JP2785391B2 - ビス（４―ヒドロキシー３，５―ジブロモフェニル）スルホンの製造方法 - Google Patents
ビス（４―ヒドロキシー３，５―ジブロモフェニル）スルホンの製造方法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C315/00—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides
- C07C315/04—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides by reactions not involving the formation of sulfone or sulfoxide groups
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
- C07C317/16—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
- C07C317/22—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton with sulfone or sulfoxide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ビス（４−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフ
ェニル）スルホン（以下、TBSと略記する）を高収率か
つ高純度で得るための製造方法に関するものである。
ェニル）スルホン（以下、TBSと略記する）を高収率か
つ高純度で得るための製造方法に関するものである。
TBSは、ポリオレフィン樹脂等の難燃剤及び難燃剤の
中間体として有用なものであり、特に水酸基をアリルエ
−テル化し、ついでそのアリル基を臭素化して得られる
ビス（3,5−ジブロモ−４−ジブロモプロポキシフェニ
ル）スルホンは、ポリプロピレン等の難燃剤として極め
て有用であることが特公昭50−35103号、特公昭50−236
93号などに述べられている。
中間体として有用なものであり、特に水酸基をアリルエ
−テル化し、ついでそのアリル基を臭素化して得られる
ビス（3,5−ジブロモ−４−ジブロモプロポキシフェニ
ル）スルホンは、ポリプロピレン等の難燃剤として極め
て有用であることが特公昭50−35103号、特公昭50−236
93号などに述べられている。
従来、TBSを製造する方法としては、水／アルコ−ル
等の混合溶媒中でビス（４−ヒドロキシフェニル）スル
ホン（以下、BPSと略記する）を臭素で臭素化して製造
する方法が知られている。
等の混合溶媒中でビス（４−ヒドロキシフェニル）スル
ホン（以下、BPSと略記する）を臭素で臭素化して製造
する方法が知られている。
しかし、この方法は反応系中に副生する臭化水素が多
量に蓄積するため、BPSの臭素化反応速度が極端に低下
し、TBSが低純度なものしか得られないといった問題を
有していた。
量に蓄積するため、BPSの臭素化反応速度が極端に低下
し、TBSが低純度なものしか得られないといった問題を
有していた。
この臭化水素の除去方法には、過酸化水素、塩素、次
亜塩素酸ナトリウム等の酸化剤を添加して、臭化水素を
遊離臭素として回収する方法が知られている（特開昭54
−39044号）。しかしながら、この方法に於いても以下
に示す様な問題点を有するため、工業的規模のプロセス
としては必ずしも未だ満足出来るものではなかった。
亜塩素酸ナトリウム等の酸化剤を添加して、臭化水素を
遊離臭素として回収する方法が知られている（特開昭54
−39044号）。しかしながら、この方法に於いても以下
に示す様な問題点を有するため、工業的規模のプロセス
としては必ずしも未だ満足出来るものではなかった。
過酸化水素による除去：工業的に高価格であり、また
毒性、危険性が高い。
毒性、危険性が高い。
塩素による除去：塩素置換体が生成しやすいため、目
的物が低純度となる。
的物が低純度となる。
次亜塩素酸ナトリウムによる除去：非常に不安定なた
め、工業的に用いるには困難を要する。
め、工業的に用いるには困難を要する。
本発明の目的は、酸化剤の添加を必要としないで高純
度かつ高収率にTBSを製造する工業的な方法を提供する
ことにある。
度かつ高収率にTBSを製造する工業的な方法を提供する
ことにある。
〔課題を解決するための手段〕 本発明者らは、この様な従来技術において工業的に未
だ満足できなかった問題点を解消すべく鋭意検討を行っ
た。その結果、BPSを水／アルコ−ル混合溶媒中、臭素
で臭素化する方法に於いて、臭素と無機金属塩基をBPS
に対して一定量の範囲で添加して反応を行うと、著しい
反応加速が見られ、従来の方法よりも高純度なTBSを高
収率で得られることを見出だし、本発明を完成するに至
った。
だ満足できなかった問題点を解消すべく鋭意検討を行っ
た。その結果、BPSを水／アルコ−ル混合溶媒中、臭素
で臭素化する方法に於いて、臭素と無機金属塩基をBPS
に対して一定量の範囲で添加して反応を行うと、著しい
反応加速が見られ、従来の方法よりも高純度なTBSを高
収率で得られることを見出だし、本発明を完成するに至
った。
すなわち、本発明の要旨は、BPSを、臭素により臭素
化しTBSを製造する方法に於いて、BPSを含むアルコ−ル
／水混合溶媒中にBPS1モル当り4.0〜5.0モルの臭素と2.
