JPH0236133A - 四環式シクロヘキシルシクロヘキセン誘導体 - Google Patents
四環式シクロヘキシルシクロヘキセン誘導体Info
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Landscapes
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電気光学的表示材料として有用な新規四環式
ンクロヘキシルシクロヘキセン誘導体ニ関する。
ンクロヘキシルシクロヘキセン誘導体ニ関する。
液晶表示セルの代表的なものにノー・エイチ・バイルマ
イヤー(G、H,He11m@ier ) 等(App
l。
イヤー(G、H,He11m@ier ) 等(App
l。
Phys、 Letters、 13,46(1968
))によって提案された動的散乱効果型セル(ダイナミ
ック・スキャッタリング・モード・セル)またはエム・
シャット(M、5chadt )等CAppl、 Ph
ys、 Lettara+18 、127 (1971
))によって提案された電界効果型セル(フィールド・
エフェクト・モード・セル)またはノー・エイチ・バイ
ルマイヤー(G、H。
))によって提案された動的散乱効果型セル(ダイナミ
ック・スキャッタリング・モード・セル)またはエム・
シャット(M、5chadt )等CAppl、 Ph
ys、 Lettara+18 、127 (1971
))によって提案された電界効果型セル(フィールド・
エフェクト・モード・セル)またはノー・エイチ・バイ
ルマイヤー(G、H。
f(eilmeier )等(Appl、 Phys、
Lettera+ 13 +91 (1968)]に
よって提案されたダスト・ホスト型セル等がある。
Lettera+ 13 +91 (1968)]に
よって提案されたダスト・ホスト型セル等がある。
これらの液晶表示セルに用いられる液晶材料には櫨々の
特性が要求されるか、室温を含む広い温度範囲でネマチ
ック相を有することはも種表示セルに共通して要求され
ているN要な特性でろる。
特性が要求されるか、室温を含む広い温度範囲でネマチ
ック相を有することはも種表示セルに共通して要求され
ているN要な特性でろる。
このような特性を有する実用可能な液晶材料の多くは、
通常、室温付近にネマチック相を有する化合物と室温よ
シ高い温度領域にネマチック相を有する化合物から成る
数種又はそれ以上の成分を混合することによって調製さ
れる。現在実用的VC使用される上記の如き混合液晶の
多くは、少なくとも一30℃〜+65℃の全温度範囲に
亘ってネマチック相を有することが要求されているが液
晶表示セルの応用製品の多様化に伴ない、ネマチック液
晶温度範囲を長に高温側に拡張した液晶材料が要望され
ており、このため、最近では特にネマチック相−等方性
液体相転移温度(N−I点)の高いネマチック液晶化合
物が必要とされている。
通常、室温付近にネマチック相を有する化合物と室温よ
シ高い温度領域にネマチック相を有する化合物から成る
数種又はそれ以上の成分を混合することによって調製さ
れる。現在実用的VC使用される上記の如き混合液晶の
多くは、少なくとも一30℃〜+65℃の全温度範囲に
亘ってネマチック相を有することが要求されているが液
晶表示セルの応用製品の多様化に伴ない、ネマチック液
晶温度範囲を長に高温側に拡張した液晶材料が要望され
ており、このため、最近では特にネマチック相−等方性
液体相転移温度(N−I点)の高いネマチック液晶化合
物が必要とされている。
このような要求に応えるために、特開昭5716532
8号公報には、4−fff1%ビシクロヘギシル4/−
it換ベンゼンの如き200℃前後にN−I点を有する
化合物が提案さnている。
8号公報には、4−fff1%ビシクロヘギシル4/−
