JPH02285514A - 磁気カード - Google Patents
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- JPH02285514A JPH02285514A JP1104514A JP10451489A JPH02285514A JP H02285514 A JPH02285514 A JP H02285514A JP 1104514 A JP1104514 A JP 1104514A JP 10451489 A JP10451489 A JP 10451489A JP H02285514 A JPH02285514 A JP H02285514A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は磁気カードに関し、特に可視パターン(情報)
を書込むことができ更に磁気記録のセキュリティ性の向
上した磁気カードに関する。
を書込むことができ更に磁気記録のセキュリティ性の向
上した磁気カードに関する。
本発明は、たとえば磁気記録内容に対応した数字等を印
字して該記録媒体の磁気記録内容を視認せしめる磁気カ
ードたとえばテレホンカード等のプリペイドカード等に
有効に適用できる。
字して該記録媒体の磁気記録内容を視認せしめる磁気カ
ードたとえばテレホンカード等のプリペイドカード等に
有効に適用できる。
[従来の技術及び発明が解決しようとする課題]磁気カ
ードは携帯に便利で且つ有用なカートとして広(利用さ
れている。該カードは適宜の厚さのカード基材の表面に
所望の領域に磁気記録層を形成したものである。
ードは携帯に便利で且つ有用なカートとして広(利用さ
れている。該カードは適宜の厚さのカード基材の表面に
所望の領域に磁気記録層を形成したものである。
ところで、磁気カードは使用経過や残高等の磁気記録情
報を目視することができず、このためプリペイド方式の
磁気カードではその目安としてパンチ穴等により残高を
表示していたが、明確な残高が表示されないため残高不
足時には現金または磁気カードを補充追加せねばならと
いう事態が生ずる。この様な事態を避けるための方策と
して、カード表面に使用経過や残高等を印字することが
要求される場合がある。
報を目視することができず、このためプリペイド方式の
磁気カードではその目安としてパンチ穴等により残高を
表示していたが、明確な残高が表示されないため残高不
足時には現金または磁気カードを補充追加せねばならと
いう事態が生ずる。この様な事態を避けるための方策と
して、カード表面に使用経過や残高等を印字することが
要求される場合がある。
しかして、従来、磁気カード表面の印字は磁気記録層側
とは反対の表面においてなされるのが般的であり、印字
は感圧インクリボンを介してワイヤドツト印字ヘッドに
より行なったり、感熱インクリボンを介してサーマル印
字ヘッドにより行なったり、更にはカード表面に形成さ
れた感熱記録層に対しサーマル印字ヘッドにより行なっ
たりしている。しかし、磁気カードの磁気記録層側と反
対側の表面には所望のデザインを印刷するのが般的であ
り、上記印字のための領域を広くとることはデザイン上
から好ましいとはいえない。
とは反対の表面においてなされるのが般的であり、印字
は感圧インクリボンを介してワイヤドツト印字ヘッドに
より行なったり、感熱インクリボンを介してサーマル印
字ヘッドにより行なったり、更にはカード表面に形成さ
れた感熱記録層に対しサーマル印字ヘッドにより行なっ
たりしている。しかし、磁気カードの磁気記録層側と反
対側の表面には所望のデザインを印刷するのが般的であ
り、上記印字のための領域を広くとることはデザイン上
から好ましいとはいえない。
また、従来、磁気カード表面の印字を磁気記録層側に行
なう場合もあるが、この場合には磁気記録層を部分的に
形成し該記録層部分と異なる領域に印字を行なっている
。しかし、このため磁気記録領域及び印字領域の双方を
十分大きくとることができないという難点がある。
なう場合もあるが、この場合には磁気記録層を部分的に
形成し該記録層部分と異なる領域に印字を行なっている
。しかし、このため磁気記録領域及び印字領域の双方を
十分大きくとることができないという難点がある。
近年、次第に記録情報量の多い磁気カードが用いられる
様になっており、従って磁気記録領域が広く、また印字
領域もできるだけ広いのが好ましい。更に、見やすさの
観点から印字はできるだけ大きいのが好ましいので、こ
の意味からも印字領域はできるだけ広い方が好ましい。
様になっており、従って磁気記録領域が広く、また印字
領域もできるだけ広いのが好ましい。更に、見やすさの
観点から印字はできるだけ大きいのが好ましいので、こ
の意味からも印字領域はできるだけ広い方が好ましい。
方、上記磁気カードの流通が頻繁になるにつれて、その
偽造や改ざんなどの不正使用が問題となっており、これ
