JPH03119348A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた超
硬調ネガ画像形成方法に関するものであり、特に写真製
版工程に用いられるハロゲン化銀写真感光材料に適した
超硬調ネガ型写真感光材料に関するものである。
硬調ネガ画像形成方法に関するものであり、特に写真製
版工程に用いられるハロゲン化銀写真感光材料に適した
超硬調ネガ型写真感光材料に関するものである。
(従来技術)
写真製版の分野においては、印刷物の多様性、複雑性に
対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感光材
料、安定な処理液あるいは、補充の簡易化などの要望が
ある。
対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感光材
料、安定な処理液あるいは、補充の簡易化などの要望が
ある。
特に線画撮影工程における、原稿は写植文字、手書きの
文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれて
作られる。したがって原稿には、濃度や、線巾の異なる
画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版カ
メラ、写真感光材料あるいは、画像形成方法が強く望ま
れている。
文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれて
作られる。したがって原稿には、濃度や、線巾の異なる
画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版カ
メラ、写真感光材料あるいは、画像形成方法が強く望ま
れている。
方、カタログや、大型ポスターの製版には、網写真の拡
大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が広く行なわれ、
網点を拡大して用いる製版では、線数が粗くなりボケだ
点の撮影となる。縮小では原稿よりさらに線数/インチ
が大きく細い点の撮影になる。従って網階調の再現性を
維持するためより一層広いラチチュードを有する画像形
成方法が要求されている。
大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が広く行なわれ、
網点を拡大して用いる製版では、線数が粗くなりボケだ
点の撮影となる。縮小では原稿よりさらに線数/インチ
が大きく細い点の撮影になる。従って網階調の再現性を
維持するためより一層広いラチチュードを有する画像形
成方法が要求されている。
製版用カメラの光源としては、ハロゲンランプあるいは
、キセノンランプが用いられている。これらの光源に対
して撮影感度を得るために、写真感光材料は通常オルソ
増感が施される。ところがオルソ増感した写真感光材料
はレンズの色収差の影響をより強(受け、そのために画
質が劣化しやすいことが判明した。またこの劣化はキセ
ノンランプ光源に対してより顕著となる。
、キセノンランプが用いられている。これらの光源に対
して撮影感度を得るために、写真感光材料は通常オルソ
増感が施される。ところがオルソ増感した写真感光材料
はレンズの色収差の影響をより強(受け、そのために画
質が劣化しやすいことが判明した。またこの劣化はキセ
ノンランプ光源に対してより顕著となる。
広いラチチュードの要望に応えるシステムとして塩臭化
銀(す(な(とも塩化銀含有率が50%以上)から成る
リス型ハロゲン化銀感光材料を、亜硫酸゛イオンの有効
濃度をきわめて低くした(通常0. 1モル/1以下)
ハイドロキノン現像液で処理することにより、画像部と
非画像部が明瞭に区別された、高いコントラストと高い
黒化濃度をもつ線画あるいは網点画像を得る方法が知ら
れている。しかしこの方法では現像液中の亜硫酸濃度が
低いため、現像は空気酸化に対して極めて不安定であり
、液活性を安定に保つためにさまざまな努力と工夫がな
されて使用されていたり、処理スピードが著しく遅い、
作業効率を低下させているのが現状であった。
銀(す(な(とも塩化銀含有率が50%以上)から成る
リス型ハロゲン化銀感光材料を、亜硫酸゛イオンの有効
濃度をきわめて低くした(通常0. 1モル/1以下)
ハイドロキノン現像液で処理することにより、画像部と
非画像部が明瞭に区別された、高いコントラストと高い
黒化濃度をもつ線画あるいは網点画像を得る方法が知ら
れている。しかしこの方法では現像液中の亜硫酸濃度が
低いため、現像は空気酸化に対して極めて不安定であり
、液活性を安定に保つためにさまざまな努力と工夫がな
されて使用されていたり、処理スピードが著しく遅い、
作業効率を低下させているのが現状であった。
このため、上記のような現像方法(リス現像システム)
による画像形成の不安定さを解消し、良好な保存安定性
を有する処理液で現像し、超硬調な写真特性が得られる
画像形成システムが要望され、その1つとして米国特許
4,166.742号、同4,168,977号、同4
. 221. 857号、同4,224.401号、同
4,243.739号、同4,272,606号、同4
,311.781号にみられるように、特定のアシルヒ
ドラジン化合物を添加した表面潜像型ハロゲン化銀写真
感光材料を、pH11,0〜12.3で亜硫酸保恒剤を
0.15モル/1以上含み、良好な保存安定性を有する
現像液で処理して、γが10を越える超硬調のネガ画像
を形成するハステムが提案された。この新しい画像形成
システムには、従来の超硬調画像形成では塩化銀含有率
の高い塩臭化銀しか使用できなかったのに対して、沃臭
化銀や塩沃臭化銀でも使用できるという特徴がある。
による画像形成の不安定さを解消し、良好な保存安定性
を有する処理液で現像し、超硬調な写真特性が得られる
画像形成システムが要望され、その1つとして米国特許
4,166.742号、同4,168,977号、同4
. 221. 857号、同4,224.401号、同
4,243.739号、同4,272,606号、同4
,311.781号にみられるように、特定のアシルヒ
ドラジン化合物を添加した表面潜像型ハロゲン化銀写真
感光材料を、pH11,0〜12.3で亜硫酸保恒剤を
0.15モル/1以上含み、良好な保存安定性を有する
現像液で処理して、γが10を越える超硬調のネガ画像
を形成するハステムが提案された。この新しい画像形成
システムには、従来の超硬調画像形成では塩化銀含有率
の高い塩臭化銀しか使用できなかったのに対して、沃臭
化銀や塩沃臭化銀でも使用できるという特徴がある。
上記画像システムはシャープな網点品質、処理安定性、
迅速性およびオリジナルの再現性という点ですぐれた性
能を示すが、近年の印刷物の多様性に対処するためにさ
らにオリジナル再現性の改良されたシステムが望まれて
いる。
迅速性およびオリジナルの再現性という点ですぐれた性
能を示すが、近年の印刷物の多様性に対処するためにさ
らにオリジナル再現性の改良されたシステムが望まれて
いる。
特開昭61−213847号およびUS4. 684.
604に酸化により現像抑制剤を放出するレドックス化
合物を含む感光材料が示され、階調再現域を広げる試み
が示されている。しかしながら、ヒドラジン誘導体を用
いた超硬調処理システムではこれらのレドックス化合物
は硬調化を阻害する弊害があり、その特性を活かすこと
ができなかった。また、放出された現像抑制剤が、充分
には隣接部に拡散しないため、階調再現域が充分には広
がらず、より改良が望まれていた。
604に酸化により現像抑制剤を放出するレドックス化
合物を含む感光材料が示され、階調再現域を広げる試み
が示されている。しかしながら、ヒドラジン誘導体を用
いた超硬調処理システムではこれらのレドックス化合物
は硬調化を阻害する弊害があり、その特性を活かすこと
ができなかった。また、放出された現像抑制剤が、充分
には隣接部に拡散しないため、階調再現域が充分には広
がらず、より改良が望まれていた。
(発明の目的)
従って本発明の目的は、第1に安定性の高い現像液を用
いて硬調が画像が得られる製版用感光材料を提供するこ
とにある。
いて硬調が画像が得られる製版用感光材料を提供するこ
とにある。
第2に網階調の広い製版用感光材料を提供することにあ
る。第3に、ヒドラジン造核剤を用いた硬調感材で網階
調の広い製版用感光材料を提供することにある。
る。第3に、ヒドラジン造核剤を用いた硬調感材で網階
調の広い製版用感光材料を提供することにある。
(発明の構成)
本発明のこれらの目的は、支持体の上に、■ 第一のハ
ロゲン化銀感光乳剤層、 ■ ヒドラジン誘導体を含む第二のハロゲン化銀乳剤層 を有し、該第一のハロゲン化銀感光乳剤層、あるいはそ
の他の親水性コロイド層に、酸化されることにより現像
抑制剤を放出しつるレドックス化合物を含み、また、該
第一のハロゲン化銀感光乳剤層と、該第二のハロゲン化
銀乳剤層とが、互いに異なる波長域に分光増感されてい
ることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によって
達成された。
ロゲン化銀感光乳剤層、 ■ ヒドラジン誘導体を含む第二のハロゲン化銀乳剤層 を有し、該第一のハロゲン化銀感光乳剤層、あるいはそ
の他の親水性コロイド層に、酸化されることにより現像
抑制剤を放出しつるレドックス化合物を含み、また、該
第一のハロゲン化銀感光乳剤層と、該第二のハロゲン化
銀乳剤層とが、互いに異なる波長域に分光増感されてい
ることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によって
達成された。
酸化されることにより現像抑制剤を放出するレドックス
化合物について説明する。
化合物について説明する。
本発明のレドックス化合物は、レドックス基としてハイ
ドロキノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン類
、アミノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン類
、ヒドロキシルアミン類、レダクトン類を有する。
ドロキノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン類
、アミノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン類
、ヒドロキシルアミン類、レダクトン類を有する。
好ましい前記レドックス化合物はレドックス基としてヒ
ドラジン類を有することを特徴とする。
ドラジン類を有することを特徴とする。
さらに好ましい前記レドックス化合物は下記−般式(I
)で表わされる。
)で表わされる。
一般式(1)
%式%
(式中、Al−A2はともに水素原子又は一方が水素原
子で他方はスルフィン酸残基もしくは十C+r Re
(式中、R・はアルキル基、アルケニ1 ル基、アリール基、アルコキシ基またはアリールオキシ
基を表わし、lは1または2を表わす、)を表わす、
Timeは二価の連結基を表わし、tはOまたはlを表
わす、 PIJGは現像抑制剤を表わす。
子で他方はスルフィン酸残基もしくは十C+r Re
(式中、R・はアルキル基、アルケニ1 ル基、アリール基、アルコキシ基またはアリールオキシ
基を表わし、lは1または2を表わす、)を表わす、
Timeは二価の連結基を表わし、tはOまたはlを表
わす、 PIJGは現像抑制剤を表わす。
0
1
ルホキシ基、−p (R+ はアルコキシ基またはアR
。
。
リールオキシ基を表わす、)イミノメチレン基、または
チオカルボニル基を表わす、Rは脂肪族基、芳香族基ま
たはへテロ環基を表わす、)以下−触式(1)について
説明する。
チオカルボニル基を表わす、Rは脂肪族基、芳香族基ま
たはへテロ環基を表わす、)以下−触式(1)について
説明する。
−m式(T)においてA1、A2は水素原子、炭素数2
0以下のアルキルスルホニル基およびアリールスルホニ
ル基(好ましくはフェニルスルホニル基又はハメットの
置換基定数の和が−0,5以上となるように置換された
フェニルスルホニル基 、→C+−r−Ro (R1
1として好ましくは炭素1 数30以下の直鎖、分岐状または環状のアルキル基、ア
ルケニル基、アリール基(好ましくはフェニル基、又は
ハメットの置換基定数の和が−0゜5以上となるように
置換されたフェニル基)、アルコキシ基(例えばエトキ
シ基など)、アリールオキシ基(好ましくは単環のもの
)などであり、これらの基は置換基を有していてもよく
置換基としては、例えば以下のものがあげられる。これ
らの基は更に置換されていてもよい。
0以下のアルキルスルホニル基およびアリールスルホニ
ル基(好ましくはフェニルスルホニル基又はハメットの
置換基定数の和が−0,5以上となるように置換された
フェニルスルホニル基 、→C+−r−Ro (R1
1として好ましくは炭素1 数30以下の直鎖、分岐状または環状のアルキル基、ア
ルケニル基、アリール基(好ましくはフェニル基、又は
ハメットの置換基定数の和が−0゜5以上となるように
置換されたフェニル基)、アルコキシ基(例えばエトキ
シ基など)、アリールオキシ基(好ましくは単環のもの
)などであり、これらの基は置換基を有していてもよく
置換基としては、例えば以下のものがあげられる。これ
らの基は更に置換されていてもよい。
例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基やカルボキシル基、アリールオキ
キカルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、
アシルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基
、ニトロ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、などで
ある。)であり、AI、Atで表わされるスルフィン酸
残基は具体的には米国特許第4,478,928号に記
載されているものを表わす。
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基やカルボキシル基、アリールオキ
キカルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、
アシルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基
、ニトロ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、などで
ある。)であり、AI、Atで表わされるスルフィン酸
残基は具体的には米国特許第4,478,928号に記
載されているものを表わす。
又、A1は後述の+Time +−C−と連結して環を
形成してもよい。
形成してもよい。
AI、A2としては水素原子が最も好ましい。
Timeは二価の連結基を表わし、タイミング調節機能
を存していても よい。もは0また1を表わし、1−0
の場合はPUGが直接■に結合していることを意味する
。
を存していても よい。もは0また1を表わし、1−0
の場合はPUGが直接■に結合していることを意味する
。
T imeで表わされる二価の連結基は酸化還元母核の
酸化体から放出されるTime −PUGから一段階あ
るいは、それ以上の段階の反応を経てPUGを放出せし
める基を表わす。
酸化体から放出されるTime −PUGから一段階あ
るいは、それ以上の段階の反応を経てPUGを放出せし
める基を表わす。
”l’imeで表わされる二価の連結基としては、例え
ば米国特許第4,248,962号(特開昭54−14
5.135号)等に記載のp−にとるフェノキシ誘導体
の分子内閉環反応によって写真的宵月基(PUG)を放
出するもの;米国特許第4310.612号(特開昭5
5−53,330号)および同4,358,252号等
に記載の環開裂後の分子内閉環反応によってPUGを放
出するもの;米国特許第4,330,617号、同4,
446.216号、同4,483,919号、特開昭5
9−121,328号等に記載のコハク酸モノエステル
またはその類縁体のカルボキシル基の分子内閉環反応に
よる酸無水物の生成を伴って、PUCを放出するもの;
米国特許第4.409゜323号、同4,421,84
5号、リサーチ・ディスクロージャー誌阻21,228
(1981年12月)、米国特許第4.416,97
7号(特開昭57−135.944号)、特開昭58−
209,736号、同58−209.738号等に記載
のアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基が共役した
二重結合を介した電子移動によりキノモノメタン、また
はその類縁体を生成してPUGを放出するもの:米国特
許第4,420,554号(特開昭57−136,64
0号)、特開昭57−135,945号、同57−18
8,035号、同58−98,728号および同58−
−209,737号等に記載の含窒素へテロ環のエナミ
ン構造を有する部分の電子移動によりエナミンの1位よ
りPUC,を放出するもの:特開昭57−56,837
号に記載の含窒素へテロ環の窒素原子と共役したカルボ
ニル基への電子移動により生成したオキシ基の分子内閉
環反応によりPUGを放出するもの;米国特許第4,1
46,396号(特開昭52−90932号)、特開昭
59−93,442号、特開昭59−75475号等に
記載のアルデヒド類の生成を伴ってPUGを放出するも
の;特開昭51−146,828号、同57−179,
842号、同59−104.641号に記載のカルボキ
シル基の脱炭素を伴ってPUGを放出するもの; O
C00CToRb P U Gの構造を有し、脱炭酸
と引き続くアルデヒド類の生成を伴ってPUGを放出す
るもの;特開昭60−7,429号に記載のイソシアナ
ートの生成を伴ってPUGを放出するもの;米国特許第
4,438.193号等に記載のカラー現像薬の酸化体
との力、ツブリング反応によりPUGを放出するものな
どを挙げることができる。
ば米国特許第4,248,962号(特開昭54−14
5.135号)等に記載のp−にとるフェノキシ誘導体
の分子内閉環反応によって写真的宵月基(PUG)を放
出するもの;米国特許第4310.612号(特開昭5
5−53,330号)および同4,358,252号等
に記載の環開裂後の分子内閉環反応によってPUGを放
出するもの;米国特許第4,330,617号、同4,
446.216号、同4,483,919号、特開昭5
9−121,328号等に記載のコハク酸モノエステル
またはその類縁体のカルボキシル基の分子内閉環反応に
よる酸無水物の生成を伴って、PUCを放出するもの;
米国特許第4.409゜323号、同4,421,84
5号、リサーチ・ディスクロージャー誌阻21,228
(1981年12月)、米国特許第4.416,97
7号(特開昭57−135.944号)、特開昭58−
209,736号、同58−209.738号等に記載
のアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基が共役した
二重結合を介した電子移動によりキノモノメタン、また
はその類縁体を生成してPUGを放出するもの:米国特
許第4,420,554号(特開昭57−136,64
0号)、特開昭57−135,945号、同57−18
8,035号、同58−98,728号および同58−
−209,737号等に記載の含窒素へテロ環のエナミ
ン構造を有する部分の電子移動によりエナミンの1位よ
りPUC,を放出するもの:特開昭57−56,837
号に記載の含窒素へテロ環の窒素原子と共役したカルボ
ニル基への電子移動により生成したオキシ基の分子内閉
環反応によりPUGを放出するもの;米国特許第4,1
46,396号(特開昭52−90932号)、特開昭
59−93,442号、特開昭59−75475号等に
記載のアルデヒド類の生成を伴ってPUGを放出するも
の;特開昭51−146,828号、同57−179,
842号、同59−104.641号に記載のカルボキ
シル基の脱炭素を伴ってPUGを放出するもの; O
C00CToRb P U Gの構造を有し、脱炭酸
と引き続くアルデヒド類の生成を伴ってPUGを放出す
るもの;特開昭60−7,429号に記載のイソシアナ
ートの生成を伴ってPUGを放出するもの;米国特許第
4,438.193号等に記載のカラー現像薬の酸化体
との力、ツブリング反応によりPUGを放出するものな
どを挙げることができる。
これら、Tfeで表わされる二価の連結基の具体例につ
いては特開昭61−236,549号、特願昭6−3−
.98. 803号等にも詳細に記載されているが、好
ましい具体例は以下に示すものである。
いては特開昭61−236,549号、特願昭6−3−
.98. 803号等にも詳細に記載されているが、好
ましい具体例は以下に示すものである。
ここで(*)は一般式(1)において
+ T、i va e +7P U GがVに結合する
部位を表わし、(本) (傘)にPUGが結合する部位