it換ベンゼンの如き200℃前後にN−I点を有する
化合物が提案さnている。
さらに高い温度領域にネマチック相を有する成品化合物
として、特開昭58−140028号公報には、ビス(
4−ftmフェニル)ピシクロヘギサン、特開昭59−
7122号公報、特開昭59−20235号公報及び特
開昭59−27839号公報には、4−(4−置換フェ
ニル)4”−置換テルンクロヘキサンの如き300℃前
後にN−I点を有する化合物が提案されている。
として、特開昭58−140028号公報には、ビス(
4−ftmフェニル)ピシクロヘギサン、特開昭59−
7122号公報、特開昭59−20235号公報及び特
開昭59−27839号公報には、4−(4−置換フェ
ニル)4”−置換テルンクロヘキサンの如き300℃前
後にN−I点を有する化合物が提案されている。
しかしながら、これらの化合物は、ネマチック相を示す
温度範囲の下限である結晶相−ネマチック相転移温度(
C−N点)又はスメクチック相−ネマチック相転移温度
(S−N点)が高いという欠点を有している。
温度範囲の下限である結晶相−ネマチック相転移温度(
C−N点)又はスメクチック相−ネマチック相転移温度
(S−N点)が高いという欠点を有している。
混合液晶のN−I点を上昇させる目的で、これらのC−
N点又はS−N点が高い化合物を現在母体液晶として実
用的に汎用されているネマチック混合液晶に11571
0すると、低温領域で結晶相又はスメクチック相が現出
するという好ましがらざる性質を有している。
N点又はS−N点が高い化合物を現在母体液晶として実
用的に汎用されているネマチック混合液晶に11571
0すると、低温領域で結晶相又はスメクチック相が現出
するという好ましがらざる性質を有している。
本発明が解決しようとする課題に、高いN−I点を有し
、かつ低いC−N点又Vis−N点を有する刹f規な液
晶化合物全提供することに必っ。
、かつ低いC−N点又Vis−N点を有する刹f規な液
晶化合物全提供することに必っ。
本発明は、上記課題を解決するために、一般式原子を表
わす。Yが水素原子である場合にはXはフッ素原子、塩
素原子、炭素原子数1〜9の直鎖状アルキル基又はアル
コキシル基を表わし、Yがフッ素原子である場合にはX
はフッ素原子を表わす。ノクロヘキサン環はトランス配
置である。)で表わされる化合物を提供する。
わす。Yが水素原子である場合にはXはフッ素原子、塩
素原子、炭素原子数1〜9の直鎖状アルキル基又はアル
コキシル基を表わし、Yがフッ素原子である場合にはX
はフッ素原子を表わす。ノクロヘキサン環はトランス配
置である。)で表わされる化合物を提供する。
本発明に係わる式(1)の化合物は、次の製造方法に促
って製造することができる。
って製造することができる。
rノ
↓←DBU
(上記反応式におけるR、X及びYは大々、式(1)に
おけるR、X及びYと同じ意禾全待つ。)第1段隔−式
(n)の化合物を、無水テトラヒドロフラン(以下、T
HFという。)の如きエーテル系溶媒中で、切削片状マ
グネシウムと20〜30℃で1〜2時間反応させて、式
(110の化合物を製造する。
おけるR、X及びYと同じ意禾全待つ。)第1段隔−式
(n)の化合物を、無水テトラヒドロフラン(以下、T
HFという。)の如きエーテル系溶媒中で、切削片状マ
グネシウムと20〜30℃で1〜2時間反応させて、式
(110の化合物を製造する。
第2段階−式(III)の化合物の溶液に、式(l11
/)の化合物の無水THF #液を5〜20℃で加えて
、更に10〜30℃で1時間反応させた後、反応生成物
f、飽和塩化アンモニウム水溶液で分解して式(V)の
化合物を製造する。
/)の化合物の無水THF #液を5〜20℃で加えて
、更に10〜30℃で1時間反応させた後、反応生成物
f、飽和塩化アンモニウム水溶液で分解して式(V)の
化合物を製造する。