に対する対策をより一層充実させ磁気カードのセキュリ
ティ性を向上させる必要性が高まっている。
偽造や改ざんなどの不正使用が問題となっており、これ
に対する対策をより一層充実させ磁気カードのセキュリ
ティ性を向上させる必要性が高まっている。
そこで、本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、磁気
記録層と重ね合せて文字、符号及び図形等の可視パター
ン(情報)の書込みが可能で且つセキュリティ性の向上
した磁気カードを提供することを目的とするものである
。
記録層と重ね合せて文字、符号及び図形等の可視パター
ン(情報)の書込みが可能で且つセキュリティ性の向上
した磁気カードを提供することを目的とするものである
。
[課題を解決するための手段]
本発明によれば、以上の如き目的は、
磁気記録層上に下引き層が形成されており、該下引き層
上に金属薄膜層が形成されおり、上記磁気記録層と下引
き層との間、上記下引き層と上記金属薄膜層との間、及
び/または上記金属薄膜層の上方に磁気バーコードが形
成されていることを特徴とする、可視パターン書込み可
能な磁気カード、 により達成される。
上に金属薄膜層が形成されおり、上記磁気記録層と下引
き層との間、上記下引き層と上記金属薄膜層との間、及
び/または上記金属薄膜層の上方に磁気バーコードが形
成されていることを特徴とする、可視パターン書込み可
能な磁気カード、 により達成される。
本発明において、上記金属薄膜層上に磁気バーコードを
形成し、該磁気バーコード上に隠蔽層を形成することが
できる。
形成し、該磁気バーコード上に隠蔽層を形成することが
できる。
[実施例]
以下、図面を参照しながら本発明の具体的実施例を説明
する。
する。
第1図〜第6図はそれぞれ本発明による磁気カードの実
施例の要部を示す模式的断面図である。
施例の要部を示す模式的断面図である。
第1図において、基材層2の上面上に磁気記録層4が形
成されており、該磁気記録層上に下引き層6が形成され
ており、該下引き層上に金属薄膜層8が形成されており
、該金属薄膜層上に第1保護層10が形成されており、
該第1保護層上に磁気バーコードを構成する磁気バー1
2が形成されており、該磁気バー上に隠蔽層I4が形成
されており、上記第1保護層10及び隠蔽層14上には
印刷層16が形成されており、上記第1保護層10及び
隠蔽層14上には上記印刷層16を覆って第2保護層1
8が形成されている。また、上記基材層2の下面上には
印刷H20が形成されており、上記基材層2の下面上に
は上記印刷層20を覆って第3保護層22が形成されて
いる。
成されており、該磁気記録層上に下引き層6が形成され
ており、該下引き層上に金属薄膜層8が形成されており
、該金属薄膜層上に第1保護層10が形成されており、
該第1保護層上に磁気バーコードを構成する磁気バー1
2が形成されており、該磁気バー上に隠蔽層I4が形成
されており、上記第1保護層10及び隠蔽層14上には
印刷層16が形成されており、上記第1保護層10及び
隠蔽層14上には上記印刷層16を覆って第2保護層1
8が形成されている。また、上記基材層2の下面上には
印刷H20が形成されており、上記基材層2の下面上に
は上記印刷層20を覆って第3保護層22が形成されて
いる。
上記カード基材層2としては、たとえばポリエチレンテ
レフタレート、エポキシ樹脂、ポリ塩化ビニル及びポリ
カーボネート等の合成樹脂シートや、合成紙等を用いる
ことができる。該基材層2の厚さは、たとえば100〜
300μm程度である。
レフタレート、エポキシ樹脂、ポリ塩化ビニル及びポリ
カーボネート等の合成樹脂シートや、合成紙等を用いる
ことができる。該基材層2の厚さは、たとえば100〜
300μm程度である。
上記磁気記録層4としては、従来この種の磁気記録媒体
において磁気記録層として一般に用いられているものを
用いることができる。たとえば、磁性材料として粒径1
0LLm以下好ましくは0゜01〜5μmのBa−フェ
ライト、Sr−フェライト、Co被着y−Fe203.
r−Fe203、針状鉄粉、CrO2を用い、バインダ
ー樹脂として一般に用いられるポリエステル系樹脂、ア
ルキッド系樹脂、ビニル系樹脂、ポリウレタン系樹脂ま
たはそれらの混合樹脂を用いることができる。バインダ
ー樹脂と磁性材料との混合比は基材層2との接着性や塗
膜強度や磁気ヘッドによる検出電圧等を考慮して適宜設
定され、たとえば重量比で1/1〜1/10の範囲が可
能であり、好ましくは1/2〜1/8が適当である。該
磁気記録層4の厚さは、たとえば5〜20μm程度であ
る。
において磁気記録層として一般に用いられているものを
用いることができる。たとえば、磁性材料として粒径1
0LLm以下好ましくは0゜01〜5μmのBa−フェ
ライト、Sr−フェライト、Co被着y−Fe203.
