 A JP 14805081A JP H0238592 B2 JPH0238592 B2 JP H0238592B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hexafluoropropene
- reaction
- hypohalite
- quaternary phosphonium
- phosphonium salt
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 22
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical compound FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- PGFXOWRDDHCDTE-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene oxide Chemical compound FC(F)(F)C1(F)OC1(F)F PGFXOWRDDHCDTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 150000004714 phosphonium salts Chemical group 0.000 claims description 6
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical group C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 4
- USFRYJRPHFMVBZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triphenyl)phosphanium;chloride Chemical group [Cl-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 USFRYJRPHFMVBZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 3
- SATVIFGJTRRDQU-UHFFFAOYSA-N potassium hypochlorite Chemical compound [K+].Cl[O-] SATVIFGJTRRDQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ORQYPOUSZINNCB-UHFFFAOYSA-N potassium;hypobromite Chemical compound [K+].Br[O-] ORQYPOUSZINNCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- -1 trifluoroethane Chemical class 0.000 description 2
- UJPMYEOUBPIPHQ-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoroethane Chemical compound CC(F)(F)F UJPMYEOUBPIPHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCEPGADSNJKOJK-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoroacetyl fluoride Chemical compound FC(=O)C(F)(F)F DCEPGADSNJKOJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 150000003983 crown ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- YSSSPARMOAYJTE-UHFFFAOYSA-N dibenzo-18-crown-6 Chemical compound O1CCOCCOC2=CC=CC=C2OCCOCCOC2=CC=CC=C21 YSSSPARMOAYJTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Chemical group 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Chemical group 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Epoxy Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はヘキサフルオロプロペンオキシドの製
法に関し、更に詳しくはヘキサフルオロプロペン
と次亜ハロゲン酸塩を反応させることから成るヘ
キサフルオロプロペンオキシドの製法に関する。 これまで、ヘキサフルオロプロペンオキシドの
製法として様々な方法が開発されており、それら
は概ねヘキサフルオロプロペンを原料とし、これ
に酸化剤を作用させて酸化する方法である。 酸化剤として過酸化水素を用いる方法がある。