第3段階−式(■の化合物を、トルエンの如き水不溶性
不活性溶媒中で、p−)ルエンスルホン改の如き酸性触
媒の存在下に0.5〜1時間遠流温度で反応させる。反
応混合物を冷却した後、溶媒層を飽和炭酸ナトIJウム
水溶液及び飽和食塩水でノー次抗争し、乾燥した後、溶
媒を留去する。反応粗生成物をエタノールの如きアルコ
ール系溶媒から再結晶させて式(至)の化合物を製造す
る。
不活性溶媒中で、p−)ルエンスルホン改の如き酸性触
媒の存在下に0.5〜1時間遠流温度で反応させる。反
応混合物を冷却した後、溶媒層を飽和炭酸ナトIJウム
水溶液及び飽和食塩水でノー次抗争し、乾燥した後、溶
媒を留去する。反応粗生成物をエタノールの如きアルコ
ール系溶媒から再結晶させて式(至)の化合物を製造す
る。
第4段階−式(VDの化合物を、エタノールと酢酸エチ
ルの混合溶媒中で、ラネー・ニッケルの如き水素化触媒
を加え、3 kg / cm” 以下の水素圧下に、2
0〜80℃の温度で接触還元して、式(電の化合物を製
造する。
ルの混合溶媒中で、ラネー・ニッケルの如き水素化触媒
を加え、3 kg / cm” 以下の水素圧下に、2
0〜80℃の温度で接触還元して、式(電の化合物を製
造する。
′#、5段階−式(〜Vの化合@を、トルエンの如き不
活性@媒中で、希硫酸の如き酸性水浴液と、酢准の存在
下に還流温度で5時間反応させる。反応混合物全冷却し
た仮、溶媒層を水況、乾燥し、こJ)浴7伎から溶媒を
留去する。反応粗生成物をn−・\キナ/とエタノール
の混合溶媒から再結晶ぢせて積装して式(VM)の化合
wJを製造する。
活性@媒中で、希硫酸の如き酸性水浴液と、酢准の存在
下に還流温度で5時間反応させる。反応混合物全冷却し
た仮、溶媒層を水況、乾燥し、こJ)浴7伎から溶媒を
留去する。反応粗生成物をn−・\キナ/とエタノール
の混合溶媒から再結晶ぢせて積装して式(VM)の化合
wJを製造する。
第6段階−式■の化合物を、無水ジエチルエーテル中で
リチウムと還流温度で4〜9時間反応させてリチウム塩
とした後、これに、式(■)の化合物の無水1.2−ジ
メトキシエタンの如キエーテル系溶媒の溶液を一20〜
O℃で加えて、更に10〜25℃で30分間反応させる
。反応混合物を冷水中に加えて加水分解し、反応生成物
をトルエンで抽出した後、抽出液を水洗、乾燥し、抽出
液から溶媒を留去して式(3)の化合物を製造する。
リチウムと還流温度で4〜9時間反応させてリチウム塩
とした後、これに、式(■)の化合物の無水1.2−ジ
メトキシエタンの如キエーテル系溶媒の溶液を一20〜
O℃で加えて、更に10〜25℃で30分間反応させる
。反応混合物を冷水中に加えて加水分解し、反応生成物
をトルエンで抽出した後、抽出液を水洗、乾燥し、抽出
液から溶媒を留去して式(3)の化合物を製造する。
第7段階−式(X)の化合物を、n−へキサン又はトル
エンに溶解させ、この溶液を、アセトニトリル中でクロ
ロトリメチルシランとヨウ化ナトリウムから調製したヨ
ードトリメチル7ランのアセトニ) IJル溶液中に加
えて5〜10℃で30分〜1時間反応させることによっ
て、式(X)の化合物から。
エンに溶解させ、この溶液を、アセトニトリル中でクロ
ロトリメチルシランとヨウ化ナトリウムから調製したヨ
ードトリメチル7ランのアセトニ) IJル溶液中に加
えて5〜10℃で30分〜1時間反応させることによっ
て、式(X)の化合物から。
式(居の化合物、式(XI[[−&)及び式(Xlll
−b)の化合物から成る反応混合物金経て、式(X[V
−a)、式(X1■−b)、式(XV−1)及び式(X
V−b)の化合物から成る反応混合物を製造する。
−b)の化合物から成る反応混合物金経て、式(X[V
−a)、式(X1■−b)、式(XV−1)及び式(X
V−b)の化合物から成る反応混合物を製造する。
この反応混合物に1.8−ジアザ−ビシクロ(5゜4.