を表わす。
部位を表わし、(本) (傘)にPUGが結合する部位
を表わす。
czns
cooct+。
CH3
T−、(4)
T −(5)
(*)−0−CHコ
Js
Js
T−(10)
(宰)
0− CH2
2H5
T −(12)
(宰)−0−CI+2
H3
T−(13)
C,H
1(t)
し+ztlzs
0;C
T −(22)
(ネ)−〇
T−(25)
(*) −0−C−N−÷CH2÷r−N−C−(*)
(*)II CL 0 T−(28) T −(35) (*) −0CH(*) (ネ) SO□ T−(38) tHs CHt L本J(寧) T −(30) T −(34) (傘)−〇−CH−(ネ)(*) OOCJs pucは(T ime)r−P U GまたはPUGと
して現像抑制効果を有する基を表わす。
(*)II CL 0 T−(28) T −(35) (*) −0CH(*) (ネ) SO□ T−(38) tHs CHt L本J(寧) T −(30) T −(34) (傘)−〇−CH−(ネ)(*) OOCJs pucは(T ime)r−P U GまたはPUGと
して現像抑制効果を有する基を表わす。
PUGまたは(T ime)7 P tJ Gで表わさ
れる現像抑制剤はへテロ原子を有し、ヘテロ原子を介し
て結合している公知の現像抑制剤であり、これらはたと
えばシー・イー・ケー・ミース(C,E、に、Mees
)及びチー・エッチ・ジエームズ(T、H,Jalle
s)著「ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック
・プロセス(The Theory of Photo
graphicProcesses) J第3版、19
66マクミラン(Macmillan)社刊、344頁
〜346頁などに記載されている。具体的にはメルカプ
トテトラゾール類、メルカプトトリアゾール類、メルカ
プトイミダゾール類、メルカプトピリミジン類、メルカ
プトベンズイミダゾール類、メルカプトベンズチアゾー
ル類、メルカプトベンズオキサゾール類、メルカプトチ
アジアゾール類、ベンズトリアゾール類、ベンズイミダ
ゾール類、インダゾール類、アデニン類、グアニン頚、
テトラゾール類、テトラアザインデン類、トリアザイン
デン類、メルカプトアリール類等を挙げることができる
。
れる現像抑制剤はへテロ原子を有し、ヘテロ原子を介し
て結合している公知の現像抑制剤であり、これらはたと
えばシー・イー・ケー・ミース(C,E、に、Mees
)及びチー・エッチ・ジエームズ(T、H,Jalle
s)著「ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック
・プロセス(The Theory of Photo
graphicProcesses) J第3版、19
66マクミラン(Macmillan)社刊、344頁
〜346頁などに記載されている。具体的にはメルカプ
トテトラゾール類、メルカプトトリアゾール類、メルカ
プトイミダゾール類、メルカプトピリミジン類、メルカ
プトベンズイミダゾール類、メルカプトベンズチアゾー
ル類、メルカプトベンズオキサゾール類、メルカプトチ
アジアゾール類、ベンズトリアゾール類、ベンズイミダ
ゾール類、インダゾール類、アデニン類、グアニン頚、
テトラゾール類、テトラアザインデン類、トリアザイン
デン類、メルカプトアリール類等を挙げることができる
。
PUGで表わされる現像抑制剤は置換されていてもよい
。置換基としては、例えば以下のものが挙げられるが、
これらの基はさらに置換されていてもよい。
。置換基としては、例えば以下のものが挙げられるが、
これらの基はさらに置換されていてもよい。
例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシカルバニル基、
アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アシルオキシ基、カルボジアミド基、スル
ホンアミド基やカルボキシル基、スルホオキシ基、ホス
ホノ基、ホスフィニコ基、リン酸アミド基などである。
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシカルバニル基、
アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アシルオキシ基、カルボジアミド基、スル
ホンアミド基やカルボキシル基、スルホオキシ基、ホス
ホノ基、ホスフィニコ基、リン酸アミド基などである。
好ましい置換基としてはニトロ基、スルホ基、カルボキ
シル基、スルファモイル基、ホスホノ基、ホスフィニコ
基、スルホンアミド基である。
シル基、スルファモイル基、ホスホノ基、ホスフィニコ
基、スルホンアミド基である。
主な現像抑制剤を以下に示す。
ル
(2)l−(4−ヒドロキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラジ゛−1/ (3)1−(4−アミノフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (4)1−(4−カルボキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール (5)1−(4−クロロフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (6)1−(4−メチルフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (7) 1− (2,4−ジヒドロキシフェニル)−
5−メルカプトテトラゾール (8)1−(4−スルファモイルフェニル)−5−メル
カプトテトラゾール (9)1−(3−カルボキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール 00) 1− (3,5−ジカルボキシフェニル)−
5−メルカプトテトラゾール (If)1−(4−メトキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール (1211−(2−メトキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール (1311−(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニ
ル)−5−メルカプトテトラゾール04)1−(2,4
−ジクロロフェニル)−5−メルカプトテトラゾール 0ω 1−(4−ジメチルアミノフェニル)−5−メル
カプトテトラゾール Q611−(4−ニトロフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール cで 1,4−ビス(5−メルカプト−1−テトラゾリ
ル)ベンゼン 側 1−(α−ナフチル)−5−メルカプトテトラゾー
ル 09)1−(4−スルホフェニル)−5−メルカブトテ
トラゾール CI)1−(3−スルホフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (21)1−(β−ナフチル)−5−メルカプトテヅー
ル (22) 1−メチル−5−メルカプトテトラゾール
(23) 1−エチル−5−メルカプトテトラゾール
(24) L−プロピル−5−メルカプトテトラゾー
ル (25) 1−オクチル−5−メルカプトテトラゾー
ル (26) 1−ドデシル−5−メルカプトテトラゾー
ル (27) 1−シクロへキシル−5−メルカプトテト
ラゾール (28) 1−バルミチルー5−メルカプトテトラゾ
ール (29) 1−カルボキシエチル−5−メルカプトテ
トラゾール (30)1− (2,2−ジェトキシエチル)−5−メ
ルカプトテトラゾール (31)1−(2−アミノエチル)−5−メルカプトテ
トラゾールハイドロクロライド (32)1−(2−ジエチルアミンエチル)−5−メル
カプトテトラゾール (33)2−(5−メルカプト−1−テトラゾール)エ
チルトリメチルアンモニウムクロリド(34)1−(3
−フェノキシカルボニルフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (35)1−(3−マレインイミドフェニル)−6−メ
ルカプトテトラゾール ル (2)4−フェニル−5−メチル−3−メルカプトトリ
アゾール (3)4,5−ジフェニル−3−メルカプトトリアゾー
ル (4)4−(4−カルボキシフェニル)−3−メルカプ
トトリアゾール (5)4−メチル−3−メルカプトトリアゾール(6)
4−(2−ジメチルアミノエチル)−3−メルカプトト
リアゾール (7)4−(α−ナフチル)−3−メルカプトトリアゾ
ール (8) 4−、(4−スルホフェニル)−3−メルカ
プトトリアゾール (9)4−(3−ニトロフェニル)−3−メルカプトト
リアゾール ル (2)1,5−ジフェニル−2−メルカプトイミダゾー
ル (3)1−(4−カルボキシフェニル)−2−メルカプ
トイミダゾール (4)1−(4−へキシルカルバモイル)−2−メルカ
プトイミダゾール (5)l−(3−ニトロフェニル)−2−メルカプトイ
ミダゾール (6)1−(4−スルホフェニル)−2−メルカプトイ
ミダゾール ルカ ピ 々ジンチ (1) チオウラシル (2)メチルチオウラシル (3)エチルチオウラシル (4) プロピルチオウラシル (5) ノニルチオウラシル (6) アミノチオウラシル (7) ヒドロキシチオウラシル ルカ ベンズイ々 ゾール悸 (1)2−メルカプトベンツイミダゾール(2)5−カ
ルボキシ−2−メルカプトベンツイミダゾール (3)5−アミノ−2−メルカプトベンツイミダゾール (4)5−ニトロ−2−メルカプトベンツイミダゾール (5)5−クロロ−2−メルカブトベンツイミダゾール (6)5−メトキシ−2−メルカプトベンツイミダゾー
ル (7)2−メルカプトナフトイミダゾール(8)2−メ
ルカプト−5−スルホベンツイミダゾール (911−(2−ヒドロキシエチル)−2−メルカプト
ベンツイミダゾール OI 5−カプロアミド−2−メルカプトベンズイミダ
ゾール 01)5−(2−エチルヘキサノイルアミノ)−2−メ
ルカプトベンズイミダゾール ルカ ジ ゛ −ル悸 (1)5−メチルチオ−2−メルカプト−1,3゜4−
チアジアゾール (2)5−エチルチオ−2−メルカプト−1,3゜4−
チアジアゾール (3)5−(2−ジメチルアミンエチルチオ)−2−メ
ルカプト−1,3,4−チアジアゾール (4)5−(2−カルボキシプロピルチオ)−2−メル
カプト−1,3,4−チアジアゾール(5)2−フェノ
キシカルボニルメチルチオ−5メルカプト−1,3,4
−チアジアゾールル力 ベンズ ゾール廷 (1)2−メルカプトベンズチアゾール(2)5−ニト
ロ−2−メルカプトベンズチアゾール (3)5−カルボキシ−2−メルカプトベンズチアゾー
ル (4)5−スルホ−2−メルカプトベンズチアゾール 8 メルカ ベンズオキ ゛−ル悸 (1)2−メルカプトベンズオキサゾール(2)5−ニ
トロ−2−メルカプトベンズオキサゾール (3)5−カルボキシ−2−メルカプトベンズオキサゾ
ール (4)5−スルホ−2−メルカプトベンズオキサゾール ベンズ −ル 5.6−シメチルベンゾトリアゾール 5−ブチルベンゾトリアゾール 5−メチルベンゾトリアゾール 5−クロロベンゾトリアゾール 5−ブロモベンゾトリアゾール 5.6−ジクロロベンゾトリアゾール 4.6−ジクロロベンゾトリアゾール 5−ニトロベンゾトリアゾール 4−ニトロ−6−クロロ−ベンゾトリアゾール q■ 4,5.6−ドリクロロペンゾトリアゾール 005−カルボキシベンゾトリアゾール0り5−スルホ
ベンゾトリアゾール Na塩03) 5−メトキシカ
ルボニルベンゾトリアゾール 5−アミノベンゾトリアゾール 5−ブトキシベンゾトリアゾール 5−ウレイドベンゾトリアゾール ベンゾトリアゾール 0υ 5−フェノキシカルボニルベンゾトリアゾール Q9)5−(2,3−ジクロロプロピルオキシカルボニ
ル)ベンゾトリアゾール ベンズイミ ゛−ルー (1) ベンズオキサゾール (2) 5−クロロペンツイミダゾール(3)5−ニ
トロベンツイミダゾール (4)5−n−ブチルベンツイミダゾール(5)5−メ
チルベンツイミダゾール (614−クロロベンツイミダゾール (7)5,6−シメチルベンツイミダゾール(8)5−
ニトロ−2−(トリフルオロメチル)ベンツイミダゾー
ル インダゾール悸 (1)5−ニトロインダゾール (2)6−ニトロインダゾール (3)5−アミノインダゾール (4)6−アミノインダゾール (5)インダゾール (6)3−ニトロインダゾール (7) 5−ニトロ−3−クロロインダゾール(8)
3−クロロ−5−二トロインタソール(9)3−カ
ルボキシ−5−二トロインダシ−ルー −パ−ル球 (+35−(4−ニトロフェニル)テトラゾール(2)
5−フェニルテトラゾール (3)5−(3−カルボキシフェニル)−テトラゾール インー′ンiゝ (1)4−ヒドロキシ−6−メチル−5−二トロー1,
3,3a、7−チトラアザインデン(2)4−メルカプ
ト−6−メチル−5−ニトロ−1,3,3a、?−テト
ラアザインデンルカ 1−ル沃 (1)4−ニトロチオフェノール (2) チオフェノール (3)2−カルボキシチオフェノール ++ スルホキシ基、−p−(R,はアルコキシ基または14 了り−ルオキシ基を表わす、)、イミノメチレン基、チ
オカルボニル基を表わし、■としてはカルボニル基が好
ましい。
トテトラジ゛−1/ (3)1−(4−アミノフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (4)1−(4−カルボキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール (5)1−(4−クロロフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (6)1−(4−メチルフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (7) 1− (2,4−ジヒドロキシフェニル)−
5−メルカプトテトラゾール (8)1−(4−スルファモイルフェニル)−5−メル
カプトテトラゾール (9)1−(3−カルボキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール 00) 1− (3,5−ジカルボキシフェニル)−
5−メルカプトテトラゾール (If)1−(4−メトキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール (1211−(2−メトキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール (1311−(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニ
ル)−5−メルカプトテトラゾール04)1−(2,4
−ジクロロフェニル)−5−メルカプトテトラゾール 0ω 1−(4−ジメチルアミノフェニル)−5−メル
カプトテトラゾール Q611−(4−ニトロフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール cで 1,4−ビス(5−メルカプト−1−テトラゾリ
ル)ベンゼン 側 1−(α−ナフチル)−5−メルカプトテトラゾー
ル 09)1−(4−スルホフェニル)−5−メルカブトテ
トラゾール CI)1−(3−スルホフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (21)1−(β−ナフチル)−5−メルカプトテヅー
ル (22) 1−メチル−5−メルカプトテトラゾール
(23) 1−エチル−5−メルカプトテトラゾール
(24) L−プロピル−5−メルカプトテトラゾー
ル (25) 1−オクチル−5−メルカプトテトラゾー
ル (26) 1−ドデシル−5−メルカプトテトラゾー
ル (27) 1−シクロへキシル−5−メルカプトテト
ラゾール (28) 1−バルミチルー5−メルカプトテトラゾ
ール (29) 1−カルボキシエチル−5−メルカプトテ
トラゾール (30)1− (2,2−ジェトキシエチル)−5−メ
ルカプトテトラゾール (31)1−(2−アミノエチル)−5−メルカプトテ
トラゾールハイドロクロライド (32)1−(2−ジエチルアミンエチル)−5−メル
カプトテトラゾール (33)2−(5−メルカプト−1−テトラゾール)エ
チルトリメチルアンモニウムクロリド(34)1−(3
−フェノキシカルボニルフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (35)1−(3−マレインイミドフェニル)−6−メ
ルカプトテトラゾール ル (2)4−フェニル−5−メチル−3−メルカプトトリ
アゾール (3)4,5−ジフェニル−3−メルカプトトリアゾー
ル (4)4−(4−カルボキシフェニル)−3−メルカプ
トトリアゾール (5)4−メチル−3−メルカプトトリアゾール(6)
4−(2−ジメチルアミノエチル)−3−メルカプトト
リアゾール (7)4−(α−ナフチル)−3−メルカプトトリアゾ
ール (8) 4−、(4−スルホフェニル)−3−メルカ
プトトリアゾール (9)4−(3−ニトロフェニル)−3−メルカプトト
リアゾール ル (2)1,5−ジフェニル−2−メルカプトイミダゾー
ル (3)1−(4−カルボキシフェニル)−2−メルカプ
トイミダゾール (4)1−(4−へキシルカルバモイル)−2−メルカ
プトイミダゾール (5)l−(3−ニトロフェニル)−2−メルカプトイ
ミダゾール (6)1−(4−スルホフェニル)−2−メルカプトイ
ミダゾール ルカ ピ 々ジンチ (1) チオウラシル (2)メチルチオウラシル (3)エチルチオウラシル (4) プロピルチオウラシル (5) ノニルチオウラシル (6) アミノチオウラシル (7) ヒドロキシチオウラシル ルカ ベンズイ々 ゾール悸 (1)2−メルカプトベンツイミダゾール(2)5−カ
ルボキシ−2−メルカプトベンツイミダゾール (3)5−アミノ−2−メルカプトベンツイミダゾール (4)5−ニトロ−2−メルカプトベンツイミダゾール (5)5−クロロ−2−メルカブトベンツイミダゾール (6)5−メトキシ−2−メルカプトベンツイミダゾー
ル (7)2−メルカプトナフトイミダゾール(8)2−メ
ルカプト−5−スルホベンツイミダゾール (911−(2−ヒドロキシエチル)−2−メルカプト
ベンツイミダゾール OI 5−カプロアミド−2−メルカプトベンズイミダ
ゾール 01)5−(2−エチルヘキサノイルアミノ)−2−メ
ルカプトベンズイミダゾール ルカ ジ ゛ −ル悸 (1)5−メチルチオ−2−メルカプト−1,3゜4−
チアジアゾール (2)5−エチルチオ−2−メルカプト−1,3゜4−
チアジアゾール (3)5−(2−ジメチルアミンエチルチオ)−2−メ
ルカプト−1,3,4−チアジアゾール (4)5−(2−カルボキシプロピルチオ)−2−メル
カプト−1,3,4−チアジアゾール(5)2−フェノ
キシカルボニルメチルチオ−5メルカプト−1,3,4
−チアジアゾールル力 ベンズ ゾール廷 (1)2−メルカプトベンズチアゾール(2)5−ニト
ロ−2−メルカプトベンズチアゾール (3)5−カルボキシ−2−メルカプトベンズチアゾー
ル (4)5−スルホ−2−メルカプトベンズチアゾール 8 メルカ ベンズオキ ゛−ル悸 (1)2−メルカプトベンズオキサゾール(2)5−ニ
トロ−2−メルカプトベンズオキサゾール (3)5−カルボキシ−2−メルカプトベンズオキサゾ
ール (4)5−スルホ−2−メルカプトベンズオキサゾール ベンズ −ル 5.6−シメチルベンゾトリアゾール 5−ブチルベンゾトリアゾール 5−メチルベンゾトリアゾール 5−クロロベンゾトリアゾール 5−ブロモベンゾトリアゾール 5.6−ジクロロベンゾトリアゾール 4.6−ジクロロベンゾトリアゾール 5−ニトロベンゾトリアゾール 4−ニトロ−6−クロロ−ベンゾトリアゾール q■ 4,5.6−ドリクロロペンゾトリアゾール 005−カルボキシベンゾトリアゾール0り5−スルホ
ベンゾトリアゾール Na塩03) 5−メトキシカ
ルボニルベンゾトリアゾール 5−アミノベンゾトリアゾール 5−ブトキシベンゾトリアゾール 5−ウレイドベンゾトリアゾール ベンゾトリアゾール 0υ 5−フェノキシカルボニルベンゾトリアゾール Q9)5−(2,3−ジクロロプロピルオキシカルボニ
ル)ベンゾトリアゾール ベンズイミ ゛−ルー (1) ベンズオキサゾール (2) 5−クロロペンツイミダゾール(3)5−ニ
トロベンツイミダゾール (4)5−n−ブチルベンツイミダゾール(5)5−メ
チルベンツイミダゾール (614−クロロベンツイミダゾール (7)5,6−シメチルベンツイミダゾール(8)5−
ニトロ−2−(トリフルオロメチル)ベンツイミダゾー
