JPH02308239A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料に関するものであ
り、さらに詳しくは写真製版の分野、特にカメラ撮影分
野で用いられる画像再現性の良好なハロゲン化銀写真感
光材料に関するものである。
り、さらに詳しくは写真製版の分野、特にカメラ撮影分
野で用いられる画像再現性の良好なハロゲン化銀写真感
光材料に関するものである。
(従来技術)
写真製版の分野においては、印刷物の多様性、複雑性に
対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感光材
料、安定な処理液あるいは、補充の筒易化などの要望が
ある。
対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感光材
料、安定な処理液あるいは、補充の筒易化などの要望が
ある。
特に線画撮影工程における、原稿は写植文字、手書きの
文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれて
作られる。したがって原稿には、濃度や、線巾の異なる
画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版カ
メラ、写真感光材料あるいは、画像形成方法が強く望ま
れている。一方、カタログや、大型ポスターの製版には
、網写真の拡大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が広
く行なわれ、網点を拡大して用いる製版では、線数が粗
くなりボケた点の撮影となる。縮小では原稿よりさらに
線数/インチが大きく細い点の撮影になる。従って網階
調の再現性を維持するためより一層広いラチチュードを
有する画像形成方法が要求されている。
文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれて
作られる。したがって原稿には、濃度や、線巾の異なる
画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版カ
メラ、写真感光材料あるいは、画像形成方法が強く望ま
れている。一方、カタログや、大型ポスターの製版には
、網写真の拡大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が広
く行なわれ、網点を拡大して用いる製版では、線数が粗
くなりボケた点の撮影となる。縮小では原稿よりさらに
線数/インチが大きく細い点の撮影になる。従って網階
調の再現性を維持するためより一層広いラチチュードを
有する画像形成方法が要求されている。
製版用カメラの光源としては、ハロゲンランプあるいは
、キセノンランプが用いられている。これらの光源に対
して撮影感度を得るために、写真感光材料は通常オルソ
増感が施される。ところがオルソ増感した写真感光材料
はレンズの色収差の影響をより強く受け、そのために画
質が劣化しやすいことが判明した。またこの劣化はキセ
ノンランプ光源に対してより顕著となる。
、キセノンランプが用いられている。これらの光源に対
して撮影感度を得るために、写真感光材料は通常オルソ
増感が施される。ところがオルソ増感した写真感光材料
はレンズの色収差の影響をより強く受け、そのために画
質が劣化しやすいことが判明した。またこの劣化はキセ
ノンランプ光源に対してより顕著となる。
広いラチチュードの要望に応えるシステムとして塩臭化
銀(すくなくとも塩化銀含有率が50%以上)から成る
リス型ハロゲン化恨怒光材料を、亜g酸イオンの伴動濃
度をきわめて低くした(通常0.1モル/1以下)ハイ
ドロキノン現像液で処理することにより、画像部と非画
像部が明瞭に区別された、高いコントラストと高い黒化
濃度をもつ線画あるいは網点画像を得る方法が知られて
いる。しかしこの方法では現像液中の亜硫酸濃度が低い
ため、現像は空気酸化に対して極めて不安定であり、液
活性を安定に保つためにさまざまな努力と工夫がなされ
て使用されていたり、処理スピードが著しく遅く、作業
効率を低下させているのが現状であった。
銀(すくなくとも塩化銀含有率が50%以上)から成る
リス型ハロゲン化恨怒光材料を、亜g酸イオンの伴動濃
度をきわめて低くした(通常0.1モル/1以下)ハイ
ドロキノン現像液で処理することにより、画像部と非画
像部が明瞭に区別された、高いコントラストと高い黒化
濃度をもつ線画あるいは網点画像を得る方法が知られて
いる。しかしこの方法では現像液中の亜硫酸濃度が低い
ため、現像は空気酸化に対して極めて不安定であり、液
活性を安定に保つためにさまざまな努力と工夫がなされ
て使用されていたり、処理スピードが著しく遅く、作業
効率を低下させているのが現状であった。
このため、上記のような現像方法(リス現像システム)
による画像形成の不安定さを解消し、良好な保存安定性
を有する処理液で現像し、超硬調な写真特性が得られる
画像形成システムが要望され、その1つとして米国特許
4,166.742号、同4,168,977号、同4
. 221. 857号、同4,224.401号、同
4,243゜739号、同4,272,606号、同4
,311.781号にみられるように、特定のアシルヒ
ドラジン化合物を添加した表面潜像型ハロゲン化銀写真
感光材料を、pH11,0〜12.3で亜硫酸保恒剤を
0.15モル/1以上含み、良好な保存安定性を有する
現像液で処理して、γが10を越える超硬調のネガ画像
を形成するシステムが提案された。この新しい画像形成
システムには、従来の超硬調画像形成では塩化銀含有率
の高い塩臭化銀しか使用できなかったのに対して、沃臭
化銀や塩沃臭化銀でも使用できるという特徴がある。
による画像形成の不安定さを解消し、良好な保存安定性
を有する処理液で現像し、超硬調な写真特性が得られる
画像形成システムが要望され、その1つとして米国特許
4,166.742号、同4,168,977号、同4
. 221. 857号、同4,224.401号、同
4,243゜739号、同4,272,606号、同4
,311.781号にみられるように、特定のアシルヒ
ドラジン化合物を添加した表面潜像型ハロゲン化銀写真
感光材料を、pH11,0〜12.3で亜硫酸保恒剤を
0.15モル/1以上含み、良好な保存安定性を有する
現像液で処理して、γが10を越える超硬調のネガ画像
を形成するシステムが提案された。この新しい画像形成
システムには、従来の超硬調画像形成では塩化銀含有率
の高い塩臭化銀しか使用できなかったのに対して、沃臭
化銀や塩沃臭化銀でも使用できるという特徴がある。
さらに他のシステムとして、テトラゾリウム化合物を含
有する感光材料を比較的高濃度の亜硫酸塩を含む1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン誘導体とハイドロキノンから
成る現像液(以下PQ現像液と略す)又はp−アミノフ
ェノール誘導体とハイドロキノンから成る現像液(以下
MQ現像液と略す)の処理により高いコントラストを得
る方法であり、例えば特開昭52−18317号、同5
3−17719号、同53−17720号、同61−2
70745号、同62−139545号、同62−13
9546号、同63−133146号、同63−210
838号に開示されている。
有する感光材料を比較的高濃度の亜硫酸塩を含む1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン誘導体とハイドロキノンから
成る現像液(以下PQ現像液と略す)又はp−アミノフ
ェノール誘導体とハイドロキノンから成る現像液(以下
MQ現像液と略す)の処理により高いコントラストを得
る方法であり、例えば特開昭52−18317号、同5
3−17719号、同53−17720号、同61−2
70745号、同62−139545号、同62−13
9546号、同63−133146号、同63−210
838号に開示されている。
しかしながら、上記2つの画像形成システムは、網点品
質、処理安定性、迅速性およびオリジナルの再現性とい
う点で優れた性能を示すが、近年の印刷物の多様性に対
応するために、さらにオリジナル再現性の改良されたシ
ステムが望まれていた。
質、処理安定性、迅速性およびオリジナルの再現性とい
う点で優れた性能を示すが、近年の印刷物の多様性に対
応するために、さらにオリジナル再現性の改良されたシ
ステムが望まれていた。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明の目的は、光源依存性が少なく、かつ目伸し、目
縮め等の画質の優れたハロゲン化銀写真感光材料を提供
することにある。
縮め等の画質の優れたハロゲン化銀写真感光材料を提供
することにある。
(発明の開示)
本発明の目的は吸収極大(λ1wax)を450nm〜
580nmに有する増感色素によって分光増感された感
光性ハロゲン化銀写真乳剤層を少なくとも1層有し、該
写真乳剤層又は他の親水性コロイド層に下記一般式(I
I)で示される化合物を含有するハロゲン化銀写真感光
材料において、300nm〜420nmに吸収極大を有
する染料と、酸化されることにより現像抑制剤を放出し
うるレドックス化合物とをそれぞれ少なくとも1種含有
することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料により
達成された。
580nmに有する増感色素によって分光増感された感
光性ハロゲン化銀写真乳剤層を少なくとも1層有し、該
写真乳剤層又は他の親水性コロイド層に下記一般式(I
I)で示される化合物を含有するハロゲン化銀写真感光
材料において、300nm〜420nmに吸収極大を有
する染料と、酸化されることにより現像抑制剤を放出し
うるレドックス化合物とをそれぞれ少なくとも1種含有
することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料により
達成された。
一般式(■)
但し、R1、R2及びR1は同一でも異っていてもよく
、それぞれアルキル基、アミノ基、アシルアミノ基、ヒ
ドロキシル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、ハロゲ
ン原子、カルバモイル基、アシルチオ基、アルコキシカ
ルボニル基、カルボキシル基、アシル基、シアノ基、ニ
トロ基、メルカプト基、スルホオキシ基又はアミノスル
ホキシ基である。Xoはアニオンである。
、それぞれアルキル基、アミノ基、アシルアミノ基、ヒ
ドロキシル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、ハロゲ
ン原子、カルバモイル基、アシルチオ基、アルコキシカ
ルボニル基、カルボキシル基、アシル基、シアノ基、ニ
トロ基、メルカプト基、スルホオキシ基又はアミノスル
ホキシ基である。Xoはアニオンである。
本発明では分光増感色素の吸収極大(λmax)を45
0nm〜580nmに限定しているが、これは450n
mより短波長の色素では撮影感度が得られす、580n
mより長波長の色素では濃赤色セーフライト光下(例え
ば富士写真フィルム(II製、富士セーフライトフィル
ター11h6が使用できる)でのセーフライト安全性が
悪化し、取扱い性が悪くなるためである。
0nm〜580nmに限定しているが、これは450n
mより短波長の色素では撮影感度が得られす、580n
mより長波長の色素では濃赤色セーフライト光下(例え
ば富士写真フィルム(II製、富士セーフライトフィル
ター11h6が使用できる)でのセーフライト安全性が
悪化し、取扱い性が悪くなるためである。
本発明に使用される増感色素はいわゆるオルソ増感色素
であり、ハロゲン化銀粒子に吸着し、450〜58・O
nmに吸収極大を有するものである。
であり、ハロゲン化銀粒子に吸着し、450〜58・O
nmに吸収極大を有するものである。
用いられる色素には、シアニン色素、メロシアニン色素
、複合シアニン色素、複合メロシアニン色素、ホロポー
ラ−シアニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル色素お
よびヘミオキソノール色素が包含される。特にを用な色
素は、シアニン色素、メロシアニン色素、および複合メ
ロシアニン色素に属する色素である。これらの色素類に
は、塩基性異節環核としてシアニン色素類に通常利用さ
れる核のいずれをも通用できる6すなわち、ピロリン核
、オキサゾリン核、チアゾリン核、ビロール核、オキサ
ゾール核、チアゾール核、セレナゾール核、イミダゾー
ル核、テトラゾール核、ピリジン核など;これらの核に
脂環式炭化水素環が融合した核:及びこれらの核に芳香
族炭化水素環が融合した核、即ち、インドレニン核、ベ
ンズインドレニン核、インドール抜、ベンズオキサゾー
ル核、ナフトオキサゾール核、ベンゾチアゾール核、ナ
フトチアゾール核、ベンゾセレナゾール核、ベンズイミ
ダゾール核、キノリン核などが通用できる。
、複合シアニン色素、複合メロシアニン色素、ホロポー
ラ−シアニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル色素お
よびヘミオキソノール色素が包含される。特にを用な色
素は、シアニン色素、メロシアニン色素、および複合メ
ロシアニン色素に属する色素である。これらの色素類に
は、塩基性異節環核としてシアニン色素類に通常利用さ
れる核のいずれをも通用できる6すなわち、ピロリン核
、オキサゾリン核、チアゾリン核、ビロール核、オキサ
ゾール核、チアゾール核、セレナゾール核、イミダゾー
ル核、テトラゾール核、ピリジン核など;これらの核に
脂環式炭化水素環が融合した核:及びこれらの核に芳香
族炭化水素環が融合した核、即ち、インドレニン核、ベ
ンズインドレニン核、インドール抜、ベンズオキサゾー
ル核、ナフトオキサゾール核、ベンゾチアゾール核、ナ
フトチアゾール核、ベンゾセレナゾール核、ベンズイミ
ダゾール核、キノリン核などが通用できる。
これらの核は炭素原子上に置換されていてもよい。
メロシアニン色素または複合メロシアニン色素にはケト
メチレン構造を存する核として、ピラゾリン−5−オン
核、チオヒダントイン核、2−チオオキサゾリジン−2
,4〜ジオン核、チアゾリジン−2,4−ジオン槙、ロ
ーダニン核、チオバルビッール成核などの5〜6員異節
環核を通用することができる。
メチレン構造を存する核として、ピラゾリン−5−オン
核、チオヒダントイン核、2−チオオキサゾリジン−2
,4〜ジオン核、チアゾリジン−2,4−ジオン槙、ロ
ーダニン核、チオバルビッール成核などの5〜6員異節
環核を通用することができる。
具体的には、リサーチディスクロージャー第176巻R
D−17643(1978年12月号)第23頁、米国
特許4,425.425号、同4゜425.426号に
記載されたものを用いることができる。
D−17643(1978年12月号)第23頁、米国
特許4,425.425号、同4゜425.426号に
記載されたものを用いることができる。
その中でも下記一般式(II)で表わされるシアニン色
素あるいは、−m式([[[)で表わされるメロシアニ
ン色素が特に好ましい。
素あるいは、−m式([[[)で表わされるメロシアニ
ン色素が特に好ましい。
一般式(II)
式中、Z+ 、Zzはチアゾール核、チアゾリン核、ベ
ンズチアゾール核、ナフトチアゾール核、オキサゾール
核、ベンゾオキサゾール核、オキサゾリン核、ナフトオ
キサゾール核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール核
、イミダシリン核、セレナゾール核、セレナゾリン核、
ベンゾセレナゾール核またはナフトセレナゾール核を形
成するのに必要な原子群を表わす。
ンズチアゾール核、ナフトチアゾール核、オキサゾール
核、ベンゾオキサゾール核、オキサゾリン核、ナフトオ
