JPH02280396A - フレキシブル印刷回路用基板の製造方法 - Google Patents
フレキシブル印刷回路用基板の製造方法Info
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- JPH02280396A JPH02280396A JP10029289A JP10029289A JPH02280396A JP H02280396 A JPH02280396 A JP H02280396A JP 10029289 A JP10029289 A JP 10029289A JP 10029289 A JP10029289 A JP 10029289A JP H02280396 A JPH02280396 A JP H02280396A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 42
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 42
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 claims abstract description 29
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 claims abstract description 28
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims abstract description 20
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims abstract description 17
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 claims description 6
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 claims 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 abstract description 14
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- -1 alkoxide compounds Chemical class 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 238000013035 low temperature curing Methods 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEKHISJGRIEHRE-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecanoic acid;propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IEKHISJGRIEHRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIDPINWAGZKWJR-UHFFFAOYSA-N 4-(4,4-diaminocyclohexa-1,5-dien-1-yl)oxycyclohexa-2,4-diene-1,1-diamine Chemical compound C1=CC(N)(N)CC=C1OC1=CCC(N)(N)C=C1 VIDPINWAGZKWJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 5-phenylbenzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHABMANUFPZXEB-UHFFFAOYSA-N O-demethyl-aloesaponarin I Natural products O=C1C2=CC=CC(O)=C2C(=O)C2=C1C=C(O)C(C(O)=O)=C2C MHABMANUFPZXEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMHKOAYRTRADAT-UHFFFAOYSA-N [hydroxy(octoxy)phosphoryl] octyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCOP(O)(=O)OP(O)(=O)OCCCCCCCC UMHKOAYRTRADAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- CRNJBCMSTRNIOX-UHFFFAOYSA-N methanolate silicon(4+) Chemical compound [Si+4].