ル インダゾール悸 (1)5−ニトロインダゾール (2)6−ニトロインダゾール (3)5−アミノインダゾール (4)6−アミノインダゾール (5)インダゾール (6)3−ニトロインダゾール (7) 5−ニトロ−3−クロロインダゾール(8)
3−クロロ−5−二トロインタソール(9)3−カ
ルボキシ−5−二トロインダシ−ルー −パ−ル球 (+35−(4−ニトロフェニル)テトラゾール(2)
5−フェニルテトラゾール (3)5−(3−カルボキシフェニル)−テトラゾール インー′ンiゝ (1)4−ヒドロキシ−6−メチル−5−二トロー1,
3,3a、7−チトラアザインデン(2)4−メルカプ
ト−6−メチル−5−ニトロ−1,3,3a、?−テト
ラアザインデンルカ 1−ル沃 (1)4−ニトロチオフェノール (2) チオフェノール (3)2−カルボキシチオフェノール ++ スルホキシ基、−p−(R,はアルコキシ基または14 了り−ルオキシ基を表わす、)、イミノメチレン基、チ
オカルボニル基を表わし、■としてはカルボニル基が好
ましい。
Rで表わされる脂肪族基は直鎖、分岐または環状のアル
キル基、アルケニル基、またはアルキニル基であり、好
ましい炭素数は1〜30のものであって、特に炭素数1
〜20のものである。ここで分岐アルキル基はその中に
1つまたはそれ以上のへテロ原子を含んだ飽和のへテロ
環を形成するように環化されていてもよい。
キル基、アルケニル基、またはアルキニル基であり、好
ましい炭素数は1〜30のものであって、特に炭素数1
〜20のものである。ここで分岐アルキル基はその中に
1つまたはそれ以上のへテロ原子を含んだ飽和のへテロ
環を形成するように環化されていてもよい。
例えばメチル基、L−ブチル基、n−オクチル基、t−
オクチル基、シクロヘキシル基、ヘキセニル基、ピロリ
ジル基、テトラヒドロフリル基、n−ドデシル基などが
挙げられる。
オクチル基、シクロヘキシル基、ヘキセニル基、ピロリ
ジル基、テトラヒドロフリル基、n−ドデシル基などが
挙げられる。
芳香族基は単環または2環のアリール基であり、例えば
フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
ヘテロ環基は、N、OまたはS原子のうち少なくともひ
とつを含む3〜10員の飽和もしくは不飽和のへテロ環
であり、これらは単環でもよいし、さらに他の芳香環も
しくはヘテロ環と縮合環を形成してもよい、ヘテロ環と
して好ましいものは、5ないし6員環の芳香族へテロ環
であり、例えば、ピリジン環、イミダゾリル基、キノリ
ニル基、ベンズイミダゾリル基、ピリミジニル基、ピラ
ゾリル基、イソキノリニル基、ベンズチアゾリル基、チ
アゾリル基などが挙げられる。
とつを含む3〜10員の飽和もしくは不飽和のへテロ環
であり、これらは単環でもよいし、さらに他の芳香環も
しくはヘテロ環と縮合環を形成してもよい、ヘテロ環と
して好ましいものは、5ないし6員環の芳香族へテロ環
であり、例えば、ピリジン環、イミダゾリル基、キノリ
ニル基、ベンズイミダゾリル基、ピリミジニル基、ピラ
ゾリル基、イソキノリニル基、ベンズチアゾリル基、チ
アゾリル基などが挙げられる。
Rは置換基で置換されていてもよい、置換基としては、
例えば以下のものが挙げられる。これらの基はさらに置
換されていてもよい。
例えば以下のものが挙げられる。これらの基はさらに置
換されていてもよい。
例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
チル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、スル
ホンアミド基やカルボキシ基、リン酸アミド基などであ
る。
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
チル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、スル
ホンアミド基やカルボキシ基、リン酸アミド基などであ
る。
また一般式(1)において、R1またはfT imeh
−P U Gは、その中にカプラー等の不動性写真用添
加剤において常用されているバラスト基や一般式(+)
で表わされる化合物がハロゲン化銀に吸着することを促
進する基が組み込まれていてもよい。
−P U Gは、その中にカプラー等の不動性写真用添
加剤において常用されているバラスト基や一般式(+)
で表わされる化合物がハロゲン化銀に吸着することを促
進する基が組み込まれていてもよい。
バラスト基は一般式(1)で表わされる化合物が実質的
に他層または処理液中へ拡散できないようにするのに十
分な分子量を与える有機基であり、アルキル基、アリー
ル基、ヘテロ環基、エーテル基、チオエーテル基、アミ
ド基、ウレイド基、ウレタン基、スルホンアミド基など
の一以上の組合せからなるものである。バラスト基とし
て好ましくは置換ベンゼン環を有するバラスト基であり
、特に分岐状アルキル基で置換されたベンゼン環を有す
るバラスト基が好ましい。
に他層または処理液中へ拡散できないようにするのに十
分な分子量を与える有機基であり、アルキル基、アリー
ル基、ヘテロ環基、エーテル基、チオエーテル基、アミ
ド基、ウレイド基、ウレタン基、スルホンアミド基など
の一以上の組合せからなるものである。バラスト基とし
て好ましくは置換ベンゼン環を有するバラスト基であり
、特に分岐状アルキル基で置換されたベンゼン環を有す
るバラスト基が好ましい。
ハロゲン化銀への吸着促進基としては、具体的には4−
チアゾリン−2−チオン、4−イミダシリン−2−チオ
ン、2−チオヒダントイン、ローダニン、チオバルビッ
ール酸、テトラゾリン−5−チオン、!、、2.4−ト
リアゾリンー3−チオン、1,3.4−オキサゾリン−
2−チオン、ベンズイミダシリン−2−チオン、ベンズ
オキサゾリン−2−チオン、ベンゾチアゾリン−2−チ
オン、チオトリアジン、1,3−イミダシリン−2−チ
オンのような環状チオアミド基、鎖状チオアミド基、脂
肪族メルカプト基、芳香族メルカプト基、ヘテロ環メル
カプト基(−3H基が結合した炭素原子の隣が窒素原子
の場合はこれと互変異性体の関係にある環状チオアミド
基と同義であり、この基の具体例は上に列挙したものと
同じである。
チアゾリン−2−チオン、4−イミダシリン−2−チオ
ン、2−チオヒダントイン、ローダニン、チオバルビッ
ール酸、テトラゾリン−5−チオン、!、、2.4−ト
リアゾリンー3−チオン、1,3.4−オキサゾリン−
2−チオン、ベンズイミダシリン−2−チオン、ベンズ
オキサゾリン−2−チオン、ベンゾチアゾリン−2−チ
オン、チオトリアジン、1,3−イミダシリン−2−チ
オンのような環状チオアミド基、鎖状チオアミド基、脂
肪族メルカプト基、芳香族メルカプト基、ヘテロ環メル
カプト基(−3H基が結合した炭素原子の隣が窒素原子
の場合はこれと互変異性体の関係にある環状チオアミド
基と同義であり、この基の具体例は上に列挙したものと
同じである。
ジスルフィド結合を存する基、ベンゾトリアゾール、ト
リアゾール、テトラゾール、インダゾール、ベンズイミ
ダゾール、イミダゾール、ベンゾチア)、 ゾール、チアゾール、チアゾリン、ベンゾオキサゾール
、オキサゾール、オキサゾリン、チアジアゾール、オキ
サチアゾール、トリアジン、アザインデンのような窒素
、酸素、硫黄及び炭素の組合せからなる5員ないし6員
の含窒素へテロ環基、及びベンズイミダゾリニウムのよ
うな複素環四級塩などが挙げられる。
リアゾール、テトラゾール、インダゾール、ベンズイミ
ダゾール、イミダゾール、ベンゾチア)、 ゾール、チアゾール、チアゾリン、ベンゾオキサゾール
、オキサゾール、オキサゾリン、チアジアゾール、オキ
サチアゾール、トリアジン、アザインデンのような窒素
、酸素、硫黄及び炭素の組合せからなる5員ないし6員
の含窒素へテロ環基、及びベンズイミダゾリニウムのよ
うな複素環四級塩などが挙げられる。
これらはさらに適当な置換基で置換されていてもよい。
置換基としては、例えばRの置換基として述べたものが
挙げられる。
挙げられる。
以下に本発明に用いられる化合物の具体例を列記するが
本発明はこれに限定されるものではない。
本発明はこれに限定されるものではない。
NLI冨
14
10゜
11゜
C5Ht (四
20゜
21゜
NO□
25゜
26゜
27.
22゜
CH。
23゜
24゜
28゜
29゜
30゜
υ
37゜
38
39゜
31゜
32.
33゜
439−
34゜
36゜
42゜
NO!
43゜
46゜
44゜
47゜
45゜
4日。
49゜
51゜
本発明のレドックス化合物は、
0×10
〜1. OX 10−”moj?/rr?、好ましく
は1.0×10−’ 〜1. OX 10−’mo1
/rr+’の範囲内で用いられる。
は1.0×10−’ 〜1. OX 10−’mo1
/rr+’の範囲内で用いられる。
本発明のレドックス化合物は、適当な水混和性有機溶媒
、例えば、アルコール類(メタノール、エタノール、プ
ロパツール、フッ素化アルコール)ケトン類(アセトン
、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用
いることができる。
、例えば、アルコール類(メタノール、エタノール、プ
ロパツール、フッ素化アルコール)ケトン類(アセトン
、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用
いることができる。
また、既に良く知られている乳化分散法によって、ジブ
チルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセ
リルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどの
オイルに、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶
媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作成して用い
ることもできる。あるいは固体分散法として知られてい
る方法によって、レドックス化合物の粉末を水の中にボ
ールミル、コロイドミル、あるいは超音波によって分散
して用いることもできる。
チルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセ
リルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどの
オイルに、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶
媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作成して用い
ることもできる。あるいは固体分散法として知られてい
る方法によって、レドックス化合物の粉末を水の中にボ
ールミル、コロイドミル、あるいは超音波によって分散
して用いることもできる。
本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、下記−i式(
II)によって表わされる化合物が好ましい。
II)によって表わされる化合物が好ましい。
一般式(n)
A、A!
式中、R1は脂肪族基または芳香族基を表わし、R2は
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、ヒドラジノ基、カルバモイ
ル基又はオキシカルボニル基を表わし、Glはカルボニ
ル基、スルホニル基、スルホキシ基、 z イミノメチレン基を表わし、 A+ 、Axはともに水素原子あるいは一方が水素原子
で他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、
又は置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、又は
置換もしくは無置換のアシル基を表わす。
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、ヒドラジノ基、カルバモイ
ル基又はオキシカルボニル基を表わし、Glはカルボニ
ル基、スルホニル基、スルホキシ基、 z イミノメチレン基を表わし、 A+ 、Axはともに水素原子あるいは一方が水素原子
で他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、
又は置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、又は
置換もしくは無置換のアシル基を表わす。
一般式(n)において、R,で表される脂肪族基は好ま
しくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜
20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。ここ
で分岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のへテ
ロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形成するように環化さ
れていてもよい、またこのアルキル基は、アリール基、
アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カル
ボンアミド基等の置換基を育していてもよい。
しくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜
20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。ここ
で分岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のへテ
ロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形成するように環化さ
れていてもよい、またこのアルキル基は、アリール基、
アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カル
ボンアミド基等の置換基を育していてもよい。
一般式(If)においてR4で表される芳香族基は単環
または2環のアリール基または不飽和へテロ環基である
。ここで不飽和へテロ環基は単環または2環の7リール
基と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
または2環のアリール基または不飽和へテロ環基である
。ここで不飽和へテロ環基は単環または2環の7リール
基と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、°ピリジン環、ピリ
ミジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環
、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール
環、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環
を含むものが好ましい。
ミジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環
、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール
環、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環
を含むものが好ましい。
R1として特に好ましいものはアリール基であRIのア
リール基または不飽和へテロ環基は置換されていてもよ
く、代表的な置換基としては例えばアルキル基、アラル
キル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、
アリール基、置換アミノ基、アシルアミノ基、スルホニ
ルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、アリールオキシ
基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、
ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、ア
ルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ
基、カルボンアミド基、スルホンアミド基やカルボキシ
ル基、リン酸アミド基、ジアシルアミノ基、イミド基、 【 Rよ などが挙げられ、好ましい置to基としては直鎖、分岐
または環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20の
もの]、アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素
数が1〜3の単環または2環のもの)、アルコキシ基(
好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好
ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミ
ノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を
持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜
30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜
30を持つもの)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数
1〜30のもの)などである。
リール基または不飽和へテロ環基は置換されていてもよ
く、代表的な置換基としては例えばアルキル基、アラル
キル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、
アリール基、置換アミノ基、アシルアミノ基、スルホニ
ルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、アリールオキシ
基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、
ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、ア
ルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ
基、カルボンアミド基、スルホンアミド基やカルボキシ
ル基、リン酸アミド基、ジアシルアミノ基、イミド基、 【 Rよ などが挙げられ、好ましい置to基としては直鎖、分岐
または環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20の
もの]、アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素
数が1〜3の単環または2環のもの)、アルコキシ基(
好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好
ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミ
ノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を
持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜
30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜
30を持つもの)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数
1〜30のもの)などである。
一般式(II)においてR2で表わされるアルキル基と
しては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であうで
、例えばハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、スル
ホ基、アルコキシ基、フェニル基、アシル基、アルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバ
モイル基、アルキルスルホ基、アリールスルホ基、スル
ファモイル基、ニトロ基、複素芳香環基ミ A、A! でもよく、更にこれらの基が置換されていてもよ了り−
ル基としては単環または2環のアリール基が好ましく、
例えばベンゼン環を含むものである。このアリール基は
置換されていてもよく、置換基の例としてはアルキル基
の場合と同様である。
しては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であうで