キサゾール核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール核
、イミダシリン核、セレナゾール核、セレナゾリン核、
ベンゾセレナゾール核またはナフトセレナゾール核を形
成するのに必要な原子群を表わす。
R1、Rzはアルキル基又は置換アルキル基を表わす、
但し、R,、Rzの少くとも1つはスルホ基又はカルボ
キシ基ををしているものとする。
但し、R,、Rzの少くとも1つはスルホ基又はカルボ
キシ基ををしているものとする。
R1は水素原子又は炭素原子数1〜3のアルキル基、を
表わす。
表わす。
Zl、Ztによって形成される核には、シアニン色素の
分野でよく知られているように、置換基が導入されてい
てもよい、この置換基としては例えばアルキル基、アル
コキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アラ
ルキル基、ハロゲン原子等が挙げられる。
分野でよく知られているように、置換基が導入されてい
てもよい、この置換基としては例えばアルキル基、アル
コキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アラ
ルキル基、ハロゲン原子等が挙げられる。
R3及びR2は各々同一であっても異っていてもよい、
R,、R,のアルキルとしては好ましくは炭素原子数1
〜8のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基などである。置換ア
ルキル基のW換基としては、例えばカルボキシ基、スル
ホ基、シアノ基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩
素原子、臭素原子など)、ヒドロキシ基、アルコキシカ
ルボニル基(炭素原子数8以下、例えばメトキシカルボ
ニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボ
ニル基など)、アルコキシ基(炭素原子数7以下、例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
、ベンジルオキシ基なと)、アリールオキシ基(例えば
フェノキシ基、I)−)リルオキシ基など)、アシルオ
キシ基(炭素原子数3以下、例えばアセチルオキシ基、
プロピオニルオキシ基など)、アシル基(炭素原子数8
以下、例えばアセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル
基、メシル基なと)、カルバモイル基(例えばカルバモ
イル基、N、N〜ジメチルカルバモイル基、モルホリノ
カルバモイル基、ピペリジノカルバモイル基など)、ス
ルファモイル基(例えばスルファモイル基、N、N−ジ
メチルスルファモイル基、モルホリノスルホニル基など
)、了り−ル基(例えばフェニルL p−ヒドロキシフ
ェニル基、p−カルボキシフェニル基、p−スルホフェ
ニル基、α−ナフチル基など)がある、置換アルキル基
の好ましい炭素数は6以下である。
R,、R,のアルキルとしては好ましくは炭素原子数1
〜8のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基などである。置換ア
ルキル基のW換基としては、例えばカルボキシ基、スル
ホ基、シアノ基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩
素原子、臭素原子など)、ヒドロキシ基、アルコキシカ
ルボニル基(炭素原子数8以下、例えばメトキシカルボ
ニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボ
ニル基など)、アルコキシ基(炭素原子数7以下、例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
、ベンジルオキシ基なと)、アリールオキシ基(例えば
フェノキシ基、I)−)リルオキシ基など)、アシルオ
キシ基(炭素原子数3以下、例えばアセチルオキシ基、
プロピオニルオキシ基など)、アシル基(炭素原子数8
以下、例えばアセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル
基、メシル基なと)、カルバモイル基(例えばカルバモ
イル基、N、N〜ジメチルカルバモイル基、モルホリノ
カルバモイル基、ピペリジノカルバモイル基など)、ス
ルファモイル基(例えばスルファモイル基、N、N−ジ
メチルスルファモイル基、モルホリノスルホニル基など
)、了り−ル基(例えばフェニルL p−ヒドロキシフ
ェニル基、p−カルボキシフェニル基、p−スルホフェ
ニル基、α−ナフチル基など)がある、置換アルキル基
の好ましい炭素数は6以下である。
一般式(I[I)
R3Rs
式中、R1及びR2は各々水素原子、ハロゲン原子(例
えば塩素原子、臭素原子等)、置換されでいてもよい炭
素数1〜8のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、
ヒドロキシエチル基等)、置換されていてもよい炭素数
1〜8のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基
等)、フェニル基、ナフチル基、スルホ基又はカルボキ
シ基を表わし、R8とR2が結合して6員環を形成して
もよく、この環上にハロゲン原子、低級アルキル基、ヒ
ドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、フェニル基、アル
コキシ基、カルボキシ基箋で置換されていてもよい。
えば塩素原子、臭素原子等)、置換されでいてもよい炭
素数1〜8のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、
ヒドロキシエチル基等)、置換されていてもよい炭素数
1〜8のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基
等)、フェニル基、ナフチル基、スルホ基又はカルボキ
シ基を表わし、R8とR2が結合して6員環を形成して
もよく、この環上にハロゲン原子、低級アルキル基、ヒ
ドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、フェニル基、アル
コキシ基、カルボキシ基箋で置換されていてもよい。
R3は置換されていてもよいアルキルS(例えばメチル
基、エチル基、スルホエチル基、スルホプロピル基、ス
ルホアミドエチル基、スルホブチル基等)又は置換され
ていてもよいアルケニル基(例えばアリル基等)を表わ
す。
基、エチル基、スルホエチル基、スルホプロピル基、ス
ルホアミドエチル基、スルホブチル基等)又は置換され
ていてもよいアルケニル基(例えばアリル基等)を表わ
す。
R4は置換されていてもよい炭素原子数1〜!2のアル
キル基を表わし、置換基としてはヒドロキシ基、カルバ
ミド基等が好ましく、このアルキル基はその炭素数の間
に一〇−1−OCO−1−NH−及び−Nが介在してい
るものを包含する。
キル基を表わし、置換基としてはヒドロキシ基、カルバ
ミド基等が好ましく、このアルキル基はその炭素数の間
に一〇−1−OCO−1−NH−及び−Nが介在してい
るものを包含する。
Rsはハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、
低級アルキル基(例えばメチル基、エチル基等)、ヒド
ロキシ基、ヒドロキシアルキル基(例えばヒドロキシエ
チル基)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ
基等)、スルホ基又はカルボキシ基でそれぞれ置換され
ていてもよいフェニル基又はピリジル基を表わす。
低級アルキル基(例えばメチル基、エチル基等)、ヒド
ロキシ基、ヒドロキシアルキル基(例えばヒドロキシエ
チル基)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ
基等)、スルホ基又はカルボキシ基でそれぞれ置換され
ていてもよいフェニル基又はピリジル基を表わす。
一般式(m)で示される増感色素は、特開昭50−33
828号、同55−45015号、同56−25728
号、米国特許第2,742,833号、同2,756.
148号、同3.567゜458号などに記載された合
成方法によって容易に合成することができる。
828号、同55−45015号、同56−25728
号、米国特許第2,742,833号、同2,756.
148号、同3.567゜458号などに記載された合
成方法によって容易に合成することができる。
一般式([)、([ff)で示される化合物の具体例と
して下記の化合物を挙げるが、これらに限定されるもの
ではない。
して下記の化合物を挙げるが、これらに限定されるもの
ではない。
[1−1) C,Hs(cH
t)3(CHz)z SO3Na 503’ 1l−2) zHs So、 Na So、” 1l−3) C2H
。
t)3(CHz)z SO3Na 503’ 1l−2) zHs So、 Na So、” 1l−3) C2H
。
■−4)
■−5)
SO3”
■−6)
Cz Hs
■
■−7)
zHs
■−8)
zHs
Cz Hs CCHz)xsot@
■−9)
CI H。
so、e
II−10)
Ct H5
薯
II
02 H5(CHzL
so、e
n−11)
xHs
■
II
Ct Hs (CHz)3SO,S
n−12)
CzHa
■
ff−13)
ct H8Cx Hs (
CHJs SOx@ll−14) Cf H。
ct H8Cx Hs (
CHJs SOx@ll−14) Cf H。
(CHり3 (CH2hSOz N
a SCh’ll−15) CzHa ■−16) CzHa Sow’ 5OsKIf−17) CzHa I S○ユll S○、KII−18) ■−19) S 05g5 Os N a 1[1−1) 1−(2−ジエチルアミンエチル)
−5−((エチルナフト(2,1−d)オキサゾリン−
2−イリデン)エチリデン)−3−(ピリジン−2−イ
ル)−2−チオヒダントイン1[[−2) 1−(
2−ジエチルアミノエチル)−3−(ピリジン−4−イ
ル)−5−(3−エチル−2−ペンゾオキサゾリニデン
)エチリデンツー2−チオヒダントイン 1[[−3) 1−(2−ヒドロキシエチル)−3
−(4−スルホブチル−ピリジン−2−イル)−5−(
(3−スルホプロピル−2−ペンゾオキサゾリニデン)
エチリデンツー2−チオヒダントインナトリウム塩 l−4) 1−(2−アセチルブチル)−3−(ピ
リジン−2−イル)−5−((3−スルホジエチル−2
−ペンゾオキサゾリニデン)エチリデンツー2−チオヒ
ダントインナトリウム塩111−5) 1−(2−
ヒドロキシエチル−3−(ピリジン−2−イル)−5−
((3−スルホプロピル−2−ペンゾオキサゾリニデン
)エチリデン〕−2−チオヒダントインナトリウム塩l
ff−6) 1−(2,3−ジヒドロキシプロピル
)−3−(ピリジン−2−イル) −5−((3−スル
ホアミドエチル−2−ペンゾオキサゾリニデン)エチリ
デンクー2−チオヒダントインナトリウム塩 1[[−7) 1−(2−ヒドロキシエトキシエチ
ル”I −3−(ピリジン−2−イル)−5−〔(3−
スルホブチル−5−クロロ−2−ペンゾオキサゾリニデ
ン)エチリデンクー2−チオヒダントインナトリウム塩 I[[−8) 1−(2−ヒドロキシエトキシエト
キシエチル)−3−(ピリジン−2−イル)−5=〔(
3−スルホブチル−5−クロロ−2−ペンゾオキサゾリ
ニデン)エチリデンクー2−チオヒダントインナトリウ
ム塩 I[[−9) 1−(2−ヒドロキシエチルアミノ
エチル)−3−(4−クロロピリジン−2−イル)−5
−((3−スルホブチル−5−メチル−2−ペンゾオキ
サゾリニデン)エチリデンクー2−チオヒダントインナ
トリウム塩 DI[−10) 1−(2−ヒドロキシエトキシエ
チル)−3−(p−エトキシピリジン−2−イル−5−
((3−スルホブチルナフト(2,1−d)オキサゾリ
ン−2−イリデン)エチリデンクー2−チオヒダントイ
ンナトリウム塩 1[[−11) 1−(2−カルバミドエチル)−
3−(4−メチルピリジン−3−イル)−5−((3−
スルホブチルナフト(2,1−d)オキサゾリン−2−
イリデン)エチリデンクー2−チオヒダントインナトリ
ウム塩 本発明に用いられる増悪色素は水溶液や水に混合可能(
miscible)の1ir機溶剤、たとえば、メタノ
ール、エタノール、プロピルアルコール、メチルセロソ
ルブ、とリジンなどにとかした溶液としてハロゲン化銀
乳剤に加える。
a SCh’ll−15) CzHa ■−16) CzHa Sow’ 5OsKIf−17) CzHa I S○ユll S○、KII−18) ■−19) S 05g5 Os N a 1[1−1) 1−(2−ジエチルアミンエチル)
−5−((エチルナフト(2,1−d)オキサゾリン−
2−イリデン)エチリデン)−3−(ピリジン−2−イ
ル)−2−チオヒダントイン1[[−2) 1−(
2−ジエチルアミノエチル)−3−(ピリジン−4−イ
ル)−5−(3−エチル−2−ペンゾオキサゾリニデン
)エチリデンツー2−チオヒダントイン 1[[−3) 1−(2−ヒドロキシエチル)−3
−(4−スルホブチル−ピリジン−2−イル)−5−(
(3−スルホプロピル−2−ペンゾオキサゾリニデン)
エチリデンツー2−チオヒダントインナトリウム塩 l−4) 1−(2−アセチルブチル)−3−(ピ
リジン−2−イル)−5−((3−スルホジエチル−2
−ペンゾオキサゾリニデン)エチリデンツー2−チオヒ
ダントインナトリウム塩111−5) 1−(2−
ヒドロキシエチル−3−(ピリジン−2−イル)−5−
((3−スルホプロピル−2−ペンゾオキサゾリニデン
)エチリデン〕−2−チオヒダントインナトリウム塩l
ff−6) 1−(2,3−ジヒドロキシプロピル
)−3−(ピリジン−2−イル) −5−((3−スル
ホアミドエチル−2−ペンゾオキサゾリニデン)エチリ
デンクー2−チオヒダントインナトリウム塩 1[[−7) 1−(2−ヒドロキシエトキシエチ
ル”I −3−(ピリジン−2−イル)−5−〔(3−
スルホブチル−5−クロロ−2−ペンゾオキサゾリニデ
ン)エチリデンクー2−チオヒダントインナトリウム塩 I[[−8) 1−(2−ヒドロキシエトキシエト
キシエチル)−3−(ピリジン−2−イル)−5=〔(
3−スルホブチル−5−クロロ−2−ペンゾオキサゾリ
ニデン)エチリデンクー2−チオヒダントインナトリウ
ム塩 I[[−9) 1−(2−ヒドロキシエチルアミノ
エチル)−3−(4−クロロピリジン−2−イル)−5
−((3−スルホブチル−5−メチル−2−ペンゾオキ
サゾリニデン)エチリデンクー2−チオヒダントインナ
トリウム塩 DI[−10) 1−(2−ヒドロキシエトキシエ
チル)−3−(p−エトキシピリジン−2−イル−5−
((3−スルホブチルナフト(2,1−d)オキサゾリ
ン−2−イリデン)エチリデンクー2−チオヒダントイ
ンナトリウム塩 1[[−11) 1−(2−カルバミドエチル)−
3−(4−メチルピリジン−3−イル)−5−((3−
スルホブチルナフト(2,1−d)オキサゾリン−2−
イリデン)エチリデンクー2−チオヒダントインナトリ
ウム塩 本発明に用いられる増悪色素は水溶液や水に混合可能(
miscible)の1ir機溶剤、たとえば、メタノ
ール、エタノール、プロピルアルコール、メチルセロソ
ルブ、とリジンなどにとかした溶液としてハロゲン化銀
乳剤に加える。
本発明に用いられる増悪色素は米国特許3,485.6
34号に記載されている超音波振動を用いて溶解しても
よい、その他に本発明の増悪色素を溶解、あるいは分散
して乳剤中に添加する方法としでは、米国特許3,48
2.981号、同3゜585.195号、同3,469
,987号、同3.425,835号、同3,342.