[O-]C.[O-]C.[O-]C.[O-]C CRNJBCMSTRNIOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N methoxysilane Chemical compound CO[SiH3] ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAHVZNKZQFSBFW-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-trimethylsilylmethanamine Chemical compound CN(C)[Si](C)(C)C KAHVZNKZQFSBFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTQLZQAVGBUMOG-UHFFFAOYSA-N n-silylacetamide Chemical compound CC(=O)N[SiH3] BTQLZQAVGBUMOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWFWUJCJKPUZLV-UHFFFAOYSA-N n-trimethylsilylacetamide Chemical compound CC(=O)N[Si](C)(C)C LWFWUJCJKPUZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000006551 perfluoro alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound CCCO[Ti](OCCC)(OCCC)OCCC HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/032—Organic insulating material consisting of one material
- H05K1/0346—Organic insulating material consisting of one material containing N
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
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- H05K1/03—Use of materials for the substrate
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/382—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal
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- Laminated Bodies (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、金属箔との密着性が良好で、耐熱性、寸法安
定性、耐薬品性、機械特性等に優れたフレキシブル印刷
回路用基板の製造方法に関するものである。
定性、耐薬品性、機械特性等に優れたフレキシブル印刷
回路用基板の製造方法に関するものである。
[従来の技術]
従来、フレキシブル印刷回路用基板はポリイミドフィル
ムと金属箔とを低温硬化可能な接着剤で貼り合わせて製
造されていた。高温硬化の接着剤では、熱圧着時の熱履
歴により、常温に戻した時に、基板のカール、ネジレ等
が発生し、その後のバターニング等の作業が不可能なる
故に低温硬化の接着剤を用いるのである。しかしながら
、低温硬化の接着剤は本質的に耐熱性に劣るために、基
板としてポリイミドフィルムを使用しても本来の耐熱性
を発揮させるには至らなかった。
ムと金属箔とを低温硬化可能な接着剤で貼り合わせて製
造されていた。高温硬化の接着剤では、熱圧着時の熱履
歴により、常温に戻した時に、基板のカール、ネジレ等
が発生し、その後のバターニング等の作業が不可能なる
故に低温硬化の接着剤を用いるのである。しかしながら
、低温硬化の接着剤は本質的に耐熱性に劣るために、基
板としてポリイミドフィルムを使用しても本来の耐熱性
を発揮させるには至らなかった。
そこで、接着剤を使用しないでフレキシブル印刷回路用
基板を製造する方法として金rIx箔上に直接ポリイミ
ド前駆体であるポリアミック酸溶液を塗布し、加熱乾燥
硬化して製造する方法が提案されているが、この方法で
は製品にカール、シワ、チヂレ等が発生、基板としての