r−Fe203、針状鉄粉、CrO2を用い、バインダ
ー樹脂として一般に用いられるポリエステル系樹脂、ア
ルキッド系樹脂、ビニル系樹脂、ポリウレタン系樹脂ま
たはそれらの混合樹脂を用いることができる。バインダ
ー樹脂と磁性材料との混合比は基材層2との接着性や塗
膜強度や磁気ヘッドによる検出電圧等を考慮して適宜設
定され、たとえば重量比で1/1〜1/10の範囲が可
能であり、好ましくは1/2〜1/8が適当である。該
磁気記録層4の厚さは、たとえば5〜20μm程度であ
る。
上記下引き層6は金属薄膜層8の書込み記録特性を向上
(増感作用)させたり、金属薄膜層8の密着性を向上さ
せたり、金属薄膜層8の地色を白色に近づけて目視し易
くしたりするために設けられ、この様な材料としては、
ニトロセルロース系樹脂等の自己酸化性の樹脂や、アク
リル系樹脂、ポリエステル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、
酢酸ビニル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリブチラー
ル系樹脂等の熱可塑性樹脂を用いることができる。該下
引き層6の厚さは、たとえば0.5〜8μm程度である
。
(増感作用)させたり、金属薄膜層8の密着性を向上さ
せたり、金属薄膜層8の地色を白色に近づけて目視し易
くしたりするために設けられ、この様な材料としては、
ニトロセルロース系樹脂等の自己酸化性の樹脂や、アク
リル系樹脂、ポリエステル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、
酢酸ビニル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリブチラー
ル系樹脂等の熱可塑性樹脂を用いることができる。該下
引き層6の厚さは、たとえば0.5〜8μm程度である
。
上記金属薄膜層8は磁気記録層4を隠蔽するとともに書
込み記録膜として用いられ、該金属薄膜層を構成する材
料としては、たとえばSn。
込み記録膜として用いられ、該金属薄膜層を構成する材
料としては、たとえばSn。
Bi、Se、Te、Zn、In、Pb−5n等の低融点
金属を用いることができる。該金属薄膜層8の厚さは、
たとえば003〜02μm程度である。
金属を用いることができる。該金属薄膜層8の厚さは、
たとえば003〜02μm程度である。
上記第1保護層10、第2保護層18及び第3保護層2
2としては、従来この種の磁気記録媒体において保護層
として用いられているもの、たとえばセルロース系樹脂
、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ビニル系樹脂
、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂等を用いることがで
きる。これらの樹脂には、可塑剤としてフタル酸エステ
ル、脂肪酸エステル、正リン酸エステル等を添加するこ
とができ、また滑性な付与するものどじてオレイルアマ
イド、ステアリルアマイド、シリコーン等を添加するこ
とができる。尚、用いる溶剤の量を少な(するためには
、紫外線硬化型樹脂や電子線硬化型樹脂を用いることが
でき、該紫外線硬化型樹脂としてはアクリル系、エポキ
シ系、ポリエステル系等のものを利用できる。但し、第
1保護層lOとしては金属薄膜層8の書込み記録特性を
向上(増感作用)させるために熱可塑性樹脂を用いるの
が好ましい。上記保護層10.18 22の厚さは、た
とえば05〜5μm程度である。
2としては、従来この種の磁気記録媒体において保護層
として用いられているもの、たとえばセルロース系樹脂
、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ビニル系樹脂
、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂等を用いることがで
きる。これらの樹脂には、可塑剤としてフタル酸エステ
ル、脂肪酸エステル、正リン酸エステル等を添加するこ
とができ、また滑性な付与するものどじてオレイルアマ
イド、ステアリルアマイド、シリコーン等を添加するこ
とができる。尚、用いる溶剤の量を少な(するためには
、紫外線硬化型樹脂や電子線硬化型樹脂を用いることが
でき、該紫外線硬化型樹脂としてはアクリル系、エポキ
シ系、ポリエステル系等のものを利用できる。但し、第
1保護層lOとしては金属薄膜層8の書込み記録特性を
向上(増感作用)させるために熱可塑性樹脂を用いるの
が好ましい。上記保護層10.18 22の厚さは、た
とえば05〜5μm程度である。
尚、上記第1保護層10としては、溶融時に下引き層6
との相溶性が良好であり、また金属薄膜層8や磁気バー
12や隠蔽層14や第2保護層18との密着性が良好で
、更に上記金属薄膜層8の溶融を妨げない様な低融点の
ものが好ましい。
との相溶性が良好であり、また金属薄膜層8や磁気バー
12や隠蔽層14や第2保護層18との密着性が良好で
、更に上記金属薄膜層8の溶融を妨げない様な低融点の
ものが好ましい。
上記磁気バーコードを構成する磁気バー12の材料とし
ては、上記磁気記録層4と同様のものな用いることがで
きる。但し、磁気バー12としては上記磁気記録層4と
異なる磁気特性のもの(例えばカルボニル鉄粉)を用い
ることができ、更に該磁気バー12と類似の形状の非磁
性のダミーバーを併用することもできる。これら磁気バ