0)つ/デセン−7(以下、DBUという。)の如き1
基を加えて、5〜30℃で5時間、更に還流温度で1時
間反応させて、式(KV−a)又は式(XV−b)の化
合物から式(1−a)父は式(1−b)の化合物を各々
製造する。反応混合物に水を加えた後、式(I−a)及
び式(1−b)の化合物をトルエンで抽出し、抽出fL
を希塩酸、飽和酸性亜硫酸ナトリウム水溶液、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液、飽和實塩水で順次洗浄し、乾燥
した佐、この抽出液から溶媒を留去する。
0)つ/デセン−7(以下、DBUという。)の如き1
基を加えて、5〜30℃で5時間、更に還流温度で1時
間反応させて、式(KV−a)又は式(XV−b)の化
合物から式(1−a)父は式(1−b)の化合物を各々
製造する。反応混合物に水を加えた後、式(I−a)及
び式(1−b)の化合物をトルエンで抽出し、抽出fL
を希塩酸、飽和酸性亜硫酸ナトリウム水溶液、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液、飽和實塩水で順次洗浄し、乾燥
した佐、この抽出液から溶媒を留去する。
反応粗生成物をシリカダル力ラムうロマトダラフィーに
よって消製した後、更にn−ヘキサン又はn−ヘキサン
とエタノールの混合溶媒から再結晶させて精製し、本発
明に係わる式(1−a)及び式(1−b)の化合物の混
合物を製造する。
よって消製した後、更にn−ヘキサン又はn−ヘキサン
とエタノールの混合溶媒から再結晶させて精製し、本発
明に係わる式(1−a)及び式(1−b)の化合物の混
合物を製造する。
次いで、高速液体クロマトグラフィーを使用して1式(
1−a)及び式(1−b)の化合物の混合物から式(1
−a)及び式(1−b)の化合物全天々単端したイ友、
この単離した化合物をn−ヘキサンとエタノールの混合
溶媒から各々再結晶きせることによって、本発明に係わ
る式(1−a)及び式+J−b)の化合物を製造する。
1−a)及び式(1−b)の化合物の混合物から式(1
−a)及び式(1−b)の化合物全天々単端したイ友、
この単離した化合物をn−ヘキサンとエタノールの混合
溶媒から各々再結晶きせることによって、本発明に係わ
る式(1−a)及び式+J−b)の化合物を製造する。
斯くして製造された本発明に係わる式(I)の化合物の
代表的なものの転移温度を第1表に掲げる。
代表的なものの転移温度を第1表に掲げる。
本発明に係る式(I)の化合物は極弱い正、正又は弱い
負の誘電率異方性を有するネマチック液晶化合物であり
、従って例えば、負又は弱い正の誘電率異方性を有する
他のネマチック液晶化合物との混合物の状態で動的光散
乱型表示セルの材料として使用することができ、また強
い正の誘電率異方性を有する池のネマチック液晶化合物
との混合物の状態で電界効果型表示セルの材料として使
用することができる。
負の誘電率異方性を有するネマチック液晶化合物であり
、従って例えば、負又は弱い正の誘電率異方性を有する
他のネマチック液晶化合物との混合物の状態で動的光散
乱型表示セルの材料として使用することができ、また強
い正の誘電率異方性を有する池のネマチック液晶化合物
との混合物の状態で電界効果型表示セルの材料として使
用することができる。
このように、式(1)の化合物と混合して使用すること
のでさる好ましい代表例としては、例えば4−置換安息
香酸4′−置換フェニルエステル、4−置換7クロヘキ
サンカルボン酸4’−置換フェニルエステル、4−fk
換シクロヘキサンカルゲン酸4’−kmビフェニルエス
テル、 4− (、4−置換ノクロヘキサンカルどニル
オキ/)安息香酸4’−It換フェニルエステル、4−
(4−i1!侠7りロヘキ’/ /l/ ) 安息香酸
4′−置換フェニルエステル、4−(4−置換シクロヘ
キンル)安息香r:i4’−を換ノクロヘキンルエステ
ル、4−tl換4’−m&Lビフェニル、4−1i!フ
ェニル−4’−着換ンクロヘキサン、4−[換4“−置
換ターフェニル、4−6mビフェニル4’dll換シク
ロヘキサン、2−(4−を換フェニル)−5−置換ビリ
ミジンなどを挙げることができる。