605号、英国特許1,271.329号、同1,03
8゜029号、同1,121.174号、米国特許3゜
660.101号、同3,658,546号に記載の方
法を用いることができる。
34号に記載されている超音波振動を用いて溶解しても
よい、その他に本発明の増悪色素を溶解、あるいは分散
して乳剤中に添加する方法としでは、米国特許3,48
2.981号、同3゜585.195号、同3,469
,987号、同3.425,835号、同3,342.
605号、英国特許1,271.329号、同1,03
8゜029号、同1,121.174号、米国特許3゜
660.101号、同3,658,546号に記載の方
法を用いることができる。
本発明に用いられる増悪色素を乳剤に添加する時期は、
乳剤を適当な支持体上に塗布される前が一般的だが、化
学熟成工程あるいはハロゲン化銀粒子形成工程であって
もよい。
乳剤を適当な支持体上に塗布される前が一般的だが、化
学熟成工程あるいはハロゲン化銀粒子形成工程であって
もよい。
本発明において増感色素の好ましい添加量は、銀1モル
あたり10”h〜10−1モル添加するのが適当であり
、好ましくは10−’〜10−2モル添加することであ
る。
あたり10”h〜10−1モル添加するのが適当であり
、好ましくは10−’〜10−2モル添加することであ
る。
これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それらの組
合せを用いてもよく、増悪色素の組合せは特に強色増感
の目的でもしばしば用いられる。
合せを用いてもよく、増悪色素の組合せは特に強色増感
の目的でもしばしば用いられる。
有用な強色増感を示す色素の組合せ及び強色増感を示す
物質はリサーチ・ディスクロージャ(Research
Disclosure) 176巻17643 (1
978年12月発行)第23頁■の3項に記載されてい
る。
物質はリサーチ・ディスクロージャ(Research
Disclosure) 176巻17643 (1
978年12月発行)第23頁■の3項に記載されてい
る。
次に一般式(II)の化合物について説明する。
一般式(II)
ここで、R+、Rz及びRzは同一でも異なっていても
よく、それぞれアルキル基(例えばメチル基、エチル基
、シクロプロピル基、n−プロピル基、1so−プロピ
ル基、シクロブチル基、n−ブチル基、1so−ブチル
基、n−ペンチル基、シクロヘキシル基等)、アミノ基
、アシルアミノ基(例えばアセチルアミノ)、ヒドロキ
シル基、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基
、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基)、アシル
オキシ基(例えばアセチルオキシ基)、ハロゲン原子(
例えばフッ素、塩素、臭素等)、カルバモイル基、アシ
ルチオ基(例えばアセチルチオ基)、アルコキシカルボ
ニル基(例えばエトキシカルボニル基)、カルボキシル
基、アシル基(例えばアセチル基)、シアノ基、ニトロ
基、メルカプト基、スルホキシ基、アミノスルホキシ基
を表わす。
よく、それぞれアルキル基(例えばメチル基、エチル基
、シクロプロピル基、n−プロピル基、1so−プロピ
ル基、シクロブチル基、n−ブチル基、1so−ブチル
基、n−ペンチル基、シクロヘキシル基等)、アミノ基
、アシルアミノ基(例えばアセチルアミノ)、ヒドロキ
シル基、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基
、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基)、アシル
オキシ基(例えばアセチルオキシ基)、ハロゲン原子(
例えばフッ素、塩素、臭素等)、カルバモイル基、アシ
ルチオ基(例えばアセチルチオ基)、アルコキシカルボ
ニル基(例えばエトキシカルボニル基)、カルボキシル
基、アシル基(例えばアセチル基)、シアノ基、ニトロ
基、メルカプト基、スルホキシ基、アミノスルホキシ基
を表わす。
前記X0で示されるアニオンとしては、例えば塩化物イ
オン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオ
ン、硝酸、硫酸、過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン
酸、カルボン酸等の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤
、具体的にはp−)ルエンスルホン酸アニオン等の低級
アルキルベンゼンスルホン酸アニオン、p−ドデシルベ
ンゼンスルホン酸アニオン等の高級アルキルベンゼンス
ルホン酸アニオン、ラウリルスルフェートアニオン等の
高級アルキル硫酸エステルアニオン、テトラフェニルボ
ロン等の硼酸系アニオン、ジ−2=エチルへキシルスル
ホサクシネートアニオン等のジアルキルスルホサクシネ
ートアニオン、セチルポリエテノキシサルフェートアニ
オン等のポリエーテルアルコール硫酸エステルアニオン
、ステアリン酸アニオン等の高級脂肪族アニオン、ポリ
アクリル酸アニオン等のポリマーに酸根のついたもの等
を挙げることができる。
オン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオ
ン、硝酸、硫酸、過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン
酸、カルボン酸等の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤
、具体的にはp−)ルエンスルホン酸アニオン等の低級
アルキルベンゼンスルホン酸アニオン、p−ドデシルベ
ンゼンスルホン酸アニオン等の高級アルキルベンゼンス
ルホン酸アニオン、ラウリルスルフェートアニオン等の
高級アルキル硫酸エステルアニオン、テトラフェニルボ
ロン等の硼酸系アニオン、ジ−2=エチルへキシルスル
ホサクシネートアニオン等のジアルキルスルホサクシネ
ートアニオン、セチルポリエテノキシサルフェートアニ
オン等のポリエーテルアルコール硫酸エステルアニオン
、ステアリン酸アニオン等の高級脂肪族アニオン、ポリ
アクリル酸アニオン等のポリマーに酸根のついたもの等
を挙げることができる。
以下、本発明に用いられる一般式〔1〕で表される化合
物の具体例を挙げるが、本発明の化合物は、これらに限
定されるものではない。
物の具体例を挙げるが、本発明の化合物は、これらに限
定されるものではない。
(例示化合物)
I−6
I−7
■−10
+!−11
■−12
■−14
■−15
ll−16
■−17
■−18
本発明に用いられるテトラゾリウム化合物は、例えばケ
ミカル・レビz −(Chemical Revjew
s)第55s1第335頁〜483頁に記載の方法に従
って容易に合成することができる。
ミカル・レビz −(Chemical Revjew
s)第55s1第335頁〜483頁に記載の方法に従
って容易に合成することができる。
本発明の一般式〔1〕で表されるテトラゾリウム化合物
は、本発明のハロゲン化銀写真感光材料中に含有される
ハロゲン化銀1モル当り約1■以上10gまで、好まし
くは約Iθ■以上約2gまでの範囲で用いられるのが好
ましい。
は、本発明のハロゲン化銀写真感光材料中に含有される
ハロゲン化銀1モル当り約1■以上10gまで、好まし
くは約Iθ■以上約2gまでの範囲で用いられるのが好
ましい。
本発明において用いられる一般式〔1〕で表されるテト
ラゾリウム化合物は、1種を用いてもまた2種以上を適
宜の比率で組み合わせて用いてもよい、さらに本発明の
テトラゾリウム化合物と本発明外のテトラゾリウム化合
物を適宜の割合で組み合わせて用いてもよい。
ラゾリウム化合物は、1種を用いてもまた2種以上を適
宜の比率で組み合わせて用いてもよい、さらに本発明の
テトラゾリウム化合物と本発明外のテトラゾリウム化合
物を適宜の割合で組み合わせて用いてもよい。
本発明において、本発明のテトラゾリウム化合物と結合
し、本発明のテトラゾリウム化合物の親水性を下げるア
ニオンを併用すると、詩に好ましい結果が得られる。こ
のようなアニオンとしては例えば過塩素酸等の無機酸の
f11根、スルホン酸、カルボン酸等の有S酸の酸根、
アニオン系の活性剤、具体的にはp−)ルエンスルホン
酸アニオン等の低級アルキルベンゼンスルホン酸アニオ
ン、p−ドデシルベンゼンスルホン酸アニオン類、アル
キルナフタレンスルホン酸アニオン類、ラウリルスルフ
ェートアニオン類、テトラフェニールポロン類、ジー2
−エチルへキシルスルホサクシネートアニオン類等のジ
アルキルスルホサクシネートアニオン、セチルポリエテ
ノキシサルフェートアニオン等のポリエーテルアルコー
ル硫酸エステルアニオン、ステアリン酸アニオン類等、
ポリアクリル酸アニオン類等を挙げることができる。
し、本発明のテトラゾリウム化合物の親水性を下げるア
ニオンを併用すると、詩に好ましい結果が得られる。こ
のようなアニオンとしては例えば過塩素酸等の無機酸の
f11根、スルホン酸、カルボン酸等の有S酸の酸根、
アニオン系の活性剤、具体的にはp−)ルエンスルホン
酸アニオン等の低級アルキルベンゼンスルホン酸アニオ
ン、p−ドデシルベンゼンスルホン酸アニオン類、アル
キルナフタレンスルホン酸アニオン類、ラウリルスルフ
ェートアニオン類、テトラフェニールポロン類、ジー2
−エチルへキシルスルホサクシネートアニオン類等のジ
アルキルスルホサクシネートアニオン、セチルポリエテ
ノキシサルフェートアニオン等のポリエーテルアルコー
ル硫酸エステルアニオン、ステアリン酸アニオン類等、
ポリアクリル酸アニオン類等を挙げることができる。
このようなアニオンは、本発明のテトラゾリウム化合物
と予め混合した後、親水性コロイド層へ添加してもよい
し、また、単独で本発明のテトラゾリウムを含有もしく
は含有しないハロゲン化銀乳剤層または親水性コロイド
層に添加することができる。
と予め混合した後、親水性コロイド層へ添加してもよい
し、また、単独で本発明のテトラゾリウムを含有もしく
は含有しないハロゲン化銀乳剤層または親水性コロイド
層に添加することができる。
本発明に用いられる染料は300〜420nmにピーク
を有し、より好ましくは350nm〜410nmにピー
クを有する染料(紫外線吸収剤を含む)である。具体例
としては、特開昭62−210458号、同63−10
4046号、同63−103235号、特願昭62−4
3704号、同62−218648号、特開昭63−3
06436号、同63−314535号などに記載され
ている。
を有し、より好ましくは350nm〜410nmにピー
クを有する染料(紫外線吸収剤を含む)である。具体例
としては、特開昭62−210458号、同63−10
4046号、同63−103235号、特願昭62−4
3704号、同62−218648号、特開昭63−3
06436号、同63−314535号などに記載され
ている。
本発明に好ましく用いられる300〜4200mに吸収
ピークを有する化合物としては、例えば、アリール基で
置換されたベンゾトリアゾール化合物、4−チアゾリド
ン化合物、ベンゾフェノン化合物、桂皮酸エステル化合
物、ブタジェン化合物、ベンゾオキサゾール化合物さら
に紫外線吸収ポリマーを用いることができる。
ピークを有する化合物としては、例えば、アリール基で
置換されたベンゾトリアゾール化合物、4−チアゾリド
ン化合物、ベンゾフェノン化合物、桂皮酸エステル化合
物、ブタジェン化合物、ベンゾオキサゾール化合物さら
に紫外線吸収ポリマーを用いることができる。
さらに特に好ましく用いられる染料としては下記一般式
(D−1)、(D−2)、(D−3)又は(D−4)で
表わされる化合物で吸収極大が300〜420nmであ
る化合物である。
(D−1)、(D−2)、(D−3)又は(D−4)で
表わされる化合物で吸収極大が300〜420nmであ
る化合物である。
一般式CD−1)
式中、R5′は−OXまたは−N(で表される原子団で
あって、X及びYは水素原子、アルキル基、シアノアル
キル基、カルボキシアルキル基、スルホアルキル基、ヒ
ドロキシアルキル基、ハロゲン化アルキル基または置換
されてもよいアルキル基或はそのナトリウム・カリウム
塩を表し、R2″とR1′は水素原子、ハロゲン原子、
アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキルチ
オ基、または前記の一〇X基と同様の基を表し、Qは少
なくとも一つのハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基
、またはスルホアルキル基或はそのナトリウム・カリウ
ム塩で置換されたフェニル基またはスルホアルキル基、
スルホアルコキシアルキル基、スルホアルキルチオアル
キル基を、またLは置換されてもよいメチン基を表す、
Ra ″はアルキル基、カルボキシ基、アルキルオキ
シカルボニル基或はアシル置換、非置換のアミノ基を表
す0mは整数1または2を、nは整数0または1をそれ
ぞれ示す。
あって、X及びYは水素原子、アルキル基、シアノアル
キル基、カルボキシアルキル基、スルホアルキル基、ヒ
ドロキシアルキル基、ハロゲン化アルキル基または置換
されてもよいアルキル基或はそのナトリウム・カリウム
塩を表し、R2″とR1′は水素原子、ハロゲン原子、
アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキルチ
オ基、または前記の一〇X基と同様の基を表し、Qは少
なくとも一つのハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基
、またはスルホアルキル基或はそのナトリウム・カリウ
ム塩で置換されたフェニル基またはスルホアルキル基、
スルホアルコキシアルキル基、スルホアルキルチオアル
キル基を、またLは置換されてもよいメチン基を表す、
Ra ″はアルキル基、カルボキシ基、アルキルオキ
シカルボニル基或はアシル置換、非置換のアミノ基を表
す0mは整数1または2を、nは整数0または1をそれ
ぞれ示す。
一般式CD−2]
式中R3″、R6′、R1’、R9″及びR1゜″は水
素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシル基、
アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、カルボキシ
ル基またはスルホン基或はそのナトリウム・カリウム塩
を表し、R1はアルキル基またはカルボキシル基を表す
。
素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシル基、
アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、カルボキシ
ル基またはスルホン基或はそのナトリウム・カリウム塩
を表し、R1はアルキル基またはカルボキシル基を表す
。
一般式(D−3)
R,J R+?