、例えばハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、スル
ホ基、アルコキシ基、フェニル基、アシル基、アルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバ
モイル基、アルキルスルホ基、アリールスルホ基、スル
ファモイル基、ニトロ基、複素芳香環基ミ A、A! でもよく、更にこれらの基が置換されていてもよ了り−
ル基としては単環または2環のアリール基が好ましく、
例えばベンゼン環を含むものである。このアリール基は
置換されていてもよく、置換基の例としてはアルキル基
の場合と同様である。
アルコキシ基としては炭素数1〜8のアルコキシ基のも
のが好ましく、ハロゲン原子、アリール基などで置換さ
れていてもよい。
のが好ましく、ハロゲン原子、アリール基などで置換さ
れていてもよい。
アリールオキシ基としては単環のものが好ましく、また
置換基としてはハロゲン原子などがある。
置換基としてはハロゲン原子などがある。
アミノ基としては無置換アミノ基及び、炭素数1〜10
のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、ア
ルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボ
キシ基などで置換されていてもよい。
のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、ア
ルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボ
キシ基などで置換されていてもよい。
カルバモイル基としては、無置換カルバモイルM及び炭
素数1〜10のフルキルカルバモイル基、アリールカル
バモイル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、カルボキシ基などで置換されていてもよい。
素数1〜10のフルキルカルバモイル基、アリールカル
バモイル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、カルボキシ基などで置換されていてもよい。
オキシカルボニル基としては、炭素数1〜10のアルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
などで置換されていてもよい。
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
などで置換されていてもよい。
R1で表わされる基のうち好ましいものは、Glがカル
ボニル基の場合には、水素原子、アルキル基(例えば、
メチル基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロ
ピル基、3−メタンスルホンアミドプロピル基、)・エ
ニルスルホニルメチル基など)、アラルキル基(例えば
、0−ヒドロキシベンジル基なと)、アリール基(例え
ば、フェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、0−メ
タンスルホンアミドフェニル基、4−メタンスルホニル
フェニル基など)などであり、特に水素原子が好ましい
。
ボニル基の場合には、水素原子、アルキル基(例えば、
メチル基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロ
ピル基、3−メタンスルホンアミドプロピル基、)・エ
ニルスルホニルメチル基など)、アラルキル基(例えば
、0−ヒドロキシベンジル基なと)、アリール基(例え
ば、フェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、0−メ
タンスルホンアミドフェニル基、4−メタンスルホニル
フェニル基など)などであり、特に水素原子が好ましい
。
またG1がスルホニル基の場合には、R2はアルキル基
(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例えば、0
−ヒドロキシフェニルメチル基など)、アリール基(例
えば、フェニル基など)または置換アミノ基(例えば、
ジメチルアミノ基なと)などが好ましい。
(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例えば、0
−ヒドロキシフェニルメチル基など)、アリール基(例
えば、フェニル基など)または置換アミノ基(例えば、
ジメチルアミノ基なと)などが好ましい。
G1がスルホキシ基の場合、好ましいR2はシアノベン
ジル基、メチルチオベンジル基などかあ1 す、G、が−P−基の場合には、R2として2 はメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、フェノ 、キ
シ基、フェニル基が好ましく、特に、フェノキシ基が好
適である。
ジル基、メチルチオベンジル基などかあ1 す、G、が−P−基の場合には、R2として2 はメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、フェノ 、キ
シ基、フェニル基が好ましく、特に、フェノキシ基が好
適である。
G1がN−置換または無置換イミノメチレン基の場合、
好ましいR2はメチル基、エチル基、置換または無1換
のフェニル基である。
好ましいR2はメチル基、エチル基、置換または無1換
のフェニル基である。
Rtの置換基としては、R,に関して列挙した置換基が
適用できる。
適用できる。
一般式([[)のGとしてはカルボニル基が最も好まし
い。
い。
又、R2はG、−Rtの部分を既余分子から分裂させ、
−G、−R,部分の原子を含む環式構造を生成させる環
化反応を生起するようなものであってもよく、具体的に
は一般式(a)で表わすことができるようなものである
。
−G、−R,部分の原子を含む環式構造を生成させる環
化反応を生起するようなものであってもよく、具体的に
は一般式(a)で表わすことができるようなものである
。
一般式(a)
−Rx −Z r
式中、ZlはG1に対し求核的に攻翳し、G、−R,−
Z、部分を残余分子から分裂させ得る基であり、R3は
Rよから水素原子1細隙いたもので、ZlがGIに対し
求核攻撃シ、G、 、R,、Zlで環式構造が生成可能
なものである。
Z、部分を残余分子から分裂させ得る基であり、R3は
Rよから水素原子1細隙いたもので、ZlがGIに対し
求核攻撃シ、G、 、R,、Zlで環式構造が生成可能
なものである。
さらに詳細には、zlは一般式(■)ヒドラジン化合物
が酸化等により次の反応中間体を生成したときに容易に
G、と求核反応し R,−N諺N−C;、−Rff−Z。
が酸化等により次の反応中間体を生成したときに容易に
G、と求核反応し R,−N諺N−C;、−Rff−Z。
R,−N−N基をGIから分裂させうる基であり、具体
的にはOH,Sl(またはNHR,(R,は水素原子、
アルキル基、アリール基、−CORs、または−3Ot
Rsであり、R3は水繋原子、アルキル基、アリール基
、ヘテロ環基などを表す)、C0ORなどのようにGI
と直接反応する官能基であってもよく(ここで、OH,
、SH,NHR,、−COOHはアルカリ等の加水分解
によりこれらの基を生成するように一時的に保護されて
いても(Rh、Rqは水素原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基またはへテロ環基を表す)のように水
酸イオンや亜硫酸イオン等のような求核剤を反応するこ
とでG、と反応することが可能になる官能基であっても
よい。
的にはOH,Sl(またはNHR,(R,は水素原子、
アルキル基、アリール基、−CORs、または−3Ot
Rsであり、R3は水繋原子、アルキル基、アリール基
、ヘテロ環基などを表す)、C0ORなどのようにGI
と直接反応する官能基であってもよく(ここで、OH,
、SH,NHR,、−COOHはアルカリ等の加水分解
によりこれらの基を生成するように一時的に保護されて
いても(Rh、Rqは水素原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基またはへテロ環基を表す)のように水
酸イオンや亜硫酸イオン等のような求核剤を反応するこ
とでG、と反応することが可能になる官能基であっても
よい。
また、G+ 、Rx 、Lで形成される環としては5員
または6員のものが好ましい。
または6員のものが好ましい。
一般式(a)で表されるもののうち、好ましいものとし
ては一般式(b)及び(C)で表されるものを挙げるこ
とができる。
ては一般式(b)及び(C)で表されるものを挙げるこ
とができる。
一般弐Φ)
式中、R1,〜Ra、は水素原子、アルキル基(好まし
くは炭素数1〜12のもの)、アルケニル基(好ましく
は炭素数2〜12のもの)、アリール基(好ましくは炭
素数6〜12のもの)なとを表し、同じでも異なりでも
よい、Bは置換基を有してもよい5員環または6員環を
完成するのに必要な原子であり、m、nは0または1で
あり、(n+m)は1または2である。
くは炭素数1〜12のもの)、アルケニル基(好ましく
は炭素数2〜12のもの)、アリール基(好ましくは炭
素数6〜12のもの)なとを表し、同じでも異なりでも
よい、Bは置換基を有してもよい5員環または6員環を
完成するのに必要な原子であり、m、nは0または1で
あり、(n+m)は1または2である。
Bで形成される5員または6員環としては、例エバ、シ
クロヘキセン環、シクロヘプテン環、ベンゼン環、ナフ
タレン環、ピリジン環、キノリン環などである。
クロヘキセン環、シクロヘプテン環、ベンゼン環、ナフ
タレン環、ピリジン環、キノリン環などである。
Zlは一般式(a)と同義である。
一般式(C)
c
コ
千N+r−+CR,’ R,” +、Z+式中、R(
’、Rctは水素原子、アルキル基、アルケニル基、ア
リール基またはハロゲン原子などを表し、同じでも異な
ってもよい。
’、Rctは水素原子、アルキル基、アルケニル基、ア
リール基またはハロゲン原子などを表し、同じでも異な
ってもよい。
R,sは水素原子、アルキル基、アルケニル基、または
アリール基を表す。
アリール基を表す。
pはOまたはlを表し、qは1〜4を表す。
R,I、R,”およびRc3はZlがC1へ分子内求核
攻輩し得る構造の限りにおいて互いに結合して環を形成
してもよい。
攻輩し得る構造の限りにおいて互いに結合して環を形成
してもよい。
R(’ s R@2は好ましくは水素原子、ハロゲン原
子、またはアルキル基であり、Rcsは好ましくはアル
キル基またはアリール基である。
子、またはアルキル基であり、Rcsは好ましくはアル
キル基またはアリール基である。
qは好ましくは1〜3を表し、qが1のときpは0また
は1を、qが2のときpは0または1を、qが3のとき
pはOまたは1を表し、qが2または3のときR,l、
Rctは同一でも異なってもよい、 ZIは一般式(a
)と同義である。
は1を、qが2のときpは0または1を、qが3のとき
pはOまたは1を表し、qが2または3のときR,l、
Rctは同一でも異なってもよい、 ZIは一般式(a
)と同義である。
A、 、A、は水素原子、炭素数20以下のアルキルス
ルホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフ
ェニルスルホニル基又はハメットのt換基定数の和が−
0,5以上となるように置換されたフェニルスルホニル
基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイ
ル基、又はハメットの置tA基定数の和が−0,5以上
となるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又
は分岐状又は環状の無21A及び置換脂肪族アシル基装
置1^基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、ス
ルホンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキ
シ基、スルホン酸基が挙げられる。))A1.、A2と
しては水素原子が最も好ましい。
ルホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフ
ェニルスルホニル基又はハメットのt換基定数の和が−
0,5以上となるように置換されたフェニルスルホニル
基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイ
ル基、又はハメットの置tA基定数の和が−0,5以上
となるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又
は分岐状又は環状の無21A及び置換脂肪族アシル基装
置1^基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、ス
ルホンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキ
シ基、スルホン酸基が挙げられる。))A1.、A2と
しては水素原子が最も好ましい。
一般式(U)のRIまたはR2はその中にカプラー等の
不動性写真用添加剤において常用されているバラスト5
またはポリマーが組み込まれているものでもよい、バラ
スト基は8以上の炭素数を育する写真性に対して比較的
不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基、
′フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、ア
ルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。ま
たポリマーとしては例えば特開平1−100530号に
記載のものが挙げられる。
不動性写真用添加剤において常用されているバラスト5
またはポリマーが組み込まれているものでもよい、バラ
スト基は8以上の炭素数を育する写真性に対して比較的
不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基、
′フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、ア
ルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。ま
たポリマーとしては例えば特開平1−100530号に
記載のものが挙げられる。
一般式(U)のR3またはR8はその中にハロゲン化銀
粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれているも
のでもよい、かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素
環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基
などの米国特許第4゜385.108号、同4,459
.347号、特開昭59−195,233号、同59−
200゜231号、同59−201,045号、同59
−201.046号、同59−201,047号、同5
9−201,048号、同59−201,049号、特
開昭61−170,733号、同61−270,744
号、同62−948号、特願昭62−67.508号、
同62−67.501号、同62−67.510号に記
載された基があげられる。
粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれているも
のでもよい、かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素
環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基
などの米国特許第4゜385.108号、同4,459
.347号、特開昭59−195,233号、同59−
200゜231号、同59−201,045号、同59
−201.046号、同59−201,047号、同5
9−201,048号、同59−201,049号、特
開昭61−170,733号、同61−270,744
号、同62−948号、特願昭62−67.508号、
同62−67.501号、同62−67.510号に記
載された基があげられる。
一般式(U)で示される化合物の具体例を以下に示す、
但じ本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
但じ本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
ff−1)
■−2)
■−3)
■−4)
Js
■−6)
■−7)
n−12)
11−8)
■−9)
n−15)
CHzCHtCHtSH
n−10)
n−16)
It−11)
lt−17)
n −1,8”)
II−19)
N四−N
n−20)
H
+1−II
II−27)
11−28)
n−30)
ll−22)
II−23)
n−26)
n−31)
n−32)
II−33)
II−34)
○
zHs
ロー35)
IT−36)
II−37)
[1−38)
n−43)
++−44)
II−45)
II−46)
xlIs
しH2υ■
ll−40)
It−41)
n−42)
u−47)
n−48)
n−49)
II−50)
N
2
lt−51)
In−52)
II−53)
I[−54)
本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記の
ものの他に、RESEARCHDISCLOSURE
IteI123516(’1983年11月号、P、3
46)およびそこに引用された文献の他、米国特許4゜
080.207号、同4,269,929号、同4.2
76.364号、同4,278,748号、同4,38
5,108号、同4,459,347号、同4,5°6
0,638号、同4,478.928号、英国特許2,
011,391B、特開昭60−179734号、同6
2−270,948号、同63−29.751号、同6
1−170゜733号、同61−270,744号、同
62−948号、EP217,310号、またはUS4
゜686.167号、特開昭62−178.246号、
同63=32,538号、同63−104゜047号、
同63−121,838号、同63−129.337号
、同63−223,744号、同63−234,244
号、同63−234,245号、同6.3−234,2
46号、同63−294.552号、同63−306.
/138号、特開平1−100,530号、同1−10
5,941号、同1−105,943号、特開昭64−
10.233号、特開平1−90.439号、特願昭6
3−105,682号、同63−1’14,118号、
同63−110,051号、同63−114.119号
、同63−116.239号、同63−147,339
号、同63−179,760号、同63−229,16
3号、特願平1−18.377号、同1−18,378
号、同1−18.379号、同1−15,755号、同
1−16.814号、同1−40,792号、同1−4
2.615号、同1−42,616号、同1−123.
693号、同1−126,284号に記載されたものを
用いることができる。
ものの他に、RESEARCHDISCLOSURE
IteI123516(’1983年11月号、P、3
46)およびそこに引用された文献の他、米国特許4゜
080.207号、同4,269,929号、同4.2
76.364号、同4,278,748号、同4,38
5,108号、同4,459,347号、同4,5°6
0,638号、同4,478.928号、英国特許2,
011,391B、特開昭60−179734号、同6
2−270,948号、同63−29.751号、同6
1−170゜733号、同61−270,744号、同
62−948号、EP217,310号、またはUS4
゜686.167号、特開昭62−178.246号、
同63=32,538号、同63−104゜047号、
同63−121,838号、同63−129.337号
、同63−223,744号、同63−234,244
号、同63−234,245号、同6.3−234,2
46号、同63−294.552号、同63−306.
/138号、特開平1−100,530号、同1−10
5,941号、同1−105,943号、特開昭64−
10.233号、特開平1−90.439号、特願昭6
3−105,682号、同63−1’14,118号、
同63−110,051号、同63−114.119号
、同63−116.239号、同63−147,339
号、同63−179,760号、同63−229,16
3号、特願平1−18.377号、同1−18,378
号、同1−18.379号、同1−15,755号、同
1−16.814号、同1−40,792号、同1−4
2.615号、同1−42,616号、同1−123.
