JPH0489827A - ポリアミド酸共重合体及びその製造方法 - Google Patents
ポリアミド酸共重合体及びその製造方法Info
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- JPH0489827A JPH0489827A JP2206528A JP20652890A JPH0489827A JP H0489827 A JPH0489827 A JP H0489827A JP 2206528 A JP2206528 A JP 2206528A JP 20652890 A JP20652890 A JP 20652890A JP H0489827 A JPH0489827 A JP H0489827A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1057—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain
- C08G73/106—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
- C08G77/452—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing nitrogen-containing sequences
- C08G77/455—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing nitrogen-containing sequences containing polyamide, polyesteramide or polyimide sequences
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- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、接着性及び機械的強度に優れたポリイミド樹
脂膜を形成し得る新規なポリアミド酸共重合体及びその
製造方法に関する。
脂膜を形成し得る新規なポリアミド酸共重合体及びその
製造方法に関する。
(従来の技術)
ポリイミド系樹脂は、電気特性及び機械的強度に優れて
おり、半導体素子表面の保護膜等の用途として注目され
ている。
おり、半導体素子表面の保護膜等の用途として注目され
ている。
然しなから、ポリイミド系樹脂は、一般に無機質材料と
の接着性が著しく弱いために、これを半導体素子表面の
保護膜に用いた場合には、上述したポリイミド系樹脂の
特性が十分に発揮されないという問題があった。
の接着性が著しく弱いために、これを半導体素子表面の
保護膜に用いた場合には、上述したポリイミド系樹脂の
特性が十分に発揮されないという問題があった。
この対策として、種々のシランカップリング剤の導入が
研究されており、その結果として無機質材料に対する接
着性は改善される様になった。
研究されており、その結果として無機質材料に対する接
着性は改善される様になった。
(発明が解決しようとする問題点)
然しなから、ポリイミド系樹脂にシロキサン骨格を導入
すると、無機質材料に対する接着性は改善されるものの
、機械的強度が低下するという不都合を生しる。
すると、無機質材料に対する接着性は改善されるものの
、機械的強度が低下するという不都合を生しる。
従って、本発明の目的は、機械的強度等のポリイミド系
樹脂の本来の特性を損なうことなく、無機質材料に対す
る接着性が向上したポリイミド樹脂膜を形成し得るポリ
アミド酸共重合体を提供することにある。
樹脂の本来の特性を損なうことなく、無機質材料に対す
る接着性が向上したポリイミド樹脂膜を形成し得るポリ
アミド酸共重合体を提供することにある。
(問題点を解決するための手段)
本発明の新規ポリアミド酸共重合体は、(A) −数
式(1)、 (B)−数式〔■〕、 [I] 式中、 R1は、置換又は非置換の炭素原子数1〜10の1価炭
化水素基であり、複数のR1は同一でも異なっていても
よく、 nは、0〜100の整数である、 で表わされる有機ケイ素化合物に由来する構成単位、 G 式中、 R2は、4価の芳香族基である、 で表わされるテトラカルボン酸二無水物に由来する構成