この方法は、液相法であり、−30℃程度の低温が
必要である上、メタノールやアルカリを含む廃液
が大量に生成し、それらの処理が困難であるなど
工業上種々の問題がある。 酸化剤として酸素を用い、反応を気相で行う方
法も知られている。これらの方法では、ヘキサフ
ルオロプロペンおよび酸素の混合物に対し、紫外
線照射を行い、SiO2の様な固体触媒を用い、あ
るいはフルオロカーボン系媒体を用いて加熱する
ことにより反応促進をはかる。しかし、これらの
方法でもヘキサフルオロプロペンオキシドの他に
相当な量で炭酸ガス、トリフルオロ酢酸フルオラ
イドなどの分解生成物が生成するという問題があ
る。 これらの他、液相法として有機過酸化物を用い
る方法および陽極酸化による方法が知られている
が、これらも操作上の危険性や装置の繁雑性の点
で問題を有している。 さらに、ヘキサフルオロプロペンを、アセトニ
トリルまたはジグライムの存在下、水溶液中で次
亜塩素酸塩により酸化すると50〜55%というかな
り高い収率でヘキサフルオロプロペンオキシドが
生成することが知られている。しかし、この方法
を追試したところ、通常の反応条件ではほとんど
目的物質は得られず、上記収率を達成しようとす
ると激しく撹拌して24時間以上もの長時間の反応
を必要とし、従つて必ずしも工業的に利用できる
方法とはいいがたいことがわかつた。 本発明の目的は、前述の様な従来方法における
欠点を伴わないヘキサフルオロプロペンオキシド
の製法を提供することにある。 本発明の他の目的は、ヘキサフルオロプロペン
を次亜ハロゲン酸塩と反応させることによりヘキ
サフルオロプロペンオキシドを製造する方法を提
供することにある。 これらの目的は、ヘキサフルオロプロペンと次
亜ハロゲン酸塩を第四級ホスホニウム塩および/
または大環状エーテルの存在下に反応させる本発
明のヘキサフルオロプロペンオキシドの製法によ
り達成することができる。 本発明製法において、反応は好ましくはさらに
有機溶媒の存在下、次亜ハロゲン酸塩の水溶液を
用いて行われる。 本発明において、次亜ハロゲン酸塩は、式: M(OX)n 〔式中、Mはアルカリ金属またはアルカリ土類金
属;Xは塩素、臭素またはヨー素;およびnは1
または2を表わす。〕 で示される化合物を包含する。Mとしてはナトリ
ウムまたはカリウムが好ましい。Xとしては塩素
または臭素が好ましく、特に反応性および安定性
から塩素が好ましい。 反応溶媒は、次亜ハロゲン酸塩やヘキサフルオ
ロプロペン、さらには生成物であるヘキサフルオ
ロプロペンオキシドと反応しないことが必要であ
り、加えてヘキサフルオロプロペンの溶解度が高
く、また反応条件下で液体であることが好まし
い。従つて本発明製法では、、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素、クロルベン
ゼン、クロルトルエンなどのハロゲン化芳香族炭
化水素、クロロホルム、1,1,2―トリクロロ
―1,2,2―トリフルオロエタンなどのハロゲ
ン化低級脂肪族炭化水素、n―ヘプタンなどの好
ましくは炭素数5〜8の低級脂肪族炭化水素、ジ
オキサンなどのエーテル類、アセトニトリルなど
のニトリル類が好ましく用いられる。 第四級ホスホニウム塩としてはベンジルトリフ
エニルホスホニウムクロライドなどが挙げられ
る。 大環状エーテルとしては、ジベンゾ―18―クラ
ウン―6などのクラウンエーテルが用いられる。 ヘキサフルオロプロペンと次亜ハロゲン酸塩の
反応は種々の様式で行うことができ、たとえば次
亜ハロゲン酸塩水溶液と溶媒の混合物にヘキサフ
ルオロプロペンを加えてもよく、逆に溶媒とヘキ
サフルオロプロペンの混合系に次亜ハロゲン酸塩
水溶液を加えて行つてもよい。また、次亜ハロゲ
ン酸塩は苛性アルカリ水溶液にハロゲンを反応さ
せることにより容易に生成するものであるから、
苛性アルカリ水溶液と溶媒との混合物にヘキサフ
ルオロプロペンとハロゲンたとえば塩素を同時に
加える方法で行なつてもよい。 本発明方法では、反応が進行するに従い水相の
PHが次第に低下し、反応開始後2〜3時間で反応
があまり進まなくなることがある。この時点で反
応を終了しても溶媒や反応温度などの反応条件の
選択により、かなりの収率で目的物を得ることが
できる。しかし、さらに収率を高めるために水相
のPHを7〜10程度に保つことが好ましく、アルカ
リを反応中徐々に添加する方法や、炭酸カルシウ
ムの様にPHが低下すると化学反応によりPHのそれ
以上の低下を抑制するような化合物を共存させて
おく方法などを採用し得る。 反応温度は、通常−30〜40℃、好ましくは−20
〜30℃が採用される。−30℃以下では反応速度が
遅くなりすぎ、一方40℃以上では副生物が多くな
つて好ましくない。 ヘキサフルオロプロペンと次亜ハロゲン酸塩の
使用量は、前者1モルに対し、後者2〜3モルの
割合で反応系中に存在する様にするのが好まし
い。 有機溶媒は、ヘキサフルオロプロペン1当り
1〜80mlの割合で用いるのが好ましい。 次に実施例および比較例を示し、本発明をより
具体的に説明する。 実施例 1 還流冷却器、温度計、吹きこみ管および撹拌器
を備えた200ml四ツ口フラスコに、20%水溶化ナ
トリウム水溶液100mlを仕込み、−10〜−20℃に保
ちながら、塩素ガスをPHが10〜11になるまで吹込