693号、同1−126,284号に記載されたものを
用いることができる。
本発明におけるヒドラジン誘導体の添加量としてはハロ
ゲン化i艮IモルあたりlXl0−6モルないし5xt
o−”モル含存されるのが好ましく、特にlXl0−’
モルないし2X10−”モルの範囲が好ましい添加量で
ある。
ゲン化i艮IモルあたりlXl0−6モルないし5xt
o−”モル含存されるのが好ましく、特にlXl0−’
モルないし2X10−”モルの範囲が好ましい添加量で
ある。
第一のハロゲン化銀乳剤層と第二のハロゲン化銀乳剤層
は、互いに異なる波長域に分光増感される。
は、互いに異なる波長域に分光増感される。
分光増感色素は、公知の種々の色素を用いることができ
る。分光増感色素とその分光増感方法については、T、
H,James著 The Theoryof th
e Photographic Process 4
th Ed。
る。分光増感色素とその分光増感方法については、T、
H,James著 The Theoryof th
e Photographic Process 4
th Ed。
(Macmillan Publishing
Co、、 Inc、、 New york。
Co、、 Inc、、 New york。
1977)に詳しく述べられている。
好ましくは第一のハロゲン化銀乳剤層と第二のハロゲン
化銀乳剤層の分光増感波長は、その極大増感波長で互い
に30nm以上離れているのが望ましい。特に好ましく
は、50nm以上離れているのが望ましい。特に好まし
いのは極大増感波長で互いに30nm以上、特に50n
m以上離れており、かつ両者の共通分光波長域が少ない
ことである。
化銀乳剤層の分光増感波長は、その極大増感波長で互い
に30nm以上離れているのが望ましい。特に好ましく
は、50nm以上離れているのが望ましい。特に好まし
いのは極大増感波長で互いに30nm以上、特に50n
m以上離れており、かつ両者の共通分光波長域が少ない
ことである。
これら2つの層のどちらが、長波あるいは短波に分光増
感されてもよい。特に好ましくは、第一のハロゲン化銀
乳剤層が、短波で、第二のハロゲン化銀乳剤層が長波に
分光増感されることが望ましい。
感されてもよい。特に好ましくは、第一のハロゲン化銀
乳剤層が、短波で、第二のハロゲン化銀乳剤層が長波に
分光増感されることが望ましい。
分光増感波長域は、可視光線領域から、赤外線領域まで
、目的によって種々、選択することができる。
、目的によって種々、選択することができる。
例えば、第二のハロゲン化銀乳剤層が500〜600n
mの適当な波長に分光増感されるとき、第一のハロゲン
化銀乳剤層は400〜570nmの第二のハロゲン化銀
乳剤層より短波側に分光増感されるか、あるいは530
nm以上の第二のハロゲン化銀乳剤層より長波に分光増
感されることができる。
mの適当な波長に分光増感されるとき、第一のハロゲン
化銀乳剤層は400〜570nmの第二のハロゲン化銀
乳剤層より短波側に分光増感されるか、あるいは530
nm以上の第二のハロゲン化銀乳剤層より長波に分光増
感されることができる。
特に、400〜570nmに分光増感すると、赤いセー
フライト光のもとで感光材料を取り扱うことができるの
で好ましい。
フライト光のもとで感光材料を取り扱うことができるの
で好ましい。
また、第二のハロゲン化銀乳剤層が600 nm以上に
分光増感されるときは、第一のハロゲン化銀乳剤層は、
第二のハロゲン化銀乳剤層の分光増感極大より30nm
以上短波の領域に分光増感されることが望ましい。
分光増感されるときは、第一のハロゲン化銀乳剤層は、
第二のハロゲン化銀乳剤層の分光増感極大より30nm
以上短波の領域に分光増感されることが望ましい。
本発明に用いられる分光増感色素には、シアニン色素、
メロシアニン色素、複合シアニン色素、複合メロシアニ
ン色素、ホロポーラ−シアニン色素、ヘミシアニン色素
、スチリル色素およびヘミオキソノール色素が包含され
る。特に有用な色素は、シアニン色素、メロシアニン色
素、および複合メロシアニン色素に属する色素である。
メロシアニン色素、複合シアニン色素、複合メロシアニ
ン色素、ホロポーラ−シアニン色素、ヘミシアニン色素
、スチリル色素およびヘミオキソノール色素が包含され
る。特に有用な色素は、シアニン色素、メロシアニン色
素、および複合メロシアニン色素に属する色素である。
これらの色素類には、塩基性異部環核としてシアニン色
素類に通常利用される核のいずれをも適用できる。
素類に通常利用される核のいずれをも適用できる。
すなわち、ビロリン核、オキサゾリン核、チアゾリン核
、ビロール核、オキサゾール核、チアゾール核、セレナ
ゾール核、イミダゾール核、テトラゾール核、ピリジン
核など:これらの核に脂環式炭化水素環が融合した核;
およびこれらの核に芳香族炭化水素環が融合した核、す
なわち、インドレニン核、ベンズインドレニン核、イン
ドール核、ベンズオキサドール核、ナフトオキサゾール
核、ベンゾチアゾール核、ナフトチアゾール核、ベンゾ
セレナゾール核、ベンズイミダゾール核、キノリン核な
どが適用できる。これらの核は炭素原子上に置換基を有
していてもよい。
、ビロール核、オキサゾール核、チアゾール核、セレナ
ゾール核、イミダゾール核、テトラゾール核、ピリジン
核など:これらの核に脂環式炭化水素環が融合した核;
およびこれらの核に芳香族炭化水素環が融合した核、す
なわち、インドレニン核、ベンズインドレニン核、イン
ドール核、ベンズオキサドール核、ナフトオキサゾール
核、ベンゾチアゾール核、ナフトチアゾール核、ベンゾ
セレナゾール核、ベンズイミダゾール核、キノリン核な
どが適用できる。これらの核は炭素原子上に置換基を有
していてもよい。
メロシアニン色素または複合メロシアニン色素にはケト
メチレン構造を有する核としてピラゾリン−5−オン核
、チオヒダントイン核、2−チオオキサゾリジン−2,
4−ジオン核、チアゾリジン−2,4−ジオン核、ロー
ダニン核、チオバルビッール酸核などの5〜6員異節環
核を適用することができる。
メチレン構造を有する核としてピラゾリン−5−オン核
、チオヒダントイン核、2−チオオキサゾリジン−2,
4−ジオン核、チアゾリジン−2,4−ジオン核、ロー
ダニン核、チオバルビッール酸核などの5〜6員異節環
核を適用することができる。
好ましい分光増感色素としては下記一般式(I[I)、
(IV)、(V)及び(VI)で表わされる化合物を挙
げることができる。
(IV)、(V)及び(VI)で表わされる化合物を挙
げることができる。
一般式(III)
式中、Zll、Z 12はチアゾール核、チアゾリン核
、ベンズチアゾール核、ナフトチアゾール核、オキサゾ
ール核、ベンゾオキサゾール核、オキサゾリン核、ナフ
トオキサゾール核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾー
ル核、イミダシリン核、セレナゾール核、セレナゾリン
核、ベンゾセレナゾール核またはナフトセレナゾール核
を形成するのに必要な原子群を表わす。
、ベンズチアゾール核、ナフトチアゾール核、オキサゾ
ール核、ベンゾオキサゾール核、オキサゾリン核、ナフ
トオキサゾール核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾー
ル核、イミダシリン核、セレナゾール核、セレナゾリン
核、ベンゾセレナゾール核またはナフトセレナゾール核
を形成するのに必要な原子群を表わす。
R11、R1,はアルキル基又は置換アルキル基を表わ
す。但し、R11、R1,の少くとも1つはスルホ基又
はカルボキシ基を有しているものとする。
す。但し、R11、R1,の少くとも1つはスルホ基又
はカルボキシ基を有しているものとする。
R++は水素原子又は炭素原子数1〜3のアルキル基、
を表わす。
を表わす。
Z II、Z1□によって形成される核には、シアニン
色素の分野でよく知られているように、置換基が導入さ
れていてもよい。この置換基としては例えばアルキル基
、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基
、アラルキル基、ハロゲン原子等が挙げられる。
色素の分野でよく知られているように、置換基が導入さ
れていてもよい。この置換基としては例えばアルキル基
、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基
、アラルキル基、ハロゲン原子等が挙げられる。
R1+及びR1!は各々同一であっても異っていてもよ
い。R,、、R,のアルキルとしては好ましくは炭素原
子数1〜8のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基などである。
い。R,、、R,のアルキルとしては好ましくは炭素原
子数1〜8のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基などである。
置換アルキル基の置換基としては、例えばカルボキシ基
、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子(例えばフッ素原
子、塩素原子、臭素原子など)、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基(炭素原子数8以下、例えばメトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシ
カルボニル基など)、アルコキシ基(炭素原子数7以下
、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブト
キシ基、ベンジルオキシ基など)、アリールオキシ基(
例えばフェノキシ基、p−トリルオキシ基など)、アシ
ルオキシ基(炭素原子数3以下、例えばアセチルオキシ
基、プロピオニルオキシ基など)、アシル基(炭素原子
数8以下、例えばアセチル基、プロピオニル基、ベンゾ
イル基、メシル基など)、カルバモイル基(例えばカル
バモイル基、N、N−ジメチルカルバモイル基、モルホ
リノカルバモイル基、ピペリジノカルバモイル基など)
、スルファモイル基(例えばスルファモイル基、N、N
−ジメチルスルファモイル基、モルホリノスルホニル基
など)、アリール基(例えばフェニル基、p−ヒドロキ
シフェニル基、p−カルボキシフェニル基、p−スルホ
フェニル基、α−ナラチル基など)がある。置換アルキ
ル基の好ましい炭素数は6以下である。
、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子(例えばフッ素原
子、塩素原子、臭素原子など)、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基(炭素原子数8以下、例えばメトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシ
カルボニル基など)、アルコキシ基(炭素原子数7以下
、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブト
キシ基、ベンジルオキシ基など)、アリールオキシ基(
例えばフェノキシ基、p−トリルオキシ基など)、アシ
ルオキシ基(炭素原子数3以下、例えばアセチルオキシ
基、プロピオニルオキシ基など)、アシル基(炭素原子
数8以下、例えばアセチル基、プロピオニル基、ベンゾ
イル基、メシル基など)、カルバモイル基(例えばカル
バモイル基、N、N−ジメチルカルバモイル基、モルホ
リノカルバモイル基、ピペリジノカルバモイル基など)
、スルファモイル基(例えばスルファモイル基、N、N
−ジメチルスルファモイル基、モルホリノスルホニル基
など)、アリール基(例えばフェニル基、p−ヒドロキ
シフェニル基、p−カルボキシフェニル基、p−スルホ
フェニル基、α−ナラチル基など)がある。置換アルキ
ル基の好ましい炭素数は6以下である。
一般式(IV)
24
式中、Rat及びR22は各々水素原子、ハロゲン原子
(例えば塩素原子、臭素原子等)、置換されていてもよ
い炭素数1〜8のアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、ヒドロキシエチル基等)、置換されていてもよい炭
素数1〜8のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキ
シ基等)、フェニル基、ナフチル基、スルホ基又はカル
ボキシ基を表わし、R21とRatが結合して6員環を
形成してもよ(、この環上にハロゲン原子、低級アルキ
ル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、フェニル
基、アルコキシ基、カルボキシ基等で置換されていても
よい。
(例えば塩素原子、臭素原子等)、置換されていてもよ
い炭素数1〜8のアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、ヒドロキシエチル基等)、置換されていてもよい炭
素数1〜8のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキ
シ基等)、フェニル基、ナフチル基、スルホ基又はカル
ボキシ基を表わし、R21とRatが結合して6員環を
形成してもよ(、この環上にハロゲン原子、低級アルキ
ル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、フェニル
基、アルコキシ基、カルボキシ基等で置換されていても
よい。
R2Sは置換されていてもよいアルキル基(例えばメチ
ル基、エチル基、スルホエチル基、スルホプロピル基、
スルホアミドエチル基、スルホブチル基等)又は置換さ
れていてもよいアルケニル基(例えばアリル基等)を表
わす。
ル基、エチル基、スルホエチル基、スルホプロピル基、
スルホアミドエチル基、スルホブチル基等)又は置換さ
れていてもよいアルケニル基(例えばアリル基等)を表
わす。
R24は置換されていてもよい炭素原子数1〜12のア
ルキル基を表わし、置換基としてはヒドロキシ基、カル
バミド基等が好ましく、このアルキル基はその炭素数の
間に−o−−oco−−NH−及び−Nが介在している
ものを包含する。
ルキル基を表わし、置換基としてはヒドロキシ基、カル
バミド基等が好ましく、このアルキル基はその炭素数の
間に−o−−oco−−NH−及び−Nが介在している
ものを包含する。
R26はハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)
、低級アルキル基(例えばメチル基、エチル基等)、ヒ
ドロキシ基、ヒドロキシアルキル基(例えばヒドロキシ
エチル基)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキ
シ基等)、スルホ基又はカルボキシ基でそれぞれ置換さ
れていてもよいフェニル基又はピリジル基を表わす。
、低級アルキル基(例えばメチル基、エチル基等)、ヒ
ドロキシ基、ヒドロキシアルキル基(例えばヒドロキシ
エチル基)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキ
シ基等)、スルホ基又はカルボキシ基でそれぞれ置換さ
れていてもよいフェニル基又はピリジル基を表わす。
一般式(V)
(XO)。
式中、R31及びRstは各々同一であっても異ってい
てもよく、それぞれアルキル基(好ましくは炭素数1〜
8、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ペンチル基、ヘプチル基、など)、置換アルキル基(
置換基として例えばカルボキシ基、スルホ基、シアノ基
、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原
子など)、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基(炭
素数8以下、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基など)、アル
コキシ基(炭素数7以下、例えばメトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基、ベンジルオキシ基など
)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ基、p−トリ
ルオキシ基など)、アシルオキシ基(炭素数3以下、例
えばアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など)、
アシル基(炭素数8以下、例えばアセチル基、プロピオ
ニル基、ベンゾイル基、メシル基など)、カルバモイル
基(例えばカルバモイル基、N、 N−ジメチルカルバ
モイル基、モルホリノカルバモイル基、ピペリジノカル
バモイル基など)、スルファモイル基(例えばスルファ
モイル基、N、 N−ジメチルスルファモイル基、モル
ホリノスルホニル基など)、アリール基(例えばフェニ
ル基、p−ヒドロキシフェニル基、p−カルボキシフェ
ニル基、p−スルホフェニル基、α−ナフチル基など)
などで置換されたアルキル基(炭素数6以下)。但しこ
の置換基は2つ以上組合せてアルキル基に置換されてよ
い。)を表わす。R3は水素原子、低級アルキル基(例
えばメチル基、エチル基、プロピル基など)フェニル基
、ベンジル基を表わす。
てもよく、それぞれアルキル基(好ましくは炭素数1〜
8、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ペンチル基、ヘプチル基、など)、置換アルキル基(
置換基として例えばカルボキシ基、スルホ基、シアノ基
、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原
子など)、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基(炭
素数8以下、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基など)、アル
コキシ基(炭素数7以下、例えばメトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基、ベンジルオキシ基など
)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ基、p−トリ
ルオキシ基など)、アシルオキシ基(炭素数3以下、例
えばアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など)、
アシル基(炭素数8以下、例えばアセチル基、プロピオ
ニル基、ベンゾイル基、メシル基など)、カルバモイル
基(例えばカルバモイル基、N、 N−ジメチルカルバ
モイル基、モルホリノカルバモイル基、ピペリジノカル
バモイル基など)、スルファモイル基(例えばスルファ
モイル基、N、 N−ジメチルスルファモイル基、モル
ホリノスルホニル基など)、アリール基(例えばフェニ
ル基、p−ヒドロキシフェニル基、p−カルボキシフェ
ニル基、p−スルホフェニル基、α−ナフチル基など)
などで置換されたアルキル基(炭素数6以下)。但しこ
の置換基は2つ以上組合せてアルキル基に置換されてよ
い。)を表わす。R3は水素原子、低級アルキル基(例
えばメチル基、エチル基、プロピル基など)フェニル基
、ベンジル基を表わす。
Z31及びZI2は各々同一であっても異っていてもよ
く、それぞれ5員又は6員の含窒素複素環を完成するに
必要な非金属原子群を表わし、例えばチアゾール核〔例
えばベンゾチアゾール、4−クロルベンゾチアゾール、
5−クロルベンゾチアゾール、6−クロルベンゾチアゾ
ール、7−クロルベンゾチアゾール、4−メチルベンゾ
チアゾール、5−メチルベンゾチアゾール、6−メチル
ベンゾチアゾール、5−ブロモベンゾチアゾール、6−
ブロモベンゾチアゾール、5−ヨードベンゾチアゾール
、5−フェニルベンゾチアゾール、5−メトキシベンゾ
チアゾール、6−メトキシベンゾチアゾール、5−エト
キシベンゾチアゾール、5−カルポキシベンゾチアゾー
ル、5−エトキシカルボニルベンゾチアゾール、5−フ
ェネチルベンゾチアゾール、5−フルオロベンゾチアゾ
ール、5トリフルオロメチルベンゾチアゾール、5,6
−シメチルベンゾチアゾール、5−ヒドロキシ−6−メ
チルベンゾチアゾール、テトラヒドロベンゾチアゾール