使用が不可能となるものであった。
基板を製造する方法として金rIx箔上に直接ポリイミ
ド前駆体であるポリアミック酸溶液を塗布し、加熱乾燥
硬化して製造する方法が提案されているが、この方法で
は製品にカール、シワ、チヂレ等が発生、基板としての
使用が不可能となるものであった。
かかる現状において、製品のカール等の欠点を防止する
方法として、特開昭60−2211426号、特開昭5
0−206639号、特開昭61−111181号、特
開昭84188号、特開昭63−193829号等各公
報には熱膨張率の低いポリイミドを使用することが提案
されている。しかし、これらの方法では製品のカールは
防止することが出来ても、金属箔との密着性が十分に得
られないという問題点がある。そこで、密着性を向上さ
せる目的で、金属カップリング剤をポリアミック酸中に
添加したり、あるいは予め金属箔上に塗布しておくこと
も提案されてはいるが、その効果は十分ではなく、実用
上満足し得るまでには達していない。
方法として、特開昭60−2211426号、特開昭5
0−206639号、特開昭61−111181号、特
開昭84188号、特開昭63−193829号等各公
報には熱膨張率の低いポリイミドを使用することが提案
されている。しかし、これらの方法では製品のカールは
防止することが出来ても、金属箔との密着性が十分に得
られないという問題点がある。そこで、密着性を向上さ
せる目的で、金属カップリング剤をポリアミック酸中に
添加したり、あるいは予め金属箔上に塗布しておくこと
も提案されてはいるが、その効果は十分ではなく、実用
上満足し得るまでには達していない。
[発明の解決しようとする課題]
本発明は、前記の如き問題点に鑑みなされたものであり
、接着剤を用いなくとも金属箔とポリイミドフィルムと
の密着性が良好で、カール等の発生がなく、耐熱性1寸
法安定性、耐薬品性、機械特性等にも優れたフレキシブ
ル印刷回路用基板の製造方法を新規に提供することを目
的とするものである。
、接着剤を用いなくとも金属箔とポリイミドフィルムと
の密着性が良好で、カール等の発生がなく、耐熱性1寸
法安定性、耐薬品性、機械特性等にも優れたフレキシブ
ル印刷回路用基板の製造方法を新規に提供することを目
的とするものである。
[課題を解決するための手段]
すなわち、本発明は、加熱処理により金属酸化物となり
うる金属アルコキシドおよび/またはその部分縮合物を
含有するポリアミック酸溶液を金属箔上に直接塗布し、
加熱硬化してフレキシブル印刷回路用基板を製造するに
際し、予め金属箔上にシランカップリング剤、チタン系
カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤より選
ばれる少なくとも]種のカップリング剤を塗布すること
を特徴とする密着性に優れたフレキシブル印刷回路用基
板の製造方法を提供するものである。
うる金属アルコキシドおよび/またはその部分縮合物を
含有するポリアミック酸溶液を金属箔上に直接塗布し、
加熱硬化してフレキシブル印刷回路用基板を製造するに
際し、予め金属箔上にシランカップリング剤、チタン系
カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤より選
ばれる少なくとも]種のカップリング剤を塗布すること
を特徴とする密着性に優れたフレキシブル印刷回路用基
板の製造方法を提供するものである。
本発明に使用されるポリアミック酸溶液は、芳香族テト
ラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンを好ましくはシ
ランカップリング剤の存在下で反応させて得られるポリ
アミック酸に加熱処理により金属酸化物となりうる金属
アルコキシドおよび/またはその部分縮合物を配合して
なる組成物の溶液である。
ラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンを好ましくはシ
ランカップリング剤の存在下で反応させて得られるポリ
アミック酸に加熱処理により金属酸化物となりうる金属
アルコキシドおよび/またはその部分縮合物を配合して
なる組成物の溶液である。
上記芳香族テトラカルボン酸二無水物は下記一般式[1
] ンテトラカルボン酸二無水物などが挙げられ、これらは
二種以上を併用することができるうまた芳香族ジアミン
としては下記一般式(rBHa N Ar” −NH2
[IT’1(R)。
] ンテトラカルボン酸二無水物などが挙げられ、これらは
二種以上を併用することができるうまた芳香族ジアミン
としては下記一般式(rBHa N Ar” −NH2
[IT’1(R)。
(但し、式中Ar’
は息、ヰ汗〈扛
で表わされる化合物などであり、好適なものとして、例
えばピロメリット酸二無水物、ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物、ベンゾフェノより選ばれ、Rは炭素数1