ー12及びダミーバーの厚さはたとえば0.5〜12μ
m程度である。
ては、上記磁気記録層4と同様のものな用いることがで
きる。但し、磁気バー12としては上記磁気記録層4と
異なる磁気特性のもの(例えばカルボニル鉄粉)を用い
ることができ、更に該磁気バー12と類似の形状の非磁
性のダミーバーを併用することもできる。これら磁気バ
ー12及びダミーバーの厚さはたとえば0.5〜12μ
m程度である。
上記隠蔽層14は磁気バー12及びダミーバーを視覚的
に隠蔽するために形成され、その材料としては熱硬化性
樹脂、たとえばポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、アクリ
ル樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポ
リウレタン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、アルキッド
樹脂等を用いることかでき、これに隠蔽性付与のための
顔料たとえばAl、Sn、Pb、Zn、Cu、Ag。
に隠蔽するために形成され、その材料としては熱硬化性
樹脂、たとえばポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、アクリ
ル樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポ
リウレタン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、アルキッド
樹脂等を用いることかでき、これに隠蔽性付与のための
顔料たとえばAl、Sn、Pb、Zn、Cu、Ag。
Cu−Zn等の金属粉やA 102 、 T i O2
等の金属酸化物粉を適量添加することができる。該隠蔽
層14の厚さはたとえば0.5〜3μm程度である。
等の金属酸化物粉を適量添加することができる。該隠蔽
層14の厚さはたとえば0.5〜3μm程度である。
上記印刷層16.20は所望のデザインの通常の印刷層
であり、その厚さは例えば0.5〜5μm程度である。
であり、その厚さは例えば0.5〜5μm程度である。
尚、印刷層16は金属薄膜層8に形成される可視パター
ンと協働して所望の表示をなすものであってもよい。
ンと協働して所望の表示をなすものであってもよい。
上記第2図〜第6図において、上記第1図におけると同
様の部材には同一の符号が付されている。
様の部材には同一の符号が付されている。
尚、上記第1図〜第6図の実施例において、磁気記録再
生特性を良好なものとするために、磁気バー12及びダ
ミーバー12°の形成されていない領域において、磁気
記録層4より上の層の厚さ合計は10LLm以下である
のが好ましい。
生特性を良好なものとするために、磁気バー12及びダ
ミーバー12°の形成されていない領域において、磁気
記録層4より上の層の厚さ合計は10LLm以下である
のが好ましい。
第7図(a)〜(j)は上記第1図の実施例の磁気カー
ドの製造工程を示す図である。以下、本図に基づき製造
の具体例を示す。
ドの製造工程を示す図である。以下、本図に基づき製造
の具体例を示す。
第7図(a)に示される様に、厚さ188μmの白色ポ
リエチレンテレフタレートフィルム[東し社製 E−2
4] 2の片面にBaフェライトを磁性材料とする厚さ
10LLm、抗磁力27500e、残留磁束1 、4M
x/cm 、角型比0.85の磁気記録層4を形成して
なる磁気シート(幅410mm、長さ400m)のロー
ル1を用意した。第7図(b)は該ロールの部分断面図
である。
リエチレンテレフタレートフィルム[東し社製 E−2
4] 2の片面にBaフェライトを磁性材料とする厚さ
10LLm、抗磁力27500e、残留磁束1 、4M
x/cm 、角型比0.85の磁気記録層4を形成して
なる磁気シート(幅410mm、長さ400m)のロー
ル1を用意した。第7図(b)は該ロールの部分断面図
である。
次に、第2図(c)に示される様に、磁気記録層4上に
厚さ3μmの下引き層6を形成した。該下引き層の形成
に際し、 塩酢ビ樹脂 [ユニオンカーバイド社製 ビニライトレジン VMCH] 20重量部メラミン
・ホルムアルデヒド縮合物 [日本触媒化学工業社製 エポスター 5−12] 5重量部メチルエチ
ルケトン 20重量部トルエン
20重量部シクロへキサノン
40重量部からなる塗料を作成し、これに イソシアネート系硬化剤 [日本ポリウレタン工業社製 コロネート Lコ 1.2重量部を添加して
、リバースロールコータ−により塗布し、110℃で5
分間乾燥させた。
厚さ3μmの下引き層6を形成した。該下引き層の形成
に際し、 塩酢ビ樹脂 [ユニオンカーバイド社製 ビニライトレジン VMCH] 20重量部メラミン
・ホルムアルデヒド縮合物 [日本触媒化学工業社製 エポスター 5−12] 5重量部メチルエチ
ルケトン 20重量部トルエン
20重量部シクロへキサノン
40重量部からなる塗料を作成し、これに イソシアネート系硬化剤 [日本ポリウレタン工業社製 コロネート Lコ 1.2重量部を添加して
、リバースロールコータ−により塗布し、110℃で5
分間乾燥させた。
ここで、上記メラミン・ホルムアルデヒド縮合物は下引
き層6の表面を粗面化するための微小粒子として用いて
いる。即ち、該下引き層を粗面化しておくと、後工程で
金属薄膜層8の形成の際に該金属薄膜層が容易に粗面化
し、該金属薄膜層による拡散反射が大きくなり、均一な
白色が得られ磁気記録層4とのコントラストが良くなり