0〜4.0グラム当量の無機金属塩基を添加し反応させるこ
とを特徴とするTBSの製造方法にある。
化しTBSを製造する方法に於いて、BPSを含むアルコ−ル
／水混合溶媒中にBPS1モル当り4.0〜5.0モルの臭素と2.
0〜4.0グラム当量の無機金属塩基を添加し反応させるこ
とを特徴とするTBSの製造方法にある。
以下その詳細について説明する。
本発明の方法は、次の反応式を用いて説明することが
出来る。
出来る。
BPSを水／アルコ−ル混合溶媒中、臭素を用いて臭素
化した場合、上述した様に反応系中に副生する臭化水素
が多量に蓄積するため、BPSの臭素化速度が極端に低下
し、低純度なTBSしか得られない。
化した場合、上述した様に反応系中に副生する臭化水素
が多量に蓄積するため、BPSの臭素化速度が極端に低下
し、低純度なTBSしか得られない。
しかしながら、臭素と無機塩基をBPSに対して一定の
範囲で添加して臭素化反応を行う本発明の方法では、酸
化剤を添加しなくとも特異的に臭素化速度が加速され、
高純度なTBSを高収率で得ることが出来る。
範囲で添加して臭素化反応を行う本発明の方法では、酸
化剤を添加しなくとも特異的に臭素化速度が加速され、
高純度なTBSを高収率で得ることが出来る。
この理由は必ずしも明確ではないが、副生する臭化水
素をアルカリで中和除去することにより、BPSの水酸基
の解離が著しく促進され、その結果、芳香族環の電子密
度が高まり、ブロモカチオンの親電子置換反応がより加
速されるためと考えられる。
素をアルカリで中和除去することにより、BPSの水酸基
の解離が著しく促進され、その結果、芳香族環の電子密
度が高まり、ブロモカチオンの親電子置換反応がより加
速されるためと考えられる。
本発明の方法において使用される溶媒は、通常、水／
アルコ−ルの混合溶媒が選ばれる。アルコ−ルとして
は、例えば、メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−
ル、ｉ−プロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、sec−ブタノ
−ル、ｔ−ブタノ−ル等が挙げられるが、これらの中で
も、メタノ−ル、エタノ−ル、ｉ−プロパノ−ルが特に
好ましい。尚、溶媒中のBPSの基質濃度は、格別の限定
はないが、通常、約10〜30重量％程度のものを用いる。
アルコ−ルの混合溶媒が選ばれる。アルコ−ルとして
は、例えば、メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−
ル、ｉ−プロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、sec−ブタノ
−ル、ｔ−ブタノ−ル等が挙げられるが、これらの中で
も、メタノ−ル、エタノ−ル、ｉ−プロパノ−ルが特に
好ましい。尚、溶媒中のBPSの基質濃度は、格別の限定
はないが、通常、約10〜30重量％程度のものを用いる。
本発明の方法において使用される臭素の使用量は、BP
S1モルに対して4.0〜5.0モルであり、好ましくは4.1〜
4.5モルである。4.0モル未満ではTBSの収率が低く、5.0
モル以上加えても反応速度の向上は認められない。
S1モルに対して4.0〜5.0モルであり、好ましくは4.1〜
4.5モルである。4.0モル未満ではTBSの収率が低く、5.0
モル以上加えても反応速度の向上は認められない。
臭素の添加は滴下により行うが、その滴下速度はBPS1
モル当たり５モル／時間以下であり、好ましくは１〜２
モル／時間程度が選ばれる。臭素の滴下速度が５モル／
時間以上の場合、反応時の発熱が激しくなるため好まし
くない。
モル当たり５モル／時間以下であり、好ましくは１〜２
モル／時間程度が選ばれる。臭素の滴下速度が５モル／
時間以上の場合、反応時の発熱が激しくなるため好まし
くない。
本発明の方法において使用される無機金属塩基は、ア
ルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸
塩または炭酸水素塩であり、例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム等を挙げることが出来る。これらの中
でも、工業的に安価な水酸化ナトリウムが特に好まし
い。
ルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸
塩または炭酸水素塩であり、例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム等を挙げることが出来る。これらの中
でも、工業的に安価な水酸化ナトリウムが特に好まし
い。
この無機金属塩基の使用量については、BPS1モルに対
して2.0〜4.0グラム当量であり、好ましくは3.5〜4.0グ
ラム当量である。2.0グラム当量未満ではTBSの収率が低
く、4.0グラム当量以上加えた場合、純度低下及び着色
の原因となるため、好ましくない。
して2.0〜4.0グラム当量であり、好ましくは3.5〜4.0グ
ラム当量である。2.0グラム当量未満ではTBSの収率が低
く、4.0グラム当量以上加えた場合、純度低下及び着色
の原因となるため、好ましくない。
無機金属塩基の添加方法は、特に限定はなく、反応の
初期に一括して添加する方法、臭素と交互に滴下または
臭素と同時に滴下する方法等が挙げられる。尚、これら
の添加方法の中でも臭素と交互に滴下または臭素と滴下
速度を合わせて同時に滴下する方法は反応成績の高さ等
から、特に好ましいものである。尚、無機金属塩基の滴
下速度は、中和熱の蓄積を防ぐために、BPS1モル当たり
10モル／時間以下程度が選ばれる。
初期に一括して添加する方法、臭素と交互に滴下または
臭素と同時に滴下する方法等が挙げられる。尚、これら
の添加方法の中でも臭素と交互に滴下または臭素と滴下
速度を合わせて同時に滴下する方法は反応成績の高さ等
から、特に好ましいものである。尚、無機金属塩基の滴
下速度は、中和熱の蓄積を防ぐために、BPS1モル当たり
10モル／時間以下程度が選ばれる。
反応温度は、臭素と無機金属塩基の添加時に０〜40℃
程度であることが選ばれる。０℃未満では反応が極端に
遅く、40℃以上の場合、結晶の着色の原因となるため好
ましくない。
程度であることが選ばれる。０℃未満では反応が極端に
遅く、40℃以上の場合、結晶の着色の原因となるため好
ましくない。
また、滴下終了後、反応を完結するために更に約40〜
60℃程度で少なくとも１時間以上熟成を行うことが必要
である。
60℃程度で少なくとも１時間以上熟成を行うことが必要
である。
本発明において得られるTBSの結晶を含む反応液は、
濾過を行い、水洗を行った後、乾燥して製品を得る。得
られたTBSの結晶は、高純度なものであり、そのまま特
別な精製工程なしでポリオレフィン樹脂等の難燃剤及び
難燃剤の原料として使用できる。
濾過を行い、水洗を行った後、乾燥して製品を得る。得
られたTBSの結晶は、高純度なものであり、そのまま特
別な精製工程なしでポリオレフィン樹脂等の難燃剤及び
難燃剤の原料として使用できる。
以上の説明から明らかなように本発明によれば、臭素
と無機塩基をBPSに対して一定の範囲で添加して臭素化
反応を行うことにより、従来の方法よりも短時間のうち
に高純度なTBSを高収率で製造することが出来る。
と無機塩基をBPSに対して一定の範囲で添加して臭素化
反応を行うことにより、従来の方法よりも短時間のうち
に高純度なTBSを高収率で製造することが出来る。
以下実施例によりさらに説明するが、本発明はこれら
に限定されるものではない。
に限定されるものではない。
（実施例１） 温度計、撹拌翼及び冷却管を有する容量300mlの四つ
口フラスコに、メタノ−ル110g、水9gを仕込み、さらに
BPS25.0g（100mmol）を加えて溶解した。溶媒中のBPSの
基質濃度は、21重量％に相当する。
口フラスコに、メタノ−ル110g、水9gを仕込み、さらに
BPS25.0g（100mmol）を加えて溶解した。溶媒中のBPSの
基質濃度は、21重量％に相当する。
次に、臭素33.6g（210mmol）を室温下、1.5時間かけ
て滴下し、滴下後10分間そのままの温度で撹拌を行っ
た。次いで48％NaOH水溶液15.0g（180mmol）を同様に室
温下、30分かけて滴下した。
て滴下し、滴下後10分間そのままの温度で撹拌を行っ
た。次いで48％NaOH水溶液15.0g（180mmol）を同様に室
温下、30分かけて滴下した。
その後、再度臭素33.6g（210mmol）及び48％NaOH水溶
液15.0g（180mmol）を先と同様の滴下条件で滴下した。
液15.0g（180mmol）を先と同様の滴下条件で滴下した。
尚、臭素及びNaOHの合計の仕込み量は、BPS1モルに対