のでさる好ましい代表例としては、例えば4−置換安息
香酸4′−置換フェニルエステル、4−置換7クロヘキ
サンカルボン酸4’−置換フェニルエステル、4−fk
換シクロヘキサンカルゲン酸4’−kmビフェニルエス
テル、 4− (、4−置換ノクロヘキサンカルどニル
オキ/)安息香酸4’−It換フェニルエステル、4−
(4−i1!侠7りロヘキ’/ /l/ ) 安息香酸
4′−置換フェニルエステル、4−(4−置換シクロヘ
キンル)安息香r:i4’−を換ノクロヘキンルエステ
ル、4−tl換4’−m&Lビフェニル、4−1i!フ
ェニル−4’−着換ンクロヘキサン、4−[換4“−置
換ターフェニル、4−6mビフェニル4’dll換シク
ロヘキサン、2−(4−を換フェニル)−5−置換ビリ
ミジンなどを挙げることができる。
本発明に係わる式(1)の化合物の化学構造に類似して
おり、かつ混合液晶のN−I点を上昇させる材料として
提案されている公知化合物のうち、N−1点が高くかつ
S−N点が低い 液晶として実用的に汎用されている混合液晶(A)の9
0重量%と第1表に示した式(1)の化合物/161の
5重量%及び化合物/162の5爪量チとから成る混合
液晶CB)と、混合液晶(A)の90重量%と化合物/
に3の5重量%及び化合物/164の5重量%とから成
る混合液晶(C)について測定され九N−r点を掲示し
、比較のだめに混合液晶内について測定されたN−7点
を掲示したものである。
おり、かつ混合液晶のN−I点を上昇させる材料として
提案されている公知化合物のうち、N−1点が高くかつ
S−N点が低い 液晶として実用的に汎用されている混合液晶(A)の9
0重量%と第1表に示した式(1)の化合物/161の
5重量%及び化合物/162の5爪量チとから成る混合
液晶CB)と、混合液晶(A)の90重量%と化合物/
に3の5重量%及び化合物/164の5重量%とから成
る混合液晶(C)について測定され九N−r点を掲示し
、比較のだめに混合液晶内について測定されたN−7点
を掲示したものである。
尚、混合液晶(A)は、
れる化合物のネマチック温度範囲は217〜299℃で
ある。
ある。
この化合物と、第1表の7163又はノ亀4の化合物と
の比較から明らかなように、式(1)の化合物は公知の
類似化合物と比べて、ネマチック温度範囲の1陽が同等
又は広く、しかもネマチック温度範囲の下限が大幅に低
いことが理解できる。
の比較から明らかなように、式(1)の化合物は公知の
類似化合物と比べて、ネマチック温度範囲の1陽が同等
又は広く、しかもネマチック温度範囲の下限が大幅に低
いことが理解できる。
第2表は、ネマチック1ffl晶材料として現在母体〔
実施例〕 及び (0,163モル)を無水THF1121dに浴解し、
この溶液を切削片状マグネシウム4.36 g(0,0
255グラム原子)に攪拌しながら20〜30℃で滴下
した後、更に室温(25℃)で2時間反応させて、から
成るものである。
実施例〕 及び (0,163モル)を無水THF1121dに浴解し、
この溶液を切削片状マグネシウム4.36 g(0,0
255グラム原子)に攪拌しながら20〜30℃で滴下
した後、更に室温(25℃)で2時間反応させて、から
成るものである。
第 2
表
第2表に掲示したデータから、式(1)の(l’金物は
、混合液晶(A)のN−1点を大幅に上昇させることが
理解できる。
、混合液晶(A)のN−1点を大幅に上昇させることが
理解できる。
物30.ON (0,126モル)を無水THF60M
に溶解し、この溶液を上記反応で調製したグリニヤール
試薬中に攪拌しながら7〜12℃で滴下した後、更に室
温で1時間反応させた。反応終了後、反応混合物を飽和
塩化アンモニウム水溶液中に加えた後、反応生成物をト
ルエンで抽出し、抽出′tLを水洗、乾燥後、この液か
ら溶媒を留去して、下記化合物を含む粗生成物46.5
.9を得た。
に溶解し、この溶液を上記反応で調製したグリニヤール
試薬中に攪拌しながら7〜12℃で滴下した後、更に室
温で1時間反応させた。反応終了後、反応混合物を飽和
塩化アンモニウム水溶液中に加えた後、反応生成物をト
ルエンで抽出し、抽出′tLを水洗、乾燥後、この液か