〜3のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲンを示し;X
は単結合一〇−,−3−,−3Og−、−C−、炭素数
1〜6のアルキレン基、パーフルオロアルキレン基を示
し、;m、nはそれぞれO40の整数を示す。) で表わされる化合物が挙げられ、これらは二種以上を併
用することができる。かかる芳香族ジアミンにおいて好
適なものとして4.4′−ジアミノジフェニルエーテル
、2.2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]プロパン、p−フェニレンジアミンなどが例示され
る。
えばピロメリット酸二無水物、ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物、ベンゾフェノより選ばれ、Rは炭素数1
〜3のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲンを示し;X
は単結合一〇−,−3−,−3Og−、−C−、炭素数
1〜6のアルキレン基、パーフルオロアルキレン基を示
し、;m、nはそれぞれO40の整数を示す。) で表わされる化合物が挙げられ、これらは二種以上を併
用することができる。かかる芳香族ジアミンにおいて好
適なものとして4.4′−ジアミノジフェニルエーテル
、2.2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]プロパン、p−フェニレンジアミンなどが例示され
る。
更に前記シランカップリング剤はポリアミック酸に配合
される金属アルコキト、その他の物質の分散性、混合性
を向上せしめるのに有用であって、組成物からの成形物
においてそれを含まない成形物に比して熱膨張率などの
特性に基づく寸法安定性が著しく改善される。シランカ
ップリング剤としては公知の各種シランカップリング剤
であってもよいが、単なる分散性、混合性を向上せしめ
る分散改良剤、分散安定剤としての作用のみならず、適
当な官能基を有するものを選択することによって重合体
の有する官能基と結合させることが可能になり、得られ
る成形物の物性をさらに向上させることができる。かか
るシランカップリング剤としては、1個以上のアミノ基
、特に第1級および/あるいは第2級のアミノ基を有す
る例えばγ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−
アニリノプロピルトリメトキシシラン、1個以上のグリ
シジル基を有する例えばγ−グリシドキシプロビルトリ
メトキシシラン、あるいは1個以上のメルカプト基を有
する例えばγ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン
等が好適なものとして挙げられる。その他、フェニルト
リメトキシシランの如きフェニル系シランカップリング
剤、トリメチルクロロシランの如きハロゲン系シランカ
ップリング剤、ジメチルトリメチルシリルアミンの如き
シリルアミン系シランカップリング剤、ビニルトリアセ
トキシシランの如きアシロキシシラン系シランカップリ
ング剤、N−トリメチルシリルアセトアミドの如きアセ
トアミドシラン系シランカップリング剤等も使用しうる
ものとして例示できる。これらシランカップリング剤に
おいて、特にポリアミック酸あるいは、ポリイミド系重
合体の官能基、例えば−COOH。
される金属アルコキト、その他の物質の分散性、混合性
を向上せしめるのに有用であって、組成物からの成形物
においてそれを含まない成形物に比して熱膨張率などの
特性に基づく寸法安定性が著しく改善される。シランカ
ップリング剤としては公知の各種シランカップリング剤
であってもよいが、単なる分散性、混合性を向上せしめ
る分散改良剤、分散安定剤としての作用のみならず、適
当な官能基を有するものを選択することによって重合体
の有する官能基と結合させることが可能になり、得られ
る成形物の物性をさらに向上させることができる。かか
るシランカップリング剤としては、1個以上のアミノ基
、特に第1級および/あるいは第2級のアミノ基を有す
る例えばγ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−
アニリノプロピルトリメトキシシラン、1個以上のグリ
シジル基を有する例えばγ−グリシドキシプロビルトリ
メトキシシラン、あるいは1個以上のメルカプト基を有
する例えばγ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン
等が好適なものとして挙げられる。その他、フェニルト
リメトキシシランの如きフェニル系シランカップリング
剤、トリメチルクロロシランの如きハロゲン系シランカ
ップリング剤、ジメチルトリメチルシリルアミンの如き