してそれぞれ4.2モル、3.6グラム当量に相当する。
してそれぞれ4.2モル、3.6グラム当量に相当する。
滴下終了後、更に約45℃で２時間熟成反応を行った。
反応終了後、室温まで冷却し、過剰の残存臭素をヒド
ラジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さら
に水洗を行い、乾燥させて白色結晶のTBS55.9gを得た。
ラジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さら
に水洗を行い、乾燥させて白色結晶のTBS55.9gを得た。
この単離されたTBSの結晶について、液体クロマトグ
ラフィ−による分析を行ったところ、BPSの転化率は100
％、TBSの単離結晶純度は93.5％、TBS収率は純分計算で
92.3％であった。
ラフィ−による分析を行ったところ、BPSの転化率は100
％、TBSの単離結晶純度は93.5％、TBS収率は純分計算で
92.3％であった。
尚、濾液中には目的物であるTBSはまったく溶解して
いなかった。
いなかった。
この反応条件及び結果を表１に示す。
（実施例２〜４） 実施例１に準じて、300mlの四つ口フラスコに表１に
示した組成で原料を仕込み、表１の反応条件で反応を行
った。実施例１と同様の後処理を実施し、TBSを得た。
得られた結果を表１に示す。
示した組成で原料を仕込み、表１の反応条件で反応を行
った。実施例１と同様の後処理を実施し、TBSを得た。
得られた結果を表１に示す。
（実施例５） 温度計、撹拌翼及び冷却管を有する容量300mlの四つ
口フラスコに、メタノ−ル110g、水9gを仕込み、さらに
BPS25.0g（100mmol）を加えて溶解した。溶媒中のBPSの
基質濃度は、21重量％に相当する。
口フラスコに、メタノ−ル110g、水9gを仕込み、さらに
BPS25.0g（100mmol）を加えて溶解した。溶媒中のBPSの
基質濃度は、21重量％に相当する。
次に、臭素67.2g（420mmol）及び48％NaOH水溶液30.0
g（360mmol）を、室温下、同時に３時間かけて滴下し
た。
g（360mmol）を、室温下、同時に３時間かけて滴下し
た。
尚、臭素及びNaOHの合計の仕込み量は、BPS1モルに対
してそれぞれ4.2モル、3.6グラム当量に相当する。
してそれぞれ4.2モル、3.6グラム当量に相当する。
滴下終了後、更に約45℃で２時間熟成反応を行った。
反応終了後、室温まで冷却し、過剰の残存臭素をヒド
ラジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さら
に水洗を行い、乾燥させて白色結晶のTBS55.5gを得た。
ラジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さら
に水洗を行い、乾燥させて白色結晶のTBS55.5gを得た。
この単離されたTBSの結晶について、液体クロマトグ
ラフィーによる分析を行ったところ、BPSの転化率は100
％、TBSの単離結晶純度は93.9％、TBS収率は純分計算で
92.1％であった。
ラフィーによる分析を行ったところ、BPSの転化率は100
％、TBSの単離結晶純度は93.9％、TBS収率は純分計算で
92.1％であった。
尚、濾液中には目的物であるTBSはまったく溶解して
いなかった。
いなかった。
この反応条件及び結果を表１に示す。
（実施例６） 温度計、撹拌翼及び冷却管を有する容量300mlの四つ
口フラスコに、メタノ−ル110g、水9gを仕込み、さらに
BPS25.0g（100mmol）及び48％NaOH水溶液30.0g（360mmo
l）を加えて溶解した。溶媒中のBPSの基質濃度は、21重
量％に相当する。また、NaOHの仕込み量は、BPS1モルに
対して3.6グラム当量に相当する。
口フラスコに、メタノ−ル110g、水9gを仕込み、さらに
BPS25.0g（100mmol）及び48％NaOH水溶液30.0g（360mmo
l）を加えて溶解した。溶媒中のBPSの基質濃度は、21重
量％に相当する。また、NaOHの仕込み量は、BPS1モルに
対して3.6グラム当量に相当する。
次に、臭素67.2g（420mmol）を室温下、３時間かけて
滴下し、滴下終了後、更に約45℃で２時間熟成反応を行
った。尚、臭素の仕込み量は、BPS1モルに対して4.2モ
ルに相当する。