単位、 及び、 (C)−数式(III)、 HzN Q N)I2[I[I] 式中、 Qは、2価の有機基である、 で表わされる有機ジアミン化合物に由来する構成単位、 を含有して成るものである。
式(1)、 (B)−数式〔■〕、 [I] 式中、 R1は、置換又は非置換の炭素原子数1〜10の1価炭
化水素基であり、複数のR1は同一でも異なっていても
よく、 nは、0〜100の整数である、 で表わされる有機ケイ素化合物に由来する構成単位、 G 式中、 R2は、4価の芳香族基である、 で表わされるテトラカルボン酸二無水物に由来する構成
単位、 及び、 (C)−数式(III)、 HzN Q N)I2[I[I] 式中、 Qは、2価の有機基である、 で表わされる有機ジアミン化合物に由来する構成単位、 を含有して成るものである。
(A 転入
本発明のポリアミド酸共重合体の構成単位となる有機ケ
イ素化合物は、前記一般弐[1)、R’ (1〕 式中、R1及びnは前記の通り、 で表わされるものであり、該−数式CI)から明らかな
通り、シロキサン骨格の両末端ケイ素原子に、[R2,
3,6−テトラヒドロ無水フタル酸]基が結合したポリ
シロキサンである。
イ素化合物は、前記一般弐[1)、R’ (1〕 式中、R1及びnは前記の通り、 で表わされるものであり、該−数式CI)から明らかな
通り、シロキサン骨格の両末端ケイ素原子に、[R2,
3,6−テトラヒドロ無水フタル酸]基が結合したポリ
シロキサンである。
該−数式〔■〕において、炭素原子数1〜10の非置換
又は置換の1価炭化水素基R1としては、非置換又は置
換の低級アルキル基、アルケニル基及びアリール基を例
示することができる。非置換又は置換の低級アルキル基
としては、具体的にはメチル基、プロピル基、ブチル基
及びこれらの基の水素原子の一部又は全部を塩素、フッ
素、臭素等のハロゲン原子で置換した基等を挙げること
ができる。低級アルケニル基としては、ビニル基、アリ
ル基、ブテニル基及びこれらの基の水素原子の一部又は
全部がハロゲン原子で置換した基を挙げることができる
。また非置換又は置換のアリール基としては、フェニル
基、トリル基、キシリル基、ナフチル基及びこれらの基
の水素原子の一部又は全部をハロゲン原子で置換した基
等を例示することができる。
又は置換の1価炭化水素基R1としては、非置換又は置
換の低級アルキル基、アルケニル基及びアリール基を例
示することができる。非置換又は置換の低級アルキル基
としては、具体的にはメチル基、プロピル基、ブチル基
及びこれらの基の水素原子の一部又は全部を塩素、フッ
素、臭素等のハロゲン原子で置換した基等を挙げること
ができる。低級アルケニル基としては、ビニル基、アリ
ル基、ブテニル基及びこれらの基の水素原子の一部又は
全部がハロゲン原子で置換した基を挙げることができる
。また非置換又は置換のアリール基としては、フェニル
基、トリル基、キシリル基、ナフチル基及びこれらの基
の水素原子の一部又は全部をハロゲン原子で置換した基
等を例示することができる。
またnは、0〜100の整数である。
上述した有機ケイ素化合物は、単独又は2種以上の組み
合わせで使用することができる。
合わせで使用することができる。
(B −トーカルボン ニ鉦
本発明のポリアミド酸共重合体の構成単位に使用される
テトラカルボン酸二無水物(B)は、前記−数式〔■〕
、即ち、 式中、R2は、前記の通り4価の芳香族基である、で表
わされるものであり、具体的には、ピロメリット酸二無
水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2.
3,6.7−ナフタリンテトラカルボン酸二無水物、3
.3’、4,4“−ジフェニルテトラカルボン酸二無水
物、2.2’、3.3”−ジフェニルテトラカルボン酸
二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)プロパンニ無水物等を例示することができ、これら
は使用目的に応じて単独又は2種以上の組み合わせで使
用することができる。
テトラカルボン酸二無水物(B)は、前記−数式〔■〕
、即ち、 式中、R2は、前記の通り4価の芳香族基である、で表
わされるものであり、具体的には、ピロメリット酸二無
水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2.