んだ。トルエン40mlおよびベンジルトリフエニル
ホスホニウムクロライド0.45gを加え、激しく撹
拌しながらヘキサフルオロプロペン3.2を−15
〜0℃で40分間にわたり加えた後、ドライアイス
で冷却還流しながら2時間撹拌を続けた。反応終
了後、フラスコ内の反応ガスをドライアイス―ア
セトンで冷却したトツプに捕集して液状物15.6g
を得た。この物質をガスクロマトグラフイにより
分析した結果から、ヘキサフルオロプロペンの転
化率は62%およびヘキサフルオロプロペンオキシ
ドの収率は12%と算出された。 実施例 2〜5 溶媒および添加物第四級ホスホニウム塩または
大環状エーテル)として第1表に示す化合物を用
い、同表に示す反応条件で反応を行う以外は実施
例1と同様の手順を繰り返して同表に示す結果を
得た。 比較例 1 実施例1の手順に従つて次亜塩素酸ナトリウム
を系中に合成した後、アセトニトリル5mlを加
え、ヘキサフルオロプロペン3.3を仕込み、−20
℃で2時間、更に15℃で2時間撹拌を続けた。ヘ
キサフルオロプロペンオキシドの生成は、痕跡量
にすぎなかつた。 【表】
法に関し、更に詳しくはヘキサフルオロプロペン
と次亜ハロゲン酸塩を反応させることから成るヘ
キサフルオロプロペンオキシドの製法に関する。 これまで、ヘキサフルオロプロペンオキシドの
製法として様々な方法が開発されており、それら
は概ねヘキサフルオロプロペンを原料とし、これ
に酸化剤を作用させて酸化する方法である。 酸化剤として過酸化水素を用いる方法がある。
この方法は、液相法であり、−30℃程度の低温が
必要である上、メタノールやアルカリを含む廃液
が大量に生成し、それらの処理が困難であるなど
工業上種々の問題がある。 酸化剤として酸素を用い、反応を気相で行う方
法も知られている。これらの方法では、ヘキサフ
ルオロプロペンおよび酸素の混合物に対し、紫外
線照射を行い、SiO2の様な固体触媒を用い、あ
るいはフルオロカーボン系媒体を用いて加熱する
ことにより反応促進をはかる。しかし、これらの
方法でもヘキサフルオロプロペンオキシドの他に
相当な量で炭酸ガス、トリフルオロ酢酸フルオラ
イドなどの分解生成物が生成するという問題があ
る。 これらの他、液相法として有機過酸化物を用い
る方法および陽極酸化による方法が知られている
が、これらも操作上の危険性や装置の繁雑性の点
で問題を有している。 さらに、ヘキサフルオロプロペンを、アセトニ
トリルまたはジグライムの存在下、水溶液中で次
亜塩素酸塩により酸化すると50〜55%というかな
り高い収率でヘキサフルオロプロペンオキシドが
生成することが知られている。しかし、この方法
を追試したところ、通常の反応条件ではほとんど
目的物質は得られず、上記収率を達成しようとす
ると激しく撹拌して24時間以上もの長時間の反応
を必要とし、従つて必ずしも工業的に利用できる
方法とはいいがたいことがわかつた。 本発明の目的は、前述の様な従来方法における
欠点を伴わないヘキサフルオロプロペンオキシド
の製法を提供することにある。 本発明の他の目的は、ヘキサフルオロプロペン
を次亜ハロゲン酸塩と反応させることによりヘキ
サフルオロプロペンオキシドを製造する方法を提
供することにある。 これらの目的は、ヘキサフルオロプロペンと次
亜ハロゲン酸塩を第四級ホスホニウム塩および/
または大環状エーテルの存在下に反応させる本発
明のヘキサフルオロプロペンオキシドの製法によ
り達成することができる。 本発明製法において、反応は好ましくはさらに
有機溶媒の存在下、次亜ハロゲン酸塩の水溶液を
用いて行われる。 本発明において、次亜ハロゲン酸塩は、式: M(OX)n 〔式中、Mはアルカリ金属またはアルカリ土類金
属;Xは塩素、臭素またはヨー素;およびnは1
または2を表わす。〕 で示される化合物を包含する。Mとしてはナトリ
ウムまたはカリウムが好ましい。Xとしては塩素
または臭素が好ましく、特に反応性および安定性
から塩素が好ましい。 反応溶媒は、次亜ハロゲン酸塩やヘキサフルオ
ロプロペン、さらには生成物であるヘキサフルオ
ロプロペンオキシドと反応しないことが必要であ
り、加えてヘキサフルオロプロペンの溶解度が高
く、また反応条件下で液体であることが好まし
い。従つて本発明製法では、、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素、クロルベン
ゼン、クロルトルエンなどのハロゲン化芳香族炭
化水素、クロロホルム、1,1,2―トリクロロ
―1,2,2―トリフルオロエタンなどのハロゲ
ン化低級脂肪族炭化水素、n―ヘプタンなどの好
ましくは炭素数5〜8の低級脂肪族炭化水素、ジ
オキサンなどのエーテル類、アセトニトリルなど
のニトリル類が好ましく用いられる。 第四級ホスホニウム塩としてはベンジルトリフ
エニルホスホニウムクロライドなどが挙げられ
る。 大環状エーテルとしては、ジベンゾ―18―クラ
ウン―6などのクラウンエーテルが用いられる。 ヘキサフルオロプロペンと次亜ハロゲン酸塩の
反応は種々の様式で行うことができ、たとえば次
亜ハロゲン酸塩水溶液と溶媒の混合物にヘキサフ
ルオロプロペンを加えてもよく、逆に溶媒とヘキ
サフルオロプロペンの混合系に次亜ハロゲン酸塩
水溶液を加えて行つてもよい。また、次亜ハロゲ
ン酸塩は苛性アルカリ水溶液にハロゲンを反応さ
せることにより容易に生成するものであるから、