シリルアミン系シランカップリング剤、ビニルトリアセ
トキシシランの如きアシロキシシラン系シランカップリ
ング剤、N−トリメチルシリルアセトアミドの如きアセ
トアミドシラン系シランカップリング剤等も使用しうる
ものとして例示できる。これらシランカップリング剤に
おいて、特にポリアミック酸あるいは、ポリイミド系重
合体の官能基、例えば−COOH。
−NH,、−NHC−などと反応性を有するようなシラ
ンカップリング剤を用いることが重要である。
ンカップリング剤を用いることが重要である。
ポリアミック酸溶液を得るための反応において、芳香族
テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンの割合とし
ては、それぞれの官能基を等モルとするのが好ましく、
またシランカップリング剤の量は芳香族テトラカルボン
酸二無水物または芳香族ジアミン100に対して0.0
1〜“4゜mo1%とするのが好適である。また、ポリ
アミック酸溶液に含まれる金属アルコキシドとしては、
例えばシリコンテトラメトキシド、シリコンテトラエト
キシド等のSiのアルコキシド化合物、ジルコニウムテ
トラプロポキシド、ジルコニウムテトラブトキシド等の
Zrのアルコキシド化合物、チタンテトラプロポキシド
、チタンテトラブトキシドなどのTiのアルコキシド化
合物、アルミニウムトリ5ec−ブトキシ等のAtのア
ルコキシド化合物、チンテトラブトキシド等のSnのア
ルコシキト化合物、およびそれらを予備縮合させた部分
縮合物を用いることが出来る。
テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンの割合とし
ては、それぞれの官能基を等モルとするのが好ましく、
またシランカップリング剤の量は芳香族テトラカルボン
酸二無水物または芳香族ジアミン100に対して0.0
1〜“4゜mo1%とするのが好適である。また、ポリ
アミック酸溶液に含まれる金属アルコキシドとしては、
例えばシリコンテトラメトキシド、シリコンテトラエト
キシド等のSiのアルコキシド化合物、ジルコニウムテ
トラプロポキシド、ジルコニウムテトラブトキシド等の
Zrのアルコキシド化合物、チタンテトラプロポキシド
、チタンテトラブトキシドなどのTiのアルコキシド化
合物、アルミニウムトリ5ec−ブトキシ等のAtのア
ルコキシド化合物、チンテトラブトキシド等のSnのア
ルコシキト化合物、およびそれらを予備縮合させた部分
縮合物を用いることが出来る。
本発明のポリアミック酸溶液に含まれる金属アルコキシ
ドに由来する金属酸化物の量は、ポリアミック酸から形
成されるポリイミド成分100重量部に対して1〜20
0重量部となるのが好ましい。これより少ないと得られ
るポリイミドフィルムの熱膨張率が大きくなり、フレキ
シブル印刷回路用基板とした時にカール等が発生してし
まい、またこれより多いと、フィルムが脆くなる傾向が
認められる。従って好ましくは10〜100重量部であ
る。
ドに由来する金属酸化物の量は、ポリアミック酸から形
成されるポリイミド成分100重量部に対して1〜20
0重量部となるのが好ましい。これより少ないと得られ
るポリイミドフィルムの熱膨張率が大きくなり、フレキ
シブル印刷回路用基板とした時にカール等が発生してし
まい、またこれより多いと、フィルムが脆くなる傾向が
認められる。従って好ましくは10〜100重量部であ
る。
本発明において、前記金属アルコキシド含宵ポリアミッ
ク酸溶液を金属箔上に塗布してフレキシブル印刷回路用
基板を製造する際に、予め金属箔上に塗布されるカップ
リング剤としては、シランカップリング剤、チタン系カ
ップリング剤、アルミニウム系カップリング剤より選ば
れる少なくとも1種であり、例えば、γ−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロ
ビルトリメトキシシラン、γ−メルカブトブ口ビルトリ
メトキシシラン等のシランカップリング剤、イソプロピ
ルトリイソステアロイルチタネート、ビス(ジオクチル
パイロホスフェート)オキシアセテートチタネート等の
チタン系カップリング剤、アセトアルコキシアルミニウ
ムジイソプロピレート等のアルミニウム系カップリング
剤が好適なものとして挙げられる。これらは2種以上を
混合しても良いことは勿論である。
ク酸溶液を金属箔上に塗布してフレキシブル印刷回路用
基板を製造する際に、予め金属箔上に塗布されるカップ
リング剤としては、シランカップリング剤、チタン系カ
ップリング剤、アルミニウム系カップリング剤より選ば
れる少なくとも1種であり、例えば、γ−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロ
ビルトリメトキシシラン、γ−メルカブトブ口ビルトリ
メトキシシラン等のシランカップリング剤、イソプロピ