ら溶媒を留去して、下記化合物を含む粗生成物46.5
.9を得た。
この粗生成′物をトルエン250m1に@解し、この溶
液にp−)ルエンスルホン酸・1水和物0.24p (
1,3ミリモル)を加えた後、これらを攪拌しながら還
流温度で1時間脱水反応を行なった。反応混合物を冷却
した後、トルエン層を飽和炭酸水素ナトリウム水浴液及
び飽和食塩水で順次洗浄し次いで乾燥した後、トルエン
を留去した。得られた反応生成物をエタノールから再結
晶させて精製し、下記化合物25.0 g(0,080
1モル)を得た。
液にp−)ルエンスルホン酸・1水和物0.24p (
1,3ミリモル)を加えた後、これらを攪拌しながら還
流温度で1時間脱水反応を行なった。反応混合物を冷却
した後、トルエン層を飽和炭酸水素ナトリウム水浴液及
び飽和食塩水で順次洗浄し次いで乾燥した後、トルエン
を留去した。得られた反応生成物をエタノールから再結
晶させて精製し、下記化合物25.0 g(0,080
1モル)を得た。
(収率64%)
次+こ、この化合物をエタノール50渭ノドl!rl:
αエテル501の混合溶媒に浴解し、この浴液に触媒眩
のラネー・ニッケルを加え、加圧下(3,Okg/c1
nz以下)60〜70℃の温度でf3を押して水素化反
応を行なった。反応終了後、反応混合物から触媒を戸去
した後、Piから溶媒を留去した。得られた粗生成物を
エタノールから再結晶させて精製L2、下記化合物11
.0g(0゜035モル)を得た。(収率44%) この化合物をトルエン50ゴに溶解し、この溶液にlO
%硫酸50Mと酢ば20mを加えた後、攪拌しながら還
流温度で5時間反応させた。反応終了後1反応混合物を
冷却し、トルエン層を水洗、乾燥した後、トルエンを留
去した。得られた粗生成物をn−ヘキサンとエタノール
の混合溶媒から再結晶させて謂製し、下記化合物8.6
g(0,032モル)を得た。(収率90%) 4.2 g(0,026モル)を無水ノエチルエーテル
13mlに溶解し、コノ溶液にリチウム0.36 &(
0,052グラム原子)を加えた俟、攪拌しながら還流
温度で4時間反応させた。反応終了後、反応混合物を冷
却し、この反応混合物に、前段階で倚られた式g(0,
022モル)の無水1.2−ノメトキンエタン溶液50
ゴを一13〜O℃で滴下した後、更に室温で30分間反
応させた。反応混合物を冷水中に加えた後1反応生成物
をトルエンで抽出し、抽出液を水況、乾燥した後、溶媒
を留去して下記化合物を會む粗生成物10gを得た。
αエテル501の混合溶媒に浴解し、この浴液に触媒眩
のラネー・ニッケルを加え、加圧下(3,Okg/c1
nz以下)60〜70℃の温度でf3を押して水素化反
応を行なった。反応終了後、反応混合物から触媒を戸去
した後、Piから溶媒を留去した。得られた粗生成物を
エタノールから再結晶させて精製L2、下記化合物11
.0g(0゜035モル)を得た。(収率44%) この化合物をトルエン50ゴに溶解し、この溶液にlO
%硫酸50Mと酢ば20mを加えた後、攪拌しながら還
流温度で5時間反応させた。反応終了後1反応混合物を
冷却し、トルエン層を水洗、乾燥した後、トルエンを留
去した。得られた粗生成物をn−ヘキサンとエタノール
の混合溶媒から再結晶させて謂製し、下記化合物8.6
g(0,032モル)を得た。(収率90%) 4.2 g(0,026モル)を無水ノエチルエーテル
13mlに溶解し、コノ溶液にリチウム0.36 &(
0,052グラム原子)を加えた俟、攪拌しながら還流
温度で4時間反応させた。反応終了後、反応混合物を冷
却し、この反応混合物に、前段階で倚られた式g(0,
022モル)の無水1.2−ノメトキンエタン溶液50
ゴを一13〜O℃で滴下した後、更に室温で30分間反
応させた。反応混合物を冷水中に加えた後1反応生成物
をトルエンで抽出し、抽出液を水況、乾燥した後、溶媒
を留去して下記化合物を會む粗生成物10gを得た。
次に、ヨク化ナトリウム13fjC0,087モル)を
アセトニトリル52IrLlに磐解し、この溶解にクロ
ロトリメチル7ラン9.4g(o、os7モル)を滴下
して得た@液中に、前段階で得た粗生成物のトルエン溶
液40WLlを、攪拌下に5〜10℃で滴下した後、更