式中R11’及びR,、’はアルキル基、置換アルキル
基、了り−ル基、アルコキシカルボニル基またはカルボ
キシル基を表し、R1′及びR14’はスルホン酸基も
しくはカルボキシル基で置換されたアルキル基またはス
ルホン酸基もしくはカルボキシル基またはスルホン酸基
で置換されたアリール基或はそのナトリウム・カリウム
塩を表し、Lは置換もしくは未置換のメチン鎖を表す0
Mはナトリウム、カリウムまたは水素原子を表し、lは
Oまたは1を表す。
基、了り−ル基、アルコキシカルボニル基またはカルボ
キシル基を表し、R1′及びR14’はスルホン酸基も
しくはカルボキシル基で置換されたアルキル基またはス
ルホン酸基もしくはカルボキシル基またはスルホン酸基
で置換されたアリール基或はそのナトリウム・カリウム
塩を表し、Lは置換もしくは未置換のメチン鎖を表す0
Mはナトリウム、カリウムまたは水素原子を表し、lは
Oまたは1を表す。
一般式CD−4)
式中R,If、R%、Rゴ、R41’Fはアルキル基、
ヒドロキシアルキル基、シアノ基、アルキルシアノ基、
アルコキシ基及びスルホアルキル基を表す。R3′?及
びR,′はスルホン酸基、アルキルスルホン酸基を表す
。
ヒドロキシアルキル基、シアノ基、アルキルシアノ基、
アルコキシ基及びスルホアルキル基を表す。R3′?及
びR,′はスルホン酸基、アルキルスルホン酸基を表す
。
以下に本発明で好ましく用いられる染料の具体的化合物
例を示すが本発明がこれに限定されるものではない。
例を示すが本発明がこれに限定されるものではない。
)LJz IN a ’5U* N a
(CHz)s SO* K (CHzh SoコK CH2CH2SOi K (CH□)43ow K しiコ zHs す \(CHz) r S Os K これらの染料は、乳剤層、中間層、保」Lその他の親水
性コロイド層のいずれに添加しても良い、また、これら
の化合物は任意の層に実質的に固定されても良い、この
場合乳剤層もしくは乳剤より外側の層に存在することが
好ましい、これらの染料を固定化する媒染剤としては、
特公昭43−10254号、US−2,548,564
号、US−2,882,156号、US−3,444゜
138号等に記載のものが使用される。
(CHz)s SO* K (CHzh SoコK CH2CH2SOi K (CH□)43ow K しiコ zHs す \(CHz) r S Os K これらの染料は、乳剤層、中間層、保」Lその他の親水
性コロイド層のいずれに添加しても良い、また、これら
の化合物は任意の層に実質的に固定されても良い、この
場合乳剤層もしくは乳剤より外側の層に存在することが
好ましい、これらの染料を固定化する媒染剤としては、
特公昭43−10254号、US−2,548,564
号、US−2,882,156号、US−3,444゜
138号等に記載のものが使用される。
また、US−73256号、WO−8804794に記
載された染料固体粒子微結晶分散体を用いることも出来
る。
載された染料固体粒子微結晶分散体を用いることも出来
る。
また、本発明に有用な染料として特願昭62−4370
4号、同62−218648号に記載の現像液中で脱色
可能となる機能性染料がある0次にこれら機能性染料の
具体例を示す。
4号、同62−218648号に記載の現像液中で脱色
可能となる機能性染料がある0次にこれら機能性染料の
具体例を示す。
しIzHzs
I
し「蟲r′1ココ
D−34
D−35
これらの染料はモル吸光係数により異なるが、通常10
−”g/n(〜1 g/mの範囲で添加される。
−”g/n(〜1 g/mの範囲で添加される。
好ましくは50■〜500■/dである。
上記染料は適当な溶媒〔例えば水、アルコール(例えば
メタノール、エタノール、プロパツールなど)、アセト
ン、メチルセロソルブ、など、あるいはこれらの混合溶
媒〕に溶解して本発明の親水性コロイド層用塗布液中に
添加することができこれらの染料は2種以上組合せて用
いることもできる。
メタノール、エタノール、プロパツールなど)、アセト
ン、メチルセロソルブ、など、あるいはこれらの混合溶
媒〕に溶解して本発明の親水性コロイド層用塗布液中に
添加することができこれらの染料は2種以上組合せて用
いることもできる。
本発明に用いる酸化されることにより、現像抑制剤を放
出しうるレドックス化合物のレドックス基の例としては
ハイドロキノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノ
ン類、アミノフェノール類、ビラプリトン類、ヒドラジ
ン類、ヒドロキシルアミン類、レダクトン類などが挙げ
られる。レドックス基としてはヒドラジン類が好ましく
、レドックス化合物としては下記一般式(1)で表わさ
れる化合物が特に好ましい。
出しうるレドックス化合物のレドックス基の例としては
ハイドロキノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノ
ン類、アミノフェノール類、ビラプリトン類、ヒドラジ
ン類、ヒドロキシルアミン類、レダクトン類などが挙げ
られる。レドックス基としてはヒドラジン類が好ましく
、レドックス化合物としては下記一般式(1)で表わさ
れる化合物が特に好ましい。
一般式(1)
%式%
(式中、A、、A、はともに水素原子又は一方が水素原
子で他方はスルフィン酸残基もしくは+ C+r Ro
(式中、Roはアルキル基、アルケニル基、アリール
基、アルコキシ基またはアリールオキシ基を表わし、2
は1または2を表わす。)を表わす、 Timeは二価
の連結基を表わし、LはOまたは1を表わすやPt1G
は現像抑制剤を表わす。
子で他方はスルフィン酸残基もしくは+ C+r Ro
(式中、Roはアルキル基、アルケニル基、アリール
基、アルコキシ基またはアリールオキシ基を表わし、2
は1または2を表わす。)を表わす、 Timeは二価
の連結基を表わし、LはOまたは1を表わすやPt1G
は現像抑制剤を表わす。
■はカルボニル基、−C−C−、スルホニル基、スルホ
キシ基、−p (R,はアルコキシ基またはアリールオ
キシ基を表わす、)イミノメチレン基、またはチオカル
ボニル基を表わす、Rは脂肪族基、芳香族基またはへテ
ロ環基を表わす。)以下一般式(I)について説明する
。
キシ基、−p (R,はアルコキシ基またはアリールオ
キシ基を表わす、)イミノメチレン基、またはチオカル
ボニル基を表わす、Rは脂肪族基、芳香族基またはへテ
ロ環基を表わす。)以下一般式(I)について説明する
。
一般式(1)においてA、 、A、は水素原子、炭素数
20以下のアルキルスルホニル基および了り−ルスルホ
ニル基(好ましくはフェニルスルホニル基又はハメット
の置換基定数の和が−0,5以上となるように置換され
たフェニルスルホニル基 、→c+z−R,(R,とじ
て好ましくは炭素数30以下の直鎖、分岐状または環状
のアルキル基、アルケニル基、アリール基(好ましくは
フェニル基、又はハメットの置換基定数の和が−0゜5
以上となるように置換されたフェニル基)、アルコキシ
基(例えばエトキシ基など)、アリールオキシ基(好ま
しくは単環のもの)などであり、これらの基は置換基を
有していてもよく置換基としては、例えば以下のものが
あげられる。これらの基は更に置換されていてもよい。
20以下のアルキルスルホニル基および了り−ルスルホ
ニル基(好ましくはフェニルスルホニル基又はハメット
の置換基定数の和が−0,5以上となるように置換され
たフェニルスルホニル基 、→c+z−R,(R,とじ
て好ましくは炭素数30以下の直鎖、分岐状または環状
のアルキル基、アルケニル基、アリール基(好ましくは
フェニル基、又はハメットの置換基定数の和が−0゜5
以上となるように置換されたフェニル基)、アルコキシ
基(例えばエトキシ基など)、アリールオキシ基(好ま
しくは単環のもの)などであり、これらの基は置換基を
有していてもよく置換基としては、例えば以下のものが
あげられる。これらの基は更に置換されていてもよい。
例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基やカルボキシル基、了り−ルオキ
。
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基やカルボキシル基、了り−ルオキ
。
キカルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、
アシルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基
、ニトロ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、などで
ある、)であり、A + 、A zで表わされるスルフ
ィン酸残基は具体的には米国特許第4.478,928
号に記載されているものを表わす。
アシルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基
、ニトロ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、などで
ある、)であり、A + 、A zで表わされるスルフ
ィン酸残基は具体的には米国特許第4.478,928
号に記載されているものを表わす。
又、A1は後述の千Ti1Ie+Tと連結して環を形成
してもよい。
してもよい。
A1、A!とじては水素原子が最も好ましい。
Timeは二価の連結基を表わし、タイミング調節機能
を有していてもいよい、tは0また1を表わし、1−0
の場合はPUGが直接■に結合していることを意味する
。
を有していてもいよい、tは0また1を表わし、1−0
の場合はPUGが直接■に結合していることを意味する
。
Tieで表わされる二価の連結基は酸化還元母核の酸化
体から放出されるTime −PUGから一段階あるい
は、それ以上の段階の反応を経てPUGを放出せしめる
基を表わす。
体から放出されるTime −PUGから一段階あるい
は、それ以上の段階の反応を経てPUGを放出せしめる
基を表わす。
T 1cAeで表わされる二価の連結基としては、例え
ば米国特許第4,248,962号(特開昭54−14
5,135号)等に記載のp−にとるフェノキシ誘導体
の分子内閉環反応によって写真的有用M(PUG)を放
出するもの;米国特許第4゜310.612号(特開昭
55−53.330号)および同4,358,252号
等に記載の環開裂後の分子内開環反応によってPUGを
放出するもの;米国特許第4,330,617号、同4
,446.216号、同4,483,919号、特開昭
59−121,328号等に記載のコハク酸モノエステ
ルまたはその類縁体のカルボキシル基の分子内閉環反応
による酸無水物の生成を伴って、PUGを放出するもの
;米国特許第4.409゜323号、同4,421,8
45号、リサーチ・ディスクロージャー誌丸21,22
8 (1981年12月)、米国特許第4,416,9
77号(特開昭57−135.944号)、特開昭58
−209,736号、同58−209.738号等に記
載の了り−ルオキシ基またはへテロ環オキシ基が共役し
た二重結合を介した電子移動によりキノモノメタン、ま
たはその類縁体を生成してPUGを放出するもの;米国
特許第4.420.554号(特開昭57−136,6
40号)、特開昭57−135,945号、同57−1
88,035号、同5B−98,728号および同5日
−−209,737号等に記載の含窒素へテロ環のエナ
ミン構造を有する部分の電子移動によりエナミンのγ位
よりPUGを放出するもの;特開昭57−56,837
号に記載の含窒素へテロ環の窒素原子と共役したカルボ
ニル基への電子移動により生成したオキシ基の分子内閉
環反応によりPUGを放出するもの;米国特許第4,1
46.396号(特開昭52−90932号)、特開昭
59−93.442号、特開昭59−75475号等に
記載のアルデヒド類の生成を伴ってPUGを放出するも
の;特開昭51−146,828号、同57−179,
842号、同59−104.641号に記載のカルボキ
シル基の脱炭素を伴ってPUGを放出するもの; 0
−COoCRJb P U Gの構造を有し、脱炭酸
と引き続くアルデヒド類の生成を伴ってPtJGを放出
するもの;特開昭60−7,429号に記載のイソシア
ナートの生成を伴ってPUGを放出するもの;米国特許
第4,438.193号等に記載のカラー現像薬の酸化
体とのカップリング反応によりPUGを放出するものな
どを挙げることができる。
ば米国特許第4,248,962号(特開昭54−14
5,135号)等に記載のp−にとるフェノキシ誘導体
の分子内閉環反応によって写真的有用M(PUG)を放
出するもの;米国特許第4゜310.612号(特開昭
55−53.330号)および同4,358,252号
等に記載の環開裂後の分子内開環反応によってPUGを
放出するもの;米国特許第4,330,617号、同4
,446.216号、同4,483,919号、特開昭
59−121,328号等に記載のコハク酸モノエステ
ルまたはその類縁体のカルボキシル基の分子内閉環反応
による酸無水物の生成を伴って、PUGを放出するもの
;米国特許第4.409゜323号、同4,421,8
45号、リサーチ・ディスクロージャー誌丸21,22
8 (1981年12月)、米国特許第4,416,9
77号(特開昭57−135.944号)、特開昭58
−209,736号、同58−209.738号等に記
載の了り−ルオキシ基またはへテロ環オキシ基が共役し
た二重結合を介した電子移動によりキノモノメタン、ま
たはその類縁体を生成してPUGを放出するもの;米国
特許第4.420.554号(特開昭57−136,6
40号)、特開昭57−135,945号、同57−1
88,035号、同5B−98,728号および同5日
−−209,737号等に記載の含窒素へテロ環のエナ
ミン構造を有する部分の電子移動によりエナミンのγ位
よりPUGを放出するもの;特開昭57−56,837
号に記載の含窒素へテロ環の窒素原子と共役したカルボ
ニル基への電子移動により生成したオキシ基の分子内閉
環反応によりPUGを放出するもの;米国特許第4,1
46.396号(特開昭52−90932号)、特開昭
59−93.442号、特開昭59−75475号等に
記載のアルデヒド類の生成を伴ってPUGを放出するも
の;特開昭51−146,828号、同57−179,
842号、同59−104.641号に記載のカルボキ
シル基の脱炭素を伴ってPUGを放出するもの; 0
−COoCRJb P U Gの構造を有し、脱炭酸
と引き続くアルデヒド類の生成を伴ってPtJGを放出
するもの;特開昭60−7,429号に記載のイソシア
ナートの生成を伴ってPUGを放出するもの;米国特許
第4,438.193号等に記載のカラー現像薬の酸化
体とのカップリング反応によりPUGを放出するものな
どを挙げることができる。
これら、T imeで表わされる二価の連結基の具体例
については特開昭61−236.549号、特願昭63
−98,803号等にも詳細に記載されているが、好ま
しい具体例は以下に示すものである。