、4−フェニルベンゾチアゾール、ナフトC2,1−d
)チアゾール、ナフト〔1゜2−d〕チアゾール、ナフ
ト(2,3−d〕チアゾール、5−メトキシナフト(1
,2−d〕チアゾール、7−ニトキシナフト(2,1−
d)チアゾール、8−メトキシナフトC2,1−d〕チ
アゾール、5−メトキシナフト(2,3−d〕チアゾー
ルなど〕、ゼレナゾール核〔例えばペンゾゼレナゾール
、5−クロルベンゾイミダゾール、5−メトキシベンゾ
ゼレナゾール、5−メチルベンゾイミダゾール、5−ヒ
ドロキシベンゾオキサゾール、ナフト[2,1−d)ゼ
レナゾール、ナフト(1,2−d)ゼレナゾールなど〕
、オキサゾール核〔ベンゾオキサゾール、5−クロルベ
ンゾオキサゾール、5−メチルベンゾオキサゾール、5
−ブロムベンゾオキサゾール、5−フルオロベンゾオキ
サゾール、5−フェニルベンゾオキサゾール、5−メト
キシベンゾオキサゾール、5−トリフルオロベンゾオキ
サゾール、5−ヒドロキシベンゾオキサゾール、5−カ
ルボキシベンゾオキサゾール、6−メチルベンゾオキサ
ゾール、6クロルベンゾオキサゾール、6−メトキシベ
ンゾオキサゾール、6−ヒドロキシベンゾオキサゾール
、5,6−シメチルベンゾオキサゾール、4゜6−シメ
チルベンゾオキサゾール、5−エトキシベンゾオキサゾ
ール、ナフト(2,1−d)オキサゾール、ナフト(1
,2−d)オキサゾール、ナフト[2,3−d)オキサ
ゾールなど〕、キノリン核〔例えば、2−キノリン、3
−メチル−2−キノリン、5−エチル−2−キノリン、
6−メチル−2−キノリン、8−フルオロ−2−キノリ
ン、6−メドキシー2−キノリン、6−ヒドロキシ2−
キノリン、8−クロロ−2−キノリンなど〕、3.3−
ジアルキルインドレニン核〔例えば、3゜3−ジメチル
インドレニン、3,3−ジエチルインドレニン、3,3
−ジメチル−5−シアノインドレニン、3,3−ジメチ
ル−5−メトキシインドレニン、3,3−ジメチル−5
−メチルインドレニン、3,3−ジメチル−5−クロル
インドレニンなど〕、イミダゾール核〔例えば、l−メ
チルベンゾイミダゾール、l−エチルベンゾイミダゾー
ル、l−メチル−5−クロルベンゾイミダゾール、■−
エチルー5−クロルベンゾイミダゾール、■−メチルー
5,6−ジクロルベンゾイミダゾール、l−エチル−5
,6−ジクロルベンゾイミダゾール、1−アルキル−5
−メトキシベンゾイミダゾール、1−メチル−5−シア
ノベンゾイミダゾール、l−エチル−5−シアノベンゾ
イミダゾール、1−メチル−5−フルオロベンゾイミダ
ゾール、l−エチル−5−フルオロベンゾイミダゾール
、■−フェニルー5,6−ジクロルベンゾイミダゾール
、1−アリル−5,6−ジクロルベンゾイミダゾール、
l−アリル−5−クロルベンゾイミダゾール、1−フェ
ニルベンゾイミダゾール、1−フェニル−5−クロルベ
ンゾイミダゾール、■−メチルー5−トリフルオロメチ
ルベンゾイミダゾール、■−エチルー5−トリフルオロ
メチルベンゾイミダゾール、l−エチルナフト[1,2
−d]イミダゾールなど〕、ピリジン核〔例えばピリジ
ン、5−メチル−2−ピリジン、3−メチル−4−ピリ
ジンなど〕等を挙げることができる。
く、それぞれ5員又は6員の含窒素複素環を完成するに
必要な非金属原子群を表わし、例えばチアゾール核〔例
えばベンゾチアゾール、4−クロルベンゾチアゾール、
5−クロルベンゾチアゾール、6−クロルベンゾチアゾ
ール、7−クロルベンゾチアゾール、4−メチルベンゾ
チアゾール、5−メチルベンゾチアゾール、6−メチル
ベンゾチアゾール、5−ブロモベンゾチアゾール、6−
ブロモベンゾチアゾール、5−ヨードベンゾチアゾール
、5−フェニルベンゾチアゾール、5−メトキシベンゾ
チアゾール、6−メトキシベンゾチアゾール、5−エト
キシベンゾチアゾール、5−カルポキシベンゾチアゾー
ル、5−エトキシカルボニルベンゾチアゾール、5−フ
ェネチルベンゾチアゾール、5−フルオロベンゾチアゾ
ール、5トリフルオロメチルベンゾチアゾール、5,6
−シメチルベンゾチアゾール、5−ヒドロキシ−6−メ
チルベンゾチアゾール、テトラヒドロベンゾチアゾール
、4−フェニルベンゾチアゾール、ナフトC2,1−d
)チアゾール、ナフト〔1゜2−d〕チアゾール、ナフ
ト(2,3−d〕チアゾール、5−メトキシナフト(1
,2−d〕チアゾール、7−ニトキシナフト(2,1−
d)チアゾール、8−メトキシナフトC2,1−d〕チ
アゾール、5−メトキシナフト(2,3−d〕チアゾー
ルなど〕、ゼレナゾール核〔例えばペンゾゼレナゾール
、5−クロルベンゾイミダゾール、5−メトキシベンゾ
ゼレナゾール、5−メチルベンゾイミダゾール、5−ヒ
ドロキシベンゾオキサゾール、ナフト[2,1−d)ゼ
レナゾール、ナフト(1,2−d)ゼレナゾールなど〕
、オキサゾール核〔ベンゾオキサゾール、5−クロルベ
ンゾオキサゾール、5−メチルベンゾオキサゾール、5
−ブロムベンゾオキサゾール、5−フルオロベンゾオキ
サゾール、5−フェニルベンゾオキサゾール、5−メト
キシベンゾオキサゾール、5−トリフルオロベンゾオキ
サゾール、5−ヒドロキシベンゾオキサゾール、5−カ
ルボキシベンゾオキサゾール、6−メチルベンゾオキサ
ゾール、6クロルベンゾオキサゾール、6−メトキシベ
ンゾオキサゾール、6−ヒドロキシベンゾオキサゾール
、5,6−シメチルベンゾオキサゾール、4゜6−シメ
チルベンゾオキサゾール、5−エトキシベンゾオキサゾ
ール、ナフト(2,1−d)オキサゾール、ナフト(1
,2−d)オキサゾール、ナフト[2,3−d)オキサ
ゾールなど〕、キノリン核〔例えば、2−キノリン、3
−メチル−2−キノリン、5−エチル−2−キノリン、
6−メチル−2−キノリン、8−フルオロ−2−キノリ
ン、6−メドキシー2−キノリン、6−ヒドロキシ2−
キノリン、8−クロロ−2−キノリンなど〕、3.3−
ジアルキルインドレニン核〔例えば、3゜3−ジメチル
インドレニン、3,3−ジエチルインドレニン、3,3
−ジメチル−5−シアノインドレニン、3,3−ジメチ
ル−5−メトキシインドレニン、3,3−ジメチル−5
−メチルインドレニン、3,3−ジメチル−5−クロル
インドレニンなど〕、イミダゾール核〔例えば、l−メ
チルベンゾイミダゾール、l−エチルベンゾイミダゾー
ル、l−メチル−5−クロルベンゾイミダゾール、■−
エチルー5−クロルベンゾイミダゾール、■−メチルー
5,6−ジクロルベンゾイミダゾール、l−エチル−5
,6−ジクロルベンゾイミダゾール、1−アルキル−5
−メトキシベンゾイミダゾール、1−メチル−5−シア
ノベンゾイミダゾール、l−エチル−5−シアノベンゾ
イミダゾール、1−メチル−5−フルオロベンゾイミダ
ゾール、l−エチル−5−フルオロベンゾイミダゾール
、■−フェニルー5,6−ジクロルベンゾイミダゾール
、1−アリル−5,6−ジクロルベンゾイミダゾール、
l−アリル−5−クロルベンゾイミダゾール、1−フェ
ニルベンゾイミダゾール、1−フェニル−5−クロルベ
ンゾイミダゾール、■−メチルー5−トリフルオロメチ
ルベンゾイミダゾール、■−エチルー5−トリフルオロ
メチルベンゾイミダゾール、l−エチルナフト[1,2
−d]イミダゾールなど〕、ピリジン核〔例えばピリジ
ン、5−メチル−2−ピリジン、3−メチル−4−ピリ
ジンなど〕等を挙げることができる。
但し、Z31とZ Ifのうち少なくとも1つはチアゾ
ール核、セレナゾール核、キノリン核、オキサゾール核
およびイミダゾール核である。
ール核、セレナゾール核、キノリン核、オキサゾール核
およびイミダゾール核である。
Xは酸アニオンを表わす。
m、n、及びpは各々、1又は2を表わす。色素がベタ
イン構造をとる場合、pは1である。
イン構造をとる場合、pは1である。
一般式(VI)
R11R11
式中、211%Z12はチアゾール核、チアゾリン核、
ベンズチアゾール核、ナフトチアゾール核、オキサゾー
ル核、ベンゾオキサゾール核、オキサゾリン核、ナフト
オキサゾール核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール
核、イミダシリン核、セレナゾール核、セレナゾリン核
、ベンゾセレナゾール核またはナフトセレナゾール核を
形成するのに必要な原子群を表わす。
ベンズチアゾール核、ナフトチアゾール核、オキサゾー
ル核、ベンゾオキサゾール核、オキサゾリン核、ナフト
オキサゾール核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール
核、イミダシリン核、セレナゾール核、セレナゾリン核
、ベンゾセレナゾール核またはナフトセレナゾール核を
形成するのに必要な原子群を表わす。
R11、Rt iはアルキル基又は置換アルキル基を表
わす。但し、R41、R1!の少くとも1つはスルホ基
又はカルボキシ基を有しているものとする。
わす。但し、R41、R1!の少くとも1つはスルホ基
又はカルボキシ基を有しているものとする。
Z tl、Z4□によって形成される核には、シアニン
色素の分野でよく知られているように、置換基が導入さ
れていてもよい。この置換基としては例えばアルキル基
、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基
、アラルキル基、ハロゲン原子等が挙げられる。
色素の分野でよく知られているように、置換基が導入さ
れていてもよい。この置換基としては例えばアルキル基
、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基
、アラルキル基、ハロゲン原子等が挙げられる。
R41及びR4tは各々同一であっても異っていてもよ
い。R11% R11のアルキルとしては好ましくは炭
素原子数1〜8のもの、例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基などであ
る。置換アルキル基の置換基としては、例えばカルボキ
シ基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子(例えばフッ
素原子、塩素原子、臭素原子など)、ヒドロキシ基、ア
ルコキシカルボニル基(炭素原子数8以下、例えばメト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオ
キシカルボニル基など)、アルコキシ基(炭素原子数7
以下、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
ブトキシ基、ベンジルオキシ基など)、アリールオキシ
基(例えばフェノキシ基、p−トリルオキシ基など)、
アシルオキシ基(炭素原子数3以下、例えばアセチルオ
キシ基、プロピオニルオキシ基など)、アシル基(炭素
原子数8以下、例えばアセチル基、プロピオニル基、ベ
ンゾイル基、メシル基など)、カルバモイル基(例えば
カルバモイル基、N、N−ジメチルスルフモイル基、モ
ルホリノカルバモイル基、ピペリジノカルバモイル基な
ど)、スルファモイル基(例えばスルファモイル基、N
、 N−ジメチルスルファモイル基、モルホリノスルホ
ニル基など)、アリール基(例えばフェニル基、p−ヒ
ドロキシフェニル基、p−カルボキシフェニル基、p−
スルホフェニル基、α−ナフチル基など)がある。置換
アルキル基の好ましい炭素数は6以下である。
い。R11% R11のアルキルとしては好ましくは炭
素原子数1〜8のもの、例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基などであ
る。置換アルキル基の置換基としては、例えばカルボキ
シ基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子(例えばフッ
素原子、塩素原子、臭素原子など)、ヒドロキシ基、ア
ルコキシカルボニル基(炭素原子数8以下、例えばメト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオ
キシカルボニル基など)、アルコキシ基(炭素原子数7
以下、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
ブトキシ基、ベンジルオキシ基など)、アリールオキシ
基(例えばフェノキシ基、p−トリルオキシ基など)、
アシルオキシ基(炭素原子数3以下、例えばアセチルオ
キシ基、プロピオニルオキシ基など)、アシル基(炭素
原子数8以下、例えばアセチル基、プロピオニル基、ベ
ンゾイル基、メシル基など)、カルバモイル基(例えば
カルバモイル基、N、N−ジメチルスルフモイル基、モ
ルホリノカルバモイル基、ピペリジノカルバモイル基な
ど)、スルファモイル基(例えばスルファモイル基、N
、 N−ジメチルスルファモイル基、モルホリノスルホ
ニル基など)、アリール基(例えばフェニル基、p−ヒ
ドロキシフェニル基、p−カルボキシフェニル基、p−
スルホフェニル基、α−ナフチル基など)がある。置換
アルキル基の好ましい炭素数は6以下である。
以下に本発明に好ましく用いられる分光増感色素の好ま
しい化合物例を示すが、これに限定されるものではない
。
しい化合物例を示すが、これに限定されるものではない
。
■−3)
■−7)
I[−to)
2Hs
C,Hs
C2H。
■−6)
C* Hs
rV−1) 1−(2−ジエチルアミノエチル)5
−〔(エチルナフト(2,1−dlオキサゾリン−2−
イリデン)エチリデン〕−3−(ピリジン−2−イル)
−2−チオヒダントインIV−2) 1−(2−ジ
エチルアミノエチル)−3−(ピリジン−4−イル)−
5−(3−エチル−2−ペンゾオキサゾリニデン)エチ
リデン〕−2−チオヒダントイン IV−3) 1−(2−ヒドロキシエチル)−3−
(4−スルホブチル−ピリジン−2−イル)−5−C(
3−スルホプロピル−2−ペンゾオキサゾリニデン)エ
チリデンクー2−チオヒダントインナトリウム塩 IV−4) 1−(2−アセチルブチル)−3(ピ
リジン−2−イル)−5−((3−スルホジエチル−2
−ペンゾオキサゾリニデン)エチリデンクー2−チオヒ
ダントインナトリウム塩IV−5) 1−(2−ヒ
ドロキシエチル)−3−(ピリジン−2−イル)−5−
C(3−スルホプロピル−2−ペンゾオキサゾリニデン
)エチリ■−7) デン〕−2−チオヒダントインナトリウム塩IV−6)
1−(2,3−ジヒドロキシプロピル)−3−(
ピリジン−2−イル)−5−((3−スルホアミドエチ
ル−2−ペンゾオキサゾリニデン)エチリデン〕−2−
チオヒダントインナトリウム塩 IV−7) 1−(2−ヒドロキシエトキシエチル
)−3−(ピリジン−2−イル) −5−[:(3スル
ホブチル−5−クロロ−2−ペンゾオキサゾリニデン)
エチリデン]−2−チオヒダントインナトリウム塩 1’V−8) 1−(2−ヒドロキシエトキシエト
キシエチル)−3−(ピリジン−2−イル)−5−〔(
3−スルホブチル−5−クロロ−2−ペンゾオキサゾリ
ニデン)エチリデン〕−2〜チオヒダントインナトリウ
ム塩 IV−9) 1−(2−ヒドロキシエチルアミノエ
チル)−3−(4−クロロピリジン−2−イル)−5−
((3−スルホブチル−5−メチル−2−ペンゾオキサ
ゾリニデン)エチリデンツー2−チt Hs に2 H! ((,1th〕+ 5)(J3 1Na■−9) VI−10) VI−11) ■−8) 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、バック層を有し
、該バック層は、該第二のハロゲン化銀乳剤層の感光波
長域に光吸収性を有する染料を含むことがさらに好まし
い。
−〔(エチルナフト(2,1−dlオキサゾリン−2−
イリデン)エチリデン〕−3−(ピリジン−2−イル)
−2−チオヒダントインIV−2) 1−(2−ジ
エチルアミノエチル)−3−(ピリジン−4−イル)−
5−(3−エチル−2−ペンゾオキサゾリニデン)エチ
リデン〕−2−チオヒダントイン IV−3) 1−(2−ヒドロキシエチル)−3−
(4−スルホブチル−ピリジン−2−イル)−5−C(
3−スルホプロピル−2−ペンゾオキサゾリニデン)エ
チリデンクー2−チオヒダントインナトリウム塩 IV−4) 1−(2−アセチルブチル)−3(ピ
リジン−2−イル)−5−((3−スルホジエチル−2
−ペンゾオキサゾリニデン)エチリデンクー2−チオヒ
ダントインナトリウム塩IV−5) 1−(2−ヒ
ドロキシエチル)−3−(ピリジン−2−イル)−5−
C(3−スルホプロピル−2−ペンゾオキサゾリニデン
)エチリ■−7) デン〕−2−チオヒダントインナトリウム塩IV−6)
1−(2,3−ジヒドロキシプロピル)−3−(
ピリジン−2−イル)−5−((3−スルホアミドエチ
ル−2−ペンゾオキサゾリニデン)エチリデン〕−2−
チオヒダントインナトリウム塩 IV−7) 1−(2−ヒドロキシエトキシエチル
)−3−(ピリジン−2−イル) −5−[:(3スル
ホブチル−5−クロロ−2−ペンゾオキサゾリニデン)
エチリデン]−2−チオヒダントインナトリウム塩 1’V−8) 1−(2−ヒドロキシエトキシエト
キシエチル)−3−(ピリジン−2−イル)−5−〔(
3−スルホブチル−5−クロロ−2−ペンゾオキサゾリ
ニデン)エチリデン〕−2〜チオヒダントインナトリウ
ム塩 IV−9) 1−(2−ヒドロキシエチルアミノエ
チル)−3−(4−クロロピリジン−2−イル)−5−
((3−スルホブチル−5−メチル−2−ペンゾオキサ
ゾリニデン)エチリデンツー2−チt Hs に2 H! ((,1th〕+ 5)(J3 1Na■−9) VI−10) VI−11) ■−8) 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、バック層を有し
、該バック層は、該第二のハロゲン化銀乳剤層の感光波
長域に光吸収性を有する染料を含むことがさらに好まし
い。
この目的で用いられる染料は、写真現像処理中に脱色さ
れ、ハロゲン化銀写真感光材料中から容易に溶出して現
像処理後に残色したり、汚染を与えないものが望ましい
。
れ、ハロゲン化銀写真感光材料中から容易に溶出して現
像処理後に残色したり、汚染を与えないものが望ましい
。
これらの条件をみたす染料としては、公知の種々の染料
を用いることができる。例えば英国特許第506,38
5号に記載されたピラゾロンオキソノール染料、米国特
許第3,247,127号に記載されたバルビッール酸
オキソノール染料、米国特許第2.390,707号に
記載されたアゾ染料、米国特許第2,255,077号
に記載されたスチリル染料、英国特許第584,609
号に記載されたヘミオキソノール染料、米国特許第2,
493,747号に記載されたメロシアニン染料、米国
特許第2,843,486号に記載されたシアニン染料
、米国特許第4,420.555号に記載されたメチレ
ン型ベンジリデン染料などがあげられる。
を用いることができる。例えば英国特許第506,38
5号に記載されたピラゾロンオキソノール染料、米国特
許第3,247,127号に記載されたバルビッール酸
オキソノール染料、米国特許第2.390,707号に
記載されたアゾ染料、米国特許第2,255,077号
に記載されたスチリル染料、英国特許第584,609
号に記載されたヘミオキソノール染料、米国特許第2,
493,747号に記載されたメロシアニン染料、米国
特許第2,843,486号に記載されたシアニン染料
、米国特許第4,420.555号に記載されたメチレ
ン型ベンジリデン染料などがあげられる。
染料を特定の層に固定する方法として従来よりスルホ基
やカルボキシル基を有するいわゆる酸性染料を媒染剤を
用いて特定の層に局在化させる方法が知られている。
やカルボキシル基を有するいわゆる酸性染料を媒染剤を
用いて特定の層に局在化させる方法が知られている。
このような媒染剤としては、英国特許第685゜475
号に記載されたジアルキルアミノアルキルエステル残基
を有するエチレン不飽和化合物ポリマー、同第850.
281号記載のポリビニルアルキルケトンとアミングア
ニジンとの反応生成物、米国特許第2,548.564
号、同2,484゜430号、同3,148,061号
、同3,756.814号明細書に記載のビニルピリジ
ンポリマー及びビニルピリジニウムカチオンポリマーな
どが知られており、先に述べた酸性染料を有効に媒染で
きるように、ポリマー中に二級および三級アミノ基、含
窒素複素環基およびこれらの四級カチオン基を含むカチ
オン系媒染剤が用いられる。
号に記載されたジアルキルアミノアルキルエステル残基
を有するエチレン不飽和化合物ポリマー、同第850.
