JPH0230211Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔考案の技術分野〕 この考案はシリコンウエハーなどのワークを研
磨するポリシング装置に関する。

〔考案の技術的背景とその問題点〕

この種のポリシング装置は、保持ヘツドの下面
に液体の表面張力を利用したマウンテイングパツ
ドによりシリコンウエハーなどのワークを取付
け、このワークを保持ヘツドの動作で研磨台に接
触させ、この状態で保持ヘツドとともにワークを
回転させてその表面を研磨するようになつてい
る。

ところが研磨が終了し、ワークを保持ヘツドか
ら取出そうとする際、そのワークが研磨台の表面
に表面張力により強固に密着し、これにより離脱
が困難となることが多く、このため作業能率が低
下し、また研磨工程の自動化を実現する上での障
害となる難点があつた。

そこで、ワークを薄板舌片等で機械的に研磨台
から剥離させる手段が一応考えられるが、しかし
このような手段ではワークや研磨台を損傷してし
まう恐れがあり、実用的でない。

〔考案の目的〕

この考案はこのような点に着目してなされたも
ので、その目的とするところは、ワークや研磨台
を損傷することなく、容易にかつ的確にワークを
研磨台から離脱させることができるようにしたポ
リシング装置を提供することにある。

〔考案の概要〕

すなわちこの考案は、保持ヘツドのワーク保持
面に液体の表面張力を利用したマウンテイングパ
ツドによりワークを装着保持し、このワークを研
磨台に接触させて研磨するものにおいて、上記保
持ヘツドのワーク保持面に吸引孔を形成し、この
吸引孔に真空源を接続するとともに、これら吸引
孔と真空源との間に、研磨終了後の保持ヘツド引
上げ時に開放操作される開閉弁を設け、研磨終了
後、保持ヘツドを研磨台から引上げる際に、この
吸引孔に真空吸引力を働かせてワークが研磨台に
残らないようにしたものである。

〔考案の実施例〕

以下、この考案の一実施例について図面を参照
して説明する。

図中１はポリシング装置の本体で、この本体１
の上面に凹部２が形成され、この凹部２内に研磨
台３が設けられている。この研磨台３は水平に配
置する回転駆動可能な定盤４の上面に研磨布５を
張り付けてなる。

本体１の上面の一側縁部には支柱６が設けら
れ、この支柱６にアーム７が回動自在に取付けら
れている。このアーム７は支柱６から水平に突出
し、その突出端部に垂直に主軸８が回転かつ上下
動自在に貫挿され、この主軸８が図示しない回転
駆動源に連動して回転するとともに、シリンダ１
０のピストンロツド１０ａに連動して上下動する
ようになつている。主軸８の下端にはユニバーサ
ルジヨイント１１を介して保持ヘツド１２が取付
けられ、この保持ヘツド１２の下面に液体の表面
張力を利用したマウンテイングパツド１２ａが貼
られてワーク保持面１３が構成され、このワーク
保持面１３の周縁に円環状のワークガイド１４が
設けられている。

主軸８の中心部および保持ヘツド１２の内部に
はそれぞれ気密的な真空路１５，１６が形成さ
れ、主軸８の真空路１５に真空源として真空ポン
プ１７が開閉弁１８を介して連通接続し、またこ
の主軸８の真空路１５がフレキシブルチユーブ１
９，１９を介して保持ヘツド１２の真空路１６に
連通している。そして保持ヘツド１２にその内部
の真空路１６をワーク保持面１３に開放させる複
数の微細な吸引孔２０…が穿設されている。な
お、２１は本体１の上面に設けられたワーク搬送
装置である。

次に、作用について述べる。

まず、保持ヘツド１２が研磨台３の上方の所定
位置に配置する状態において、ワーク搬送装置２
１によりワークａを保持ヘツド１２のワーク保持
面１３に搬送し、このワーク保持面１３に液体の
表面張力を利用したマウンテイングパツド１２ａ
によりそのワークａを装着して保持する。つい
で、シリンダ１０を介して保持ヘツド１２を下降
させ、ワークａを定盤４の研磨布５に接触させる
とともに、回転駆動源を介して保持ヘツド１２と
一体的にワークａを回転させ、また定盤４も回転
させる。このような動作でワークａの表面や研磨
される。この際、保持ヘツド１２はユニバーサル
ジヨイント１１を介して主軸８に連結されてお
り、このため保持ヘツド１２が常に定盤４と確実
に平行を保つて回転し、したがつてワークａに対
して均一に精度のよい研磨が施される。

ワークａの研磨が終了したのちには、まず開閉
弁１８を開放する。この開放により真空ポンプ１
７の動作で真空路１５，１６内の空気が吸引され
てほぼ真空となり、吸引孔２０…を通してワーク
ａの裏面側に真空吸引力が働き、この真空吸引力
でワーク保持面１３に対するワークａの密着力が
増大し、したがつてこののち保持ヘツド１２を上
昇させると、ワークａが研磨台３に残るようなこ
となく、確実に研磨布５から離脱し、保持ヘツド
１２と一体的に上昇する。保持ヘツド１２が所定
位置まで上昇したのちには、開閉弁１８を閉止
し、真空吸引力を解き、ワークａが搬送装置２１
により保持ヘツド１２から取出す。

このように、研磨台３上のワークａを真空吸引
力で容易にかつ的確に離脱させることができ、ま
たワークａの離脱に真空吸引力を利用するため、
ワークａや研磨台３に損傷を与えるような恐れが
全くない。

〔考案の効果〕

以上説明したようにこの考案によれば、ワーク
や研磨台を損傷することなく、容易にかつ的確に
ワークを研磨台から離脱させることができ、した
がつて作業能率が向上し、また研磨工程の自動化
も容易に実現が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの考案の一実施例を示す全体の正面
図、第２図は同じく要部の断面図である。 １２……保持ヘツド、１２ａ……マウンテイン
グパツド、１３……ワーク保持面、１７……真空
ポンプ（真空源）、２０……吸引孔、ａ……ワー
ク。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 保持ヘツドのワーク保持面に液体の表面張力を
   利用したマウンテイングパツドによりワークを装
   着保持し、このワークを研磨台に接触させて研磨
   するものにおいて、上記保持ヘツドのワーク保持
   面に吸引孔を形成し、この吸引孔に真空源を接続
   するとともに、これら吸引孔と真空源との間に、
   研磨終了後の保持ヘツド引上げ時に開放操作され
   て上記吸引孔に真空吸引力を作用させる開閉弁を
   設けたことを特徴とするポリシング装置。