ルトリイソステアロイルチタネート、ビス(ジオクチル
パイロホスフェート)オキシアセテートチタネート等の
チタン系カップリング剤、アセトアルコキシアルミニウ
ムジイソプロピレート等のアルミニウム系カップリング
剤が好適なものとして挙げられる。これらは2種以上を
混合しても良いことは勿論である。
これらのカップリング剤の塗布量は特に限定されないが
、金属箔表面を一様に覆うことができれば十分である。
、金属箔表面を一様に覆うことができれば十分である。
塗布方法としては、そのままかあるいは適当な溶剤で希
釈し、ナイフコーター、ドクターブレード、ワイヤーバ
ー等公知の手段で塗布することができる。溶剤で希釈し
て塗布する場合、次に行なうポリアミック酸溶液を塗布
する前に溶剤を十分乾燥しておくことが好ましい。本発
明で使用される金rf4箔は、般に用いられる銅箔は勿
論、アルミ箔、ニッケル箔等も用いることが出来る。金
rIX箔は10〜100μの厚さのものが使用され片面
は粗面化処理を施されているものが好ましい。
釈し、ナイフコーター、ドクターブレード、ワイヤーバ
ー等公知の手段で塗布することができる。溶剤で希釈し
て塗布する場合、次に行なうポリアミック酸溶液を塗布
する前に溶剤を十分乾燥しておくことが好ましい。本発
明で使用される金rf4箔は、般に用いられる銅箔は勿
論、アルミ箔、ニッケル箔等も用いることが出来る。金
rIX箔は10〜100μの厚さのものが使用され片面
は粗面化処理を施されているものが好ましい。
金属アルコキシドおよび/またはその部分縮合物を含有
するポリアミック酸溶液をカップリング剤処理された金
属箔に塗布する方法は、ナイフコーター、ドクターブレ
ード、ワイヤーバー等公知の手段で塗布することができ
、次に加熱により溶媒の除去、イミド化反応及び金属ア
ルコキシドの縮合を行ない最終的な加熱温度は200〜
400℃の範囲が好ましい。また加熱の際低温から徐々
に昇温するのが好ましく、加熱雰囲気も、空気中で差し
支えない場合もあるが、通常、減圧下ないしは不活性ガ
ス雰囲気で行なったほうが好ましい場合が多い。最終加
熱後のフィルム厚は一般的にlO〜200μである。か
(して得られたフレキシブル印刷回路用基板は、カップ
リング剤処理を施さない場合に比べて、著しく密着力が
向上し、またカール、シワ、チヂレ等もないものが得ら
れる。
するポリアミック酸溶液をカップリング剤処理された金
属箔に塗布する方法は、ナイフコーター、ドクターブレ
ード、ワイヤーバー等公知の手段で塗布することができ
、次に加熱により溶媒の除去、イミド化反応及び金属ア
ルコキシドの縮合を行ない最終的な加熱温度は200〜
400℃の範囲が好ましい。また加熱の際低温から徐々
に昇温するのが好ましく、加熱雰囲気も、空気中で差し
支えない場合もあるが、通常、減圧下ないしは不活性ガ
ス雰囲気で行なったほうが好ましい場合が多い。最終加
熱後のフィルム厚は一般的にlO〜200μである。か
(して得られたフレキシブル印刷回路用基板は、カップ
リング剤処理を施さない場合に比べて、著しく密着力が
向上し、またカール、シワ、チヂレ等もないものが得ら
れる。
本発明によって得られるフレキシブル印刷回路用基板は
各種の電気・電子機器用配線基板のみならず、フラット
モーター、テープキャリヤー、液晶リード線等にも利用
することができる。
各種の電気・電子機器用配線基板のみならず、フラット
モーター、テープキャリヤー、液晶リード線等にも利用
することができる。
[作用〕
従来のポリアミック酸溶液を金属箔に直接塗布する場合
のカップリング剤の効果としては、金属表面と有機ポリ
イミドの界面で結合を作り、密着力が向上するといわれ
ているが、その効果としては不十分なものであった。
のカップリング剤の効果としては、金属表面と有機ポリ
イミドの界面で結合を作り、密着力が向上するといわれ
ているが、その効果としては不十分なものであった。
本発明において、ポリアミック酸中の金属アルコキシド
を含有していることがらカップリング剤が単に金属表面
と有機ポリイミドとの界面で結合を作るだけでなく、金
属アルコキシドが縮合する際にカップリング剤とも共縮
合し、著しく密着力が向上するものと推察される。
を含有していることがらカップリング剤が単に金属表面
と有機ポリイミドとの界面で結合を作るだけでなく、金
属アルコキシドが縮合する際にカップリング剤とも共縮
合し、著しく密着力が向上するものと推察される。
[実施例]
[調整例1]
金属アルコキシドの調製
撹拌機および滴下ロートを装着した反応器内にN、N−
ジメチルアセトアミド(以下、DMACと略す)80g
とシリコンテトラエトキシド(東京化成社品) 69.
4gとを仕込み、激しく撹拌しなからp−トルエンスル
ホンB0.69g ト水24. Of。
ジメチルアセトアミド(以下、DMACと略す)80g
とシリコンテトラエトキシド(東京化成社品) 69.