3,6.7−ナフタリンテトラカルボン酸二無水物、3
.3’、4,4“−ジフェニルテトラカルボン酸二無水
物、2.2’、3.3”−ジフェニルテトラカルボン酸
二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)プロパンニ無水物等を例示することができ、これら
は使用目的に応じて単独又は2種以上の組み合わせで使
用することができる。
(C工illジ1じしZ
本発明のポリアミド酸共重合体において、残る構成単位
を形成するために使用される有機ジアミン(C)は、前
記−数式[I[1)、 NO3o NO3[111) 式中、Qは、前記の通り2価の有機基である、で表わさ
れる有機ジアミンであり、このQが芳香族環を含有した
芳香族ジアミンが代表的である。
を形成するために使用される有機ジアミン(C)は、前
記−数式[I[1)、 NO3o NO3[111) 式中、Qは、前記の通り2価の有機基である、で表わさ
れる有機ジアミンであり、このQが芳香族環を含有した
芳香族ジアミンが代表的である。
具体的には、フェニレンジアミン、4,4゛−ジアミノ
ジフェニルメタン、4,4゛−ジアミノジフェニルプロ
パン、414゛−メチレンジアニリン、ヘンジジン、4
,4゛−ジアミノジフェニルスルフィド、44ジアミノ
ジフエニルスルホン、4,4゛−ジアミノジフェニルエ
ーテル、1,5−ジアミノナフタリン、3.3゛−ジメ
チルベンジジン、2.2−ビス[4−(N−フェニルフ
タルイミド−4−オキシ)フェニル]プロパン等を挙げ
ることができ、これらは使用目的に応して単独又は2種
以上の組み合わせで使用することができる。
ジフェニルメタン、4,4゛−ジアミノジフェニルプロ
パン、414゛−メチレンジアニリン、ヘンジジン、4
,4゛−ジアミノジフェニルスルフィド、44ジアミノ
ジフエニルスルホン、4,4゛−ジアミノジフェニルエ
ーテル、1,5−ジアミノナフタリン、3.3゛−ジメ
チルベンジジン、2.2−ビス[4−(N−フェニルフ
タルイミド−4−オキシ)フェニル]プロパン等を挙げ
ることができ、これらは使用目的に応して単独又は2種
以上の組み合わせで使用することができる。
ポ1アミド 丑 ム の
本発明のポリアミド酸共重合体は、前述した(A)〜(
C)成分を有機溶媒の存在下で反応させることによって
製造される。
C)成分を有機溶媒の存在下で反応させることによって
製造される。
有機溶媒としては、反応を阻害しない限り任意の有機溶
媒を使用することができるが、特に好適にはN−メチル
−2−ピロリドン、N、N−ジメチルアセトアミド、N
、N−ジメチルホルムアミド等の極性溶媒が使用される
。
媒を使用することができるが、特に好適にはN−メチル
−2−ピロリドン、N、N−ジメチルアセトアミド、N
、N−ジメチルホルムアミド等の極性溶媒が使用される
。
一般に反応は、有機ジアミン(C)を上記有機溶媒に溶
解させ、これに有機ケイ素化合物(A)及びテトラカル
ボン酸二無水物(B)の所定量を徐々に加えることによ
って行われ、反応温度は100℃以下、特に50℃以下
の範囲とすることが望ましい。反応温度が高くなり過ぎ
ると一部にポリイミド結合を生じる(即ちゲル化を生じ
る)という不都合を発生する場合がある。従って反応中
は、外部冷却により反応系の温度制御を行なうことが望
ましい。
解させ、これに有機ケイ素化合物(A)及びテトラカル
ボン酸二無水物(B)の所定量を徐々に加えることによ
って行われ、反応温度は100℃以下、特に50℃以下
の範囲とすることが望ましい。反応温度が高くなり過ぎ
ると一部にポリイミド結合を生じる(即ちゲル化を生じ
る)という不都合を発生する場合がある。従って反応中
は、外部冷却により反応系の温度制御を行なうことが望
ましい。
(A)〜(C)の各成分の反応モル比は、有機ケイ素化
合物(A)とテトラカルボン酸二無水物(B)の合計モ
ル量と有機ジアミン(C)のモル量との比がほぼ1:1
となるように設定することが好ましく、また有機ケイ素
化合物(A)とテトラカルボン酸二無水物(B)とのモ
ル比(A/B)が、1/1〜1 /100の範囲となる
様に設定することが好ましい。有機ケイ素化合物(A)
の量が少な過ぎる場合には無機質材料等に対する接着性
向上効果が十分圧められない傾向があり、また多過ぎる
場合には機械的強度が低下する傾向がある。
合物(A)とテトラカルボン酸二無水物(B)の合計モ
ル量と有機ジアミン(C)のモル量との比がほぼ1:1
となるように設定することが好ましく、また有機ケイ素
化合物(A)とテトラカルボン酸二無水物(B)とのモ
ル比(A/B)が、1/1〜1 /100の範囲となる
様に設定することが好ましい。有機ケイ素化合物(A)
の量が少な過ぎる場合には無機質材料等に対する接着性