、可視パターンが目視しやす(なる。この様な粗面化の
ための微小粒子としては、その他ポリイミド樹脂パウダ
ー、低分子4フツ化エチレン樹脂パウダー、ステアリン
酸カルシウム、ステアリン酸スズ、ポリスチレンラテッ
クス、ベントナイト、珪灰石、タルク、ケイ酸アルミニ
ウム、セリサイト、ケイ酸アルミニウム、カオリンクレ
ー、ホワイトカーボン、炭酸カルシウム、胡粉、消石灰
、ドロマイトパウダー、炭酸マグネシウム、硫酸バリウ
ム等を用いることもできる。該微小粒子は樹脂100重
量部に対し50重量部以下、好ましくは25重量部以下
配合する。
き層6の表面を粗面化するための微小粒子として用いて
いる。即ち、該下引き層を粗面化しておくと、後工程で
金属薄膜層8の形成の際に該金属薄膜層が容易に粗面化
し、該金属薄膜層による拡散反射が大きくなり、均一な
白色が得られ磁気記録層4とのコントラストが良くなり
、可視パターンが目視しやす(なる。この様な粗面化の
ための微小粒子としては、その他ポリイミド樹脂パウダ
ー、低分子4フツ化エチレン樹脂パウダー、ステアリン
酸カルシウム、ステアリン酸スズ、ポリスチレンラテッ
クス、ベントナイト、珪灰石、タルク、ケイ酸アルミニ
ウム、セリサイト、ケイ酸アルミニウム、カオリンクレ
ー、ホワイトカーボン、炭酸カルシウム、胡粉、消石灰
、ドロマイトパウダー、炭酸マグネシウム、硫酸バリウ
ム等を用いることもできる。該微小粒子は樹脂100重
量部に対し50重量部以下、好ましくは25重量部以下
配合する。
次に、第7図(d)に示される様に、下引き層6上に、
真空蒸着法でlXl0−’Torrの減圧下で20m/
minの速度で通過させながら厚さ1000人のSn薄
膜層8を形成した。該Sn薄膜層の金属光沢は乏しく白
色に近い色彩であった。
真空蒸着法でlXl0−’Torrの減圧下で20m/
minの速度で通過させながら厚さ1000人のSn薄
膜層8を形成した。該Sn薄膜層の金属光沢は乏しく白
色に近い色彩であった。
次に、第7図(e)に示される様に、Sn薄膜層8上に
厚さ1μmの第1保護層10を形成した。該保護層の形
成に際し、 ポリビニルブチラール樹脂 [セキスイ化学工業社製 エスレックB BM−Sコ 5重量部塩酢ビ樹脂
[ユニオンカーバイド社製 ビニライトレジン VAGH] 5重量部トルエン
45重量部セロソルブアセテー
ト 45重量部からなる塗料を作成し、これに イソシアネート系硬化剤 [日本ポリウレタン工業社製 コロネート L] 0.25重量部を添加して
、グラビアコートにより塗布し、110℃で5分間乾燥
させた。
厚さ1μmの第1保護層10を形成した。該保護層の形
成に際し、 ポリビニルブチラール樹脂 [セキスイ化学工業社製 エスレックB BM−Sコ 5重量部塩酢ビ樹脂
[ユニオンカーバイド社製 ビニライトレジン VAGH] 5重量部トルエン
45重量部セロソルブアセテー
ト 45重量部からなる塗料を作成し、これに イソシアネート系硬化剤 [日本ポリウレタン工業社製 コロネート L] 0.25重量部を添加して
、グラビアコートにより塗布し、110℃で5分間乾燥
させた。
次に、シートを580mmの長さごとに切断し、以後、
多面骨のシートの形態で印刷工程を行なった。
多面骨のシートの形態で印刷工程を行なった。
第7図(f)に示される様に、第1保護層10上の所定
の位置に、磁気バーコードを構成する厚さ8μm、幅1
mm及び長さ5mmの磁気バー12ならびに厚さ7μm
、幅1mm及び長さ5mmののダミーバー12°を#2
50のシルクスクリーン印刷で形成した。
の位置に、磁気バーコードを構成する厚さ8μm、幅1
mm及び長さ5mmの磁気バー12ならびに厚さ7μm
、幅1mm及び長さ5mmののダミーバー12°を#2
50のシルクスクリーン印刷で形成した。
上記磁気バー12の形成に際し、
カルボニル鉄粉[B A S F社製:平均粒径1.7
μm、 抗磁力8.80e] 50重量部アルキッ
ド樹脂 10重量部シクロへキサノン
20重量部ツルペッツ100
20重量部をロールミルで1時間混練し均一に分散さ
せた塗料を用いた。
μm、 抗磁力8.80e] 50重量部アルキッ
ド樹脂 10重量部シクロへキサノン
20重量部ツルペッツ100
20重量部をロールミルで1時間混練し均一に分散さ
せた塗料を用いた。
上記カルボニル鉄粉の代わりに
単結晶鉄粉[昭和電工社製 アトミロン平均粒径2.5
μm] を用いても同等の特性が付与できる。
μm] を用いても同等の特性が付与できる。
また、上記ダミーパー12゛の形成に際し、ベンガラ(
α−F I3203) 20重量部カーボンブラッ
ク 5重量部チタンホワイト(Ti02
) 15重量部アルキッド樹脂
20重量部シクロへキサノン 20重量部
ツルペッツ100 20重量部をロールミ
ルで1時間混練し均一に分散させた塗料を用いた。
α−F I3203) 20重量部カーボンブラッ
ク 5重量部チタンホワイト(Ti02
) 15重量部アルキッド樹脂
20重量部シクロへキサノン 20重量部
ツルペッツ100 20重量部をロールミ
ルで1時間混練し均一に分散させた塗料を用いた。
次に、第7図(g)に示される様に、磁気バー12及び
ダミーパー12°を隠蔽する厚さ1μmの隠蔽層14を
上記第1保護層10上に部分的に形成した。隠蔽層の形
成に際し、 アルミペースト(固形分60%) 3重量部アルキッド
樹脂 10重量部セロソルブアセテート
10重量部キシレン
10重量部からなる塗料を作成し、#300のシルクス