4gとを仕込み、激しく撹拌しなからp−トルエンスル
ホンB0.69g ト水24. Of。
との混合物を室温にて30分費やして滴下した。
更に一昼夜撹拌を継続して均質透明シリコンテトラエト
キシドの部分縮合物(5iOa換算濃度11.5%)を
調製した。
キシドの部分縮合物(5iOa換算濃度11.5%)を
調製した。
[調製例2]
金属アルコキシド含有ポリアミック酸溶液の調製
撹拌機、還流冷却器を装着した反応器内に4.4−ジア
ミノフェニルエーテル19.l11g 、溶媒としてD
MAC213gを仕込み窒素ガスを通じて激しく撹拌し
ながら10℃にてプロメリット酸二無水物18.2gを
2時間を費やして添加した。続いて2時間反応を継続し
た後、更にピロリット酸二無水物3.61gを添加して
1時間反応を行なった時点でγ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン0、44gを添加し、継続して室温にて6
時間撹拌を行ないシラン変性ポリアミック酸溶液を得た
。このようにして得られたシラン変性ポリアミック酸溶
液100gを上記と同様の反応器に仕込み、窒素ガスを
通じて激しく撹拌しながら、調製例1で調製された金属
アルコキシド(シリコンテトラエトキシドの部分縮合物
) 32.8gを30分を費やして滴下し褐色均一な粘
稠液を得た。
ミノフェニルエーテル19.l11g 、溶媒としてD
MAC213gを仕込み窒素ガスを通じて激しく撹拌し
ながら10℃にてプロメリット酸二無水物18.2gを
2時間を費やして添加した。続いて2時間反応を継続し
た後、更にピロリット酸二無水物3.61gを添加して
1時間反応を行なった時点でγ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン0、44gを添加し、継続して室温にて6
時間撹拌を行ないシラン変性ポリアミック酸溶液を得た
。このようにして得られたシラン変性ポリアミック酸溶
液100gを上記と同様の反応器に仕込み、窒素ガスを
通じて激しく撹拌しながら、調製例1で調製された金属
アルコキシド(シリコンテトラエトキシドの部分縮合物
) 32.8gを30分を費やして滴下し褐色均一な粘
稠液を得た。
実施例1
ガラス板上の固定した35u厚の銅箔上にカップリング
剤としてγ−グリシドキシプロビルトJメトキシシラン
の5%メタノール溶液をワイヤーバーを用いて均一に塗
布後、50℃で10分乾燥しメタノールを除去した。次
に調製例2で調製した金属アルコキシド含有ポリアミッ
ク酸溶液をドクターブレードを用いて塗布後、窒素雰囲
気にて50℃、100℃、180℃、350℃でそれぞ
れ30分間加熱し乾燥・硬化し、厚さ25μのポリイミ
ドフィルムが形成された基板を得た。こうして得られた
フレキシブル印刷回路用基板の外観調査においてカール
の発生は全(認められなかった。また、銅箔とポリイミ
ドフィムルとの密着強度を測定し、それらの結果を第1
表に示す。
剤としてγ−グリシドキシプロビルトJメトキシシラン
の5%メタノール溶液をワイヤーバーを用いて均一に塗
布後、50℃で10分乾燥しメタノールを除去した。次
に調製例2で調製した金属アルコキシド含有ポリアミッ
ク酸溶液をドクターブレードを用いて塗布後、窒素雰囲
気にて50℃、100℃、180℃、350℃でそれぞ
れ30分間加熱し乾燥・硬化し、厚さ25μのポリイミ
ドフィルムが形成された基板を得た。こうして得られた
フレキシブル印刷回路用基板の外観調査においてカール
の発生は全(認められなかった。また、銅箔とポリイミ
ドフィムルとの密着強度を測定し、それらの結果を第1
表に示す。
[実施例2〜6]
実施例1のカップリング剤を表1に示すカップリング剤
に代えた以外は実施例1と同様にしてフレキシブル印刷
回路用基板を得た。外観調査、密着強度の測定結果を第
1表に示す。
に代えた以外は実施例1と同様にしてフレキシブル印刷
回路用基板を得た。外観調査、密着強度の測定結果を第
1表に示す。
[比較例1]
実施例1においてカップリング剤を予め塗布することな
(、金属アルコキシド含有ポリアミック酸溶液を塗布し
た以外は同様にしてフレキシブル印刷回路用基板を得た
。その外観調査、密着強度の測定結果を第1表に示す。
(、金属アルコキシド含有ポリアミック酸溶液を塗布し
た以外は同様にしてフレキシブル印刷回路用基板を得た
。その外観調査、密着強度の測定結果を第1表に示す。
[比較例2]
撹拌様、還流冷却器を装着した反応器内に4.4−ジア
ミノフェニルエーテル19.8g 、溶媒としてDMA
C213gを仕込み窒素ガスを通じて激しく撹拌しなが
ら10℃にてプロメリット酸二無水物21.35gを2
時間を費やして添加した。更に10℃で2時間撹拌して
粘稠なポリアミック酸溶液を得た。得られた溶液をカッ
プリング剤を予め塗布することなく銅箔上に塗布し、実
施例1と同様にしてフレキシブル印刷回路用基板を得た
。その外観調査、密着強度の測定結果を第1表に示す。