苛性アルカリ水溶液と溶媒との混合物にヘキサフ
ルオロプロペンとハロゲンたとえば塩素を同時に
加える方法で行なつてもよい。 本発明方法では、反応が進行するに従い水相の
PHが次第に低下し、反応開始後2〜3時間で反応
があまり進まなくなることがある。この時点で反
応を終了しても溶媒や反応温度などの反応条件の
選択により、かなりの収率で目的物を得ることが
できる。しかし、さらに収率を高めるために水相
のPHを7〜10程度に保つことが好ましく、アルカ
リを反応中徐々に添加する方法や、炭酸カルシウ
ムの様にPHが低下すると化学反応によりPHのそれ
以上の低下を抑制するような化合物を共存させて
おく方法などを採用し得る。 反応温度は、通常−30〜40℃、好ましくは−20
〜30℃が採用される。−30℃以下では反応速度が
遅くなりすぎ、一方40℃以上では副生物が多くな
つて好ましくない。 ヘキサフルオロプロペンと次亜ハロゲン酸塩の
使用量は、前者1モルに対し、後者2〜3モルの
割合で反応系中に存在する様にするのが好まし
い。 有機溶媒は、ヘキサフルオロプロペン1当り
1〜80mlの割合で用いるのが好ましい。 次に実施例および比較例を示し、本発明をより
具体的に説明する。 実施例 1 還流冷却器、温度計、吹きこみ管および撹拌器
を備えた200ml四ツ口フラスコに、20%水溶化ナ
トリウム水溶液100mlを仕込み、−10〜−20℃に保
ちながら、塩素ガスをPHが10〜11になるまで吹込
んだ。トルエン40mlおよびベンジルトリフエニル
ホスホニウムクロライド0.45gを加え、激しく撹
拌しながらヘキサフルオロプロペン3.2を−15
〜0℃で40分間にわたり加えた後、ドライアイス
で冷却還流しながら2時間撹拌を続けた。反応終
了後、フラスコ内の反応ガスをドライアイス―ア
セトンで冷却したトツプに捕集して液状物15.6g
を得た。この物質をガスクロマトグラフイにより
分析した結果から、ヘキサフルオロプロペンの転
化率は62%およびヘキサフルオロプロペンオキシ
ドの収率は12%と算出された。 実施例 2〜5 溶媒および添加物第四級ホスホニウム塩または
大環状エーテル)として第1表に示す化合物を用
い、同表に示す反応条件で反応を行う以外は実施
例1と同様の手順を繰り返して同表に示す結果を
得た。 比較例 1 実施例1の手順に従つて次亜塩素酸ナトリウム
を系中に合成した後、アセトニトリル5mlを加
え、ヘキサフルオロプロペン3.3を仕込み、−20
℃で2時間、更に15℃で2時間撹拌を続けた。ヘ
キサフルオロプロペンオキシドの生成は、痕跡量
にすぎなかつた。 【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ヘキサフルオロプロペンと次亜ハロゲン酸塩
を第四級ホスホニウム塩および/または大環状エ
ーテルの存在下に反応させることを特徴とするヘ
キサフルオロプロペンオキシドの製法。 2 ヘキサフルオロプロペンと次亜ハロゲン酸塩
水溶液を有機溶媒ならびに第四級ホスホニウム塩
および/または大環状エーテルの存在下に反応さ
せる特許請求の範囲第1項記載の製法。 3 第四級ホスホニウム塩がベンジルトリフエニ
ルホスホニウムクロライドである特許請求の範囲
第1項または第2項記載の製法。 4 次亜ハロゲン酸塩が次亜塩素酸ナトリウムも
しくはカリウムまたは次亜臭素酸ナトリウムもし
くはカリウムである特許請求の範囲第1項または
第2項記載の製法。 5 反応温度が−30〜40℃である特許請求の範囲
第1項または第2項記載の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56148050A JPS5849372A (ja) | 1981-09-19 | 1981-09-19 | ヘキサフルオロプロペンオキシドの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56148050A JPS5849372A (ja) | 1981-09-19 | 1981-09-19 | ヘキサフルオロプロペンオキシドの製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5849372A JPS5849372A (ja) | 1983-03-23 |
JPH0238592B2 true JPH0238592B2 (ja) | 1990-08-31 |
Family
ID=15444019
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56148050A Granted JPS5849372A (ja) | 1981-09-19 | 1981-09-19 | ヘキサフルオロプロペンオキシドの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5849372A (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01193256A (ja) * | 1981-01-12 | 1989-08-03 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法 |