については特開昭61−236.549号、特願昭63
−98,803号等にも詳細に記載されているが、好ま
しい具体例は以下に示すものである。
ここで(傘)は一般式(1)において
+ T ime +T−P U Gが■に結合する部位
を表わし、(、) (、)にPUGが結合する部位を表
わす。
を表わし、(、) (、)にPUGが結合する部位を表
わす。
■
C,H5
T −(4)
T−(5) (ネ)−0−CI(。
C,H。
C,H。
C8) 0
tH5
T−(10) (本) 0−CH2zll
S T (12) (*) OCL■ CIコ T −(13) NIISO□CH□ GHz (す(傘〕 CI。
S T (12) (*) OCL■ CIコ T −(13) NIISO□CH□ GHz (す(傘〕 CI。
−C
CI(3
し+zizs
11I
CH30
T−(28)
T −(30) 0T
−(34) (本)−0−C8−(ネ)(*
)C00CzHs T−(35) (ネ)−0−CH−(本)(
寧)T−(36) (傘)−ro −CHz−
N−C112−(*)(*)T (39)
OCzHs C目H2!PUGは(T
ime)−t−P U GまたはPUGとして現像抑制
効果を有する基を表わす。
−(34) (本)−0−C8−(ネ)(*
)C00CzHs T−(35) (ネ)−0−CH−(本)(
寧)T−(36) (傘)−ro −CHz−
N−C112−(*)(*)T (39)
OCzHs C目H2!PUGは(T
ime)−t−P U GまたはPUGとして現像抑制
効果を有する基を表わす。
PUGまたは(T ime)T−P U Gで表わされ
る現像抑制剤はへテロ原子を存し、ヘテロ原子を介して
結合している公知の現像抑制剤であり、これらはたとえ
ばシー・イー・チー・ミース(C,E、に、Mees)
及びチー・エッチ・ジェームズ(T、H,Ja■es)
著「ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック・プ
ロセス(The Theory of Photogr
aphtcProcesses) J第3版、1966
マクミラン(Macwillan)社刊、344頁〜3
46頁などに記載されている。具体的にはメルカプトテ
トラゾール類、メルカプトトリアゾール類、メルカプト
イミダゾール類、メルカプトピリミジン類、メルカプト
ベンズイミダゾール類、メルカプトベンズチアゾール類
、メルカプトベンズチアゾ−ル類、メルカプトチアジア
ゾール類、ベンズトリアゾール類、ベンズイミダゾール
類、イミダゾール類、アデニン類、グアニン類、テトラ
ゾール類、テトラアザインデン類、トリアザインデン類
、メルカプトアリール類等を挙げることができる。
る現像抑制剤はへテロ原子を存し、ヘテロ原子を介して
結合している公知の現像抑制剤であり、これらはたとえ
ばシー・イー・チー・ミース(C,E、に、Mees)
及びチー・エッチ・ジェームズ(T、H,Ja■es)
著「ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック・プ
ロセス(The Theory of Photogr
aphtcProcesses) J第3版、1966
マクミラン(Macwillan)社刊、344頁〜3
46頁などに記載されている。具体的にはメルカプトテ
トラゾール類、メルカプトトリアゾール類、メルカプト
イミダゾール類、メルカプトピリミジン類、メルカプト
ベンズイミダゾール類、メルカプトベンズチアゾール類
、メルカプトベンズチアゾ−ル類、メルカプトチアジア
ゾール類、ベンズトリアゾール類、ベンズイミダゾール
類、イミダゾール類、アデニン類、グアニン類、テトラ
ゾール類、テトラアザインデン類、トリアザインデン類
、メルカプトアリール類等を挙げることができる。
PUGで表わされる現像抑制剤は置換されていてもよい
、置換基としては、例えば以下のものが挙げられるが、
これらの基はさらに置換されていてもよい。
、置換基としては、例えば以下のものが挙げられるが、
これらの基はさらに置換されていてもよい。
例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、了り−ル基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシカルバニル基、
アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アシルオキシ基、カルボジアミド基、スル
ホンアミド基やカルボキシル基、スルホオキシ基、ホス
ホノ基、ホスフィニコ基、リン酸アミド基などである。
キニル基、アルコキシ基、了り−ル基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシカルバニル基、
アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アシルオキシ基、カルボジアミド基、スル
ホンアミド基やカルボキシル基、スルホオキシ基、ホス
ホノ基、ホスフィニコ基、リン酸アミド基などである。
好ましい置換基としてはニトロ基、スルホ基、カルボキ
シル基、スルファモイル基、ホスホノ基、ホスフィニコ
基、スルホンアミド基である。
シル基、スルファモイル基、ホスホノ基、ホスフィニコ
基、スルホンアミド基である。
主な現像抑制剤を以下に示す。
ル
(211−(4−ヒドロキシフェニル)−5−メルカプ
ト (3)1−(4−アミノフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (4)1−(4−カルボキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール (5)1−(4−クロロフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (6)1−(4−メチルフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (7) 1−、(2,4−ジヒドロキシフェニル)−
5−メルカプトテトラゾール (8)1−(4−スルファモイルフェニル)−5−メル
カプトテトラゾール (9)1−(3−カルボキシフェニル)−5−メルカブ
トテトラゾール 0ω 1−(3,5−ジカルボキシフェニル)−5−メ
ルカプトテトラゾール θロ 1−(4−メトキシフェニル)−5−メルカプト
テトラゾール 0211−(2−メトキシフェニル)−5−メルカプト
テトラゾール 03) 1−(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェ
ニル〕−5−メルカプトテトラゾールa4J1− (2
,4−シフC20フZニル) −5−メルカプトテトラ
ゾール QSI−(4−ジメチルアミノフェニル)−5−メルカ
プトテトラゾール G61l−(4−ニトロフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール 0り 1.4−ビス(5−メルカプト−1−テトラゾリ
ル)ベンゼン (1101−(α−ナフチル)−5−メルカプトテトラ
ゾール G91l−(4−スルホフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール 1211−(3−スルホフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (21)1−(β−ナフチル)−5−メルカプトチゾー
ル (22) 1−メチル−5−メルカプトテトラゾール
(23) 1−エチル−5−メルカプトテトラゾール
(24) 1−プロピル−5−メルカプトテトラゾー
ル (25) 1−オクチル−5−メルカプトテトラゾー
ル (26) 1−ドデシル−5−メルカプトテトラゾー
ル (27) 1−シクロへキシル−5−メルカプトテト
ラゾール (28) 1−パルミチルー5−メルカプトテトラゾ
ール (29) 1−カルボキシエチル−5−メルカプトテ
トラゾール (30)L−(2,2−ジェトキシエチル)−5−メル
カブトテトラゾール (31)1−(2−アミノエチル)−5−メルカプトテ
トラゾールハイドロクロライド (32) 1.− (2−ジエチルアミノエチル)−
5−メルカプトテトラゾール (33)2−(5−メルカプト−1−テトラゾール)エ
チルトリメチルアンモニウムクロリド(34)1−(3
−フェノキシカルボニルフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (35)1−(3−マレインイミドフェニル)−6−メ
ルカプトテトラゾール ル (2)4−フェニル−5−メチル−3−メルカプトトリ
アゾール (3)4.5−ジフェニル−3−メルカプトトリアゾー
ル (4)4−(4−カルボキシフェニル)−3−メルカプ
トトリアゾール (5)4−メチル−3−メルカプトトリアゾール(6)
4−(2−ジメチルアミノエチル)−3−メルカプトト
リアゾール (7)4−(α−ナフチル)−3−メルカプトトリアゾ
ール (8)4−(4−スルホフェニル)−3−メルカプトト
リアゾール (9)4−(3−ニトロフェニル)−3−メルカプトト
リアゾール ル (2)1.5−ジフェニル−2−カルカプトイミダゾー
ル (3)’1−(4−カルボキシフェニル)−2−メルカ
プトイミダゾール (4)1−(4−へキシルカルバモイル)−2−メルカ
プトイミダゾール (5)l−(3−ニトロフェニル)−2−メルカブトイ
ミダゾール (6)1−(4−スルホフェニル)−2−メルカプトイ
ミダゾール メルカ ピ! ≧ジンー (1)チオウラシル (2)メチルチオウラシル (3) エチルチオウラシル (4)プロピルチオウラシル (5) ノニルチオウラシル (6)アミノチオウラシル (7) ヒドロキシチオウラシル ルカ ベンズイミ ゾール悸 (1)2−メルカプトベンツイミダゾール(2)5−カ
ルボキシ−2−メルカプトベンツイミダゾール (3)5−アミノ−2−メルカプトベンツイミダゾール (4)5−ニトロ−2−メルカプトベンツイミダゾール (5)5−クロロ−2−メルカプトベンツイミダゾール (6)5−メトキシ−2−メルカプトベンツイミダゾー
ル (7)2−メルカプトナフトイミダゾール(8)2−メ
ルカプト−5−スルホベンツイミダゾール (9)1−(2−ヒドロキシエチル)−2−メルカプト
ベンツイミダゾール 0ω 5−カプロアミド−2−メルカプトベンズイミダ
ゾール 005−(2−エチルヘキサノイルアミノ)−2−メル
カプトベンズイミダゾール ルカ チアン ゛−ル溝 (1)5−メチルチオ−2−メルカプト−1,3゜4−
チアジアゾール (2)5−エチルチオ−2−メルカプト−1,3゜4−
チアジアゾール (3)5−(2−ジメチルアミノエチルチオ)−2−メ
ルカプト−1,3,4−チアジアゾール (4)5−(2−カルボキシプロピルチオ)−2−メル
カプト−1,3,4−チアジアゾール(5)2−フェノ
キシカルボニルメチルチオ−5−メルカプト−1,3,
4−チアジアゾール7 メル力 ペンズチ ゾール峰 (1)2−メルカプトベンズチアゾール(2)5−ニト
ロ−2−メルカプトベンズチアゾール (3)5−カルボキシ−2−メルカプトベンズチアゾー
ル (4)5−スルホ−2−メルカプトベンズチアゾール ルカ ベンズオキ ゛−ル峰 (1)2−メルカプトベンズオキサゾール(2)5−ニ
トロ−2−メルカプトベンズオキサゾール (3)5〜カルボキシ−2−メルカプトベンズオキサゾ
ール (4)5−スルホ−2−メルカプトベンズチアゾール ペン: I ゛−ル憬 (+)5.6−シメチルベンソ゛トリアソ′−ル(2)
5−ブチルベンゾトリアゾール (3)5−メチルベンゾトリアゾール (4)5−クロロベンゾトリアゾール (5) 5−ブロモベンゾトリアゾール(6)5.6
−ジクロロベンゾトリアゾール(7)4.6−ジクロロ
ベンゾトリアゾール(8)5−ニトロベンゾトリアゾー
ル (9)4−ニトロ−6−クロロ−ベンゾトリアゾール GO) 4. 5. 6−1−ジクロロベンゾトリア
ゾール θ05−カルボキシベンゾトリアゾール0り5−スルホ
ベンゾトリアゾール Na塩O■ 5−メトキシカルボ
ニルベンゾトリアゾール Qe 5−アミノベンゾトリアゾールaつ 5−ブト
キシベンゾトリアゾール0ω 5−ウレイドベンゾトリ
アゾール0刀 ベンゾトリアゾール 0団5−フェノキシカルボニルベンゾトリアゾール 09)5−(2,3−ジクロロプロピルオキシカルボニ
ル)ベンゾトリアゾール 0 ベンズイミ ゛゛−ル 41) ベンツイミダゾール (21510ロペンツイミタソール (3)5−ニトロペンツイミダゾール (4)5−n−ブチルベンツイミダゾール(5)5−メ
チルベンツイミダゾール (6)4−クロロペンツイミダゾール (7)5.6−シメチルベンツイミダゾール(8)5−
ニトロ−2−(トリフルオロメチル)ペンツイミダゾー
ル インダゾール悸 (1)5−ニトロインダゾール (2)6−ニトロインダゾール (3)5−アミノインダゾール (4)6−アミノインダゾール (5) インダゾール (6)3−ニトロインダゾール (7) 5−ニトロ−3−クロロインタソール(8)
3−クロロ−5−二トロインタソール(9)3−カ
ルボキシ−5−ニトロインダゾール−−パ−ル悸 (1)5−(4−ニトロフェニル)テトラゾール(2)
5−フェニルテトラゾール (3)5−(3−カルボキシフェニル)−テトラゾール 1 −− ゛インー°ン葎 (1)4−ヒドロキシ−6−メチル−5−二トロ1.3
.3a、7−チトラアザインデン(2)4−メルカプト
−6−メチル−5−ニトロ−1,3,3a、7−チトラ
アザインデンルカ ア1−ル悸 (1)4−ニトロチオフェノール (2)チオフェノール (3)2−カルボキシチオフェノール スルホキシ基、 P(R1はアルコキシ基またはI4 アリールオキシ基を表わす、)、イミノメチレン基、チ
オカルボニル基を表わし、■としてはカルボニル基が好
ましい。
ト (3)1−(4−アミノフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (4)1−(4−カルボキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール (5)1−(4−クロロフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (6)1−(4−メチルフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (7) 1−、(2,4−ジヒドロキシフェニル)−
5−メルカプトテトラゾール (8)1−(4−スルファモイルフェニル)−5−メル
カプトテトラゾール (9)1−(3−カルボキシフェニル)−5−メルカブ
トテトラゾール 0ω 1−(3,5−ジカルボキシフェニル)−5−メ
ルカプトテトラゾール θロ 1−(4−メトキシフェニル)−5−メルカプト
テトラゾール 0211−(2−メトキシフェニル)−5−メルカプト
テトラゾール 03) 1−(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェ
ニル〕−5−メルカプトテトラゾールa4J1− (2
,4−シフC20フZニル) −5−メルカプトテトラ
ゾール QSI−(4−ジメチルアミノフェニル)−5−メルカ
プトテトラゾール G61l−(4−ニトロフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール 0り 1.4−ビス(5−メルカプト−1−テトラゾリ
ル)ベンゼン (1101−(α−ナフチル)−5−メルカプトテトラ
ゾール G91l−(4−スルホフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール 1211−(3−スルホフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (21)1−(β−ナフチル)−5−メルカプトチゾー
ル (22) 1−メチル−5−メルカプトテトラゾール
(23) 1−エチル−5−メルカプトテトラゾール
(24) 1−プロピル−5−メルカプトテトラゾー
ル (25) 1−オクチル−5−メルカプトテトラゾー
ル (26) 1−ドデシル−5−メルカプトテトラゾー
ル (27) 1−シクロへキシル−5−メルカプトテト
ラゾール (28) 1−パルミチルー5−メルカプトテトラゾ
ール (29) 1−カルボキシエチル−5−メルカプトテ
トラゾール (30)L−(2,2−ジェトキシエチル)−5−メル
カブトテトラゾール (31)1−(2−アミノエチル)−5−メルカプトテ
トラゾールハイドロクロライド (32) 1.− (2−ジエチルアミノエチル)−
5−メルカプトテトラゾール (33)2−(5−メルカプト−1−テトラゾール)エ
チルトリメチルアンモニウムクロリド(34)1−(3
−フェノキシカルボニルフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (35)1−(3−マレインイミドフェニル)−6−メ
ルカプトテトラゾール ル (2)4−フェニル−5−メチル−3−メルカプトトリ
アゾール (3)4.5−ジフェニル−3−メルカプトトリアゾー
ル (4)4−(4−カルボキシフェニル)−3−メルカプ
トトリアゾール (5)4−メチル−3−メルカプトトリアゾール(6)
4−(2−ジメチルアミノエチル)−3−メルカプトト
リアゾール (7)4−(α−ナフチル)−3−メルカプトトリアゾ
ール (8)4−(4−スルホフェニル)−3−メルカプトト
リアゾール (9)4−(3−ニトロフェニル)−3−メルカプトト
リアゾール ル (2)1.5−ジフェニル−2−カルカプトイミダゾー
ル (3)’1−(4−カルボキシフェニル)−2−メルカ
プトイミダゾール (4)1−(4−へキシルカルバモイル)−2−メルカ
プトイミダゾール (5)l−(3−ニトロフェニル)−2−メルカブトイ
ミダゾール (6)1−(4−スルホフェニル)−2−メルカプトイ
ミダゾール メルカ ピ! ≧ジンー (1)チオウラシル (2)メチルチオウラシル (3) エチルチオウラシル (4)プロピルチオウラシル (5) ノニルチオウラシル (6)アミノチオウラシル (7) ヒドロキシチオウラシル ルカ ベンズイミ ゾール悸 (1)2−メルカプトベンツイミダゾール(2)5−カ
ルボキシ−2−メルカプトベンツイミダゾール (3)5−アミノ−2−メルカプトベンツイミダゾール (4)5−ニトロ−2−メルカプトベンツイミダゾール (5)5−クロロ−2−メルカプトベンツイミダゾール (6)5−メトキシ−2−メルカプトベンツイミダゾー
ル (7)2−メルカプトナフトイミダゾール(8)2−メ
ルカプト−5−スルホベンツイミダゾール (9)1−(2−ヒドロキシエチル)−2−メルカプト
ベンツイミダゾール 0ω 5−カプロアミド−2−メルカプトベンズイミダ
ゾール 005−(2−エチルヘキサノイルアミノ)−2−メル
カプトベンズイミダゾール ルカ チアン ゛−ル溝 (1)5−メチルチオ−2−メルカプト−1,3゜4−
チアジアゾール (2)5−エチルチオ−2−メルカプト−1,3゜4−
チアジアゾール (3)5−(2−ジメチルアミノエチルチオ)−2−メ
ルカプト−1,3,4−チアジアゾール (4)5−(2−カルボキシプロピルチオ)−2−メル
カプト−1,3,4−チアジアゾール(5)2−フェノ
キシカルボニルメチルチオ−5−メルカプト−1,3,
4−チアジアゾール7 メル力 ペンズチ ゾール峰 (1)2−メルカプトベンズチアゾール(2)5−ニト
ロ−2−メルカプトベンズチアゾール (3)5−カルボキシ−2−メルカプトベンズチアゾー
ル (4)5−スルホ−2−メルカプトベンズチアゾール ルカ ベンズオキ ゛−ル峰 (1)2−メルカプトベンズオキサゾール(2)5−ニ
トロ−2−メルカプトベンズオキサゾール (3)5〜カルボキシ−2−メルカプトベンズオキサゾ
ール (4)5−スルホ−2−メルカプトベンズチアゾール ペン: I ゛−ル憬 (+)5.6−シメチルベンソ゛トリアソ′−ル(2)
5−ブチルベンゾトリアゾール (3)5−メチルベンゾトリアゾール (4)5−クロロベンゾトリアゾール (5) 5−ブロモベンゾトリアゾール(6)5.6
−ジクロロベンゾトリアゾール(7)4.6−ジクロロ
ベンゾトリアゾール(8)5−ニトロベンゾトリアゾー
ル (9)4−ニトロ−6−クロロ−ベンゾトリアゾール GO) 4. 5. 6−1−ジクロロベンゾトリア
ゾール θ05−カルボキシベンゾトリアゾール0り5−スルホ
ベンゾトリアゾール Na塩O■ 5−メトキシカルボ
ニルベンゾトリアゾール Qe 5−アミノベンゾトリアゾールaつ 5−ブト
キシベンゾトリアゾール0ω 5−ウレイドベンゾトリ
アゾール0刀 ベンゾトリアゾール 0団5−フェノキシカルボニルベンゾトリアゾール 09)5−(2,3−ジクロロプロピルオキシカルボニ
ル)ベンゾトリアゾール 0 ベンズイミ ゛゛−ル 41) ベンツイミダゾール (21510ロペンツイミタソール (3)5−ニトロペンツイミダゾール (4)5−n−ブチルベンツイミダゾール(5)5−メ
チルベンツイミダゾール (6)4−クロロペンツイミダゾール (7)5.6−シメチルベンツイミダゾール(8)5−
ニトロ−2−(トリフルオロメチル)ペンツイミダゾー
ル インダゾール悸 (1)5−ニトロインダゾール (2)6−ニトロインダゾール (3)5−アミノインダゾール (4)6−アミノインダゾール (5) インダゾール (6)3−ニトロインダゾール (7) 5−ニトロ−3−クロロインタソール(8)
3−クロロ−5−二トロインタソール(9)3−カ
ルボキシ−5−ニトロインダゾール−−パ−ル悸 (1)5−(4−ニトロフェニル)テトラゾール(2)
5−フェニルテトラゾール (3)5−(3−カルボキシフェニル)−テトラゾール 1 −− ゛インー°ン葎 (1)4−ヒドロキシ−6−メチル−5−二トロ1.3
.3a、7−チトラアザインデン(2)4−メルカプト
−6−メチル−5−ニトロ−1,3,3a、7−チトラ
アザインデンルカ ア1−ル悸 (1)4−ニトロチオフェノール (2)チオフェノール (3)2−カルボキシチオフェノール スルホキシ基、 P(R1はアルコキシ基またはI4 アリールオキシ基を表わす、)、イミノメチレン基、チ
オカルボニル基を表わし、■としてはカルボニル基が好
ましい。
Rで表わされる脂肪族基は直鎖、分岐または環状のアル
キル基、アルケニル基、またはアルキニル基であり、好
ましい炭素数は1〜30のものであって、特に炭素数1
〜20のものである。二二で分岐アルキル基はその中に
1つまたはそれ以上のヘテロ原子を含んだ飽和のへテロ
環を形成するように環化されていてもよい。
キル基、アルケニル基、またはアルキニル基であり、好
ましい炭素数は1〜30のものであって、特に炭素数1
〜20のものである。二二で分岐アルキル基はその中に
1つまたはそれ以上のヘテロ原子を含んだ飽和のへテロ
環を形成するように環化されていてもよい。
例えばメチル基、t−ブチル基、n−オクチル基、L−
オクチル基、シクロヘキシル基、ヘキセニル基、ピロリ
ジル基、テトラヒドロフリル基、n−ドデシル基などが
挙げられる。
オクチル基、シクロヘキシル基、ヘキセニル基、ピロリ
ジル基、テトラヒドロフリル基、n−ドデシル基などが
挙げられる。
芳香族基は単環または2環のアリール基であり、例えば
フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
ヘテロ環基は、N、0またはS原子のうち少なくともひ
とつを含む3〜10員の飽和もしくは不飽和のへテロ環
であり、これらは単環でもよいし、さらに他の芳香環も
しくはヘテロ環と縮合環を形成してもよい、ヘテロ環と
して好ましいものは、5ないし6員環の芳香族へテロ環
であり、例えば、とリジン環、イミダゾリル基、キノリ
ニル基、ベンズイミダゾリル基、ピリミジニル基、ピラ
ゾリル基、イソキノリニル基、ベンズチアゾリル基、チ
アゾリル基などが挙げられる。
とつを含む3〜10員の飽和もしくは不飽和のへテロ環
であり、これらは単環でもよいし、さらに他の芳香環も
しくはヘテロ環と縮合環を形成してもよい、ヘテロ環と
して好ましいものは、5ないし6員環の芳香族へテロ環
であり、例えば、とリジン環、イミダゾリル基、キノリ
ニル基、ベンズイミダゾリル基、ピリミジニル基、ピラ
ゾリル基、イソキノリニル基、ベンズチアゾリル基、チ
アゾリル基などが挙げられる。
Rは置換基で置換されていてもよい、置換基としては、
例えば以下のものが挙げられる。これらの基はさらに置
換されていてもよい。
例えば以下のものが挙げられる。これらの基はさらに置
換されていてもよい。
例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
チル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲンi子
、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、スル
ホンアミド基やカルボキシ基、リン酸アミド基などであ
る。
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
チル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲンi子
、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、スル
ホンアミド基やカルボキシ基、リン酸アミド基などであ
る。
また一般式(1)において、R1または+T imeh
−P U Gは、その中にカプラー等の不動性写真用添
加剤において常用されているバラスト基や一般式(1)
で表わされる化合物がハロゲン化銀に吸着することを促
進する基が組み込まれていてもよい。
−P U Gは、その中にカプラー等の不動性写真用添
加剤において常用されているバラスト基や一般式(1)
で表わされる化合物がハロゲン化銀に吸着することを促
進する基が組み込まれていてもよい。
バラスト基は一般式(I)で表わされる化合物が実質的
に他層または処理液中へ拡散できないようにするのに十
分な分子量を与える有機基であり、アルキル基、アリー
ル基、ヘテロ環基、エーテル基、チオエーテル基、アミ
ド基、ウレイド基、ウレタン基、スルホンアミド基など
の一以上の組合せからなるものである。バラスト基とし
て好ましくは置換ベンゼン環を有するバラスト基であり
、特に分岐状アルキル基で置換されたベンゼン環を有す
るバラスト基が好ましい。
に他層または処理液中へ拡散できないようにするのに十
分な分子量を与える有機基であり、アルキル基、アリー
ル基、ヘテロ環基、エーテル基、チオエーテル基、アミ
ド基、ウレイド基、ウレタン基、スルホンアミド基など
の一以上の組合せからなるものである。バラスト基とし
て好ましくは置換ベンゼン環を有するバラスト基であり
、特に分岐状アルキル基で置換されたベンゼン環を有す
るバラスト基が好ましい。
ハロゲン化銀への吸着促進基としては、具体的には4−
チアゾリン−2−チオン、4−イミダシリン−2−チオ
ン、2−チオヒダントイン、ローダニン、チオバルビッ
ール酸、テトラゾリン−5−チオン、1,2.4−トリ
アゾリン−3−チオン、1,3.4−オキサゾリン−2
−千オン、ベンズイミダシリン−2−チオン、ベンズオ
キサゾリン−2−千オン、ベンゾチアプリン−2−チオ
ン、チオトリアジン、1.3−イミダシリン−2−千オ
ンのような環状チオアミド基、鎖状チオアミド基、脂肪
族メルカプト基、芳香族メルカプト基、ペテロ環メルカ
プト基(−3)(基が結合した炭素原子の隣が窒素原子
の場合はこれと互変異性体の関係にある環状チオアミド
基と同義であり、この基の具体例は上に列挙したものと
同じである。)、ジスルフィド結合を有する基、ベンゾ
トリアゾール、トリアゾール、テトラゾール、インダゾ
ール、ベンズイミダゾール、イミダゾール、ベンゾチア
ゾール、チアゾール、チアゾリン、ベンゾオキサゾール
、オキサゾール、オキサゾリン、チアジアゾール、オキ
サチアゾール、トリアジン、アザインデンのような窒素
、酸素、硫黄及び炭素の組合せからなる5員ないし6員
の含窒素へテロ環基、及びベンズイミダゾリニウムのよ
うな複素環四級塩などが挙げられる。
チアゾリン−2−チオン、4−イミダシリン−2−チオ
ン、2−チオヒダントイン、ローダニン、チオバルビッ
ール酸、テトラゾリン−5−チオン、1,2.4−トリ
アゾリン−3−チオン、1,3.4−オキサゾリン−2
−千オン、ベンズイミダシリン−2−チオン、ベンズオ
キサゾリン−2−千オン、ベンゾチアプリン−2−チオ
ン、チオトリアジン、1.3−イミダシリン−2−千オ
ンのような環状チオアミド基、鎖状チオアミド基、脂肪
族メルカプト基、芳香族メルカプト基、ペテロ環メルカ
プト基(−3)(基が結合した炭素原子の隣が窒素原子
の場合はこれと互変異性体の関係にある環状チオアミド
基と同義であり、この基の具体例は上に列挙したものと
同じである。)、ジスルフィド結合を有する基、ベンゾ
トリアゾール、トリアゾール、テトラゾール、インダゾ
ール、ベンズイミダゾール、イミダゾール、ベンゾチア
ゾール、チアゾール、チアゾリン、ベンゾオキサゾール
、オキサゾール、オキサゾリン、チアジアゾール、オキ
サチアゾール、トリアジン、アザインデンのような窒素
、酸素、硫黄及び炭素の組合せからなる5員ないし6員
の含窒素へテロ環基、及びベンズイミダゾリニウムのよ
うな複素環四級塩などが挙げられる。
これらはさらに適当な!換基で置換されていてもよい。
置換基としては、例えばRの置換基として述べたものが
挙げられる。
挙げられる。
以下に本発明に用いられる化合物の具体例を列記するが
本発明はこれに限定されるものではない。
本発明はこれに限定されるものではない。
■−7゜
NO3
■−9゜
■
!−10゜
1−11゜
し112
\N−c、H。
■
C3Hq (IIl
I−21゜
N00
1−22゜
Nす2
[−23゜
1−24゜
1−26゜
1−27゜
NIJχ
1−30゜
υ 5
1−3 1゜
NU雪
1−32゜
1−33゜
1−34゜
1−36゜
NU重
1−38゜
1−39.