向上効果が十分圧められない傾向があり、また多過ぎる
場合には機械的強度が低下する傾向がある。
ポリアミド 丑 ム
かくして得られる本発明のポリアミド酸共重合体は、前
述した(A)〜(C)成分に由来する構成単位から成る
ものであり、その構造式の一例は下記式で表わされる。
述した(A)〜(C)成分に由来する構成単位から成る
ものであり、その構造式の一例は下記式で表わされる。
式中、R1,Rg、 Q及びnは前記の通りであり、X
及びyは正の整数を示す。
及びyは正の整数を示す。
上述したポリアミド酸共重合体において、有機ケイ素化
合物(A)とテトラカルボン酸二無水物(B)との脱水
縮合によって形成される構成単位は、ブロックの形で共
重合体主鎖中に組み込まれていてもよいし、またランダ
ムに存在していてもよい。
合物(A)とテトラカルボン酸二無水物(B)との脱水
縮合によって形成される構成単位は、ブロックの形で共
重合体主鎖中に組み込まれていてもよいし、またランダ
ムに存在していてもよい。
本発明のポリアミド酸共重合体は、例えばこの有機溶媒
溶液を適当な基体に塗布し、加熱処理を行なうことによ
ってポリイミド樹脂膜を形成する。
溶液を適当な基体に塗布し、加熱処理を行なうことによ
ってポリイミド樹脂膜を形成する。
このポリイミド樹脂膜は、機械的強度に優れているとと
もに、金、銀、銅、アルミニウム、二・メチル、クロム
、錫等の金属或いは合金材料、シリコン、ゲルマニウム
等の非金属材料、セラミ・7クス、ガラス、5in2等
の無機絶縁体材料等の無機質材料に対して優れた接着性
を示す。従って、本発明のポリアミド酸共重合体は、こ
れらの無機質材料から成る基体表面に強固に接着したポ
リイミド樹脂膜を形成することが可能である。
もに、金、銀、銅、アルミニウム、二・メチル、クロム
、錫等の金属或いは合金材料、シリコン、ゲルマニウム
等の非金属材料、セラミ・7クス、ガラス、5in2等
の無機絶縁体材料等の無機質材料に対して優れた接着性
を示す。従って、本発明のポリアミド酸共重合体は、こ
れらの無機質材料から成る基体表面に強固に接着したポ
リイミド樹脂膜を形成することが可能である。
ポリアミド酸共重合体の有機溶媒溶液の基体表面への塗
布は、スピンナー等を用いて行なうことができる。また
加熱処理は、−iに70〜300℃1好ましくは100
〜250℃における加熱乾燥を10〜60分間行ない、
次いで250〜400℃において30〜300分間加熱
して脱水閉環を行なうことによって行なわれる。
布は、スピンナー等を用いて行なうことができる。また
加熱処理は、−iに70〜300℃1好ましくは100
〜250℃における加熱乾燥を10〜60分間行ない、
次いで250〜400℃において30〜300分間加熱
して脱水閉環を行なうことによって行なわれる。
(実施例)
災施■上
温度計、撹拌機及び滴下ロートを具備した200dフラ
スコ内に、 メチレンジアニリン9.9g (50ミリモル)、N−
メチル−2−ピロリドン 15g を仕込み、撹拌混合し、さらに、 LL3.3−テトラメチル−1,3−ビス−14(L2
,3.6−テトラヒドロ無水フタル酸)1ジシロキサン
2.17g (5ミリモル)、 3.3’、4.4’−ベンゾフェノンテトラカルポン酸
二無水物14.49g (45ミリモル)及び N−メチル−2−ピロリドン 66.8gを、反応温度
を40℃以下に維持しながら、約30分かけて添加した
。
スコ内に、 メチレンジアニリン9.9g (50ミリモル)、N−
メチル−2−ピロリドン 15g を仕込み、撹拌混合し、さらに、 LL3.3−テトラメチル−1,3−ビス−14(L2
,3.6−テトラヒドロ無水フタル酸)1ジシロキサン
2.17g (5ミリモル)、 3.3’、4.4’−ベンゾフェノンテトラカルポン酸
二無水物14.49g (45ミリモル)及び N−メチル−2−ピロリドン 66.8gを、反応温度
を40℃以下に維持しながら、約30分かけて添加した
。
添加後、室温で8時間熟成し、次いで1μミリポアフィ
ルタ−(FALP)で行なった。(尚、上記反応は、空
気中の水分が混入しないように、全て乾燥N2気流中で
行なった。) 次にこの合成反応で得た反応液をNi基板の表面にスピ
ンナーで300Orpm/秒の条件で塗布し、ついで1
50℃1時間さらに250℃4時間加熱硬化させ、ポリ
イミド樹脂膜を形成した。
ルタ−(FALP)で行なった。(尚、上記反応は、空
気中の水分が混入しないように、全て乾燥N2気流中で
行なった。) 次にこの合成反応で得た反応液をNi基板の表面にスピ
ンナーで300Orpm/秒の条件で塗布し、ついで1
50℃1時間さらに250℃4時間加熱硬化させ、ポリ
イミド樹脂膜を形成した。
このポリイミド樹脂膜の接着性をゴハン目剥離試験によ