281号記載のポリビニルアルキルケトンとアミングア
ニジンとの反応生成物、米国特許第2,548.564
号、同2,484゜430号、同3,148,061号
、同3,756.814号明細書に記載のビニルピリジ
ンポリマー及びビニルピリジニウムカチオンポリマーな
どが知られており、先に述べた酸性染料を有効に媒染で
きるように、ポリマー中に二級および三級アミノ基、含
窒素複素環基およびこれらの四級カチオン基を含むカチ
オン系媒染剤が用いられる。
特開昭62−242933号に記載されているアニオン
媒染剤とカチオン染料の組合せを用いることもできる。
媒染剤とカチオン染料の組合せを用いることもできる。
また、媒染剤を用いないで染料を固定させる方法として
、特開昭63−208846号、特開昭63−2827
38号、および特開平1−158゜439号に記載され
ているような、アニオン解離基と疎水性基を有する染料
をミセル状に集合体を形成させ、ゼラチン中に分散せし
める方法を用いることができる。染料としては、これら
の特許に記載の還元されることによって、拡散性染料を
放出する化合物が好ましい。
、特開昭63−208846号、特開昭63−2827
38号、および特開平1−158゜439号に記載され
ているような、アニオン解離基と疎水性基を有する染料
をミセル状に集合体を形成させ、ゼラチン中に分散せし
める方法を用いることができる。染料としては、これら
の特許に記載の還元されることによって、拡散性染料を
放出する化合物が好ましい。
その他、WO38104794に記載されているような
アルカリ解離基を有する低分子量の水不溶性染料を、ボ
ールミルやコロイドミルのような分散機を用いてゼラチ
ン中に微結晶の粒子として分散せしめる方法を用いるこ
ともできる。
アルカリ解離基を有する低分子量の水不溶性染料を、ボ
ールミルやコロイドミルのような分散機を用いてゼラチ
ン中に微結晶の粒子として分散せしめる方法を用いるこ
ともできる。
これらの染料の添加量は、染料のモル吸光係数や分子量
によって太き(異なるが、10−’g/n(〜1 g
/ rr?の範囲で用いられる。好ましくは10−2g
/耐〜500■/dである。
によって太き(異なるが、10−’g/n(〜1 g
/ rr?の範囲で用いられる。好ましくは10−2g
/耐〜500■/dである。
染料の具体例は、前述の引用特許の中に詳しく記載され
ているが、ここにい(つかの例をあげる。
ているが、ここにい(つかの例をあげる。
もちろん、本発明はこれらの染料に限定されるものでは
ない。
ない。
SO2N (C4H9)2
UCK
SUs 氏
12)
13)
10)
11)
14)
15)
16)
17)
20)
21)
19)
に(K)M
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、第一のハロゲン
化銀乳剤層と第二のハロゲン化銀乳剤層との間に、親水
性コロイド層を設けてもよい。
化銀乳剤層と第二のハロゲン化銀乳剤層との間に、親水
性コロイド層を設けてもよい。
親水性コロイド層には、ゼラチンを用いるのが有利であ
るが、それ以外の親水性コロイドも用いることができる
。たとえばゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子との
グラフトポリマー、アルブミン、カゼイン等の蛋白質;
ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロ
ース、セルロース硫酸エステル類等の如きセルロース誘
導体、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体などの糖誘導体、
ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール部分アセ
タール、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸
、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニル
イミダゾール、ポリビニルピラゾール等の単一あるいは
共重合体の如き多種の合成親水性高分子物質を用いるこ
とができる。
るが、それ以外の親水性コロイドも用いることができる
。たとえばゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子との
グラフトポリマー、アルブミン、カゼイン等の蛋白質;
ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロ
ース、セルロース硫酸エステル類等の如きセルロース誘
導体、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体などの糖誘導体、
ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール部分アセ
タール、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸
、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニル
イミダゾール、ポリビニルピラゾール等の単一あるいは
共重合体の如き多種の合成親水性高分子物質を用いるこ
とができる。
ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラ
チンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵
素分解物も用いることができる。
チンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵
素分解物も用いることができる。
親水性コロイド層は0.1μ〜10μ、好ましくは0.
5μ〜5μの範囲で用いられる°。
5μ〜5μの範囲で用いられる°。
本発明のレドックス化合物は、第一のハロゲン化銀乳剤
層、本発明の親水性コロイド層、あるいは、これらの層
とは別の親水性コロイド層に添加して用いられるが、第
一のハロゲン化銀乳剤層に添加するか、第一のハロゲン
化銀乳剤層に隣接する親水性コロイド層に添加するのが
好ましい。
層、本発明の親水性コロイド層、あるいは、これらの層
とは別の親水性コロイド層に添加して用いられるが、第
一のハロゲン化銀乳剤層に添加するか、第一のハロゲン
化銀乳剤層に隣接する親水性コロイド層に添加するのが
好ましい。
本発明の第一のハロゲン化銀乳剤層は、イメージワイズ
な露光と現像の結果として、本発明のレドックス化合物
を酸化し、現像抑制剤を放出させるための層であり、硬
調な画像を形成する第二のハロゲン化銀乳剤層とは異な
る。
な露光と現像の結果として、本発明のレドックス化合物
を酸化し、現像抑制剤を放出させるための層であり、硬
調な画像を形成する第二のハロゲン化銀乳剤層とは異な
る。
従って、第一のハロゲン化銀乳剤層は、現像抑制剤を放
出するのに必要な銀量を塗布すればよく、2.0g/r
rl以下、特に好ましくは0.O1g/d〜1.0g/
rrrの範囲の塗布銀量が好ましい。
出するのに必要な銀量を塗布すればよく、2.0g/r
rl以下、特に好ましくは0.O1g/d〜1.0g/
rrrの範囲の塗布銀量が好ましい。
実質的に画像を形成するのは第二のハロゲン化銀乳剤層
中の現像銀であり、第一のハロゲン化銀乳剤層中の現像
銀は必ずしも画像濃度には寄与しない。
中の現像銀であり、第一のハロゲン化銀乳剤層中の現像
銀は必ずしも画像濃度には寄与しない。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は塩化銀、塩臭化
銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀等どの組成でもかまわない。
銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀等どの組成でもかまわない。
本発明に用いられるハロゲン化銀の平均粒子サイズは微
粒子(例えば0.7μ以下)の方が好ましく、特に0.
5μ以下が好ましい。粒子サイズ分布は基本的には制
限はないが、単分散である方が好ましい。ここでいう単
分散とは重量もしくは粒子数で少なくともその95%が
平均粒子サイズの±40%以内の大きさを持つ粒子群か
ら構成されていることをいう。
粒子(例えば0.7μ以下)の方が好ましく、特に0.
5μ以下が好ましい。粒子サイズ分布は基本的には制
限はないが、単分散である方が好ましい。ここでいう単
分散とは重量もしくは粒子数で少なくともその95%が
平均粒子サイズの±40%以内の大きさを持つ粒子群か
ら構成されていることをいう。
写真乳剤中のハロゲン化銀粒子は立方体、八面体のよう
な規則的(regular)な結晶体を有するものでも
よく、また球状、板状などのような変則的(irreg
ular)な結晶を持つもの、あるいはこれらの結晶形
の複合形を持つものであってもよい。
な規則的(regular)な結晶体を有するものでも
よく、また球状、板状などのような変則的(irreg
ular)な結晶を持つもの、あるいはこれらの結晶形
の複合形を持つものであってもよい。
ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均一な相から成ってい
ても、異なる相からなっていてもよい。
ても、異なる相からなっていてもよい。
別々に形成した2種以上のハロゲン化銀乳剤を混合して
使用してもよい。
使用してもよい。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀粒子
の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜
硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその錯
塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させても
よい。
の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜
硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその錯
塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させても
よい。
本発明の乳剤層又は、その他の親水性コロイド層に、フ
ィルター染料として、あるいはイラジェーション防止そ
の他、種々の目的で、水溶性染料を含有してもよい。フ
ィルター染料としては、写真感度をさらに低めるための
染料、好ましくは、ハロゲン化銀の固有感度域に分光吸
収極大を有する紫外線吸収剤や、明室感光材料として取
り扱われる際のセーフライト光に対する安全性を高める
ための、主として350nm〜600nmの領域に実質
的な光吸収をもつ染料が用いられる。
ィルター染料として、あるいはイラジェーション防止そ
の他、種々の目的で、水溶性染料を含有してもよい。フ
ィルター染料としては、写真感度をさらに低めるための
染料、好ましくは、ハロゲン化銀の固有感度域に分光吸
収極大を有する紫外線吸収剤や、明室感光材料として取
り扱われる際のセーフライト光に対する安全性を高める
ための、主として350nm〜600nmの領域に実質
的な光吸収をもつ染料が用いられる。
これらの染料は、目的に応じて乳剤層に添加するか、あ
るいはハロゲン化銀乳剤層の上部、即ち、支持体に関し
てハロゲン化銀乳剤層より遠くの非感光性親水性コロイ
ド層に媒染剤とともに添加して固定して用いるのが好ま
しい。
るいはハロゲン化銀乳剤層の上部、即ち、支持体に関し
てハロゲン化銀乳剤層より遠くの非感光性親水性コロイ
ド層に媒染剤とともに添加して固定して用いるのが好ま
しい。
染料のモル吸光係数により異なるが、通常1o−2g/
rri’−1g/rrrの範囲で添加される。好ましく
は50■〜500■/dである。
rri’−1g/rrrの範囲で添加される。好ましく
は50■〜500■/dである。
染料の具体例は特願昭61−209169号に詳しく記
載されている。
載されている。
写真乳剤の結合剤または保護コロイドとしては、ゼラチ
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン
、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エステル
類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉
誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニルピロ
リドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラ
ゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親水
性高分子物質を用いることができる。
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン
、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エステル
類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉
誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニルピロ
リドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラ
ゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親水
性高分子物質を用いることができる。
ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラ
チンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵
素分解物も用いることができる。
チンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵
素分解物も用いることができる。
本発明の方法で用いるハロゲン化銀乳剤は化学増感され
ていなくてもよいが、化学増感されていてもよい。ハロ
ゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還元
増感及び貴金属増感法が知られており、これらのいずれ
をも単独で用いても、又併用して化学増感してもよい。
ていなくてもよいが、化学増感されていてもよい。ハロ
ゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還元
増感及び貴金属増感法が知られており、これらのいずれ
をも単独で用いても、又併用して化学増感してもよい。
貴金属増感法のうち金増感法はその代表的なもので金化
合物、主として全錯塩を用いる。全以外の貴金属、たと
えば白金、パラジウム、イリジウム等の錯塩を含有して
も差支えない。その具体例は米国特許2,448,06
0号、英国特許618.061号などに記載されている
。
合物、主として全錯塩を用いる。全以外の貴金属、たと
えば白金、パラジウム、イリジウム等の錯塩を含有して
も差支えない。その具体例は米国特許2,448,06
0号、英国特許618.061号などに記載されている
。
硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物
のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ
尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることが
できる。
のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ
尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることが
できる。
還元増感剤としては第一すず塩、アミン類、ホルムアミ
ジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いることがで
きる。
ジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いることがで
きる。
本発明の感光材料には、感光材料の製造工程、保存中あ
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、種々の化合物を含有させることが
できる。すなわちアゾール類たとえばベンゾチアゾリウ
ム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダゾー
ル類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾ
ール類、メルカブトベ/ゾチアゾール類、メルカプトチ
アジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾチアゾ
ール類、ニトロベンゾトリアゾール類、など;メルカグ
トピリミジン類;メルカプトトリアシフ類;たとえばオ
キサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデ
ン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザインデ
ン類(特に≠−ヒドロキシ置換(/、j、Ja、7)テ
トラゲインデフ類)、はンタアザインデン類など;ベン
ゼンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼ
ンスルフォン酸アミド等のようなカプリ防止剤または安
定剤として知られた多くの化合物を加えることができる
。これらのものの中で、好まじりのはベンゾトリアゾー
ル類(例えば、!−メチルーベンゾトリアゾール)及び
ニトロインダゾール類(例えば!−二トロインダゾール
)である。また、これらの化合物全処理液に含有させて
もよい。
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、種々の化合物を含有させることが
できる。すなわちアゾール類たとえばベンゾチアゾリウ
ム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダゾー
ル類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾ
ール類、メルカブトベ/ゾチアゾール類、メルカプトチ
アジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾチアゾ
ール類、ニトロベンゾトリアゾール類、など;メルカグ
トピリミジン類;メルカプトトリアシフ類;たとえばオ
キサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデ
ン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザインデ
ン類(特に≠−ヒドロキシ置換(/、j、Ja、7)テ
トラゲインデフ類)、はンタアザインデン類など;ベン
ゼンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼ
ンスルフォン酸アミド等のようなカプリ防止剤または安
定剤として知られた多くの化合物を加えることができる
。これらのものの中で、好まじりのはベンゾトリアゾー
ル類(例えば、!−メチルーベンゾトリアゾール)及び
ニトロインダゾール類(例えば!−二トロインダゾール
)である。また、これらの化合物全処理液に含有させて
もよい。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に無械または有機の硬膜剤を含有してよい。
コロイド層に無械または有機の硬膜剤を含有してよい。
例えばクロム埴(クロムミョウバン\など)、アルデヒ
ド類、ゲルタールアルデヒドなどン、N−メチロール化
合物(ジメチロール尿素、など)、ジオ牛サン誘導体、
活性ビニル化合物(l、3.J−トリアクリロイル−へ
キサヒドロ−5−) IJアジン、/、3−ビニルスル
ホニル−2−プロパツールなど)、活性ノ・ロゲ/化合
物(1,弘−ジクロル−4−ヒドロキシ−5−)リアジ
ンなど)、ムコハロゲン酸類、などを単独または組み合
わせて用いることができる。
ド類、ゲルタールアルデヒドなどン、N−メチロール化
合物(ジメチロール尿素、など)、ジオ牛サン誘導体、
活性ビニル化合物(l、3.J−トリアクリロイル−へ
キサヒドロ−5−) IJアジン、/、3−ビニルスル
ホニル−2−プロパツールなど)、活性ノ・ロゲ/化合
物(1,弘−ジクロル−4−ヒドロキシ−5−)リアジ
ンなど)、ムコハロゲン酸類、などを単独または組み合
わせて用いることができる。
本発明を用いて作られる感光材料の写真乳剤層または他
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、穏々の界面
活性剤を含んでもよい。
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、穏々の界面
活性剤を含んでもよい。
例えばサポニン(ステロイド系)、アルキレンオ中サイ
ド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又ハポリエチレ
ングリコールアルキルアリールエーテルa、Zジエチレ
ンクリコールエステル類、ポリエチレングリコールソル
ビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキル
アミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサ
イド付加物類)、グリシドール誘導体(例えばアルケニ
ルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリグ
リセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、糖の
アルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤;アル
キルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキル
ベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォ
ン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エス
テル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類、スルホ
コハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチレ
ンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンア
ルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ基、
スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エステル
基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、
アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又i
1Jン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミンオキ
シド類などの両性界面活性剤;アルキルアミン塩類、脂
肪族あるいは芳香族第弘級アンモニウム塩類、ピリジニ
ウム、イミダゾリウムなどの複素環第弘級アンモニウム
塩類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又はス
ルホニウム塩類などのカチオン界面活性剤音用いること
ができる。
ド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又ハポリエチレ
ングリコールアルキルアリールエーテルa、Zジエチレ
ンクリコールエステル類、ポリエチレングリコールソル
ビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキル
アミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサ
イド付加物類)、グリシドール誘導体(例えばアルケニ
ルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリグ
リセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、糖の
アルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤;アル
キルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキル
ベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォ
ン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エス
テル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類、スルホ
コハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチレ
ンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンア
ルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ基、
スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エステル
基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、
アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又i
1Jン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミンオキ
シド類などの両性界面活性剤;アルキルアミン塩類、脂
肪族あるいは芳香族第弘級アンモニウム塩類、ピリジニ
ウム、イミダゾリウムなどの複素環第弘級アンモニウム
塩類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又はス
ルホニウム塩類などのカチオン界面活性剤音用いること
ができる。
特に本発明において好ましく用いられる界面活性剤は特
公昭zr−タg/1号公報に記載された分子it 00
以上のポリアルキレンオキサイド類である。又、寸度安
定性の為にポリアルキルアクリレートの如きポリマーラ
テックスを含有せしめることができる。
公昭zr−タg/1号公報に記載された分子it 00
以上のポリアルキレンオキサイド類である。又、寸度安
定性の為にポリアルキルアクリレートの如きポリマーラ
テックスを含有せしめることができる。
本発明【用いるのに適した現像促進剤あるいは造核伝染
現像の促進剤としては、特開昭J3−77t/11同j
4t−3773,2、同63−/37゜/33、同60
−/弘0.jグ0、同to−y4tり!り、などに開示
されている化せ物の他、N又はS原子を含む各種の化合
物が1紡である。
現像の促進剤としては、特開昭J3−77t/11同j
4t−3773,2、同63−/37゜/33、同60
−/弘0.jグ0、同to−y4tり!り、などに開示
されている化せ物の他、N又はS原子を含む各種の化合
物が1紡である。
次に具体例を列挙する。
これらの促進剤は、化合物の種類によって最適1加量が
異なる75C/ 、 OX / 0−3〜0 、 !?
/12、好ましくは! 、 0X/ 0−3=0 、/
9/12の範囲で用いるのが望ましい。これらの促進
11は適当な溶媒(H2O)メタノールやエタノーーな
どのアルコール類、アセトン、ジメチルホル=アミド、
メチルセルンルプなど)に溶解して塗盲液’1cff5
加される。
異なる75C/ 、 OX / 0−3〜0 、 !?