に同温度で30分間反応させた。反応混合物にDBo
15 g(0,099モル)fc7〜18℃で画工した
後、更に室温(25℃)で5時間、次いで還流温度で1
時間反応させた。冷却後、この反応混合物に希塩酸を加
え、反応生成物をトルエンで抽出した。抽出液を希塩酸
、飽和酸性亜硫酸すhvウム水溶液、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、次いで乾燥し
た後、溶媒を留去して、反応粗生成物を得た。
アセトニトリル52IrLlに磐解し、この溶解にクロ
ロトリメチル7ラン9.4g(o、os7モル)を滴下
して得た@液中に、前段階で得た粗生成物のトルエン溶
液40WLlを、攪拌下に5〜10℃で滴下した後、更
に同温度で30分間反応させた。反応混合物にDBo
15 g(0,099モル)fc7〜18℃で画工した
後、更に室温(25℃)で5時間、次いで還流温度で1
時間反応させた。冷却後、この反応混合物に希塩酸を加
え、反応生成物をトルエンで抽出した。抽出液を希塩酸
、飽和酸性亜硫酸すhvウム水溶液、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、次いで乾燥し
た後、溶媒を留去して、反応粗生成物を得た。
この反応粗生成物をノリ力グル力ラムクロマトグラフィ
ーによって精製した後、n−へキサ/とエタノールの混
合溶媒から再結晶させて精製し、下記の2種類の化合物
の混合物4.2&(0,O+1モル)を得た。(収率5
0%) この混合物は、240〜285℃の間でネマチック相を
示した。
ーによって精製した後、n−へキサ/とエタノールの混
合溶媒から再結晶させて精製し、下記の2種類の化合物
の混合物4.2&(0,O+1モル)を得た。(収率5
0%) この混合物は、240〜285℃の間でネマチック相を
示した。
この混合物を高速液体クロマトグラフィーを使用して分
離した後、分離した化合物をn−ヘキサンとエタノール
の混合溶媒から各々再結晶させて、晴製し、下記化合物
を各々4た。
離した後、分離した化合物をn−ヘキサンとエタノール
の混合溶媒から各々再結晶させて、晴製し、下記化合物
を各々4た。
し、下記化合物を各々得た。
使用した以外は、実画例1と同様にして下記の2値類の
化合物の混合vIJを得た。
化合物の混合vIJを得た。
この混合物U、148〜236℃の同でネマチック相を
示した。
示した。
この混合物を実り也例1と同様VCして分離・精製〔発
明の効果〕 本発明に係わる弐fl)の化合物は、高い占度領域にネ
マチック相を有し、かつネマチック温度範囲の下限が、
類似構造を有する公知化合物に比べて低い。従って、本
発明に係わる式(1)の化合物を、現在母体液晶として
実用的に汎用されている不マチ、り混合液晶に混合する
ことによって、混合液晶のN−I点を上昇させることが
でき、かつ低温領域で混合液晶に結晶相又はスメクチッ
ク相が現出することを防止することができる。
明の効果〕 本発明に係わる弐fl)の化合物は、高い占度領域にネ
マチック相を有し、かつネマチック温度範囲の下限が、
類似構造を有する公知化合物に比べて低い。従って、本
発明に係わる式(1)の化合物を、現在母体液晶として
実用的に汎用されている不マチ、り混合液晶に混合する
ことによって、混合液晶のN−I点を上昇させることが
でき、かつ低温領域で混合液晶に結晶相又はスメクチッ
ク相が現出することを防止することができる。
代理人 弁理士 高 橋 勝 利
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは炭素原子数1〜9の直鎖状アルキル基を表
わし、▲数式、化学式、表等があります▼は▲数式、化
学式、表等があります▼又は ▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、Yは水素
原子又はフッ素 原子を表わす。Yが水素原子である場合にはXはフッ素
原子、塩素原子、炭素原子数1〜9の直鎖状アルキル基
又はアルコキシル基を表わし、Yがフッ素原子である場
合にはXはフッ素原子を表わす。 シクロヘキサン環はトランス配置である。)で表わされ