クリーン印刷により塗布し、80℃で20分間乾燥させ
た。
ダミーパー12°を隠蔽する厚さ1μmの隠蔽層14を
上記第1保護層10上に部分的に形成した。隠蔽層の形
成に際し、 アルミペースト(固形分60%) 3重量部アルキッド
樹脂 10重量部セロソルブアセテート
10重量部キシレン
10重量部からなる塗料を作成し、#300のシルクス
クリーン印刷により塗布し、80℃で20分間乾燥させ
た。
次に、第7図(h)に示される様に、隠蔽層14上にU
■硬化タイプの墨インキを用いて厚さ1μmの印刷層1
6を形成した。該印刷層は注意文等である。
■硬化タイプの墨インキを用いて厚さ1μmの印刷層1
6を形成した。該印刷層は注意文等である。
次に、第7図(i)に示される様に、隠蔽層14及び印
刷層16を覆って、厚さ2μmの第2保護層18を上記
第1保護層10上に形成した。該第2保護層の形成は、
UVアンカーNo、7 [集草色素化学工業社製]を1
μm厚にUVオフセット印刷し、その上にuvopニス
DK[集草色素化学工業社製]を1μm厚にUVオフセ
ット印刷することで行なった。
刷層16を覆って、厚さ2μmの第2保護層18を上記
第1保護層10上に形成した。該第2保護層の形成は、
UVアンカーNo、7 [集草色素化学工業社製]を1
μm厚にUVオフセット印刷し、その上にuvopニス
DK[集草色素化学工業社製]を1μm厚にUVオフセ
ット印刷することで行なった。
次に、第7図(j)に示される様に、基材層2の下面上
に厚さ2μmの所望のカラー印刷層20及び厚さ2μm
の第3保護層22を形成した。これらの層形成は通常の
UVオフセット印刷により行なった。
に厚さ2μmの所望のカラー印刷層20及び厚さ2μm
の第3保護層22を形成した。これらの層形成は通常の
UVオフセット印刷により行なった。
最後に、所定の外形に打抜いて、磁気カードを得た。
第8図は以上の様にして得られた磁気カードを示す平面
図である。
図である。
30は磁気バー12及びダミーパー12゛のだめの隠蔽
層14が形成されている領域である。32は隠蔽層14
の形成されていない領域であり、該領域には感熱記録に
より可視パターンを形成することができる。これら2つ
の領域は第7図(j)にも示されている。
層14が形成されている領域である。32は隠蔽層14
の形成されていない領域であり、該領域には感熱記録に
より可視パターンを形成することができる。これら2つ
の領域は第7図(j)にも示されている。
第8図において、34は上We M4気記録層4に情報
を記録するための第1の情報トラックを示し、該トラッ
クは上記領域30にも32にも存在している。36は磁
気バーコード情報の再生のための第2の情報トラックで
ある。
を記録するための第1の情報トラックを示し、該トラッ
クは上記領域30にも32にも存在している。36は磁
気バーコード情報の再生のための第2の情報トラックで
ある。
第9図は上記実施例の磁気カードにおける可視パターン
書込み方法を説明するための概略断面図である。
書込み方法を説明するための概略断面図である。
図示される様に、上記領域32において、第2保護層1
8に対し上方からサーマルヘッドHな接触させながら矢
印方向に走査し、適時該ヘットHの発熱素子を発熱させ
ると、該発熱により下引き層6及び金属薄膜層8が溶融
し、この際、金属薄膜層8は薄いので溶融時に下引き層
6内で表面張力により細粒状となって分散する(一部は
第1保護層10内にも分散する)。この様にして金属薄
膜層構成材料が分散した部分では該金属薄膜層か破壊さ
れた状態となり、ヘッドHが通り過ぎた後にこの状態で
下引き層6が固化して記録の固定化がなされる。上記ヘ
ッド発熱による加熱を受けなかった部分は金属薄膜層8
がそのまま残っているので白色系の色彩を呈するが、上
記ヘッド発熱により加熱された部分は磁気記録層4の黒
っぽい色彩を呈し、従って十分なコントラストの可視パ
ターンが形成される。尚、金属薄膜層8の破壊された部
分の下引き層6には分散した金属細粒が存在するが、そ
の量は少ないので磁気記録層4の目視には支障がない。
8に対し上方からサーマルヘッドHな接触させながら矢
印方向に走査し、適時該ヘットHの発熱素子を発熱させ
ると、該発熱により下引き層6及び金属薄膜層8が溶融
し、この際、金属薄膜層8は薄いので溶融時に下引き層
6内で表面張力により細粒状となって分散する(一部は
第1保護層10内にも分散する)。この様にして金属薄
膜層構成材料が分散した部分では該金属薄膜層か破壊さ
れた状態となり、ヘッドHが通り過ぎた後にこの状態で
下引き層6が固化して記録の固定化がなされる。上記ヘ
ッド発熱による加熱を受けなかった部分は金属薄膜層8
がそのまま残っているので白色系の色彩を呈するが、上
記ヘッド発熱により加熱された部分は磁気記録層4の黒
っぽい色彩を呈し、従って十分なコントラストの可視パ
ターンが形成される。尚、金属薄膜層8の破壊された部
分の下引き層6には分散した金属細粒が存在するが、そ
の量は少ないので磁気記録層4の目視には支障がない。
上記実施例で得られた磁気カードを用いて、以下の条件
で可視パターン形成を行なった。
で可視パターン形成を行なった。
・サーマルヘッド
印刷シミュレーク用ザーマルヘット
[ローム社製 KE1502−11
抵抗値 424Ωコ
・印加電圧パルス
16V 0.55W/dot。
デユーティ比 50%
32KHz
・磁気カード搬送速度
22mm/sec
可視パターン形成後、マクベス濃度計RD918を用い
て濃度測定を行なったところ、パターン部の濃度は0.