ミノフェニルエーテル19.8g 、溶媒としてDMA
C213gを仕込み窒素ガスを通じて激しく撹拌しなが
ら10℃にてプロメリット酸二無水物21.35gを2
時間を費やして添加した。更に10℃で2時間撹拌して
粘稠なポリアミック酸溶液を得た。得られた溶液をカッ
プリング剤を予め塗布することなく銅箔上に塗布し、実
施例1と同様にしてフレキシブル印刷回路用基板を得た
。その外観調査、密着強度の測定結果を第1表に示す。
[比較例3]
35μ厚銅箔上にカップリング剤としてγ−グノシジル
トリメトキシシランの5%メタノール溶液を塗布し、5
0℃でlO分乾燥後比較例2で用いたポリアミック酸溶
液を塗布し、実施例1と同様にしてフレキシブル印刷回
路用基板を得た。その外観調査、密着強度の測定結果を
第1表に示す。
トリメトキシシランの5%メタノール溶液を塗布し、5
0℃でlO分乾燥後比較例2で用いたポリアミック酸溶
液を塗布し、実施例1と同様にしてフレキシブル印刷回
路用基板を得た。その外観調査、密着強度の測定結果を
第1表に示す。
第1表
[発明の効果]
本発明は、金属アルコキシド含有ポリアミック酸を金属
箔に直接塗布して、フレキシブル印刷回路用基板を製造
するに際し、予めカップリング剤を金属箔上に塗布する
ことにより、従来問題となっていたカール、シワ、チヂ
レ等の発生が全くなく、実用上問題のないフレキシブル
印刷回路用基板が得られ、しかも金属箔と金属酸化物含
有ポリイミドとの密着性が著しく向上するという優れた
効果を有している。
箔に直接塗布して、フレキシブル印刷回路用基板を製造
するに際し、予めカップリング剤を金属箔上に塗布する
ことにより、従来問題となっていたカール、シワ、チヂ
レ等の発生が全くなく、実用上問題のないフレキシブル
印刷回路用基板が得られ、しかも金属箔と金属酸化物含
有ポリイミドとの密着性が著しく向上するという優れた
効果を有している。
Claims (2)
- (1)加熱処理によって金属酸化物となりうる金属アル
コキシドおよび/またはその部分縮合物を含有するポリ
アミック酸溶液を金属箔に直接塗布し、加熱硬化してフ
レキシブル印刷回路用基板を製造するに際し、予め金属
箔上にシランカップリング剤、チタン系カップリング剤
、アルミニウム系カップリング剤より選ばれる少なくと
も1種のカップリング剤を塗布することを特徴とする密
着性に優れたフレキシブル印刷回路用基板の製造方法。 - (2)ポリアミック酸がシランカップリング剤の存在下
で芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンと
を反応させて得られるものである請求項1記載の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10029289A JPH02280396A (ja) | 1989-04-21 | 1989-04-21 | フレキシブル印刷回路用基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10029289A JPH02280396A (ja) | 1989-04-21 | 1989-04-21 | フレキシブル印刷回路用基板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02280396A true JPH02280396A (ja) | 1990-11-16 |
Family
ID=14270103
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10029289A Pending JPH02280396A (ja) | 1989-04-21 | 1989-04-21 | フレキシブル印刷回路用基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02280396A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011108848A (ja) * | 2009-11-17 | 2011-06-02 | Ube Nitto Kasei Co Ltd | 絶縁性機能膜付き金属箔、フレキシブル金属張り積層板、電子部品実装モジュールおよびその製造方法 |
-
1989
- 1989-04-21 JP JP10029289A patent/JPH02280396A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011108848A (ja) * | 2009-11-17 | 2011-06-02 | Ube Nitto Kasei Co Ltd | 絶縁性機能膜付き金属箔、フレキシブル金属張り積層板、電子部品実装モジュールおよびその製造方法 |
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