1−40゜
1−42゜
1−43゜
1−44゜
l−45゜
SO,Na
1−46゜
1−47゜
U2
48゜
1−49゜
!−50゜
本発明に用いられるレドックス化合物の合成法は例えば
特開昭61−213.847号、同62−260,15
3号、米国特許第4. 684. 604号、特願昭6
3−98803号、米国特許第3.379,529号、
同3,620,746号、同4,377.634号、同
4,332,878号、特開昭49−129.536号
、同56−153.336号、同56−153,342
号などに記載されている。
特開昭61−213.847号、同62−260,15
3号、米国特許第4. 684. 604号、特願昭6
3−98803号、米国特許第3.379,529号、
同3,620,746号、同4,377.634号、同
4,332,878号、特開昭49−129.536号
、同56−153.336号、同56−153,342
号などに記載されている。
本発明のレドックス化合物は、ハロゲン化銀1モル当り
1.0X10−”モル〜5.0X10−”モル、好まし
くは1.0X10−’〜1.0X10−”モルの範囲内
で用いられる。本発明のレドックス化合物は、適当な水
混和性有機溶媒、例えば、アルコール類(メタノール、
エタノール、プロパツール、フッ素化アルコール)、ケ
トン@(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブ
などに溶解して用いることができる。
1.0X10−”モル〜5.0X10−”モル、好まし
くは1.0X10−’〜1.0X10−”モルの範囲内
で用いられる。本発明のレドックス化合物は、適当な水
混和性有機溶媒、例えば、アルコール類(メタノール、
エタノール、プロパツール、フッ素化アルコール)、ケ
トン@(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブ
などに溶解して用いることができる。
また、既に良く知られている乳化分散法によって、ジブ
チルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセ
リルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどの
オイルに、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶
媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作成して用い
ることもできる。あるいは、個体分散法として知られて
いる方法によって、レドックス化合物の粉末を水の中に
、ボールミル、コロイドミル、あるいは超音波によって
分散して用いることもできる。
チルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセ
リルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどの
オイルに、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶
媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作成して用い
ることもできる。あるいは、個体分散法として知られて
いる方法によって、レドックス化合物の粉末を水の中に
、ボールミル、コロイドミル、あるいは超音波によって
分散して用いることもできる。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、支持体上に少な
くとも一層のハロゲン化銀乳剤層を包含する親水性コロ
イド層を塗設してなり、ハロゲン化銀乳剤層の上にさら
に保護層としての親水性コロイド層を塗設してもよい、
また、ハロゲン化銀乳剤層は異なる感度、例えば高感度
及び低感度のハロゲン化銀乳剤層に分けてもよい。
くとも一層のハロゲン化銀乳剤層を包含する親水性コロ
イド層を塗設してなり、ハロゲン化銀乳剤層の上にさら
に保護層としての親水性コロイド層を塗設してもよい、
また、ハロゲン化銀乳剤層は異なる感度、例えば高感度
及び低感度のハロゲン化銀乳剤層に分けてもよい。
親水性コロイド層は、主に感光層と非感光層とに大別す
ることができる。感光層はハロゲン化銀乳剤層が代表的
であり、非感光層は下地層、中間層、保護層等が挙げら
れる。
ることができる。感光層はハロゲン化銀乳剤層が代表的
であり、非感光層は下地層、中間層、保護層等が挙げら
れる。
本発明に好ましく用いられるハロゲン化銀粒子は、その
Bre含有率が粒子全体の10〜100モル%、好まし
くは30〜100モル%、特に好ましくは30〜80モ
ル%である。O4e含有率は0〜90モル%、好ましく
は0〜70モル%、特に好ましくは0〜20モル%であ
り、I8含有率は0〜5モル%、特に好ましくは0〜2
モル%である。
Bre含有率が粒子全体の10〜100モル%、好まし
くは30〜100モル%、特に好ましくは30〜80モ
ル%である。O4e含有率は0〜90モル%、好ましく
は0〜70モル%、特に好ましくは0〜20モル%であ
り、I8含有率は0〜5モル%、特に好ましくは0〜2
モル%である。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いるハロゲン化
銀については特に限定はないが、ハロゲン化銀粒子の平
均粒径は0.10μm〜0.40μmが好ましい、なお
本発明で応用しているハロゲン化銀の晶相の制御法につ
いての総説はF、H。
銀については特に限定はないが、ハロゲン化銀粒子の平
均粒径は0.10μm〜0.40μmが好ましい、なお
本発明で応用しているハロゲン化銀の晶相の制御法につ
いての総説はF、H。
CLABSと―、PEELAER3らにより報告されて
いる。
いる。
(P、 S、 E、誌第12巻(1968年)207頁
〜212頁) 本発明において用いられるハロゲン化銀は、種々な増感
剤、増感色素、安定剤等を用いることができる。
〜212頁) 本発明において用いられるハロゲン化銀は、種々な増感
剤、増感色素、安定剤等を用いることができる。
本発明に用いる支持体としては、例えばポリエステルフ
ィルム等感光材料業界で用いている各種支持体を用いる
ことができる。
ィルム等感光材料業界で用いている各種支持体を用いる
ことができる。
本発明の感光材料は適度の膜厚を有する保iiN、即ち
好ましくは0.1〜10μm、特に好ましくは0.8〜
2μmのゼラチン保護層が塗設されているのが望ましい
。
好ましくは0.1〜10μm、特に好ましくは0.8〜
2μmのゼラチン保護層が塗設されているのが望ましい
。
本発明に用いられる前記親水性コロイド層には必要に応
じて各種写真用添加剤、例えばゼラチン可塑剤、硬膜剤
、界面活性剤、画像安定剤、紫外線吸収剤、アスチステ
イン剤、pH調整剤、酸化防止剤、帯電防止剤、増粘剤
、粒状系向上剤、染料、モルダント、増白剤、現像速度
調整剤、マント荊等を使用することができる。
じて各種写真用添加剤、例えばゼラチン可塑剤、硬膜剤
、界面活性剤、画像安定剤、紫外線吸収剤、アスチステ
イン剤、pH調整剤、酸化防止剤、帯電防止剤、増粘剤
、粒状系向上剤、染料、モルダント、増白剤、現像速度
調整剤、マント荊等を使用することができる。
本発明のテトラゾリウム化合物を含有するハロゲン化銀
写真感光材料は下記一般式(V)で表される化合物を含
有する現像液で現像されることが好ましい。
写真感光材料は下記一般式(V)で表される化合物を含
有する現像液で現像されることが好ましい。
一般式(V)
R1
(式中Raは5位又は6位のニトロ基、R8は水素原子
又は炭素数1〜5の低級アルキル基を表す、) 一般式(V)で表す具体的化合物として、5−ニトロイ
ンダゾール、6−ニトロインタソールなどが挙げられる
が、本発明は何等これに限定されるものではない。
又は炭素数1〜5の低級アルキル基を表す、) 一般式(V)で表す具体的化合物として、5−ニトロイ
ンダゾール、6−ニトロインタソールなどが挙げられる
が、本発明は何等これに限定されるものではない。
一般式(V)で表す化合物は、ジエチI/ングリコール
、トリエチレングリコール、エタノール、ジェタノール
アミン及びトリエタノールアミン等の有機溶剤、水酸化
ナトリウムなどのアルカリ及び酢酸等の酸等に溶解して
現像液に添加してもよいし、そのまま添加してもよい。
、トリエチレングリコール、エタノール、ジェタノール
アミン及びトリエタノールアミン等の有機溶剤、水酸化
ナトリウムなどのアルカリ及び酢酸等の酸等に溶解して
現像液に添加してもよいし、そのまま添加してもよい。
一般式(V)で表される化合物は現像液11当たり約1
■から1.000■が好ましく、より好ましくは約50
■から300■の濃度範囲で含まれる。
■から1.000■が好ましく、より好ましくは約50
■から300■の濃度範囲で含まれる。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の現像に用いられる
現像主薬としては、T、H,ジェームス著ザ・セオリイ
・オブ・ザ・フォトグラフインク・プロセス第4版(T
he Theory of the Photogra
phtcProcess、Fourth Editio
n)第291頁〜334頁及びジャーナル・オブ・ザ・
アメリカン・ケミカル・ソサイテイ(Journal
of the American Che++1cal
Society)第73巻、第3,100頁 (195
1)に記載されているごとき現像剤が本発明に有効に使
用し得るものである。これらの現像剤は単独で使用して
も2種以上を組合わせてもよいが、2種以上組合せて用
いる方が好ましい、また本発明の感光材料の現像に使用
する現像液には保恒剤として、例えば亜硫酸ナトリウム
、亜硫酸カリウム等の亜硫酸塩を用いても、本発明の効
果が損なわれることなく、本発明の1つの特徴として挙
げることができる。また保恒剤としてヒドロキシルアミ
ン、ヒドラジド化合物を用いてもよい。その他一般白黒
現像液で用いられるような苛性アルカリ、液酸アルカリ
またはアミン等によるpHの調整とバッファー機能を持
たせること、及びプaムカリなど無機現像抑制剤及びベ
ンゾl−リアゾール等の有機現像抑制剤、エチレンジア
ミン四酢酸等の金属イオン捕捉剤、メタノール、エタノ
ール、ベンジルアルコール、ポリアルキレンオキシド等
の現像促進剤、アルキルアリールスルホン酸ナトリウム
、天然のサポニン、mMまたは前記化合物のアルキルエ
ステル物等の界面活性剤、グルタルアルデヒド、ホルマ
リン、グリオキザール等の硬膜剤、硫酸ナトリウム等の
イオン強度調整側等の添加を行うことは任意である。
現像主薬としては、T、H,ジェームス著ザ・セオリイ
・オブ・ザ・フォトグラフインク・プロセス第4版(T
he Theory of the Photogra
phtcProcess、Fourth Editio
n)第291頁〜334頁及びジャーナル・オブ・ザ・
アメリカン・ケミカル・ソサイテイ(Journal
of the American Che++1cal
Society)第73巻、第3,100頁 (195
1)に記載されているごとき現像剤が本発明に有効に使
用し得るものである。これらの現像剤は単独で使用して
も2種以上を組合わせてもよいが、2種以上組合せて用
いる方が好ましい、また本発明の感光材料の現像に使用
する現像液には保恒剤として、例えば亜硫酸ナトリウム
、亜硫酸カリウム等の亜硫酸塩を用いても、本発明の効
果が損なわれることなく、本発明の1つの特徴として挙
げることができる。また保恒剤としてヒドロキシルアミ
ン、ヒドラジド化合物を用いてもよい。その他一般白黒
現像液で用いられるような苛性アルカリ、液酸アルカリ
またはアミン等によるpHの調整とバッファー機能を持
たせること、及びプaムカリなど無機現像抑制剤及びベ
ンゾl−リアゾール等の有機現像抑制剤、エチレンジア
ミン四酢酸等の金属イオン捕捉剤、メタノール、エタノ
ール、ベンジルアルコール、ポリアルキレンオキシド等
の現像促進剤、アルキルアリールスルホン酸ナトリウム
、天然のサポニン、mMまたは前記化合物のアルキルエ
ステル物等の界面活性剤、グルタルアルデヒド、ホルマ
リン、グリオキザール等の硬膜剤、硫酸ナトリウム等の
イオン強度調整側等の添加を行うことは任意である。
本発明の感光材料の現像に使用される現像液には、有機
溶剤としてアルカノールアミン類やグリコール等を含有
させてもよい、上記のアルカノールアミンとしては、例
えばモノエタノールアミン、ジェタノールアミン、トリ
エタノールアミン等があるが、トリエタノールアミンが
好ましく用いられる。これらアルカノールアミンの好ま
しい使用量は現像液1!当たり5〜500gで、より好
ましくは20〜200gである。
溶剤としてアルカノールアミン類やグリコール等を含有
させてもよい、上記のアルカノールアミンとしては、例
えばモノエタノールアミン、ジェタノールアミン、トリ
エタノールアミン等があるが、トリエタノールアミンが
好ましく用いられる。これらアルカノールアミンの好ま
しい使用量は現像液1!当たり5〜500gで、より好
ましくは20〜200gである。
また上記のグリコール類としては、エチレングリコール
、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、トリ
エチレングリコール、1,4−ブタンジオール、■、5
−ベンタンジオール等があるが、ジエチレングリコール
が好ましく用いられる。そしてこれらグリコール類の使
用量は現像液11当たり5〜500gがよ(、より好ま
しくは20〜200gである。これらの有i溶媒は、単
独でも併用しても用いることができる。
、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、トリ
エチレングリコール、1,4−ブタンジオール、■、5
−ベンタンジオール等があるが、ジエチレングリコール
が好ましく用いられる。そしてこれらグリコール類の使
用量は現像液11当たり5〜500gがよ(、より好ま
しくは20〜200gである。これらの有i溶媒は、単
独でも併用しても用いることができる。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、上記の現像液を
用いて現像処理することにより極めて保存安定性に優れ
た感光材料を得ることができる。
用いて現像処理することにより極めて保存安定性に優れ
た感光材料を得ることができる。
上記の組成になる現像液のpHは9〜12がよいが、保
恒性及び写真特性上からpH値は10〜11の範囲が好
ましい。
恒性及び写真特性上からpH値は10〜11の範囲が好
ましい。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条件で処
理することができる。処理条件は、例えば現像温度は5
0℃以下が好ましく、特に30℃前後が好ましく、また
現像時間は3分以内に終了することが一般的であるが、
特に好ましくは1分以内が好結果をもたらすことが多い
、また現像以外の処理工程、例えば水洗、停止、安定、
定着、さらに必要に応じて前硬膜、中和等の工程を採用
することは任意であり、これらは適宜省略することもで
きる。さらにまた、これらの処理は皿現像、枠現像等い
わゆる手現像処理でも、ローラー現像、ハンガー現像な
ど機械現像であってもよい。
理することができる。処理条件は、例えば現像温度は5
0℃以下が好ましく、特に30℃前後が好ましく、また
現像時間は3分以内に終了することが一般的であるが、
特に好ましくは1分以内が好結果をもたらすことが多い
、また現像以外の処理工程、例えば水洗、停止、安定、
定着、さらに必要に応じて前硬膜、中和等の工程を採用
することは任意であり、これらは適宜省略することもで
きる。さらにまた、これらの処理は皿現像、枠現像等い
わゆる手現像処理でも、ローラー現像、ハンガー現像な
ど機械現像であってもよい。
以下に実施例をあげて本発明をさらに詳しく説明するが
、本発明はこれらに限定されるものではない。
、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例−1
(A)ハロゲン化銀乳剤の調製
ダブルジェット法を用いて平均粒子サイズ0゜2μの立
方体、単分散塩沃臭化銀乳剤(変動係数0.13、沃化
銀2モル%、塩化wi33モル%)を調製した。
方体、単分散塩沃臭化銀乳剤(変動係数0.13、沃化
銀2モル%、塩化wi33モル%)を調製した。
この乳剤を通常の方法で脱塩後金硫黄増感を施し安定剤
として6−メチル−4−ヒドロキシ−1゜3.3a、?