95であり、非パターン部の濃度は0.25であり、十
分なコントラストが得られた。
て濃度測定を行なったところ、パターン部の濃度は0.
95であり、非パターン部の濃度は0.25であり、十
分なコントラストが得られた。
上記条件において印加電圧パルスの周波数を100KH
zに変更し且つ磁気カード搬送速度を17mm/sec
に変更して同様な可視パターン形成を行ない濃度測定を
行なったところ、パターン部の濃度は098であり、非
パターン部の濃度は0.25であり、十分なコントラス
トが得られた。
zに変更し且つ磁気カード搬送速度を17mm/sec
に変更して同様な可視パターン形成を行ない濃度測定を
行なったところ、パターン部の濃度は098であり、非
パターン部の濃度は0.25であり、十分なコントラス
トが得られた。
上記サーマルヘッドHの代わりに、同等の熱量を供給し
同様に金属層破壊の可能な他の適宜の手段例えばレーザ
ーマーカーを用いることもできる。
同様に金属層破壊の可能な他の適宜の手段例えばレーザ
ーマーカーを用いることもできる。
以上の様な可視パターン書込みは、カードの使用記録(
日付及び支払い金額等)及び残高の明細の印字に有効に
適用される。即ち、磁気カードは使用のたびに磁気記録
層4に記録されている残高金額を修正していくのである
が、その詳細を該カードにサーマル印字することにより
、利用者が常時該カードの内容を知ることができる。
日付及び支払い金額等)及び残高の明細の印字に有効に
適用される。即ち、磁気カードは使用のたびに磁気記録
層4に記録されている残高金額を修正していくのである
が、その詳細を該カードにサーマル印字することにより
、利用者が常時該カードの内容を知ることができる。
本実施例の磁気カードでは、磁気記録層4の情報トラッ
ク34には、券種、使用記録及び残高等の情報が記録さ
れており、該情報トラックの磁気情報の記録再生は通常
の方法で行なわれる。
ク34には、券種、使用記録及び残高等の情報が記録さ
れており、該情報トラックの磁気情報の記録再生は通常
の方法で行なわれる。
また、本実施例の磁気カードでは、磁気バーコードには
、券種等の当該磁気カードに固有の固定情報が記録され
ており、その再生は磁気ヘッドに直流バイアス電流を流
して行なうことができる。
、券種等の当該磁気カードに固有の固定情報が記録され
ており、その再生は磁気ヘッドに直流バイアス電流を流
して行なうことができる。
第10図は上記実施例の磁気カードを使用するリーダラ
イタの動作の一例を示すフローチャートである。
イタの動作の一例を示すフローチャートである。
先ず、カード所有者がカードをリーダライタに挿入する
(STI)と、上記情報トラック36の磁気バーコード
が読み取られ、券種な検出する(Sr1)。該検出デー
タはメモリ40に格納される。
(STI)と、上記情報トラック36の磁気バーコード
が読み取られ、券種な検出する(Sr1)。該検出デー
タはメモリ40に格納される。
次に、上記情報トラック34の磁気記録情報(MTデー
タ)が読み取られ(Sr1)、該データはメモリ40に
格納される。
タ)が読み取られ(Sr1)、該データはメモリ40に
格納される。
次に、上記メモリに格納されている券種検出データとM
Tデータ内の券種情報とを照合する(Sr4)。該照合
で双方が一致しない場合には、正しいカードであると見
なされず、エラー表示がなされ(Sr5)、無効処理が
行なわれる(Sr6)。
Tデータ内の券種情報とを照合する(Sr4)。該照合
で双方が一致しない場合には、正しいカードであると見
なされず、エラー表示がなされ(Sr5)、無効処理が
行なわれる(Sr6)。
上記ST4の照合で一致して正しいカートであると見な
されると、必要な支払い金額(例えば運賃)の入力が可
能となり、該金額が人力される(Sr7)。
されると、必要な支払い金額(例えば運賃)の入力が可
能となり、該金額が人力される(Sr7)。
次に、該人力金額と上記MTデータ内の残高金額(残金
)との比較が行なわれ(Sr1)、残金が多い場合には
必要なデータ処理即ち該残金から上記支払い金額を減算
する処理か行なわれる(Sr1)。
)との比較が行なわれ(Sr1)、残金が多い場合には
必要なデータ処理即ち該残金から上記支払い金額を減算
する処理か行なわれる(Sr1)。
次に、上記金属薄膜層8に対し、上記の様にしてサーマ
ルヘッドにより、カードの使用記録(日付及び支払い金
額等)及び上記減算後の残高の明細の印字が行なわれる
(STIO)。
ルヘッドにより、カードの使用記録(日付及び支払い金
額等)及び上記減算後の残高の明細の印字が行なわれる
(STIO)。
次に、上記データ処理後の全データを情報トラック34
に記録する(STII)。この際、以前のデータを消去
して全データを新たに記録する書きかえが行なわれる。
に記録する(STII)。この際、以前のデータを消去
して全データを新たに記録する書きかえが行なわれる。
これによれば、サーマル印字により磁気記録層4が影響
を受り情報が変化した場合にも、正確な情報を記録する
ことができる。
を受り情報が変化した場合にも、正確な情報を記録する
ことができる。
次に、取引が終了した旨を表示して(STI2)、カー
ドを返却する(ST13)。
ドを返却する(ST13)。
一方、上記ST8において、残金が不足した場合には、
その旨を表示しく5T14)、不足分を催促する。不足
金額が挿入されると(STI5)、必要なデータ処理が
行なわれ(STIO)、例えばデータをオール°°1゛
にして情報トラック34に記録しく5T17)、カード
に使用済みのパンチ穴を開けて(ST18)、返却する
(ST19)。
その旨を表示しく5T14)、不足分を催促する。不足
金額が挿入されると(STI5)、必要なデータ処理が
行なわれ(STIO)、例えばデータをオール°°1゛
にして情報トラック34に記録しく5T17)、カード
に使用済みのパンチ穴を開けて(ST18)、返却する
(ST19)。
[発明の効果]