って、また樹脂膜の破断強度をオートグラフ(島津製作
所■製AGS−500B)によりそれぞれ測定したとこ
ろ第1表に示した通りの結果が得られた。
って、また樹脂膜の破断強度をオートグラフ(島津製作
所■製AGS−500B)によりそれぞれ測定したとこ
ろ第1表に示した通りの結果が得られた。
1崖■)
実施例1で用いたのと同様のフラスコ内に、メチレンジ
アニリン9.9g (50ミリモル)及び N−メチル−2−ピロリドン 15g を仕込み、さらに、 1.3−ジメチル−1,3−ジフェニル−1,3−ビス
−[4−(L2,3.6−テトラヒドロ無水フタル酸)
1ジシロキサン 2.79g(5ミリモル)、3.3’
、4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物
14.49g (45ミリモル)及び N−メチル−2−ピロリドン 68.8 gを実施例1
と同様にして添加し、同様の操作を行なって反応液を得
た。
アニリン9.9g (50ミリモル)及び N−メチル−2−ピロリドン 15g を仕込み、さらに、 1.3−ジメチル−1,3−ジフェニル−1,3−ビス
−[4−(L2,3.6−テトラヒドロ無水フタル酸)
1ジシロキサン 2.79g(5ミリモル)、3.3’
、4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物
14.49g (45ミリモル)及び N−メチル−2−ピロリドン 68.8 gを実施例1
と同様にして添加し、同様の操作を行なって反応液を得
た。
この反応液を、実施例1と同じ<Ni基板上に塗布し、
同様の条件でポリイミド樹脂膜を形成した後、樹脂膜の
接着性並びに破断強度を測定した。
同様の条件でポリイミド樹脂膜を形成した後、樹脂膜の
接着性並びに破断強度を測定した。
第1表に結果を示す。
1較■よ
実施例1で用いたのと同様のフラスコ内に、メチレンジ
アニリン9.9g (50ミリモル)、N−メチル−2
−ピロリドン 15g を仕込み、さらに、 3.3”、4.4’−ヘンシフエノンテトラカルボン酸
二無水物 16.1g (50ミリモル)及び N−メチル−2−ピロリドン 65.1gを実施例1と
同様にして添加し、同様の操作を行なって反応液を得た
。
アニリン9.9g (50ミリモル)、N−メチル−2
−ピロリドン 15g を仕込み、さらに、 3.3”、4.4’−ヘンシフエノンテトラカルボン酸
二無水物 16.1g (50ミリモル)及び N−メチル−2−ピロリドン 65.1gを実施例1と
同様にして添加し、同様の操作を行なって反応液を得た
。
この反応液を、実施例1と同しくNi基板上に塗布し、
同様の条件でポリイミド樹脂膜を形成した後、樹脂膜の
接着性並びに破断強度を測定した。
同様の条件でポリイミド樹脂膜を形成した後、樹脂膜の
接着性並びに破断強度を測定した。
第1表に結果を示す。
l較炭I
実施例1で用いたのと同様のフラスコ内に、メチレンジ
アニリン 8.91g (45ミリモル)、1.3−ビ
ス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン
1.24g(5ミリモル)及び N−メチル−2−ピロリドン 15g を仕込み、この中に、 3.3’、4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物 16.1g (50ミリモル)及び N−メチル−2−ピロリドン 65.9 gを添加した
後、実施例1と全く同様の操作により目的とする反応液
を得た。
アニリン 8.91g (45ミリモル)、1.3−ビ
ス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン
1.24g(5ミリモル)及び N−メチル−2−ピロリドン 15g を仕込み、この中に、 3.3’、4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物 16.1g (50ミリモル)及び N−メチル−2−ピロリドン 65.9 gを添加した
後、実施例1と全く同様の操作により目的とする反応液
を得た。
この反応液を実施例1と同様にしてNi基板上に塗布し
て同様の条件でポリイミド樹脂膜を形成し、該樹脂膜の
接着性及び破断強度を測定した。結果を第1表に示す。
て同様の条件でポリイミド樹脂膜を形成し、該樹脂膜の
接着性及び破断強度を測定した。結果を第1表に示す。
尚、第1表中の各反応成分の量比を示す数値は、モル基
準で表わした。
準で表わした。
(発明の効果)
本発明によれば、種々の無機質材料に対して強固に接着
し、且つ機械的強度に優れたポリイミド樹脂膜を形成し
得るポリアミド酸共重合体が提供される。
し、且つ機械的強度に優れたポリイミド樹脂膜を形成し