JPS58113187A (ja) * | 1981-12-26 | 1983-07-05 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ヘキサフルオロプロピレンオキシドを製造する方法 |
JPH01246270A (ja) * | 1989-02-03 | 1989-10-02 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ヘキサフルオロプロピレンオキシドの合成法 |
JPH04338380A (ja) * | 1991-05-14 | 1992-11-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 新規含フッ素エポキシ化合物 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57183773A (en) * | 1981-05-06 | 1982-11-12 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Preparation of hexafluoropropylene oxide |
JPS58105978A (ja) * | 1981-12-19 | 1983-06-24 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法 |
-
1981
- 1981-09-19 JP JP56148050A patent/JPS5849372A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57183773A (en) * | 1981-05-06 | 1982-11-12 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Preparation of hexafluoropropylene oxide |
JPS58105978A (ja) * | 1981-12-19 | 1983-06-24 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5849372A (ja) | 1983-03-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SU1470176A3 (ru) | Способ получени фтороксигалосоединений | |
CN102105444B (zh) | 全氟烷基亚磺酸盐的制造方法 | |
JPH0238592B2 (ja) | ||
JPS61277645A (ja) | ヘキサフルオロアセトンの製造法 | |
JP3857369B2 (ja) | 塩素化炭化水素の製造方法 | |
JP2514368B2 (ja) | ヘキサフルオロアセトンまたはその水和物の製造法 | |
US4945186A (en) | Method of producing 3-bromobenzaldehyde | |
JPH03220171A (ja) | スルホニル酸の製造方法 | |
JPS61268641A (ja) | 3,3′,5,5′−テトラメチル−4,4′−ジヒドロキシジフエニルの製造法 | |
US5144067A (en) | Process for the coproduction of alkyl iodides and alpha-iodocarboxylic acids and/or anhydrides thereof | |
Gero et al. | Halogenation of 2-Hydroxynicotinic Acid | |
JP2001322975A (ja) | パーフルオロアルキルスルホン酸塩の製造方法 | |
CN113563235B (zh) | 一种3-(卤代苯氧基)苯磺酰氯衍生物的合成方法 | |
JP2785391B2 (ja) | ビス(4―ヒドロキシー3,5―ジブロモフェニル)スルホンの製造方法 | |
JPH0723332B2 (ja) | 1,3−ジクロル−2−プロパノ−ルの製造法 | |
KR100584985B1 (ko) | 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르의 제조방법 | |
JP2584670B2 (ja) | 芳香族アルデヒド類の製法 | |
JP2023179533A (ja) | カルボニル化合物の製造方法 | |
JP4053685B2 (ja) | 3級炭素塩素化炭化水素の製造方法 | |
JP4248693B2 (ja) | 3−ヒドロキシ−1−シクロアルケンの製造法 | |
JP4841032B2 (ja) | 2−メトキシ−4−ニトロベンツアルデヒドの製造方法 | |
JPH09227434A (ja) | 6−ブロモ−2−ナフトールの製造方法 | |
JP2544201B2 (ja) | スルホキシド類の製法 | |
JP4121497B2 (ja) | 出発物質としてビウレットを用いたヒドラゾジカルボンアミドの製造方法 | |
JP2002167349A (ja) | 4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテルの製造方法 |