以上、詳細に説明した様に、本発明によれば、磁気記録
層と重ね合せて文字、符号及び図形等の可視パターンを
書込むことができ、かくして磁気記録領域及び可視パタ
ーン書込み領域の双方を十分太き(とることが可能とな
り、且つ磁気バーコードと磁気記録層の記録内容との照
合を行なう様にすることによりセキュリティ性が向上す
る。
層と重ね合せて文字、符号及び図形等の可視パターンを
書込むことができ、かくして磁気記録領域及び可視パタ
ーン書込み領域の双方を十分太き(とることが可能とな
り、且つ磁気バーコードと磁気記録層の記録内容との照
合を行なう様にすることによりセキュリティ性が向上す
る。
第1図〜第6図はそれぞれ本発明による磁気カードの要
部を示す模式的断面図である。 第7図(a)〜(j)は上記第1図の磁気カードの製造
工程を示す図である。 第8図は磁気カードを示す平面図である。 第9図は磁気カードにおける可視パターン書込み方法を
説明するための概略断面図である。 第10図は磁気カードを使用するリーダライクの動作の
一例を示すフローチャートである。 :基材層、 :下引き層、 0.18,22 2:磁気バー 4=隠蔽層、 4:磁気記録層、 8:金属薄膜層、 :保護層、 12° ・ダミーパー 16.20:印刷層。 !
部を示す模式的断面図である。 第7図(a)〜(j)は上記第1図の磁気カードの製造
工程を示す図である。 第8図は磁気カードを示す平面図である。 第9図は磁気カードにおける可視パターン書込み方法を
説明するための概略断面図である。 第10図は磁気カードを使用するリーダライクの動作の
一例を示すフローチャートである。 :基材層、 :下引き層、 0.18,22 2:磁気バー 4=隠蔽層、 4:磁気記録層、 8:金属薄膜層、 :保護層、 12° ・ダミーパー 16.20:印刷層。 !
Claims (2)
- (1)磁気記録層上に下引き層が形成されており、該下
引き層上に金属薄膜層が形成されおり、上記磁気記録層
と下引き層との間、上記下引き層と上記金属薄膜層との
間、及び/または上記金属薄膜層の上方に磁気バーコー
ドが形成されていることを特徴とする、可視パターン書
込み可能な磁気カード。 - (2)上記金属薄膜層上に磁気バーコードが形成されて
おり、該磁気バーコード上に隠蔽層が形成されている、
請求項1に記載の可視パターン書込み可能な磁気カード
。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1104514A JP2901075B2 (ja) | 1989-04-26 | 1989-04-26 | 磁気カード |
ES9050020A ES2037631A6 (es) | 1989-04-26 | 1990-03-29 | Una tarjeta magnetica. |
PCT/JP1990/000420 WO1990013114A1 (en) | 1989-04-26 | 1990-03-29 | Magnetic card |
US07/613,768 US5113062A (en) | 1989-04-26 | 1990-03-29 | Magnetic card having thermal recording layer and arrangement of magnetic bars for recording security information |
GB9027148A GB2238901B (en) | 1989-04-26 | 1990-12-14 | Magnetic card |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1104514A JP2901075B2 (ja) | 1989-04-26 | 1989-04-26 | 磁気カード |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02285514A true JPH02285514A (ja) | 1990-11-22 |
JP2901075B2 JP2901075B2 (ja) | 1999-06-02 |
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ID=14382604
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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---|---|
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ES (1) | ES2037631A6 (ja) |
GB (1) | GB2238901B (ja) |
WO (1) | WO1990013114A1 (ja) |
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- 1989-04-26 JP JP1104514A patent/JP2901075B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-03-29 US US07/613,768 patent/US5113062A/en not_active Expired - Fee Related
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- 1990-03-29 ES ES9050020A patent/ES2037631A6/es not_active Expired - Fee Related
- 1990-12-14 GB GB9027148A patent/GB2238901B/en not_active Expired - Fee Related
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