滴下し、滴下終了後、更に約45℃で２時間熟成反応を行
った。尚、臭素の仕込み量は、BPS1モルに対して4.2モ
ルに相当する。
反応終了後、室温まで冷却し、過剰の残存臭素ヒドラ
ジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さらに
水洗を行い、乾燥させて白色結晶のTBS55.5gを得た。
ジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さらに
水洗を行い、乾燥させて白色結晶のTBS55.5gを得た。
この単離されたTBSの結晶について、液体クロマトグ
ラフィーによる分析を行ったところ、BPSの転化率は100
％、TBSの単離結晶純度は91.9％、TBS収率は純分計算で
90.1％であった。
ラフィーによる分析を行ったところ、BPSの転化率は100
％、TBSの単離結晶純度は91.9％、TBS収率は純分計算で
90.1％であった。
尚、濾液中には目的物であるTBSはまったく溶解して
いなかった。
いなかった。
この反応条件及び結果を表１に示す。
（比較例１） 温度計、撹拌翼及び冷却管を有する容量300mlの四つ
口フラスコに、メタノ−ル110g、水25gを仕込み、さら
にBPS25.0g（100mmol）を加えて溶解した。溶媒中のBPS
の基質濃度は、21重量％に相当する。
口フラスコに、メタノ−ル110g、水25gを仕込み、さら
にBPS25.0g（100mmol）を加えて溶解した。溶媒中のBPS
の基質濃度は、21重量％に相当する。
次に、臭素67.2g（420mmol）を室温下、３時間かけて
滴下し、滴下終了後、約45℃で２時間熟成反応を行っ
た。
滴下し、滴下終了後、約45℃で２時間熟成反応を行っ
た。
反応終了後、室温まで冷却し、過剰の残存臭素をヒド
ラジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さら
に水洗を行い、乾燥させて白色結晶のTBS55.2gを得た。
ラジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さら
に水洗を行い、乾燥させて白色結晶のTBS55.2gを得た。
この単離されたTBSの結晶について、液体クロマトグ
ラフィーによる分析を行ったところ、BPSの転化率は100
％、TBSの単離結晶純度は87.9％、TBS収率は純分計算で
85.7％であった。
ラフィーによる分析を行ったところ、BPSの転化率は100
％、TBSの単離結晶純度は87.9％、TBS収率は純分計算で
85.7％であった。
この反応条件及び結果を表１に示す。
（比較例２） 温度計、撹拌翼及び冷却管を有する容量300mlの四つ
口フラスコに、メタノ−ル110g、水16gを仕込み、さら
にBPS25.0g（100mmol）を加えて溶解した。溶媒中のBPS
の基質濃度は、21重量％に相当する。
口フラスコに、メタノ−ル110g、水16gを仕込み、さら
にBPS25.0g（100mmol）を加えて溶解した。溶媒中のBPS
の基質濃度は、21重量％に相当する。
次に、臭素33.6g（210mmol）を室温下、1.5時間かけ
て滴下し、滴下後10分間そのままの温度で撹拌を行っ
た。次いで48％NaOH水溶液7.5g（90mmol）を同様に室温
下、30分かけて滴下した。
て滴下し、滴下後10分間そのままの温度で撹拌を行っ
た。次いで48％NaOH水溶液7.5g（90mmol）を同様に室温
下、30分かけて滴下した。
その後、再度臭素33.6g（210mmol）および48％NaOH水
溶液7.5g（90mmol）を先と同様の滴下条件で滴下した。
溶液7.5g（90mmol）を先と同様の滴下条件で滴下した。
尚、臭素及びNaOHの合計の仕込み量は、BPS1モルに対
してそれぞれ4.2モル、1.6グラム当量に相当する。
してそれぞれ4.2モル、1.6グラム当量に相当する。
滴下終了後、更に約45℃で２時間熟成反応を行った。
反応終了後、室温まで冷却し、過剰の残存臭素をヒド
ラジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さら
に水洗を行い、乾燥させて白色結晶のTBS55.4gを得た。
ラジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さら
に水洗を行い、乾燥させて白色結晶のTBS55.4gを得た。