/12、好ましくは! 、 0X/ 0−3=0 、/
9/12の範囲で用いるのが望ましい。これらの促進
11は適当な溶媒(H2O)メタノールやエタノーーな
どのアルコール類、アセトン、ジメチルホル=アミド、
メチルセルンルプなど)に溶解して塗盲液’1cff5
加される。
これらの添加剤を複数の種類を併用してもよい。
本発明のハロゲン化銀感光材料を用いて超硬調つ写真特
性を得るKは、従来の伝染現像液や米国1許第2.lA
/?、27J号に記載されたp H/りに近い高アルカ
リ現像液を用いる必要はなく、冊定な現像液を用いるこ
とができる。
性を得るKは、従来の伝染現像液や米国1許第2.lA
/?、27J号に記載されたp H/りに近い高アルカ
リ現像液を用いる必要はなく、冊定な現像液を用いるこ
とができる。
すなわち、本発明のハ。ゲン化銀感光材料は、呆恒剤と
しての亜硫酸イオンt−0,/!モル/II−上含み、
pHto、r 〜lx、3、特にpHt、0−12.0
の現像液によって充分に超硬調・ネガ直像を得ることが
できる。
しての亜硫酸イオンt−0,/!モル/II−上含み、
pHto、r 〜lx、3、特にpHt、0−12.0
の現像液によって充分に超硬調・ネガ直像を得ることが
できる。
本発明の方法において用いうる現像主薬には特別な制限
はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類(例工ばハイド
ロキノン)、3−ピラゾリドン類(例1−!’/−フェ
ニルー3−ピラゾリドン、弘。
はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類(例工ばハイド
ロキノン)、3−ピラゾリドン類(例1−!’/−フェ
ニルー3−ピラゾリドン、弘。
弘−ジメチル−7−フェニル−3−ピラゾリドン)、ア
ミンフェノール類(例えばN−メチル−p−アミンフェ
ノール)などを単独わるいは組み合わせてもちいること
ができる。
ミンフェノール類(例えばN−メチル−p−アミンフェ
ノール)などを単独わるいは組み合わせてもちいること
ができる。
本発明のハロゲン化銀感光材料は特に、主現像主薬とし
てジヒドロキシベンゼン類を、補助現像主薬として3−
ピラゾリドン類またはアミノフェノール類を含む現像液
で処理されるのに適している。好ましくはこの現像液に
おいてジヒドロキシベンゼン類は0.0!〜o、tモル
/i、3−ピラノ」ノドン類またはアミノフェノ−ご類
は0.01モル/!以下の範囲で併用される。
てジヒドロキシベンゼン類を、補助現像主薬として3−
ピラゾリドン類またはアミノフェノール類を含む現像液
で処理されるのに適している。好ましくはこの現像液に
おいてジヒドロキシベンゼン類は0.0!〜o、tモル
/i、3−ピラノ」ノドン類またはアミノフェノ−ご類
は0.01モル/!以下の範囲で併用される。
また米国特許弘1tタタ22号に記載されているように
1 アミy類全現像液に添加することKよって現像速度
を高め、現像時間の短縮化を実現することもできる。
1 アミy類全現像液に添加することKよって現像速度
を高め、現像時間の短縮化を実現することもできる。
現像液にはその他、アルカリ金属の亜硫酸塩、炭酸塩、
ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩衝剤、臭化物、沃
化物、及び有機カフ゛す防止剤(q!fに好ましくはニ
ドaインダゾール類またはベンゾトリアゾール類)の如
き現像抑制剤ないし、カプリ防止剤などを含むことがで
きる。又必要に応じて、硬水軟化剤、溶解助剤、色調剤
、現像促進剤、界面活性剤(とくに好ましくは前述のポ
リアルキレンオキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、フィル
ムの銀汚れ防止剤(例えばλ−メルカブトベンズイミダ
ゾールス・ルホン酸類など)を含んでもよい。
ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩衝剤、臭化物、沃
化物、及び有機カフ゛す防止剤(q!fに好ましくはニ
ドaインダゾール類またはベンゾトリアゾール類)の如
き現像抑制剤ないし、カプリ防止剤などを含むことがで
きる。又必要に応じて、硬水軟化剤、溶解助剤、色調剤
、現像促進剤、界面活性剤(とくに好ましくは前述のポ
リアルキレンオキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、フィル
ムの銀汚れ防止剤(例えばλ−メルカブトベンズイミダ
ゾールス・ルホン酸類など)を含んでもよい。
定着液としては一般に用いられる組成のものを用いるこ
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果が知られているM機硫黄
化合物を用いることができる。
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果が知られているM機硫黄
化合物を用いることができる。
定着液には硬膜剤として水溶性アルミニウム塩などを含
んでもよい。
んでもよい。
本発明の方法における処理温度は普通/r’cからto
’cの間に選ばれる。
’cの間に選ばれる。
写真処理には自動現像機を用いるのが好ましいが、本発
明の方法によシ、感光材料を自動現像機に入れてから出
てくるまでのトータルの処理時間を20秒〜/コO秒に
設定しても、充分に超硬調のネガ階調の写真特性が得ら
れる。
明の方法によシ、感光材料を自動現像機に入れてから出
てくるまでのトータルの処理時間を20秒〜/コO秒に
設定しても、充分に超硬調のネガ階調の写真特性が得ら
れる。
本発明の現像液には銀汚れ防止剤として特開昭!t−2
弘、3≠7号に記載の化合物を用いることができる。現
像液中に添加する溶解助剤として特願昭60−109,
7≠J号に記載の化合物を用いることができる。さらに
現像液に用いるpH緩衝剤として特開昭to−23.≠
33号に記載の化合物あるいは特凍員昭GJ償ワo8に
記載の化合物を用いることができる。
弘、3≠7号に記載の化合物を用いることができる。現
像液中に添加する溶解助剤として特願昭60−109,
7≠J号に記載の化合物を用いることができる。さらに
現像液に用いるpH緩衝剤として特開昭to−23.≠
33号に記載の化合物あるいは特凍員昭GJ償ワo8に
記載の化合物を用いることができる。
以下実施例によシ、本発明の詳細な説明する。
比較例1
(感光性乳剤Aの調製)
50℃に保ったゼラチン水溶液に銀1モル当り4X10
−’モルの6塩化イリジウム(■)カリおよびアンモニ
アの存在下で、硝酸銀水溶液と沃化カリウム、臭化カリ
ウムの水溶液を同時に60分間で加えその間のpAgを
7.8に保つことにより、平均粒子サイズ0.28μで
、平均ヨウ化銀含有量0.3モル%の立方体単分散乳剤
を調製した。この乳剤をフロキュレーション法によす、
脱塩を行いその後に、銀1モル当り40gの不活性ゼラ
チンを加えた後50℃に保ち増感色素として5.5′−
ジクロロ−9−エチル−3,3′−ビス(3−スルフオ
プロピル)オキサカルボシアニンと、銀1モル当りlo
−8モルのKl溶液に加え、15分分間時させた後降温
した。(感光乳剤A)(感光乳剤層の塗布) この乳剤を再溶解し、40℃にて、次のヒドラジン誘導
体を添加し、メチルハイドロキノン0゜02モル/Ag
モル、 (ロ) 7.lXl0−’モル/rt? 更に5−メチルベンズトリアゾール、4−ヒドロキシ−
1,3,3a、 7−チトラザインデン、下記化合物
(イ)、(ロ)及びゼラチンに対して30wt%のポリ
エチルアクリレート及びゼラチン硬化剤として下記化合
物(ハ)を添加し、塩化ビニリデン共重合体からなる下
塗層(0,5μ)を有するポリエチレンテレフタレート
フィルム(150μ)上に銀量3.4g/rrrとなる
ように塗布した。
−’モルの6塩化イリジウム(■)カリおよびアンモニ
アの存在下で、硝酸銀水溶液と沃化カリウム、臭化カリ
ウムの水溶液を同時に60分間で加えその間のpAgを
7.8に保つことにより、平均粒子サイズ0.28μで
、平均ヨウ化銀含有量0.3モル%の立方体単分散乳剤
を調製した。この乳剤をフロキュレーション法によす、
脱塩を行いその後に、銀1モル当り40gの不活性ゼラ
チンを加えた後50℃に保ち増感色素として5.5′−
ジクロロ−9−エチル−3,3′−ビス(3−スルフオ
プロピル)オキサカルボシアニンと、銀1モル当りlo
−8モルのKl溶液に加え、15分分間時させた後降温
した。(感光乳剤A)(感光乳剤層の塗布) この乳剤を再溶解し、40℃にて、次のヒドラジン誘導
体を添加し、メチルハイドロキノン0゜02モル/Ag
モル、 (ロ) 7.lXl0−’モル/rt? 更に5−メチルベンズトリアゾール、4−ヒドロキシ−
1,3,3a、 7−チトラザインデン、下記化合物
(イ)、(ロ)及びゼラチンに対して30wt%のポリ
エチルアクリレート及びゼラチン硬化剤として下記化合
物(ハ)を添加し、塩化ビニリデン共重合体からなる下
塗層(0,5μ)を有するポリエチレンテレフタレート
フィルム(150μ)上に銀量3.4g/rrrとなる
ように塗布した。
Cl−
15,0■/d
(ハ) 0H
CH= =CH3O2CHt CHCH2SO−CH=
CH2ゼラチンに対して2.0wt% (保護層の塗布) この上に保護層として、ゼラチン1.5g/rrr。
CH2ゼラチンに対して2.0wt% (保護層の塗布) この上に保護層として、ゼラチン1.5g/rrr。
ポリメチルメタクリレート粒子(平均粒径2.5μ)
0. 3g/rrrを次の界面活性剤を用いて塗布した
。
0. 3g/rrrを次の界面活性剤を用いて塗布した
。
3.5■/d
CH2coocs H,。
cHcooca H+s
37■/d
0sNa
C,F、、So、NCH! C00KCs Ht
2. 5■/耐比較例2 比較例1の感光乳剤層(第一のハロゲン化銀乳剤層とす
る)と支持体との間に、次の2つの層を設けた。。
2. 5■/耐比較例2 比較例1の感光乳剤層(第一のハロゲン化銀乳剤層とす
る)と支持体との間に、次の2つの層を設けた。。
第二のハロゲン化銀乳剤層
AgBrI乳剤(I=2モル%、平均粒子サイズ0.3
5μ) 0.4g/rrf5.5′−ジクロロ−
9−エチル−3,3′ビス(3−スルフオプロピル)オ
キサカルボシアニン(λmax 556nm)4X10
−”モル/Agモル レドックス化合物 Nα51 6.8X10−’mol
/rd ゼラチン硬化剤(ハ) 2.Owt%対ゼラチンポ
リエチルアクリレート 30wt%対ゼラチン親水性コ
ロイド層 ゼラチン 1.0g/n(ゼラチ
ン硬化剤(ハ) 2.Owt%対ゼラチンポリエチ
ルアクリレート 30wt%対ゼラチンまた、バック層
として、次のマゼンタ染料とイエロー染料を含むゼラチ
ン層を設けた。この上にバック保護層として比較例−1
の保護層と同じ処方の層を設けた。
5μ) 0.4g/rrf5.5′−ジクロロ−
9−エチル−3,3′ビス(3−スルフオプロピル)オ
キサカルボシアニン(λmax 556nm)4X10
−”モル/Agモル レドックス化合物 Nα51 6.8X10−’mol
/rd ゼラチン硬化剤(ハ) 2.Owt%対ゼラチンポ
リエチルアクリレート 30wt%対ゼラチン親水性コ
ロイド層 ゼラチン 1.0g/n(ゼラチ
ン硬化剤(ハ) 2.Owt%対ゼラチンポリエチ
ルアクリレート 30wt%対ゼラチンまた、バック層
として、次のマゼンタ染料とイエロー染料を含むゼラチ
ン層を設けた。この上にバック保護層として比較例−1
の保護層と同じ処方の層を設けた。
ゼラチン 3. 0g/rrr
マゼンタ染料 30■/耐イエロ
ー染料 150■/イ 実施例1 比較例2において、第二のハロゲン化銀乳剤層の5.5
′−ジクロロ−9−エチル−3,3′ビス(3−スルフ
オブロピル)オキサカルボシアニン(色素A)の代りに
次の色素(色素B)を用いた。ハロゲン化銀粒子上でλ
maxが455nmであった。同時にバック層のイエロ
ー染料は除いた。
マゼンタ染料 30■/耐イエロ
ー染料 150■/イ 実施例1 比較例2において、第二のハロゲン化銀乳剤層の5.5
′−ジクロロ−9−エチル−3,3′ビス(3−スルフ
オブロピル)オキサカルボシアニン(色素A)の代りに
次の色素(色素B)を用いた。ハロゲン化銀粒子上でλ
maxが455nmであった。同時にバック層のイエロ
ー染料は除いた。
R1= (CHz)−SOs H−N (C2Hs)
sレドックス化合物は、表1に示すようにNα51の他
、Nα17、およびNα34を用いた。
sレドックス化合物は、表1に示すようにNα51の他
、Nα17、およびNα34を用いた。
これらのサンプルについて、次の評価を行った。
旌挟迎凰勿里
3200°にのタングステン光で、50μmX50μm
の大きさで、lam間隔で1列に光子透明なA1蒸着を
行ったガラス板を通して、露光した後に、通常の光学ウ
ェッジを通して露光を行ない、次の現像液で34°C3
0秒現像し、定着、水洗、乾燥した。
の大きさで、lam間隔で1列に光子透明なA1蒸着を
行ったガラス板を通して、露光した後に、通常の光学ウ
ェッジを通して露光を行ない、次の現像液で34°C3
0秒現像し、定着、水洗、乾燥した。
得られたサンプルの光学濃度を富士フィルム・ミクロデ
ンシトメーターで、50μmX50μmの窓枠の中の部
分と、この窓枠で囲まれていない部分とを測定した。
ンシトメーターで、50μmX50μmの窓枠の中の部
分と、この窓枠で囲まれていない部分とを測定した。
隣接抑制効果があると、窓枠の中の部分の現像が抑制さ
れ光学濃度が低下する。表1には、窓枠で囲まれていな
いとき1.0の濃度の部分が窓枠に囲まれた時、どれだ
け濃度が低下するかの値(△D+、。)を示した。
れ光学濃度が低下する。表1には、窓枠で囲まれていな
いとき1.0の濃度の部分が窓枠に囲まれた時、どれだ
け濃度が低下するかの値(△D+、。)を示した。
本発明のサンプルが著るしく△Dが大きくなり、隣接抑
制効果が強いことがわかる。
制効果が強いことがわかる。
現像液
TT) 原稿の作成
富士写真フィルム株式会社製モノクロスキャナー5CA
NART30及び専用ペーパーSP−100wpを使っ
て網パーセントを段階的に変えたステップウェッジを作
成した。
NART30及び専用ペーパーSP−100wpを使っ
て網パーセントを段階的に変えたステップウェッジを作
成した。
露光時のスクリーン線数は150線/インチで行った。
(2)撮影
大日本スクリーン■社製 製版カメラC−690(オー
トコンパ二カ、キセノン光源)に上記原稿及び試料を所
定の位置にセットしXeランプを反射原稿に照射し撮影
した。
トコンパ二カ、キセノン光源)に上記原稿及び試料を所
定の位置にセットしXeランプを反射原稿に照射し撮影
した。
この時露光時間は、原稿上でステップウェッジの80%
の部分がサンプル上で10%となる様に調整した。
の部分がサンプル上で10%となる様に調整した。
(3)評価
(2)に記載のごとく、露光時間を調節して小点側の網
パーセントが10%のサンプルのシャドウ部の階調再現
性(網点のつぶれにくさ)を5悪いものを1として5段
階の相対評価をおこなった。
パーセントが10%のサンプルのシャドウ部の階調再現
性(網点のつぶれにくさ)を5悪いものを1として5段
階の相対評価をおこなった。
結果を表1に示した。
本発明のサンプルは、
ぐれることがわかる。
コピードツト再現性にす
実施例2
実施例1において、第一のハロゲン化銀乳剤層と第二の
ハロゲン化銀乳剤層の分光増感色素として、表2に示す
色素を用いて、同様のサンプルを作成し評価を行った。
ハロゲン化銀乳剤層の分光増感色素として、表2に示す
色素を用いて、同様のサンプルを作成し評価を行った。
結果を表2に示した。
本発明のサンプルはいずれも、強い隣接抑制効果を示し
、高いコピードツト特性を示した。
、高いコピードツト特性を示した。
実施例3
実施例1において、第一のハロゲン化銀乳剤層と第二の
ハロゲン化銀乳剤層の分光増感色素として、表3に示す
色素を用いて、同様のサンプルを作成し評価を行った。
ハロゲン化銀乳剤層の分光増感色素として、表3に示す
色素を用いて、同様のサンプルを作成し評価を行った。
結果を表3に示した。
本発明のサンプルはいずれも、強い隣接抑制効果を示し
、高いコピードツト特性を示した。
、高いコピードツト特性を示した。
また、実施例3のサンプルは、パンクロマチック用のセ
ーフライト下で取り扱うことが必要であったが、実施例
1と実施例2のサンプルは赤光のセーフライト下で、取
り扱うことができ、作業性の点で好ましかった。
ーフライト下で取り扱うことが必要であったが、実施例
1と実施例2のサンプルは赤光のセーフライト下で、取
り扱うことができ、作業性の点で好ましかった。
手続補正書
4. 補正の対象 明細書の
の欄
「発明の詳細な説明」
事件の表示
発明の名称
補正をする者
事件との関係
平成7年特願第2よ7j36号
ハロゲン化銀厚真感光材料
Claims (4)
- (1)支持体の上に、 [a]第一のハロゲン化銀感光乳剤層、 [b]ヒドラジン誘導体を含む第二のハロゲン化銀感光
乳剤層 を有し、該第一のハロゲン化銀感光乳剤層、あるいはそ
の他の親水性コロイド層に、酸化されることにより現像
抑制剤を放出しうるレドックス化合物を含み、また、該
第一のハロゲン化銀感光乳剤層と、該第二のハロゲン化
銀乳剤層とが、互いに異なる波長域に分光増感されてい
ることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 - (2)バック層を有し、該バック層は、第二のハロゲン
化銀乳剤層の感光波長域に光吸収性を有する染料を含む
ことを特徴とする(1)項記載のハロゲン化銀写真感光
材料。 - (3)第一のハロゲン化銀乳剤層より、該第二のハロゲ
ン化銀乳剤層が長波に分光増感されていることを特徴と
する(1)項記載のハロゲン化銀写真感光材料。 - (4)レドックス化合物がレドックス基としてハイドロ
キノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン類、ア
ミノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン類、ヒ
ドロキシルアミン類、レダクトン類を有することを特徴
とする(1)項記載のハロゲン化銀写真感光材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25753689A JPH03119348A (ja) | 1989-10-02 | 1989-10-02 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25753689A JPH03119348A (ja) | 1989-10-02 | 1989-10-02 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03119348A true JPH03119348A (ja) | 1991-05-21 |
Family
ID=17307648
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25753689A Pending JPH03119348A (ja) | 1989-10-02 | 1989-10-02 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03119348A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05289237A (ja) * | 1992-04-09 | 1993-11-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 明室用高コントラストハロゲン化銀感光材料 |
-
1989
- 1989-10-02 JP JP25753689A patent/JPH03119348A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05289237A (ja) * | 1992-04-09 | 1993-11-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 明室用高コントラストハロゲン化銀感光材料 |
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