−テトラザインデンを加え増感色素として前記化合物■
−7)を乳剤中に含まれるハロゲン化S!i1モル当り
150■添加して色素増感した。
として6−メチル−4−ヒドロキシ−1゜3.3a、?
−テトラザインデンを加え増感色素として前記化合物■
−7)を乳剤中に含まれるハロゲン化S!i1モル当り
150■添加して色素増感した。
(B)塗布サンプルの作製
ハロゲン化銀1モル当り臭化カリウム500■、一般式
(I)で表わされる化合物として前記化合物■−3)を
800w、p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
100■、5−ニトロインダゾール30■、5−メチル
ベンゾトリアゾール20■、スチレン・マレイン酸コポ
リマー1.5gおよびスチレン・ブチルアクリレートコ
ポリマーラテックス(平均粒径0.25μ)15gを加
えた。
(I)で表わされる化合物として前記化合物■−3)を
800w、p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
100■、5−ニトロインダゾール30■、5−メチル
ベンゾトリアゾール20■、スチレン・マレイン酸コポ
リマー1.5gおよびスチレン・ブチルアクリレートコ
ポリマーラテックス(平均粒径0.25μ)15gを加
えた。
さらに表−1に示す如く染料およびレドックス化合物が
所定の塗布量となるべく添加したのち塗布銀量4.Og
/rt、ゼラチン量2.1g/n(になる様に特開昭5
9−19941号の実施例−1に記載の下引を施した支
持体上に塗布した。
所定の塗布量となるべく添加したのち塗布銀量4.Og
/rt、ゼラチン量2.1g/n(になる様に特開昭5
9−19941号の実施例−1に記載の下引を施した支
持体上に塗布した。
その際、ゼラチン量1.2g/n?になる様に延展剤と
して1−デシル−2−(3−イソペンチル)サクシネー
ト−2−スルホン酸ナトリウムを30w/rd、硬膜剤
としてホルマリン25■/、(を含む保護層を同時重層
塗布して表−1に示す試料1〜31を作製した。
して1−デシル−2−(3−イソペンチル)サクシネー
ト−2−スルホン酸ナトリウムを30w/rd、硬膜剤
としてホルマリン25■/、(を含む保護層を同時重層
塗布して表−1に示す試料1〜31を作製した。
上記テストサンプルはKON I CA例MGR−27
自動現像機とコニカディベロソバ−CDM−651K及
びコニカフィクサーCFL−851を用い現像条件は2
8℃30秒で処理した。
自動現像機とコニカディベロソバ−CDM−651K及
びコニカフィクサーCFL−851を用い現像条件は2
8℃30秒で処理した。
次にテスト方法について記述する。
1、目伸ばし画質の評価
(ll 原稿の作成
富士写真フィルム株式会社製モノクロスキャナー5CA
NART30及び専用感材5F−100を使って網点よ
りなる人物の透過画像及び網パーセントを段階的に変え
たステップウェッジを作成した。この時スクリーン線数
は150線/インチで行なった。
NART30及び専用感材5F−100を使って網点よ
りなる人物の透過画像及び網パーセントを段階的に変え
たステップウェッジを作成した。この時スクリーン線数
は150線/インチで行なった。
(2)過影
大日本スクリーン■社製製版カメラC−440に上記原
稿を目伸ばし倍率が等倍になる様にセットした後Xeラ
ンプを照射することにより評価サンプルに露光を与えた
。
稿を目伸ばし倍率が等倍になる様にセットした後Xeラ
ンプを照射することにより評価サンプルに露光を与えた
。
この時原稿のステップウェッジの95%の部分が5%と
なる様にして露光を行なった。
なる様にして露光を行なった。
(3)評価
(2)の様に露光量を調節して小点側(ハイライト部)
の網点パーセントを合わせたサンプルのシャドウ部の階
調再現性(網点のつぶれ難さ)を目視評価し良いものか
ら順に10段階評価(10〜1)を行なった。
の網点パーセントを合わせたサンプルのシャドウ部の階
調再現性(網点のつぶれ難さ)を目視評価し良いものか
ら順に10段階評価(10〜1)を行なった。
2、コピードツトの評価
(11原稿の作成
富士写真フィルム株式会社製モノクロスキャナー5CA
NART30及び専用ペーパーSP−1oowpを使っ
て網パーセントを段階的に変えたステップウェッジを作
成した。露光時のスクリーン線数は150線/インチで
行なった。
NART30及び専用ペーパーSP−1oowpを使っ
て網パーセントを段階的に変えたステップウェッジを作
成した。露光時のスクリーン線数は150線/インチで
行なった。
(2)盪影
大日本スクリーン■社製製版カメラC−690(オート
コンパ二カ)に上記原稿及び試料を所定の位置にセント
しXeランプを反射原稿に照射し盪影した。
コンパ二カ)に上記原稿及び試料を所定の位置にセント
しXeランプを反射原稿に照射し盪影した。
この時露光時間は、原稿上でステップウェッジの80%
の部分がサンプル上で10%となる様に調整した。
の部分がサンプル上で10%となる様に調整した。
(3) 評価
(2)に記載のごとく露光時間を調節して小点側の網パ
ーセントが10%のサンプルのハイライト部の階調再現
性(網点のつずれ難さ)を目視評価し良いものを10悪
いものを1としてlO段階の相対評価をおこなった。
ーセントが10%のサンプルのハイライト部の階調再現
性(網点のつずれ難さ)を目視評価し良いものを10悪
いものを1としてlO段階の相対評価をおこなった。
3、感度の評価
(11目伸ばし感度
目伸ばし原稿のステップウェッジの95%の部分がサン
プル上で5%となる時の露光時間を求め、比較サンプル
■の感度を100とした時の相対値で表わす。
プル上で5%となる時の露光時間を求め、比較サンプル
■の感度を100とした時の相対値で表わす。
(2) コピードツト感度
コピードツト原稿のステップウェッジの80%の部分が
サンプル上で10%となる時の露光時間を求め、比較サ
ンプル■の感度を100とした時の相対値で表わす。
サンプル上で10%となる時の露光時間を求め、比較サ
ンプル■の感度を100とした時の相対値で表わす。
第1表から明らかなように本発明の態様である試料漱1
4〜31は、感度低下をもたらすことなく画質を著しく
良化させることがわかる。
4〜31は、感度低下をもたらすことなく画質を著しく
良化させることがわかる。
実施例−2
(A)ハロゲン化銀乳剤の調製
コントロールダブルジェット法を用いて粒子サイズ0.
2μの単分散塩沃臭化銀乳剤(変動係数0.15、沃化
銀0.5モル%、塩化銀70モル%)を調製した。
2μの単分散塩沃臭化銀乳剤(変動係数0.15、沃化
銀0.5モル%、塩化銀70モル%)を調製した。
この乳剤を通常の方法で脱塩後チオ硫黄ナトリウムとカ
リウムクロロオーレートにて全硫黄増感を施し安定剤と
して6−メチル−4−ヒドロキシ−!、3,3a、7−
チトラザインデンを加え増感色素として前記化合物■−
1)をハロゲン化銀1モル当り20■添加した。
リウムクロロオーレートにて全硫黄増感を施し安定剤と
して6−メチル−4−ヒドロキシ−!、3,3a、7−
チトラザインデンを加え増感色素として前記化合物■−
1)をハロゲン化銀1モル当り20■添加した。
(B)塗布サンプルの作製
ハロゲン化1!1モル当り、−m式(II)で表わされ
る化合物として前記化合物n−6)を800■、更にp
−ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ300■、スチレ
ン−マレイン酸共重合体ポリマー2g1スチレン−ブチ
ルアクリレート−アクリル酸共重合体ラテックス(平均
粒径0.25μ)15gを加えた。さらに表−2に示す
如くレドックス化合物が所定の塗布量となるべく添加し
たのち、塗布銀量3.5g/rd、ゼラチン量2.0g
/イになる様に特開昭59−19941号の実施例−1
に記載の下引をしたポリエチレンテレフタレートフィル
ムベース上に2布1.り。
る化合物として前記化合物n−6)を800■、更にp
−ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ300■、スチレ
ン−マレイン酸共重合体ポリマー2g1スチレン−ブチ
ルアクリレート−アクリル酸共重合体ラテックス(平均
粒径0.25μ)15gを加えた。さらに表−2に示す
如くレドックス化合物が所定の塗布量となるべく添加し
たのち、塗布銀量3.5g/rd、ゼラチン量2.0g
/イになる様に特開昭59−19941号の実施例−1
に記載の下引をしたポリエチレンテレフタレートフィル
ムベース上に2布1.り。
同時に保護層として、ゼラチン量1.6g/n(となる
様に、また延展剤としてl−デシル−2−(3−イソペ
ンチル)サクシネート−2−スルホン酸ソーダを30■
/n(、粒子サイズ約3μの不定型なSin茸マット剤
を40mg/rd、下記構造式で示されるフッ素系界面
活性剤を塗布した。
様に、また延展剤としてl−デシル−2−(3−イソペ
ンチル)サクシネート−2−スルホン酸ソーダを30■
/n(、粒子サイズ約3μの不定型なSin茸マット剤
を40mg/rd、下記構造式で示されるフッ素系界面
活性剤を塗布した。
Cs R+ q S Ot N CHt COOKCs
H’1 その際表−2に示す染料が所定の塗布量となる様゛に加
えて、更に硬膜剤としてホルマリン25■/dを加え乳
剤層と同時重層塗布し試料1〜24をつくった。
H’1 その際表−2に示す染料が所定の塗布量となる様゛に加
えて、更に硬膜剤としてホルマリン25■/dを加え乳
剤層と同時重層塗布し試料1〜24をつくった。
実施例−1と同様な方法で試料の露光・現像及び評価を
行なった。
行なった。
第2表より明らかなように本発明の態様である試料隘1
2〜24は感度低下をもたらすことなく画質を著しく良
化させている。
2〜24は感度低下をもたらすことなく画質を著しく良
化させている。
Claims (1)
- (1)吸収極大(λmax)を450nm〜580nm
に有する増感色素によって分光増感された感光性ハロゲ
ン化銀写真乳剤層を少なくとも1層有し、該写真乳剤層
又は他の親水性コロイド層に下記一般式(II)で示され
る化合物を含有するハロゲン化銀写真感光材料において
、300nm〜420nmに吸収極大を有する染料と、
酸化されることにより現像抑制剤を放出しうるレドック
ス化合物とをそれぞれ少なくとも1種含有することを特
徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ 但し、R_1、R_2及びR_3は同一でも異っていて
もよく、それぞれアルキル基、アミノ基、アシルアミノ
基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、
ハロゲン原子、カルバモイル基、アシルチオ基、アルコ
キシカルボニル基、カルボキシル基、アシル基、シアノ
基、ニトロ基、メルカプト基、スルホオキシ基又はアミ
ノスルホキシ基である。X^■はアニオンである。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13098189A JPH02308239A (ja) | 1989-05-24 | 1989-05-24 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13098189A JPH02308239A (ja) | 1989-05-24 | 1989-05-24 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02308239A true JPH02308239A (ja) | 1990-12-21 |
Family
ID=15047125
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13098189A Pending JPH02308239A (ja) | 1989-05-24 | 1989-05-24 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02308239A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05289237A (ja) * | 1992-04-09 | 1993-11-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 明室用高コントラストハロゲン化銀感光材料 |
EP0580041A2 (en) | 1992-07-10 | 1994-01-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of processing silver halide photographic material and composition for processing |
EP0589460A1 (en) | 1992-09-24 | 1994-03-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for processing a black & white silver halide light-sensitive material |
US5399465A (en) * | 1993-01-15 | 1995-03-21 | Eastman Kodak Company | Method of processing reversal elements comprising selected development inhibitors and absorber dyes |
-
1989
- 1989-05-24 JP JP13098189A patent/JPH02308239A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05289237A (ja) * | 1992-04-09 | 1993-11-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 明室用高コントラストハロゲン化銀感光材料 |
EP0580041A2 (en) | 1992-07-10 | 1994-01-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of processing silver halide photographic material and composition for processing |
EP0589460A1 (en) | 1992-09-24 | 1994-03-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for processing a black & white silver halide light-sensitive material |
US5399465A (en) * | 1993-01-15 | 1995-03-21 | Eastman Kodak Company | Method of processing reversal elements comprising selected development inhibitors and absorber dyes |
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