この単離されたTBSの結晶について、液体クロマトグ
ラフィ−による分析を行ったところ、BPSの転化率は100
％、TBSの単離結晶純度は87.8％、TBS収率は純分計算で
85.9％であった。
ラフィ−による分析を行ったところ、BPSの転化率は100
％、TBSの単離結晶純度は87.8％、TBS収率は純分計算で
85.9％であった。
尚、濾液中には目的物であるTBSはまったく溶解して
いなかった。
いなかった。
この反応条件及び結果を表１に示す。
（比較例３） 比較例２に準じて、300mlの四つ口フラスコに表１に
示した組成で原料を仕込み、表１の反応条件で反応を行
った。実施例１と同様の後処理を実施し、TBSを得た。
得られた結果を表１に示す。
示した組成で原料を仕込み、表１の反応条件で反応を行
った。実施例１と同様の後処理を実施し、TBSを得た。
得られた結果を表１に示す。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07C 317/22,315/04
Claims (1)
- 【請求項１】ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン
を、臭素により臭素化しビス（４−ヒドロキシ−3,5−
ジブロモフェニル）スルホンを製造する方法に於いて、
ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホンを含むアルコ
ール／水混合溶媒中にビス（４−ヒドロキシフェニル）
スルホン１モル当り4.0〜5.0モルの臭素と2.0〜4.0グラ
ム当量の無機金属塩基を添加し反応させることを特徴と
するビス（４−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニル）
スルホンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1292497A JP2785391B2 (ja) | 1989-11-13 | 1989-11-13 | ビス（４―ヒドロキシー３，５―ジブロモフェニル）スルホンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1292497A JP2785391B2 (ja) | 1989-11-13 | 1989-11-13 | ビス（４―ヒドロキシー３，５―ジブロモフェニル）スルホンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03153662A JPH03153662A (ja) | 1991-07-01 |
| JP2785391B2 true JP2785391B2 (ja) | 1998-08-13 |
Family
ID=17782588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1292497A Expired - Lifetime JP2785391B2 (ja) | 1989-11-13 | 1989-11-13 | ビス（４―ヒドロキシー３，５―ジブロモフェニル）スルホンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2785391B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54119430A (en) * | 1978-03-07 | 1979-09-17 | Asahi Glass Co Ltd | Preparation of tetrabromobisphenol s |
| JPS6210058A (ja) * | 1985-07-09 | 1987-01-19 | Marubishi Yuka Kogyo Kk | ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフエニル）スルホン誘導体の製法 |
-
1989
- 1989-11-13 JP JP1292497A patent/JP2785391B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03153662A (ja) | 1991-07-01 |
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