る化合物。 2、▲数式、化学式、表等があります▼が▲数式、化学
式、表等があります▼である請求項1 記載の化合物。 3、▲数式、化学式、表等があります▼が▲数式、化学
式、表等があります▼である請求項1 記載の化合物。 4、Yが水素原子である請求項2又は3記載の化合物。 5、Xが炭素原子数1〜9の直鎖状アルキル基である請
求項4記載の化合物。 6、X及びYが共にフッ素原子である請求項2又は3記
載の化合物。 7、Rがn−プロピル基であり、Xがメチル基である請
求項5記載の化合物。 8、Rがn−ブチル基である請求項6記載の化合物。 9、請求項1記載の化合物を含有するネマチック液晶組
成物。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63184527A JP2623729B2 (ja) | 1988-07-26 | 1988-07-26 | 四環式シクロヘキシルシクロヘキセン誘導体 |
DE68920455T DE68920455T2 (de) | 1988-02-29 | 1989-02-27 | Cyclohexenderivate. |
US07/315,874 US4946986A (en) | 1988-02-29 | 1989-02-27 | Cyclohexene derivatives |
EP89103435A EP0331091B1 (en) | 1988-02-29 | 1989-02-27 | Cyclohexene derivatives |
US08/060,040 US5321169A (en) | 1988-02-29 | 1993-05-11 | Cyclohexane derivatives |
HK98104360A HK1005182A1 (en) | 1988-02-29 | 1998-05-20 | Cyclohexene derivatives |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63184527A JP2623729B2 (ja) | 1988-07-26 | 1988-07-26 | 四環式シクロヘキシルシクロヘキセン誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0236133A true JPH0236133A (ja) | 1990-02-06 |
JP2623729B2 JP2623729B2 (ja) | 1997-06-25 |
Family
ID=16154758
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63184527A Expired - Fee Related JP2623729B2 (ja) | 1988-02-29 | 1988-07-26 | 四環式シクロヘキシルシクロヘキセン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2623729B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009138204A (ja) * | 1993-04-09 | 2009-06-25 | Merck Patent Gmbh | 液晶媒体 |
JP2011168530A (ja) * | 2010-02-18 | 2011-09-01 | Dic Corp | 液晶材料の製造方法 |
-
1988
- 1988-07-26 JP JP63184527A patent/JP2623729B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009138204A (ja) * | 1993-04-09 | 2009-06-25 | Merck Patent Gmbh | 液晶媒体 |
JP2011168530A (ja) * | 2010-02-18 | 2011-09-01 | Dic Corp | 液晶材料の製造方法 |
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