得るポリアミド酸共重合体が提供される。
本発明のポリアミド酸共重合体は、上記の様な特性を有
していることに関連して、例えば半導体素子表面の保護
膜形成等の用途に極めて有用である。
していることに関連して、例えば半導体素子表面の保護
膜形成等の用途に極めて有用である。
Claims (2)
- (1)(A)一般式〔 I 〕、 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔 I 〕 式中、 R^1は、置換又は非置換の炭素原子数1〜10の1価
炭化水素基であり、複数のR^1は同一でも異なってい
てもよく、 nは、0〜100の整数である、 で表わされる有機ケイ素化合物に由来する構成単位、 (B)一般式〔II〕、 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 式中、 R^2は、4価の芳香族基である、 で表わされるテトラカルボン酸二無水物に由来する構成
単位、 及び、 (C)一般式〔III〕、 H_2N−Q−NH_2〔III〕 式中、 Qは、2価の有機基である、 で表わされる有機ジアミン化合物に由来する構成単位、 を含有して成るポリアミド酸共重合体。 - (2)前記有機ケイ素化合物(A)、テトラカルボン酸
二無水物(B)及び有機ジアミン化合物(C)を、有機
溶媒中で100℃以下の温度で反応させることを特徴と
するポリアミド酸共重合体の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2206528A JP2706998B2 (ja) | 1990-08-03 | 1990-08-03 | ポリアミド酸共重合体及びその製造方法 |
DE4125738A DE4125738C2 (de) | 1990-08-03 | 1991-08-02 | Polyamidsäure-Copolymer, seine Herstellung und den daraus durch Wärmebehandlung erhaltenen Polyimidharzfilm |
US07/739,434 US5258487A (en) | 1990-08-03 | 1991-08-02 | Polyamido-acid copolymer and its manufacture |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2206528A JP2706998B2 (ja) | 1990-08-03 | 1990-08-03 | ポリアミド酸共重合体及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0489827A true JPH0489827A (ja) | 1992-03-24 |
JP2706998B2 JP2706998B2 (ja) | 1998-01-28 |
Family
ID=16524860
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2206528A Expired - Fee Related JP2706998B2 (ja) | 1990-08-03 | 1990-08-03 | ポリアミド酸共重合体及びその製造方法 |
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---|---|
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WO2007075585A2 (en) * | 2005-12-16 | 2007-07-05 | Interface Associates, Inc. | Multi-layer balloons for medical applications and methods for manufacturing the same |
JP4771414B2 (ja) * | 2006-02-15 | 2011-09-14 | 信越化学工業株式会社 | ポリイミドシリコーン樹脂及びそれを含む熱硬化性組成物 |
US11497681B2 (en) | 2012-02-28 | 2022-11-15 | Corning Incorporated | Glass articles with low-friction coatings |
US10737973B2 (en) | 2012-02-28 | 2020-08-11 | Corning Incorporated | Pharmaceutical glass coating for achieving particle reduction |
MX2014010334A (es) | 2012-02-28 | 2014-09-22 | Corning Inc | Articulos de vidrio con revestimientos de baja friccion. |
US10273048B2 (en) | 2012-06-07 | 2019-04-30 | Corning Incorporated | Delamination resistant glass containers with heat-tolerant coatings |
US9034442B2 (en) | 2012-11-30 | 2015-05-19 | Corning Incorporated | Strengthened borosilicate glass containers with improved damage tolerance |
US10117806B2 (en) | 2012-11-30 | 2018-11-06 | Corning Incorporated | Strengthened glass containers resistant to delamination and damage |
MX2017002898A (es) | 2014-09-05 | 2017-10-11 | Corning Inc | Artículos de vidrio y métodos para mejorar la confiabilidad de artículos de vidrio. |
CN116282967A (zh) | 2014-11-26 | 2023-06-23 | 康宁股份有限公司 | 用于生产强化且耐用玻璃容器的方法 |
EP3150564B1 (en) | 2015-09-30 | 2018-12-05 | Corning Incorporated | Halogenated polyimide siloxane chemical compositions and glass articles with halogenated polylmide siloxane low-friction coatings |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6222830A (ja) * | 1985-07-23 | 1987-01-31 | Nissan Chem Ind Ltd | 珪素含有ポリイミド樹脂の製造法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4499149A (en) * | 1980-12-15 | 1985-02-12 | M&T Chemicals Inc. | Siloxane-containing polymers |
US4847358A (en) * | 1986-09-19 | 1989-07-11 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Process for producing polyamide acid having siloxane bonds and polyimide having siloxane bonds and isoindoloquinazolinedione rings |
-
1990
- 1990-08-03 JP JP2206528A patent/JP2706998B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-08-02 US US07/739,434 patent/US5258487A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-08-02 DE DE4125738A patent/DE4125738C2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6222830A (ja) * | 1985-07-23 | 1987-01-31 | Nissan Chem Ind Ltd | 珪素含有ポリイミド樹脂の製造法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
DE4125738A1 (de) | 1992-02-06 |
DE4125738C2 (de) | 2000-01-20 |
US5258487A (en) | 1993-11-02 |
JP2706998B2 (ja) | 1998-01-28 |
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